JPH07193100A - Method and apparatus for bonding - Google Patents

Method and apparatus for bonding

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JPH07193100A
JPH07193100A JP34718593A JP34718593A JPH07193100A JP H07193100 A JPH07193100 A JP H07193100A JP 34718593 A JP34718593 A JP 34718593A JP 34718593 A JP34718593 A JP 34718593A JP H07193100 A JPH07193100 A JP H07193100A
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JP
Japan
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bonding
lead
electrode pad
inner lead
laser beam
Prior art date
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Application number
JP34718593A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Ikuo Mori
郁夫 森
Koichiro Atsumi
幸一郎 渥美
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH07193100A publication Critical patent/JPH07193100A/en
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
    • H01L24/79Apparatus for Tape Automated Bonding [TAB]

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
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Abstract

PURPOSE:To provide a bonding method and a bonder with which better joint properties can be obtained. CONSTITUTION:When respective inner leads 3 formed on a carrier tape 1 are jointed with respective electrode pads 5 provided on a semiconductor chip with solder bumps 6, after a part of the inner lead 3 and a part of the solder bump 6 which are brought into contact with each other are covered with oxidation- proof gas (oxidation-proof atmosphere), the joint part is irradiated with laser beam L and the inner lead 3 is jointed with the electrode pad 5 with the solder bumps 6.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、キャリアテ−プに設
けられたインナ−リ−ドと、半導体素子に設けられた電
極パッドとを接合するボンディング方法および装置に関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a bonding method and apparatus for bonding an inner lead provided on a carrier tape and an electrode pad provided on a semiconductor element.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体部品(半導体素子)をキャリアテ
−プやプリント基板上に実装する方法は、上記半導体部
品のすべてのリ−ドを一括的に接合するギャングボンデ
ィング方法と、上記リ−ドを一本ずつ個別に接合するシ
ングルポイントボンディング方法とに大別される。
2. Description of the Related Art A method of mounting a semiconductor component (semiconductor element) on a carrier tape or a printed circuit board includes a gang bonding method for collectively joining all the leads of the semiconductor component and the above-mentioned lead. It is roughly classified into a single point bonding method in which each of them is individually bonded.

【0003】このうちシングルポイントボンディング方
法は、大型ASIC等の実装でリ−ド一本一本を確実に
接合することができる特徴があるので、近年、特に注目
されている。また、半導体部品の高品質化に伴う作業温
度の低温化の要請により、シングルポイントボンディン
グ方法に用いるツ−ルに超音波振動を印加することで、
ボンディングに要するエネルギとして超音波エネルギを
併用する方法もある。
Of these, the single-point bonding method has attracted special attention in recent years because it has a feature that each lead can be reliably bonded to each other by mounting a large ASIC or the like. In addition, by applying the ultrasonic vibration to the tool used in the single-point bonding method, due to the demand for lowering the working temperature accompanying the improvement in quality of semiconductor parts,
There is also a method of jointly using ultrasonic energy as energy required for bonding.

【0004】しかし、このようなシングルポイントボン
ディング方法の場合、品種によって専用のボンディング
ツ−ルを製作する必要があると共に、このボンディング
ツ−ルの加圧動作により電極パッドを介して上記半導体
部品にダメ−ジがかかるということがある。
However, in the case of such a single point bonding method, it is necessary to manufacture a dedicated bonding tool depending on the type, and the pressing operation of this bonding tool causes the semiconductor component to be connected to the semiconductor component through the electrode pad. Sometimes it takes damage.

【0005】これらの事情により、最近はレ−ザビ−ム
を用いたボンディング方法が種々研究されている。この
レ−ザビ−ムを用いたボンディング方法の場合でも、レ
−ザビ−ムを個々の接続点に照射し、上記シングルポイ
ントボンディング方法と同様に各接続点毎に個別的な接
合を行なうことができる。
Under these circumstances, various bonding methods using a laser beam have recently been studied. Even in the case of the bonding method using this laser beam, it is possible to irradiate each connection point with the laser beam and perform individual bonding at each connection point as in the single point bonding method. it can.

【0006】以下、このボンディング方法をレ−ザシン
グルポイントボンディングという。
Hereinafter, this bonding method will be referred to as laser single point bonding.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来、レ−
ザシングルポイントボンディングのほとんどは、接合材
としてハンダを用い、あらかじめリ−ドあるいは電極パ
ッドに供給されたハンダをレ−ザ光のレ−ザエネルギに
よって加熱溶融させその後冷却することでハンダ付けに
より上記リ−ドと電極パッドとを接合するようにしてい
た。
By the way, in the prior art,
In most of the single point bonding, solder is used as a bonding material, and the solder previously supplied to the lead or the electrode pad is heated and melted by the laser energy of the laser light and then cooled. -The electrode and the electrode pad were joined together.

【0008】しかし、この場合、ハンダが溶融する温度
に達するまで上記リ−ドおよび電極パッドを加熱する必
要があるため、非常に短時間ではあるがハンダの溶融お
よび凝固の過程で供給されたハンダの表面が酸化し良好
なハンダ付け性(濡れ性)が得られないという問題があ
る。
However, in this case, since it is necessary to heat the lead and the electrode pad until the temperature at which the solder melts is reached, the solder supplied in the process of melting and solidifying the solder is very short in time. However, there is a problem that the surface of is oxidized and good solderability (wettability) cannot be obtained.

【0009】また、ハンダ付け性やハンダ濡れ性を向上
させるためにはフラックスを用いることが有効である
が、ハンダ付け後の洗浄あるいは腐食等の問題からフラ
ックスはできるだけ使用したくないという事情がある。
Further, it is effective to use a flux in order to improve the solderability and the solder wettability, but there is a circumstance that the flux should not be used as much as possible due to problems such as cleaning or corrosion after soldering. .

【0010】この発明は、このような事情に鑑みなされ
たもので、レ−ザシングルポイントボンディングにおい
て、より良好な接合性を得ることができるボンディング
方法および装置を提供することを目的とするものであ
る。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a bonding method and apparatus capable of obtaining better bondability in laser single point bonding. is there.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】この発明の第1の手段
は、各リ−ドを、接合材を介して、対応する各電極パッ
ドに接合するボンディング方法において、少なくとも上
記リ−ドと電極パッドの接合部位を酸化防止雰囲気ある
いは還元性雰囲気で覆い、この接合部位にレ−ザビ−ム
を照射することで上記接合材を介して上記リ−ドと上記
電極パッドとを接合することを特徴とするボンディング
方法である。
A first means of the present invention is a bonding method in which each lead is bonded to a corresponding electrode pad via a bonding material, and at least the lead and the electrode pad are bonded. Is covered with an oxidation preventive atmosphere or a reducing atmosphere, and a laser beam is irradiated to the joint portion to join the lead and the electrode pad through the joint material. This is the bonding method.

