JPH07201076A - Optical information medium - Google Patents
Optical information mediumInfo
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- JPH07201076A JPH07201076A JP5351305A JP35130593A JPH07201076A JP H07201076 A JPH07201076 A JP H07201076A JP 5351305 A JP5351305 A JP 5351305A JP 35130593 A JP35130593 A JP 35130593A JP H07201076 A JPH07201076 A JP H07201076A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、光の照射により、いわ
ゆる追記が可能な記録層を有する光情報媒体に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical information medium having a recording layer in which so-called additional recording is possible by irradiation with light.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、色素層等を用いた記録層を有し、
この記録層にレーザ光を照射することにより、データを
記録することができる、いわゆる追記型の光情報媒体で
あって、コンパクトディスク(以下「CD」という)の
規格を満足した追記型CDが開発されている。2. Description of the Related Art In recent years, a recording layer using a dye layer or the like has been provided.
A so-called write-once type optical information medium capable of recording data by irradiating the recording layer with a laser beam, and a write-once type CD satisfying the compact disc (hereinafter referred to as "CD") standard was developed. Has been done.
【0003】この種の光情報媒体は、表面にトラッキン
グ用のグルーブが形成されたポリカーボネート等からな
る透光性の基板の上に色素等からなる記録層を形成し、
その上に反射層として金属層を形成し、さらにその上を
紫外線硬化性樹脂等からなる保護層で覆ったのが一般的
な構造である。In this type of optical information medium, a recording layer made of a dye or the like is formed on a transparent substrate made of polycarbonate or the like having a groove for tracking formed on its surface,
It is a general structure that a metal layer is formed as a reflective layer on the metal layer, and the metal layer is further covered with a protective layer made of an ultraviolet curable resin or the like.
【0004】CDについて定めた規格、いわゆるレッド
ブックやオレンジブック等と称されるフォーマット規格
では、波長780nmにおける再生光の反射率が70%
以上であることが必要であるとされている。前記のよう
な記録層を有しない一般のCDにおいては、前記反射層
としてAl膜が形成され、これにより前記CD規格を満
足する70%以上の反射率が得られていた。According to the standard stipulated for CDs, that is, the so-called Red Book, Orange Book, etc., the reflectance of reproduced light at a wavelength of 780 nm is 70%.
It is said that the above is required. In a general CD having no recording layer as described above, an Al film was formed as the reflective layer, and thereby a reflectance of 70% or more satisfying the CD standard was obtained.
【0005】しかし、前述のような色素膜等からなる記
録層を有する光情報媒体において、Al膜からなる反射
層を用いた場合、充分な反射率を得ることができない。
そこで、追記型のCDについては、より高い反射率が得
られるAu膜が反射層として使用されていた。However, in the optical information medium having the recording layer composed of the dye film or the like as described above, when the reflective layer composed of the Al film is used, sufficient reflectance cannot be obtained.
Therefore, in the write-once type CD, an Au film that can obtain higher reflectance has been used as the reflective layer.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとしている課題】追記型CDを評価
するうえで、重要な特性にジッタがある。ジッタとは、
デジタル信号の時間軸方向の揺れを意味し、このジッタ
値が低い程記録状態が良好であることを示している。し
かしながら、反射層として前記のようなAu膜を用いた
従来の追記型CDにおいては、このジッタ値が、特に低
線速記録において悪いという課題があった。そこで本発
明は、前記従来の光情報媒体における課題に鑑み、高い
反射率を有し、しかも良好なジッタ値が得られる光情報
媒体を提供することを目的とする。Jitter is an important characteristic in evaluating a write-once CD. What is Jitter?