【0012】第2の手段は、キャリアテ−プに形成され
た各インナリ−ドと半導体素子に形成された各電極パッ
ドとをハンダ材を介して接続するボンディング装置にお
いて、上記キャリアテ−プを走行させ、このキャリアテ
−プの上記インナ−リ−ドが設けられた部位を所定のボ
ンディング位置に停止させるテ−プ走行手段と、透明硬
質部材で形成されていると共に、上記ボンディング位置
に停止するインナ−リ−ドの一面と当接する押圧板と、
上記インナ−リ−ドの他面側に配置され、上記ボンディ
ング位置において上記半導体素子を保持すると共に、こ
の半導体素子に設けられた電極パッドをハンダ材を介し
て上記インナ−リ−ドの他面に当接させるボンディング
ステ−ジと、上記ボンディングステ−ジ側に設けられ、
上記半導体素子および上記インナ−リ−ドが位置する部
分を外気と遮断する隔壁と、上記隔壁の内側に上記ハン
ダ材の酸化を防止する酸化防止ガスあるいは還元性ガス
を導入し、上記各インナ−リ−ドと各電極パッドとの接
合部分を酸化防止雰囲気あるいは還元性雰囲気で覆う酸
化防止ガス供給手段と、上記インナ−リ−ドの一面側か
ら上記押圧板を通して上記インナ−リ−ドにレ−ザビ−
ムを照射し、上記ハンダ材を溶融させることで、上記イ
ンナリ−ドと上記電極パッドとを接合するレ−ザビ−ム
照射手段とを具備することを特徴とするボンディング装
置である。
A second means is a bonding apparatus for connecting each inner lead formed on the carrier tape and each electrode pad formed on the semiconductor element through a solder material, and the carrier tape is used for the carrier tape. Tape running means for running and stopping the portion of the carrier tape provided with the inner lead at a predetermined bonding position, and a transparent hard member, and at the bonding position. A pressing plate that comes into contact with one surface of the inner lead,
The semiconductor element is arranged on the other side of the inner lead to hold the semiconductor element at the bonding position, and the electrode pad provided on the semiconductor element is attached to the other side of the inner lead via a solder material. And a bonding stage to be brought into contact with, and provided on the bonding stage side,
A partition wall that shields the semiconductor element and the portion where the inner lead is located from the outside air, and an antioxidant gas or a reducing gas that prevents oxidation of the solder material is introduced into the partition wall, and each inner layer is introduced. An antioxidant gas supply means for covering the joint between the lead and each electrode pad with an antioxidant atmosphere or a reducing atmosphere, and the inner lead from one side of the inner lead to the inner lead through the pressing plate. -Zabi-
And a laser beam irradiating means for joining the inner lead to the electrode pad by irradiating the solder material to melt the solder material.

【0013】第3の手段は、第2の手段において、上記
押圧板には、上記ガス供給手段によって上記隔壁の内側
に充満されるガスを順次排気する排気孔が設けられてい
ることを特徴とするものである。
A third means is characterized in that, in the second means, the pressing plate is provided with an exhaust hole for sequentially exhausting the gas filled inside the partition wall by the gas supply means. To do.

【0014】第4の手段は、半導体電子部品に形成され
た各アウタリ−ドと基板に形成された電極パッドとをハ
ンダ材を介して接続するボンディング装置において、透
明硬質部材で形成されていると共に、上記アウタリ−ド
の上記基板に対向する面と反対側の面に当接する押圧板
と、上記押圧板と基板との間に上記ハンダ材の酸化を防
止する酸化防止ガスあるいは還元性ガスを導入し、上記
各アウタリ−ドと各パッドとの接合部分を酸化防止雰囲
気あるいは還元性雰囲気で覆う酸化防止ガス供給手段
と、上記押圧板を通して上記インナ−リ−ドにレ−ザビ
−ムを照射し、上記ハンダ材を溶融させることで、上記
インナリ−ドと上記電極パッドとを接合するレ−ザビ−
ム照射手段とを具備することを特徴とするボンディング
装置である。
The fourth means is a bonding apparatus for connecting each outer lead formed on a semiconductor electronic component and an electrode pad formed on a substrate through a solder material, and is formed of a transparent hard member. , A pressing plate that contacts the surface of the outer lead opposite to the surface facing the substrate, and an antioxidant gas or a reducing gas for preventing the oxidation of the solder material is introduced between the pressing plate and the substrate. Then, the inner beam is irradiated with a laser beam through an antioxidant gas supply means for covering the joint portion between each outer lead and each pad with an antioxidant atmosphere or a reducing atmosphere and the pressing plate. , A laser beam for joining the inner lead and the electrode pad by melting the solder material.
A bonding apparatus comprising: a radiation unit.

【0015】[0015]

【作用】このような構成によれば、酸化防止雰囲気ある
いは還元性雰囲気でリ−ドと各電極パッドとの接合を行
うようすることで、接合材の表面が酸化することを有効
に防止できるので、良好なハンダ付け性及びハンダ濡れ
性を確保することができる。
According to this structure, the surface of the bonding material can be effectively prevented from being oxidized by bonding the lead and each electrode pad in an oxidation preventing atmosphere or a reducing atmosphere. It is possible to secure good solderability and solder wettability.

【0016】[0016]

【実施例】以下、この発明の一実施例を図面を参照して
説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0017】まず、第1の実施例について説明する。First, the first embodiment will be described.

【0018】図1に示すのは、インナ−リ−ドボンディ
ング装置である。このインナ−リ−ドボンディング装置
は、図2に示すキャリアテ−プ1のデバイスホ−ル2内
に突出したインナ−リ−ド3…と、半導体素子4の電極
パッド5とを接合材であるハンダバンプ6を介して接続
(インナ−リ−ドボンディング)することで、この半導
体素子4を上記キャリアテ−プ1に搭載する機能を有す
る。
FIG. 1 shows an inner lead bonding apparatus. In this inner lead bonding apparatus, the inner lead 3 ... Protruding into the device hole 2 of the carrier tape 1 shown in FIG. 2 and the electrode pad 5 of the semiconductor element 4 are joint materials. By connecting (inner lead bonding) via the solder bumps 6, it has a function of mounting the semiconductor element 4 on the carrier tape 1.

【0019】このインナ−リ−ドボンディング装置は、
図1に示すように、テ−プ走行手段としての一対のスプ
ロケット8、8間にキャリアテ−プ1を張設し、図に矢
印(イ)で示す方向に間欠的に送り駆動する。上記一対
のスプロケット8、8間には、張設されたキャリアテ−
プ1を下方向に付勢しつつガイドするガイド板9(押圧
板)が設けられている。このガイド板9は、石英等の透
明硬質部材で成形されている。
This inner lead bonding apparatus is
As shown in FIG. 1, a carrier tape 1 is stretched between a pair of sprockets 8 serving as tape traveling means, and intermittently driven in a direction indicated by an arrow (a) in the figure. A stretched carrier tape is provided between the pair of sprockets 8, 8.
A guide plate 9 (pressing plate) that guides the push-up unit 1 while urging the push-up unit downward is provided. The guide plate 9 is formed of a transparent hard member such as quartz.

【0020】上記キャリアテ−プ1は、間欠送り駆動さ
れることで、上記デバイスホ−ル2が設けられた部位を
このガイド板9の中央部に順次停止させる。このガイド
板9の中央部は、このキャリアテ−プ1に半導体素子4
をボンディングするボンディング位置Aとなっている。
The carrier tape 1 is driven intermittently to sequentially stop the portion provided with the device hole 2 at the central portion of the guide plate 9. The central portion of the guide plate 9 is formed on the carrier tape 1 by the semiconductor element 4
Is at the bonding position A for bonding.

【0021】このボンディング位置Aの下方には、上記
半導体素子4を保持するボンディングステ−ジ10が設
けられている。このボンディングステ−ジ10は、図に
11で示す基台上に設けられたXYZステ−ジ12と、
このXYZステ−ジ12に取り付けられ、上記半導体素
子4を保持する保持体13とからなる。
Below the bonding position A, a bonding stage 10 for holding the semiconductor element 4 is provided. This bonding stage 10 includes an XYZ stage 12 provided on a base shown by 11 in the figure,
The holding body 13 is attached to the XYZ stage 12 and holds the semiconductor element 4.

【0022】上記保持体13の上端は、図2に示すよう
に中央部に上記半導体素子4が載置される載置面13a
が形成され、周縁部にこの載置面13aを囲む隔壁13
bが突設されてなる。また、この保持体13の内部に
は、上記載置面13a上に載置された半導体素子4を加
熱し保温するためのヒ−タ14が設けられている。
As shown in FIG. 2, the upper end of the holding body 13 has a mounting surface 13a on the center of which the semiconductor element 4 is mounted.
And a partition wall 13 that surrounds the mounting surface 13a at the periphery thereof.
b is projected. Further, inside the holder 13, a heater 14 is provided for heating and keeping the temperature of the semiconductor element 4 placed on the placing surface 13a.

【0023】また、上記載置面13aと上記隔壁13b
との隙間には、この隔壁13bの内側、すなわち上記載
置面13aの周辺に窒素等の酸化防止ガスや水素が混入
されたガス等の還元性ガスを導入するガス供給孔15
(ガス供給手段)が開口している。
Further, the placing surface 13a and the partition wall 13b described above.
A gas supply hole 15 for introducing a reducing gas such as an antioxidizing gas such as nitrogen or a gas mixed with hydrogen inside the partition wall 13b, that is, around the placing surface 13a.
(Gas supply means) is open.

【0024】この供給孔15は、上記保持体13の下面
に取着された接続管17を介して図に18で示すガス供
給源に接続されている。
The supply hole 15 is connected to a gas supply source shown by 18 in the drawing through a connection pipe 17 attached to the lower surface of the holding body 13.

【0025】一方、上記ボンディング位置Aの上方に
は、図2(b)に示すように、上記ガイド板9を通して
上記キャリアテ−プ1にレ−ザビ−ムLを照射するレ−
ザ出射部19が設けられている。このレ−ザ出射部19
内には、レ−ザビ−ムLのビ−ム径を上記キャリアテ−
プ1のデバイスホ−ル2内に突設されたインナ−リ−ド
3(一本分)の幅と略同じ大きさに絞ることができる光
学系(図示しない)が組み込まれている。
On the other hand, above the bonding position A, as shown in FIG. 2B, a laser beam L is irradiated onto the carrier tape 1 through the guide plate 9.
The emitting portion 19 is provided. This laser emitting section 19
Inside, the beam diameter of the laser beam L is set to the above carrier tape.
An optical system (not shown) capable of narrowing down to a size substantially the same as the width of the inner lead 3 (one portion) protrudingly provided in the device hole 2 of the plug 1 is incorporated.

【0026】また、このレ−ザ出射部19は、図示しな
いXY駆動部に接続されたホルダ20によって保持され
ていて、このホルダ20がXY方向に駆動されること
で、上記各インナ−リ−ド3の先端部に順次対向位置決
めされ、レ−ザビ−ムLを照射するようになっている。
The laser emitting section 19 is held by a holder 20 connected to an XY driving section (not shown). When the holder 20 is driven in the XY directions, the inner reels described above are held. The laser beam L is irradiated so that the laser beam L is sequentially positioned so as to be opposed to the tip of the window 3.

【0027】なお、このレ−ザ出射部19は、図1に示
すように、光ファイバ21を介して図に22で示すレ−
ザ発振源に接続され、このレ−ザ発振源22が作動する
ことで、上記各インナ−リ−ド3の先端部にレ−ザビ−
ムLを照射できるようになっている。
As shown in FIG. 1, the laser emitting section 19 has a laser 22 shown in FIG.
The laser oscillation source 22 is connected to the laser oscillation source, and the laser oscillation source 22 operates to cause a laser beam to appear at the tip of each inner lead 3.
It is possible to irradiate the light L.

【0028】次に、このインナ−リ−ドボンディング装
置の動作を説明する。
Next, the operation of this inner lead bonding apparatus will be described.

【0029】まず、上記ボンディングステ−ジ10の保
持体13に設けられた載置面13a上に半導体素子4が
供給される。この半導体素子4の上面に設けられた各電
極パッド5上にはあらかじめ突起電極としてのハンダバ
ンプ6が盛り上がり状に供給(形成)されている。
First, the semiconductor element 4 is supplied onto the mounting surface 13a provided on the holding body 13 of the bonding stage 10. On each electrode pad 5 provided on the upper surface of the semiconductor element 4, a solder bump 6 as a protruding electrode is preliminarily supplied (formed) in a raised shape.

【0030】上記ボンディングステ−ジ10は、上記X
YZステ−ジ10を作動させることで、この半導体素子
4を上記ガイド板9の中央部(ボンディング位置A)に
対向位置決めする。
The bonding stage 10 has the X
By operating the YZ stage 10, the semiconductor element 4 is positioned opposite to the central portion (bonding position A) of the guide plate 9.