It means the fluctuation of the digital signal in the time axis direction, and the lower the jitter value, the better the recording state. However, in the conventional write-once type CD using the Au film as described above as the reflective layer, there is a problem that this jitter value is bad especially in low linear velocity recording. Therefore, in view of the problems in the conventional optical information medium, an object of the present invention is to provide an optical information medium having a high reflectance and obtaining a good jitter value.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】すなわち、前記の目的を
達成するため、本発明は、透光性基板の上に直接または
他の層を介して設けられた記録層と、この記録層の上に
直接または他の層を介して設けられ、透光性基板側から
入射した光を反射する反射層と、この反射層の上に直接
または他の層を介して設けられた保護層とを有する光情
報媒体において、前記反射層が多層構造からなり、その
うち少なくとも一方が、ブリネル硬さHB が25を越え
る材料により形成されていると共に、反射層の記録層側
にある第一層の屈折率の実数部nが1以下であることを
特徴とするものである。That is, in order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a recording layer provided directly or through another layer on a translucent substrate, and a recording layer on the recording layer. And a protective layer provided directly on the transparent layer and reflecting the light incident from the transparent substrate side, and a protective layer provided on the reflective layer directly or via another layer. In the optical information medium, the reflective layer has a multilayer structure, at least one of which is made of a material having a Brinell hardness H B of more than 25, and the refractive index of the first layer on the recording layer side of the reflective layer. The real part n of is less than or equal to 1.
【0008】この場合において、反射層の記録層側にあ
る屈折率の実数部nが1以上の第一層の膜厚が50nm
以上であることが好ましい。また、反射層の保護層側に
ある層の他層との界面が、透光性基板の表面に設けられ
たグルーブにより生じる凹凸を有し、その凹凸の深さが
30nm以上であることが好ましい。In this case, the film thickness of the first layer whose real part n of the refractive index on the recording layer side of the reflective layer is 1 or more is 50 nm.
The above is preferable. Further, it is preferable that the interface of the reflective layer with the other layer on the protective layer side has unevenness caused by the groove provided on the surface of the transparent substrate, and the unevenness has a depth of 30 nm or more. .
【0009】[0009]
【作用】前記本発明による光情報媒体では、反射層の少
なくとも一部の層が、ブリネル硬さHB が25を越える
材料により形成されているため、記録時における反射層
の熱歪等が起こりにくく、ジッタ値が良好となる。具体
的には、後述する比較例3のように、Auで反射膜を形
成した光情報媒体では、波長780nmの半導体レーザ
を線速1.2m/sec(CLV)で照射したときの3
Tジッタ(α)のピットランドの平均値は28ns程度
である。これに対して本発明による光情報媒体では、2
1〜23ns程度の3Tジッタ(α)のピットランドの
平均値が得られる。In the optical information medium according to the present invention, since at least a part of the reflective layer is made of a material having a Brinell hardness H B of more than 25, thermal distortion of the reflective layer during recording occurs. It is difficult and the jitter value becomes good. Specifically, as in Comparative Example 3 described later, in an optical information medium having a reflective film formed of Au, a semiconductor laser having a wavelength of 780 nm was irradiated at a linear velocity of 1.2 m / sec (CLV).
The average value of the pit land of T jitter (α) is about 28 ns. On the other hand, in the optical information medium according to the present invention, 2
An average value of pit lands of 3T jitter (α) of about 1 to 23 ns can be obtained.
【0010】さらに、透光性基板側から入射した光を反
射する反射層の第一層の屈折率の実数部nが1以下であ
るため、高い反射率が得られる。この場合に、反射層の
記録層側にある屈折率の実数部nが1以下の第一層の膜
厚が50nm以上であると、より確実に高い反射率が得
られる。Further, since the real part n of the refractive index of the first layer of the reflective layer which reflects the light incident from the transparent substrate side is 1 or less, a high reflectance can be obtained. In this case, when the film thickness of the first layer having a real part n of the refractive index of 1 or less on the recording layer side of the reflective layer is 50 nm or more, a higher reflectance can be obtained more reliably.