【0031】一方、上記キャリアテ−プ1は、図に矢印
(イ)で示す方向に間欠的に送り駆動され、上記インナ
−リ−ド3が突設されたデバイスホ−ル2をこのガイド
板9の中央部であるボンディング位置Aに停止させる。
On the other hand, the carrier tape 1 is intermittently driven and driven in the direction shown by the arrow (a) in the figure, and the device wheel 2 provided with the inner lead 3 protruding therefrom is provided with the guide plate. It is stopped at the bonding position A, which is the central portion of 9.

【0032】そして、上記ボンディング位置Aの上方に
設けられた図示しない撮像認識手段を用い、上記ガイド
板9を通して上記インナ−リ−ド3と半導体素子4とを
認識する。そして、これに基づいて上記ボンディングス
テ−ジ10に設けられたXYZステ−ジ12を作動さ
せ、上記各半導体素子4の電極パッド5(ハンダバンプ
6)と上記各インナ−リ−ド3とを位置合わせする。
Then, the inner lead 3 and the semiconductor element 4 are recognized through the guide plate 9 by using an image pickup recognition means (not shown) provided above the bonding position A. Based on this, the XYZ stage 12 provided on the bonding stage 10 is operated to position the electrode pads 5 (solder bumps 6) of the semiconductor elements 4 and the inner leads 3 respectively. To match.

【0033】両者の位置決めが成されたならば、上記保
持体13は上昇駆動され、上記半導体素子4に形成され
たハンダバンプ6を上記インナ−リ−ド3の先端部の下
面に押し付けると共に、上記隔壁13bの上端面を上記
キャリアテ−プ1の下面に当接させる。この隔壁13b
によって、上記デバイスホ−ル2内に突設されたインナ
−リ−ド3及び半導体素子4は外気から遮断される。
When the both are positioned, the holder 13 is driven upward, the solder bumps 6 formed on the semiconductor element 4 are pressed against the lower surface of the tip of the inner lead 3, and The upper end surface of the partition wall 13b is brought into contact with the lower surface of the carrier tape 1. This partition wall 13b
As a result, the inner lead 3 and the semiconductor element 4 projecting from the device hole 2 are shielded from the outside air.

【0034】次に、上記ガス供給源18が作動し、図3
に示すように、上記供給孔15を介して上記隔壁13b
の内部に酸化防止ガスあるいは還元性ガスを供給する。
このことで、上記半導体素子4およびインナ−リ−ド3
は、酸化防止雰囲気によって覆われる。
Next, the gas supply source 18 is activated, and
As shown in FIG.
An antioxidant gas or a reducing gas is supplied to the inside of the.
As a result, the semiconductor element 4 and the inner lead 3 are
Are covered by an antioxidant atmosphere.

【0035】ついで、上記レ−ザ出射部19は、上記デ
バイスホ−ル2内に突設されたインナ−リ−ド3…のう
ちの一本に対向位置決めされ、レ−ザビ−ムLを照射す
る。このレ−ザビ−ムLは、上記透明体であるガイド板
9を通して上記インナ−リ−ド3の先端部に照射され、
このインナ−リ−ド3を介して上記ハンダバンプ6を加
熱し溶融させる。
Next, the laser emitting portion 19 is positioned so as to face one of the inner leads 3 ... Protrudingly provided in the device hole 2 to irradiate the laser beam L. To do. This laser beam L is applied to the tip of the inner lead 3 through the transparent guide plate 9.
The solder bumps 6 are heated and melted via the inner leads 3.

【0036】この間中、上記窒素ガスは、上記隔壁13
aの内部に連続的に供給され、その窒素ガスは、上記ガ
イド板9の中央部に穿設された排気孔9aからこのガイ
ド板9の上方に順次排出されるようになっている。
During this period, the nitrogen gas is kept in the partition wall 13
The nitrogen gas is continuously supplied to the inside of a, and the nitrogen gas is sequentially discharged above the guide plate 9 from an exhaust hole 9a formed in the center of the guide plate 9.

【0037】ハンダバンプ6が溶融したならば、上記レ
−ザ出射部19はレ−ザビ−ムLの照射を停止する。こ
のことで、上記ハンダバンプ6は、酸化防止雰囲気中で
冷却されて固化し、上記インナ−リ−ド3と上記電極パ
ッド5の接合がなされる。
When the solder bumps 6 are melted, the laser emitting portion 19 stops the irradiation of the laser beam L. As a result, the solder bumps 6 are cooled and solidified in an oxidation preventing atmosphere, and the inner leads 3 and the electrode pads 5 are joined.

【0038】また、このときに発生したハンダ屑や水蒸
気等は、上記窒素ガスと共に上記排気孔9aから順次排
出されるようになっている。
The solder dust, water vapor, etc. generated at this time are sequentially discharged from the exhaust hole 9a together with the nitrogen gas.

【0039】このようにして、一組のインナ−リ−ド3
と電極パッド5とが接合されたならば、上記ホルダ20
はXY方向に駆動され、隣り合う他のインナ−リ−ド3
および電極パッド5についても順次ハンダ付けを行って
いく。
In this way, a set of inner leads 3
When the electrode pad 5 is joined to the holder 20,
Are driven in the XY directions, and the other inner leads 3 adjacent to each other
And the electrode pads 5 are also sequentially soldered.

【0040】このような構成によれば、以下に説明する
効果がある。
According to this structure, the following effects can be obtained.

【0041】第1に、上記インナ−リ−ド3と電極パッ
ド5とを接合する接合材であるハンダバンプ6を酸化防
止雰囲気中で溶融させ、冷却固化させるようにした。こ
のことで、上記ハンダバンプ6の表面が酸化することが
防止できるので、良好なハンダ濡れ性、ハンダ付け性を
得ることができる効果がある。
First, the solder bump 6 which is a joining material for joining the inner lead 3 and the electrode pad 5 is melted in an antioxidation atmosphere and cooled and solidified. As a result, the surface of the solder bump 6 can be prevented from being oxidized, and there is an effect that good solder wettability and solderability can be obtained.

【0042】したがってフラックスを用いることが不要
になるので、洗浄工程が不要になると共に、上記半導体
素子4の汚染も有効に防止できる効果もある。
Therefore, since it is not necessary to use the flux, there is an effect that the cleaning step is not necessary and the contamination of the semiconductor element 4 can be effectively prevented.

【0043】第2に、上記インナ−リ−ド3と電極パッ
ド5の押し付けを、ガイド板9を用いることで、一括的
かつ均一に行うことができる。また、このガイド板9は
透明であるから、従来のガイド板9とは異なりボンディ
ング位置Aに上記インナ−リ−ド3…を露出させボンデ
ィングツ−ルを挿入させるための開口が不要となる。
Secondly, the pressing of the inner lead 3 and the electrode pad 5 can be performed collectively and uniformly by using the guide plate 9. Further, since this guide plate 9 is transparent, unlike the conventional guide plate 9, there is no need for an opening for exposing the inner leads 3 ... At the bonding position A and inserting the bonding tool.

【0044】第3に、上記ガイド板9を透明部材とした
ので、この位置に開口を設けなくとも、このガイド板9
を通して上記インナ−リ−ドと上記半導体素子の電極パ
ッドを認識することができ、両者の位置合わせを行うこ
とができる。
Thirdly, since the guide plate 9 is made of a transparent member, the guide plate 9 is not required to have an opening at this position.
Through the above, the inner lead and the electrode pad of the semiconductor element can be recognized and the both can be aligned.

【0045】このことで、装置の構成を簡略化すること
ができる効果がある。
This has the effect of simplifying the structure of the apparatus.

【0046】次に、この発明の第2の実施例を図4を参
照して説明する。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0047】この第2の実施例は、上記インナ−リ−ド
3を上記ハンダバンプ6に押し付けるのに一括加圧治具
を用いないで、一部のインナ−リ−ド3のみを加圧する
加圧治具を用いて行う方法である。
In the second embodiment, a collective pressing jig is not used to press the inner lead 3 against the solder bump 6, but only a part of the inner lead 3 is pressed. This is a method using a pressure jig.

【0048】すなわち、上記ボンディングステ−ジ10
の保持体13´として上記隔壁13bを設けないものを
用い、加圧治具23として、図に示すように、下端面で
上記インナ−リ−ド3の基端部を下方向に押し付けるも
のを用いる。
That is, the above bonding stage 10
As the holding body 13 'of the above, the one without the partition wall 13b is used, and the pressing jig 23 is such that the base end portion of the inner lead 3 is pressed downward by the lower end surface as shown in the figure. To use.

【0049】このようにして上記インナ−リ−ド3と上
記半導体素子4に設けられた電極パッド5とを上記ハン
ダバンプ6を介して互いに押し付けた後、図に24で示
すガス供給ノズルを用いて、この部分に上記ガスを供給
する。このことで、上記加圧治具23によって上記イン
ナ−リ−ドと半導体素子の電極パッドとの周辺は、酸化
防止雰囲気の空間が区画されることとなる。
After the inner lead 3 and the electrode pad 5 provided on the semiconductor element 4 are pressed against each other via the solder bumps 6 in this manner, a gas supply nozzle 24 shown in the drawing is used. The above gas is supplied to this portion. As a result, the space around the inner lead and the electrode pad of the semiconductor element is divided by the pressure jig 23 into an antioxidant atmosphere space.

【0050】この状態で、上記レ−ザ出射部19からレ
−ザビ−ムLを照射することで、上記接合材であるハン
ダバンプ6は、酸化防止雰囲気中で溶融固化し、上記イ
ンナ−リ−ド3と電極パッド5はハンダ付けされる。
In this state, by irradiating the laser beam L from the laser emitting portion 19, the solder bump 6 which is the above-mentioned bonding material is melted and solidified in an oxidation preventing atmosphere, and the above-mentioned inner reel is formed. The electrode 3 and the electrode pad 5 are soldered.

【0051】このような動作を各インナ−リ−ド3につ
いて繰り返して行うことで、各インナ−リ−ド3を各電
極パッド5に個別的に接合していく。
By repeating such an operation for each inner lead 3, each inner lead 3 is individually bonded to each electrode pad 5.

【0052】このような構成によれば、上記第1の実施
例と同様に、レ−ザシングルポイントボンディングを行
う場合において、フラックスを用いなくとも、良好なハ
ンダ付け性、ハンダ濡れ性を得ることができる効果があ
る。
According to this structure, as in the case of the above-mentioned first embodiment, good solderability and solder wettability can be obtained without using flux when performing laser single point bonding. There is an effect that can be.

【0053】また、この第2の実施例は、例えば、半導
体パッケ−ジのアウタリ−ドをプリント基板に設けられ
た電極パッドに接続する場合にも適用でき、この場合に
特に有効である。
The second embodiment can be applied to the case where the outer lead of the semiconductor package is connected to the electrode pad provided on the printed board, and is particularly effective in this case.

【0054】すなわち、アウタリ−ドボンディングの場
合には、上述したインナ−リ−ドボンディングの場合と
異なり、平板状のガイド板9でアウタリ−ドを上記プリ
ント基板に一括的に押し付けることは困難だからであ
る。
That is, in the case of the outer lead bonding, unlike the case of the inner lead bonding described above, it is difficult to press the outer leads collectively on the printed circuit board by the flat guide plate 9. Is.

【0055】また、押し付けることができたとしても、
プリント基板には、通常数10μm程度の反りがあり、
上記アウタリ−ドを均一に押し付けることが困難だから
である。
Even if it can be pressed,
The printed circuit board usually has a warp of several tens of μm,
This is because it is difficult to uniformly press the outer lead.

【0056】なお、この発明は、上記第1、第2の実施
例に限定されるものではなく、発明の要旨を変更しない
範囲で種々変形可能である。
The present invention is not limited to the first and second embodiments described above, and can be variously modified without changing the gist of the invention.

【0057】例えば、上記第1、第2の実施例では、保
持部13内にヒ−タ14が設けられていたが、上記レ−
ザビ−ムのエネルギだけで良好な接続が行える場合に
は、このような加熱ヒ−タは必ずしも必要ない。
For example, in the first and second embodiments, the heater 14 is provided in the holding portion 13, but the heater 14 is provided.
Such a heating heater is not always necessary if a good connection can be made only with the energy of the beam.

【0058】また、上記第1、第2の実施例では、上記
ハンダバンプ6を上記半導体素子4の電極パッド5上に
形成していたが、これに限定されるものではなく、上記
インナ−リ−ド3の先端部の下面に形成するようにして
も良い。
Further, in the first and second embodiments, the solder bump 6 is formed on the electrode pad 5 of the semiconductor element 4, but the present invention is not limited to this, and the inner reel is not limited thereto. It may be formed on the lower surface of the tip portion of the cord 3.