【0011】さらに、前記光情報媒体において、反射層
の保護層側にある層の他層との界面が、透光性基板の表
面に設けられたグルーブにより生じる凹凸を有すると、
単なる平坦な反射層に比べて、反射層の断面二次モーメ
ントが大きくなり、その剛性が高くなり、より歪を生じ
難くなる。このため、ジッタ値の低減によりより有効で
ある。ここで、一般的な深さ80nmのグルーブを有す
る透光性の基板の上に、膜厚130nm前後の記録層、
全膜厚110nm前後の反射層を形成した場合、反射層
と保護層側の他の層との界面の凹凸の深さが30nm以
上であると、反射層の歪が効果的に抑えられる。一方、
凹凸の深さがこれ以下であると、反射層の剛性を高める
効果に乏しい。Further, in the optical information medium, if the interface of the reflective layer with the other layer on the protective layer side has irregularities caused by the groove provided on the surface of the transparent substrate,
Compared with a mere flat reflective layer, the second moment of area of the reflective layer is large, its rigidity is high, and distortion is less likely to occur. Therefore, it is more effective by reducing the jitter value. Here, on a translucent substrate having a groove having a general depth of 80 nm, a recording layer having a thickness of about 130 nm,
When a reflective layer having a total film thickness of about 110 nm is formed and the depth of the irregularities at the interface between the reflective layer and the other layer on the protective layer side is 30 nm or more, distortion of the reflective layer can be effectively suppressed. on the other hand,
If the depth of the irregularities is less than this, the effect of increasing the rigidity of the reflective layer is poor.
【0012】[0012]
【実施例】次に、本発明の実施例について、図面を参照
しながら、詳細に説明する。本発明による光情報媒体の
模式的な構造の例を、図1と図2に示す。同図におい
て、1は、例えばポリカーボネート等からなる透光性を
有する基板であり、この透光性基板1上には、図2に示
されたように、所定のピッチでスパイラル状のトラッキ
ング用プリグルーブ5が設けられている。2は、この透
光性基板1の上に形成された色素膜等からなる記録層で
ある。また3と6は、その上に形成された反射層で、第
一層3と第二層6との複合層からなる。これらの複合層
は、3層以上であってもよい。4は、この反射層の第二
層の上に設けられた保護層を示す。これらの層の間に図
示してない他の層が介在されることもある。Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings. An example of a schematic structure of the optical information medium according to the present invention is shown in FIGS. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a light-transmissive substrate made of, for example, polycarbonate. On the light-transmissive substrate 1, as shown in FIG. Groove 5 is provided. Reference numeral 2 is a recording layer formed of a pigment film or the like formed on the transparent substrate 1. Further, 3 and 6 are reflective layers formed thereon, which are composed of a composite layer of the first layer 3 and the second layer 6. These composite layers may be three or more layers. Reference numeral 4 denotes a protective layer provided on the second layer of the reflective layer. Other layers not shown may be interposed between these layers.
【0013】前記反射層の第一層3は、屈折率の実数部
nが1以下の金属膜からなり、具体的には、Au、Ag
もしくはCuまたはそれらの合金膜からなる。この第一
層3のみで波長780nm前後の光を反射する場合に、
その膜厚が50nm以下では、膜厚が増大するに従って
反射率がも増大する。そして、膜厚が50nmを越える
と、反射率の上昇は飽和状態となり、それ以上膜厚が増
大しても反射率は殆ど上昇しない。このような理由か
ら、第一層3の膜厚は少なくとも50nm必要である。The first layer 3 of the reflective layer is made of a metal film having a real part n of the refractive index of 1 or less, and specifically, Au, Ag.
Alternatively, it is made of Cu or an alloy film thereof. When only the first layer 3 reflects light with a wavelength of about 780 nm,
When the film thickness is 50 nm or less, the reflectance increases as the film thickness increases. When the film thickness exceeds 50 nm, the increase in reflectance is saturated, and even if the film thickness is further increased, the reflectance hardly increases. For this reason, the thickness of the first layer 3 needs to be at least 50 nm.
【0014】また、この反射層を構成する複合層のうち
の何れかの層、例えば図示の例では、第二層6は、ブリ
ネル硬さHB が25を越える金属からなり、例えば、C
r、Ni、Al合金、Au合金、Ag合金、Cu合金、
Pt、Mo、W、Zn、Zr等で形成することができ
る。この第2層は、その材料本来のバルク状態での硬さ
が発揮できる厚さとして、60nm以上とするのが好ま
しい。Further, any one of the composite layers constituting the reflection layer, for example, the second layer 6 in the illustrated example, is made of a metal having a Brinell hardness H B of more than 25, and is, for example, C.
r, Ni, Al alloy, Au alloy, Ag alloy, Cu alloy,
It can be formed of Pt, Mo, W, Zn, Zr, or the like. The thickness of the second layer is preferably 60 nm or more so that the original hardness of the material in the bulk state can be exhibited.