【0059】さらに、上記第1、第2の実施例では、長
尺なるキャリアテ−プ1を走行させていたが、短冊状に
切断したキャリアテ−プ1をスライドキャリア(図示し
ない)に保持し、このスライドキャリアを搬送すること
で、上記キャリアテ−プを走行させるようにしても良
い。
Further, in the first and second embodiments, the long carrier tape 1 was run, but the carrier tape 1 cut into strips is held by the slide carrier (not shown). However, the carrier tape may be run by transporting the slide carrier.

【0060】次に、この発明の第3の実施例について図
5を参照して説明する。
Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

【0061】上記第1、第2の実施例は、インナ−リ−
ドボンディング装置であったが、この第3の実施例に示
すようにアウタリ−ドボンディング装置にも適用するこ
とが可能である。
The first and second embodiments are the inner reel.
Although it is a debonding apparatus, it can also be applied to an outer bonding apparatus as shown in the third embodiment.

【0062】図中28は、上記フィルムキャリア9のイ
ンナ−リ−ドを半導体素子の電極パッドにインナ−リ−
ドボンディングした後、上記フィルムキャリアを打ち向
いて成形したTCP等のTAB部品である。
In the figure, numeral 28 indicates the inner lead of the film carrier 9 on the electrode pad of the semiconductor element.
It is a TAB component such as TCP formed by facing the film carrier after debonding.

【0063】図中3aは、このTAB部品28のアウタ
リ−ドである。このアウタリ−ド3aは、このTAB部
品28を例えばプリント基板等の基板29に実装する際
に、上記基板29に設けられた電極パッド30にハンダ
材を介して接合される。
Reference numeral 3a in the drawing denotes an outer lead of the TAB part 28. When the TAB component 28 is mounted on a board 29 such as a printed board, the outer lead 3a is joined to an electrode pad 30 provided on the board 29 via a solder material.

【0064】次に、この装置の構成について説明する。Next, the structure of this apparatus will be described.

【0065】この装置は、上記アウタリ−ド3aの先端
部の上記電極パッド30に当接する面と反対側の面に当
接する当接体31を具備する。この当接体31は、縦断
面が下方向に解放するコの字状に設けられ、かつ石英等
の透明硬質部材で成形されている。また、この当接体3
1は、上記TAB部品28の同方向に突出する複数本の
アウタリ−ド3aに亘って長尺に設けられている。
This device is provided with an abutment body 31 which abuts a surface of the tip end portion of the outer lead 3a opposite to the surface abutting the electrode pad 30. The contact body 31 is provided in a U-shape having a vertical cross section that opens downward and is formed of a transparent hard member such as quartz. Also, this contact body 3
1 is provided in a long length over a plurality of outer leads 3a protruding in the same direction of the TAB component 28.

【0066】そして、この当接体31と上記アウタリ−
ド3aの上面とで区画される空間は、酸化防止ガスや還
元性ガスが充満される流通路となっている。そして、こ
の流通路の図示しない一端には、この流通路内にガスを
導入するガス供給源が接続されている。
Then, the contact member 31 and the outer member
The space defined by the upper surface of the slot 3a is a flow passage filled with an antioxidant gas and a reducing gas. A gas supply source for introducing gas into the flow passage is connected to one end (not shown) of the flow passage.

【0067】また、上記アウタリ−ド3aの上方に対向
する位置には、上記押圧体31を通して上記アウタリ−
ド3aにレ−ザビ−ムLを照射するレ−ザ出射部32が
設けられている。このレ−ザ出射部32内には、レ−ザ
ビ−ムLのビ−ム径を上記アウタリ−ド3a(一本分)
の幅と略同じ大きさに絞ることができる光学系(図示し
ない)が組み込まれている。
At a position facing above the outer lead 3a, the pressing body 31 is inserted to the outer lead 3a.
A laser emitting portion 32 for irradiating the laser beam L is provided on the window 3a. In the laser emitting portion 32, the beam diameter of the laser beam L is equal to the outer lead 3a (for one line).
An optical system (not shown) that can be narrowed down to a size approximately the same as the width of the.

【0068】また、このレ−ザ出射部32は、図示しな
いXY駆動部に接続されたホルダ33によって保持され
ていてこのホルダ33がXY方向に駆動されることで、
上記アウタリ−ド3aの上方に対向位置決めされ上記レ
−ザビ−ムLを照射するようになっている。
The laser emitting section 32 is held by a holder 33 connected to an XY driving section (not shown), and the holder 33 is driven in the XY directions.
The laser beam L is irradiated so as to be positioned above the outer lead 3a so as to face it.

【0069】このような構成によれば、上記第1、第2
の実施例と同様に、基板29に設けられた電極パッド3
0上のハンダ材の酸化を有効に防止できるから、良好な
アウタリ−ドボンディングを行うことができる。
According to such a configuration, the first and second
The electrode pad 3 provided on the substrate 29 is the same as the embodiment of
Oxidation of the solder material above 0 can be effectively prevented, so that good outer lead bonding can be performed.

【0070】なお、この発明は、この第3の実施例に限
定されるものではなく、TAB部品28以外のQFP等
の他の半導体電子部品であっても同様な効果を得ること
ができる。
The present invention is not limited to the third embodiment, and similar effects can be obtained with other semiconductor electronic components such as QFP other than the TAB component 28.

【0071】また、上記当接体31のかわりに、上記第
2の実施例の加工治具23と同様の作用を奏し、上記ア
ウタリ−ドを押さえると共に酸化防止雰囲気あるいは還
元性雰囲気を区画する治具を使用するようにしても良
い。
Further, instead of the abutting body 31, the same action as that of the processing jig 23 of the second embodiment is exerted, and the outer lead is pressed and an oxidizing atmosphere or a reducing atmosphere is defined. You may use a tool.

【0072】なお、上述した第1〜第3の実施例はいず
れもレ−ザ−シングルポイントボンディング法で接合を
行うものであった。このレ−ザシングルポイントボンデ
ィング法は、リ−ド一本毎にレ−ザをON/OFFして
ボンディングを行うものであるが、この発明は、これに
限定されるものではなく、レ−ザをリ−ド毎にON/O
FFするのではなくON状態のまま上記リ−ドを横切る
ように移動させるようなレ−ザボンディング法であって
も良い。
In each of the above-mentioned first to third embodiments, the laser-single point bonding method is used. This laser single point bonding method is to perform the bonding by turning the laser on / off for each lead, but the present invention is not limited to this, and the laser is not limited to this. ON / O for each lead
It is also possible to use a laser bonding method in which the laser is moved so as to cross the lead in the ON state instead of the FF.

【0073】[0073]

【発明の効果】以上述べたように、この発明の第1の構
成は、各リ−ドを、接合材を介して、対応する各電極パ
ッドに接合するボンディング方法において、少なくとも
上記リ−ドと電極パッドの接合部位を酸化防止雰囲気あ
るいは還元性雰囲気で覆い、この接合部位にレ−ザビ−
ムを照射することで上記接合材を介して上記リ−ドと上
記電極パッドとを接合するボンディング方法である。
As described above, according to the first structure of the present invention, in the bonding method of bonding each lead to each corresponding electrode pad via the bonding material, at least the above lead is used. Cover the bonding area of the electrode pad with an antioxidant atmosphere or a reducing atmosphere, and attach a laser beam to this bonding area.
It is a bonding method in which the lead and the electrode pad are bonded via the bonding material by irradiating a space.

【0074】第2の構成は、キャリアテ−プに形成され
た各インナリ−ドと半導体素子に形成された各電極パッ
ドとをハンダ材を介して接続するボンディング装置にお
いて、上記キャリアテ−プを走行させ、このキャリアテ
−プの上記インナ−リ−ドが設けられた部位を所定のボ
ンディング位置に停止させるテ−プ走行手段と、透明硬
質部材で形成されていると共に、上記ボンディング位置
に停止するインナ−リ−ドの一面と当接する押圧板と、
上記インナ−リ−ドの他面側に配置され、上記ボンディ
ング位置において上記半導体素子を保持すると共に、こ
の半導体素子に設けられた電極パッドをハンダ材を介し
て上記インナ−リ−ドの他面に当接させるボンディング
ステ−ジと、上記ボンディングステ−ジ側に設けられ、
上記半導体素子および上記インナ−リ−ドが位置する部
分を外気と遮断する隔壁と、上記隔壁の内側に上記ハン
ダ材の酸化を防止する酸化防止ガスあるいは還元性ガス
を導入し、上記各インナ−リ−ドと各電極パッドとの接
合部分を酸化防止雰囲気あるいは還元性雰囲気で覆う酸
化防止ガス供給手段と、上記インナ−リ−ドの一面側か
ら上記押圧板を通して上記インナ−リ−ドにレ−ザビ−
ムを照射し、上記ハンダ材を溶融させることで、上記イ
ンナリ−ドと上記電極パッドとを接合するレ−ザビ−ム
照射手段とを具備するボンディング装置である。
The second structure is a bonding apparatus in which each inner lead formed on the carrier tape and each electrode pad formed on the semiconductor element are connected to each other through a solder material. Tape running means for running and stopping the portion of the carrier tape where the inner lead is provided at a predetermined bonding position, and a transparent hard member and stopping at the bonding position. A pressing plate that comes into contact with one surface of the inner lead,
The semiconductor element is arranged on the other side of the inner lead to hold the semiconductor element at the bonding position, and the electrode pad provided on the semiconductor element is attached to the other side of the inner lead via a solder material. And a bonding stage to be brought into contact with, and provided on the bonding stage side,
A partition wall that shields the semiconductor element and the portion where the inner lead is located from the outside air, and an antioxidant gas or a reducing gas that prevents oxidation of the solder material is introduced into the partition wall, and each inner layer is introduced. An antioxidant gas supply means for covering the joint between the lead and each electrode pad with an antioxidant atmosphere or a reducing atmosphere, and the inner lead from one side of the inner lead to the inner lead through the pressing plate. -Zabi-
And a laser beam irradiating means for joining the inner lead and the electrode pad by irradiating the solder and melting the solder material.

【0075】第3の構成は、第2の構成において、上記
押圧板には、上記ガス供給手段によって上記隔壁の内側
に充満されるガスを順次排気する排気孔が設けられてい
るものである。
In a third configuration, in the second configuration, the pressing plate is provided with an exhaust hole for sequentially exhausting the gas filled inside the partition wall by the gas supply means.

【0076】第4の構成は、半導体電子部品に形成され
た各アウタリ−ドと基板に形成された電極パッドとをハ
ンダ材を介して接続するボンディング装置において、透
明硬質部材で形成されていると共に、上記アウタリ−ド
の上記基板に対向する面と反対側の面に当接する押圧板
と、上記押圧板と基板との間に上記ハンダ材の酸化を防
止する酸化防止ガスあるいは還元性ガスを導入し、上記
各アウタリ−ドと各パッドとの接合部分を酸化防止雰囲
気あるいは還元性雰囲気で覆う酸化防止ガス供給手段
と、上記押圧板を通して上記インナ−リ−ドにレ−ザビ
−ムを照射し、上記ハンダ材を溶融させることで、上記
インナリ−ドと上記電極パッドとを接合するレ−ザビ−
ム照射手段とを具備するボンディング装置である。
The fourth structure is a bonding apparatus for connecting each outer lead formed on a semiconductor electronic component and an electrode pad formed on a substrate through a solder material, and is formed of a transparent hard member. , A pressing plate that contacts the surface of the outer lead opposite to the surface facing the substrate, and an antioxidant gas or a reducing gas for preventing the oxidation of the solder material is introduced between the pressing plate and the substrate. Then, the inner beam is irradiated with a laser beam through an antioxidant gas supply means for covering the joint portion between each outer lead and each pad with an antioxidant atmosphere or a reducing atmosphere and the pressing plate. , A laser beam for joining the inner lead and the electrode pad by melting the solder material.
A bonding apparatus including a beam irradiation means.

【0077】このような構成によれば、酸化防止雰囲気
でリ−ドと各電極パッドとの接合を行うようすること
で、接合材の表面が酸化することを有効に防止でき、良
好なハンダ付け性及びハンダ濡れ性を確保することがで
きるので、レ−ザシングルポイントボンディングにおい
て、より良好な接合性を得ることができる効果がある。
According to this structure, the lead and each electrode pad are joined in an oxidation preventive atmosphere so that the surface of the joining material can be effectively prevented from being oxidized and good soldering can be achieved. Since the solderability and solder wettability can be secured, there is an effect that a better bondability can be obtained in the laser single point bonding.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の第1の実施例を示す概略構成図。FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a first embodiment of the present invention.

【図2】(a)、(b)は、同じく、要部を示す一部縦
断面を有する概略構成図。
FIG. 2A and FIG. 2B are schematic configuration diagrams each having a partial vertical cross-section showing a main part.

【図3】同じく、動作を示す拡大縦断面図。FIG. 3 is an enlarged vertical sectional view showing the operation of the same.

【図4】第2の実施例の動作を示す拡大縦断面図。FIG. 4 is an enlarged vertical sectional view showing the operation of the second embodiment.