【0015】これらの反射層3、6は、スパッタ法や真
空蒸着法等の薄膜形成手段により形成できる。さらに、
図2に示されたように、反射層6の保護層4との界面
が、透光性基板1の表面に設けられた前記プリグルーブ
5により生じる凹凸を有している。プリグルーブ5の深
さは通常80nmであるが、この反射層6の保護層4と
の界面側における凹凸の深さdは30nm以上であるの
がよい。これにより、単なる平坦な反射層に比べて、反
射層3、6の弾二次モーメントが大きくなり、その剛性
が高くなる。The reflective layers 3 and 6 can be formed by a thin film forming means such as a sputtering method or a vacuum evaporation method. further,
As shown in FIG. 2, the interface between the reflective layer 6 and the protective layer 4 has unevenness caused by the pre-groove 5 provided on the surface of the transparent substrate 1. The depth of the pre-groove 5 is usually 80 nm, but the depth d of the irregularities on the interface side of the reflective layer 6 with the protective layer 4 is preferably 30 nm or more. As a result, the elastic moment of inertia of the reflective layers 3 and 6 becomes larger and the rigidity thereof becomes higher than that of a simple flat reflective layer.
【0016】次に本発明による光情報媒体の具体例につ
いて、比較例と共に説明する。 (実施例1)直径46〜117mmφの範囲に、幅0.
8μm、深さ0.08μm、ピッチ1.6μmのスパイ
ラル状のプレグルーブが形成された厚さ1.2mm、外
径120mmφ、内径15mmφのポリカーボネート基
板を射出成形法により成形した。Next, specific examples of the optical information medium according to the present invention will be described together with comparative examples. (Embodiment 1) A width of 0.
A polycarbonate substrate having a thickness of 1.2 mm, an outer diameter of 120 mmφ and an inner diameter of 15 mmφ in which spiral pregrooves having a thickness of 8 μm, a depth of 0.08 μm and a pitch of 1.6 μm were formed was molded by an injection molding method.
【0017】記録層を形成するための有機色素として、
0.65gの1,1’ジブチル3,3,3’,3’テト
ラメチル4,5,4’,5’ジベンゾインドジカーボシ
アニンパークロレート(日本感光色素社製、品番NK3
219)を、ジアセトンアルコール溶剤10ccに溶解
し、これを前記の基板1の表面に、スピンコート法によ
り塗布し、平均膜厚130nmの記録層を形成した。As the organic dye for forming the recording layer,
0.65 g of 1,1 'dibutyl 3,3,3', 3 'tetramethyl 4,5,4', 5 'dibenzoindodicarbocyanine perchlorate (manufactured by Nippon Senshoku Co., Ltd., product number NK3
219) was dissolved in diacetone alcohol solvent 10 cc, and this was coated on the surface of the substrate 1 by spin coating to form a recording layer having an average film thickness of 130 nm.
【0018】次に、この記録層の上から前記ポリカーボ
ネート基板の直径45〜118mmφの領域の全面にス
パッタリング法により、膜厚50nmのAu膜を成膜
し、さらにこの上に膜厚60nmの95:5のAl−M
g合金膜を成膜し、2層構造の反射層を形成した。オリ
オニクス社製の電子線断面形状測定装置を用いて、この
反射層の上から前記プレグルーブによって生じた凹凸の
深さdを測定したところ、d=30nmであった。さら
に、この反射層の上に紫外線硬化性樹脂(DIC社製の
SD−17)をスピンコートし、これに紫外線を照射し
て硬化させ、膜厚5μmの保護層4を形成した。Next, an Au film having a film thickness of 50 nm is formed on the entire surface of the area of the polycarbonate substrate having a diameter of 45 to 118 mmφ from the recording layer by a sputtering method, and further, an Au film having a film thickness of 60 nm of 95: 5 Al-M
A g-alloy film was formed to form a reflective layer having a two-layer structure. Using an electron beam cross-sectional shape measuring device manufactured by Orionix, the depth d of the unevenness caused by the pregroove was measured from above the reflective layer, and was d = 30 nm. Further, an ultraviolet curable resin (SD-17 manufactured by DIC Co., Ltd.) was spin-coated on this reflective layer, and this was irradiated with ultraviolet rays to be cured to form a protective layer 4 having a film thickness of 5 μm.
【0019】こうして得られた光ディスクの波長780
nmの半導体レーザ光の反射率は、72%であった。ま
た、この光情報媒体にEFM信号を記録した後、波長7
80nmの半導体レーザを線速1.2m/sec(CL
V)で照射し、3Tジッタ(α)のピットランドの平均
値を測定したところ、22nsであった。The wavelength 780 of the optical disk thus obtained
The reflectance of the semiconductor laser light of nm was 72%. After recording the EFM signal on this optical information medium,
An 80 nm semiconductor laser with a linear velocity of 1.2 m / sec (CL
It was 22 ns when the average value of 3T jitter (α) pit land was measured by irradiation with V).
【0020】(実施例2)前記実施例1と同様の形状及
びプレグルーブを有するポリカーボネート基板の上に、
前記と同様にして記録層2を形成した後、この上に真空
蒸着法により膜厚60nmのAg膜を成膜し、さらにそ
の上に膜厚60nmの98:0.8:1.2のAl−S
i−Mg合金膜を成膜し、反射層を形成した。前記実施
例1と同様にして、この反射層の上からプレグルーブに
よって生じた凹凸の深さdを測定したところ、d=42
nmであった。さらに、この反射層の上に、前記実施例
1と同様の保護層を形成した。(Example 2) On a polycarbonate substrate having the same shape and pregroove as in Example 1,
After forming the recording layer 2 in the same manner as described above, an Ag film having a film thickness of 60 nm is formed thereon by a vacuum vapor deposition method, and further, a 98: 0.8: 1.2 Al film having a film thickness of 60 nm is formed thereon. -S
An i-Mg alloy film was formed and a reflective layer was formed. When the depth d of the unevenness caused by the pregroove was measured from above the reflective layer in the same manner as in Example 1, d = 42.
was nm. Further, a protective layer similar to that in Example 1 was formed on the reflective layer.
【0021】こうして得られた光ディスクの波長780
nmの半導体レーザ光の反射率は、73%であった。ま
た、この光情報媒体にEFM信号を記録した後、同様に
して3Tジッタ(α)のピットランドの平均値を測定し
たところ、21nsであった。The wavelength 780 of the optical disk thus obtained
The reflectance of the semiconductor laser light of nm was 73%. After recording an EFM signal on this optical information medium, the average value of pit lands of 3T jitter (α) was measured in the same manner, and it was 21 ns.
【0022】(実施例3)前記実施例1と同様の形状及
びプレグルーブを有するポリカーボネート基板の上に、
前記と同様にして記録層2を形成した後、この上にスパ
ッタリング法により膜厚50nmのAu膜を成膜し、さ
らにその上に膜厚60nmのCr膜を成膜し、反射層を
形成した。前記実施例1と同様にして、この反射層の上
からプレグルーブによって生じた凹凸の深さdを測定し
たところ、d=38nmであった。さらに、この反射層
の上に、前記実施例1と同様の保護層を形成した。Example 3 On a polycarbonate substrate having the same shape and pregroove as in Example 1,
After forming the recording layer 2 in the same manner as described above, an Au film having a film thickness of 50 nm was formed thereon by a sputtering method, and a Cr film having a film thickness of 60 nm was further formed thereon to form a reflective layer. . When the depth d of the unevenness caused by the pregrooves was measured from above the reflective layer in the same manner as in Example 1, d = 38 nm. Further, a protective layer similar to that in Example 1 was formed on the reflective layer.