【図5】第3の実施例を示す拡大工程図。FIG. 5 is an enlarged process diagram showing a third embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…キャリアテ−プ、3…インナ−リ−ド(リ−ド)、
4…半導体素子、5…電極パッド、6…ハンダバンプ
(接合材)、9…ガイド板(透明硬質部材)、9a…排
気孔、10…ボンディングステ−ジ、13b…隔壁、L
…レ−ザビ−ム、15…酸化防止ガス供給孔(酸化防止
ガス供給手段)、18…酸化防止ガス供給源(酸化防止
ガス供給手段)、A…ボンディング位置。
1 ... Carrier tape, 3 ... Inner lead (lead),
4 ... Semiconductor element, 5 ... Electrode pad, 6 ... Solder bump (bonding material), 9 ... Guide plate (transparent hard member), 9a ... Exhaust hole, 10 ... Bonding stage, 13b ... Partition, L
... laser beam, 15 ... Antioxidant gas supply hole (antioxidant gas supply means), 18 ... Antioxidant gas supply source (antioxidant gas supply means), A ... Bonding position.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 各リ−ドを、接合材を介して、対応する
各電極パッドに接合するボンディング方法において、 少なくとも上記リ−ドと電極パッドの接合部位を酸化防
止雰囲気あるいは還元性雰囲気で覆い、この接合部位に
レ−ザビ−ムを照射することで上記接合材を介して上記
リ−ドと上記電極パッドとを接合することを特徴とする
ボンディング方法。
1. A bonding method for bonding each lead to a corresponding electrode pad via a bonding material, wherein at least the bonding portion between the lead and the electrode pad is covered with an oxidation preventing atmosphere or a reducing atmosphere. A bonding method characterized by irradiating a laser beam to the bonding portion to bond the lead and the electrode pad via the bonding material.
【請求項2】 キャリアテ−プに形成された各インナリ
−ドと半導体素子に形成された各電極パッドとをハンダ
材を介して接続するボンディング装置において、 上記キャリアテ−プを走行させ、このキャリアテ−プの
上記インナ−リ−ドが設けられた部位を所定のボンディ
ング位置に停止させるテ−プ走行手段と、 透明硬質部材で形成されていると共に、上記ボンディン
グ位置に停止するインナ−リ−ドの一面と当接する押圧
板と、 上記インナ−リ−ドの他面側に配置され、上記ボンディ
ング位置において上記半導体素子を保持すると共に、こ
の半導体素子に設けられた電極パッドをハンダ材を介し
て上記インナ−リ−ドの他面に当接させるボンディング
ステ−ジと、 上記ボンディングステ−ジ側に設けられ、上記半導体素
子および上記インナ−リ−ドが位置する部分を外気と遮
断する隔壁と、 上記隔壁の内側に上記ハンダ材の酸化を防止する酸化防
止ガスあるいは還元性ガスを導入し、上記各インナ−リ
−ドと各電極パッドとの接合部分を酸化防止雰囲気ある
いは還元性雰囲気で覆う酸化防止ガス供給手段と、 上記インナ−リ−ドの一面側から上記押圧板を通して上
記インナ−リ−ドにレ−ザビ−ムを照射し、上記ハンダ
材を溶融させることで、上記インナリ−ドと上記電極パ
ッドとを接合するレ−ザビ−ム照射手段とを具備するこ
とを特徴とするボンディング装置。
2. In a bonding apparatus for connecting each inner lead formed on a carrier tape and each electrode pad formed on a semiconductor element via a solder material, the carrier tape is run and Tape running means for stopping the portion of the carrier tape where the inner lead is provided at a predetermined bonding position, and an inner member formed of a transparent hard member for stopping at the bonding position. -A pressing plate that comes into contact with one surface of the inner lead and a second surface of the inner lead that holds the semiconductor element at the bonding position, and the electrode pad provided on the semiconductor element is soldered with a solder material. A bonding stage that is brought into contact with the other surface of the inner lead via the bonding stage, and is provided on the bonding stage side. A partition wall that shields the portion where the inner lead is located from the outside air, and an antioxidant gas or a reducing gas that prevents the oxidation of the solder material is introduced inside the partition wall, and each inner lead and An antioxidant gas supply means for covering the joint portion with the electrode pad with an antioxidant atmosphere or a reducing atmosphere, and a laser beam to the inner lead from one side of the inner lead through the pressing plate. A bonding apparatus comprising: a laser beam irradiating means for joining the inner lead and the electrode pad by irradiating and melting the solder material.
【請求項3】 上記押圧板には、上記ガス供給手段によ
って上記隔壁の内側に充満されるガスを順次排気する排
気孔が設けられていることを特徴とする請求項2記載の
ボンディング装置。
3. The bonding apparatus according to claim 2, wherein the pressing plate is provided with an exhaust hole for sequentially exhausting the gas filled inside the partition wall by the gas supply means.
【請求項4】 半導体電子部品に形成された各アウタリ
−ドと基板に形成された電極パッドとをハンダ材を介し
て接続するボンディング装置において、 透明硬質部材で形成されていると共に、上記アウタリ−
ドの上記基板に対向する面と反対側の面に当接する押圧
板と、 上記押圧板と基板との間に上記ハンダ材の酸化を防止す
る酸化防止ガスあるいは還元性ガスを導入し、上記各ア
ウタリ−ドと各パッドとの接合部分を酸化防止雰囲気あ
るいは還元性雰囲気で覆う酸化防止ガス供給手段と、 上記押圧板を通して上記インナ−リ−ドにレ−ザビ−ム
を照射し、上記ハンダ材を溶融させることで、上記イン
ナリ−ドと上記電極パッドとを接合するレ−ザビ−ム照
射手段とを具備することを特徴とするボンディング装
置。
4. A bonding apparatus for connecting each outer lead formed on a semiconductor electronic component and an electrode pad formed on a substrate through a solder material, wherein the outer lead is formed of a transparent hard member.
A pressing plate that abuts a surface opposite to the surface facing the substrate, and an antioxidant gas or a reducing gas that prevents oxidation of the solder material is introduced between the pressing plate and the substrate. An antioxidant gas supply means for covering the joint portion between the outer lead and each pad with an antioxidant atmosphere or a reducing atmosphere, and the inner beam is irradiated with a laser beam through the pressing plate, and the solder material is used. A bonding apparatus comprising a laser beam irradiating means for joining the inner lead and the electrode pad by melting the inner pad.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014011312A (en) * 2012-06-29 2014-01-20 Shibuya Kogyo Co Ltd Bonding device

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JP2014011312A (en) * 2012-06-29 2014-01-20 Shibuya Kogyo Co Ltd Bonding device

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