【0023】こうして得られた光ディスクの波長780
nmの半導体レーザ光の反射率は、72%であった。ま
た、この光情報媒体にEFM信号を記録した後、同様に
して3Tジッタ(α)のピットランドの平均値を測定し
たところ、20.5nsであった。The wavelength 780 of the optical disk thus obtained
The reflectance of the semiconductor laser light of nm was 72%. After recording an EFM signal on this optical information medium, the average value of the pit lands of 3T jitter (α) was measured in the same manner, and it was 20.5 ns.
【0024】(実施例4)前記実施例1と同様の形状及
びプレグルーブを有するポリカーボネート基板の上に、
前記と同様にして記録層2を形成した後、この上にスパ
ッタリング法により膜厚50nmのAu膜を成膜し、さ
らにその上に膜厚60nmの95:5のAl−Si合金
膜を成膜し、反射層を形成した。前記実施例1と同様に
して、この反射層の上からプレグルーブによって生じた
凹凸の深さdを測定したところ、d=32nmであっ
た。さらに、この反射層の上に、前記実施例1と同様の
保護層を形成した。Example 4 On a polycarbonate substrate having the same shape and pregroove as in Example 1,
After forming the recording layer 2 in the same manner as described above, an Au film having a film thickness of 50 nm is formed thereon by a sputtering method, and a 95: 5 Al-Si alloy film having a film thickness of 60 nm is further formed thereon. Then, a reflective layer was formed. When the depth d of the unevenness caused by the pregroove was measured from above the reflective layer in the same manner as in Example 1, d = 32 nm was obtained. Further, a protective layer similar to that in Example 1 was formed on the reflective layer.
【0025】こうして得られた光ディスクの波長780
nmの半導体レーザ光の反射率は、72%であった。ま
た、この光情報媒体にEFM信号を記録した後、同様に
して3Tジッタ(α)のピットランドの平均値を測定し
たところ、23nsであった。The wavelength 780 of the optical disk thus obtained
The reflectance of the semiconductor laser light of nm was 72%. After recording an EFM signal on this optical information medium, the average value of the pit lands of 3T jitter (α) was measured in the same manner, and it was 23 ns.
【0026】(比較例1)前記実施例1において、反射
層を膜厚70nmのAu膜のみで形成したこと以外は、
同実施例と同様にして、光ディスクを製作した。なお、
実施例1と同様にして、この反射層の上からプレグルー
ブによって生じた凹凸の深さdを測定したところ、d=
20nmであった。こうして得られた光ディスクの波長
780nmの半導体レーザ光の反射率は、73%であっ
た。しかし、この光情報媒体にEFM信号を記録した
後、同様にして3Tジッタ(α)のピットランドの平均
値を測定したところ、28nsであった。(Comparative Example 1) In Comparative Example 1, except that the reflective layer was formed of only a 70 nm thick Au film.
An optical disk was manufactured in the same manner as in the same example. In addition,
In the same manner as in Example 1, the depth d of the unevenness caused by the pregroove was measured from above the reflective layer.
It was 20 nm. The optical disk thus obtained had a reflectance of 73% for semiconductor laser light having a wavelength of 780 nm. However, after the EFM signal was recorded on this optical information medium, the average value of the pit lands of 3T jitter (α) was measured in the same manner, and it was 28 ns.
【0027】(比較例2)前記実施例1と同様の形状及
びプレグルーブを有するポリカーボネート基板の上に、
前記と同様にして記録層2を形成した後、この上にスパ
ッタリング法により膜厚50nmのAu膜を成膜し、さ
らにその上に膜厚60nmの95:5のAl−Mg合金
膜を成膜し、反射層を形成した。前記実施例1と同様に
して、この反射層の上からプレグルーブによって生じた
凹凸の深さdを測定したところ、d=20nmであっ
た。さらに、この反射層の上に、前記実施例1と同様の
保護層を形成した。(Comparative Example 2) On a polycarbonate substrate having the same shape and pre-groove as in Example 1,
After forming the recording layer 2 in the same manner as described above, an Au film having a film thickness of 50 nm is formed thereon by a sputtering method, and a 95: 5 Al—Mg alloy film having a film thickness of 60 nm is further formed thereon. Then, a reflective layer was formed. When the depth d of the irregularities caused by the pregrooves was measured from above the reflective layer in the same manner as in Example 1, d = 20 nm was obtained. Further, a protective layer similar to that in Example 1 was formed on the reflective layer.
【0028】こうして得られた光ディスクの波長780
nmの半導体レーザ光の反射率は、72%であった。ま
た、この光情報媒体にEFM信号を記録した後、同様に
して3Tジッタ(α)のピットランドの平均値を測定し
たところ、26nsであった。The wavelength 780 of the optical disk thus obtained
The reflectance of the semiconductor laser light of nm was 72%. Also, after recording an EFM signal on this optical information medium, the average value of the pit lands of 3T jitter (α) was measured in the same manner, and it was 26 ns.
【0029】[0029]
【発明の効果】以上説明した通り、本発明によれば、反
射層を特殊な多層構造としたことにより、高い反射率を
有し、しかも良好なジッタ値が得られる光情報媒体が提
供できる。As described above, according to the present invention, since the reflective layer has a special multilayer structure, it is possible to provide an optical information medium having a high reflectance and a good jitter value.
【図1】光記録媒体の構造の例を示す模式半断面斜視図
である。FIG. 1 is a schematic half cross-sectional perspective view showing an example of the structure of an optical recording medium.
【図2】第1図の光記録前のトラッキング方向に断面し
た拡大断面図である。 1 透光製基板 2 記録層 3 反射層の第一層 4 保護層 6 反射層の第二層FIG. 2 is an enlarged cross-sectional view taken along the tracking direction before optical recording in FIG. 1 translucent substrate 2 recording layer 3 first layer of reflective layer 4 protective layer 6 second layer of reflective layer
Claims (3)
して設けられた記録層と、この記録層の上に直接または
他の層を介して設けられ、透光性基板側から入射した光
を反射する反射層と、この反射層の上に直接または他の
層を介して設けられた保護層とを有する光情報媒体にお
いて、前記反射層が多層構造からなり、そのうち少なく
とも一方が、ブリネル硬さHB が25を越える材料によ
り形成されると共に、反射層の記録層側にある第一層の
屈折率の実数部nが1以下であることを特徴とする光情
報媒体。1. A recording layer provided directly on a translucent substrate or via another layer, and from the translucent substrate side provided directly on this recording layer or via another layer. In an optical information medium having a reflective layer for reflecting incident light and a protective layer provided directly on the reflective layer or via another layer, the reflective layer has a multilayer structure, at least one of which is An optical information medium which is formed of a material having a Brinell hardness H B of more than 25, and in which the real part n of the refractive index of the first layer on the recording layer side of the reflective layer is 1 or less.
側にある第一層の膜厚が50nm以上であることを特徴
とする光情報媒体。2. The optical information medium according to claim 1, wherein the thickness of the first layer on the recording layer side of the reflective layer is 50 nm or more.
の保護層側にある層の他層との界面が、透光性基板の表
面に設けられたグルーブにより生じる凹凸を有し、その
凹凸の深さが30nm以上であることを特徴とする光情
報媒体。3. The surface of the light-transmissive substrate according to claim 1 or 2, wherein an interface between the reflective layer and another layer of the reflective layer has irregularities generated by a groove provided on the surface of the translucent substrate. An optical information medium having a depth of 30 nm or more.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5351305A JPH07201076A (en) | 1993-12-30 | 1993-12-30 | Optical information medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5351305A JPH07201076A (en) | 1993-12-30 | 1993-12-30 | Optical information medium |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07201076A true JPH07201076A (en) | 1995-08-04 |
Family
ID=18416413
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5351305A Pending JPH07201076A (en) | 1993-12-30 | 1993-12-30 | Optical information medium |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07201076A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006099890A (en) * | 2004-09-30 | 2006-04-13 | Taiyo Yuden Co Ltd | Optical information recording medium |
-
1993
- 1993-12-30 JP JP5351305A patent/JPH07201076A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006099890A (en) * | 2004-09-30 | 2006-04-13 | Taiyo Yuden Co Ltd | Optical information recording medium |
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Legal Events
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A02 | Decision of refusal |
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