JPH07190951A - Peripheral edge inspection device for magnetic disk substrate - Google Patents
Peripheral edge inspection device for magnetic disk substrateInfo
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- JPH07190951A JPH07190951A JP34855593A JP34855593A JPH07190951A JP H07190951 A JPH07190951 A JP H07190951A JP 34855593 A JP34855593 A JP 34855593A JP 34855593 A JP34855593 A JP 34855593A JP H07190951 A JPH07190951 A JP H07190951A
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- damage
- chamfer
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- outer peripheral
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 磁気ディスク基板の表面検査装置に対して、
基板の外周端部の表裏の両面および側面に存在するシャ
ンファー損傷を、良好に検出できる専用の検査光学系を
設ける。
【構成】 基板1と同一の平面内に投光系71および散乱
光受光系72を配設し、投光系71により、回転する基板1
の外周端部1a の側面および表裏両面をカバーするレー
ザビームLT を投射し、散乱光受光系72により、レーザ
ビームの正反射光LR を除外し、外周端部1a のシャン
ファー損傷1b による散乱光Lc を集光レンズ72a によ
り集光して受光器72b に受光する。受光器72b の受光信
号Sc を複数の適当な閾値に比較してシャンファー損傷
1b を大きさのランク別に検出し、その検出信号を表面
検査装置のマイクロプロセッサにより処理し、シャンフ
ァー損傷1b の個数をランク別にデータプリンタに出力
する。
(57) [Summary] (Correction) [Purpose] For surface inspection equipment for magnetic disk substrates,
Provided is a dedicated inspection optical system capable of satisfactorily detecting the chamfer damage existing on both front and back surfaces and side surfaces of the outer peripheral edge of the substrate. [Structure] A light projecting system 71 and a scattered light receiving system 72 are arranged in the same plane as the substrate 1, and the substrate 1 rotated by the light projecting system 71.
A laser beam L T that covers the side surface and both the front and back sides of the outer peripheral end 1a is projected, the specularly reflected light L R of the laser beam is excluded by the scattered light receiving system 72, and the chamfer damage 1b at the outer peripheral end 1a is caused. The scattered light L c is condensed by the condenser lens 72a and is received by the light receiver 72b. The received light signal S c of the light receiver 72b is compared with a plurality of suitable threshold values to detect the chamfer damage 1b by rank of size, and the detected signal is processed by the microprocessor of the surface inspection device to detect the chamfer damage 1b. The number is output to the data printer by rank.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、磁気ディスク基板の
外周端部に存在するシャンファー損傷を検査する検査装
置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an inspection device for inspecting a chamfer damage existing on an outer peripheral end of a magnetic disk substrate.
【0002】[0002]
【従来の技術】コンピュータシステムの記録媒体に使用
されるハード磁気ディスクは、アルミニュームディスク
を基板とし、これに磁気媒体が塗布されて製作される。
アルミニュームディスク(磁気ディスク基板または単に
基板という)はアルミニューム板より打ち抜きされた
後、表裏の両面が研磨され、側面はシャンファー(面取
り)される。基板の表裏の両面に損傷などの欠陥がある
と、塗布された媒体の記録性能が劣化するので表面検査
装置により検査されている。これに対して基板の外周端
部の両面の狭い範囲と、側面とは記録に使用されないの
で、この部分の損傷は従来不問とされていた。しかし、
最近における記録密度の高度化や磁気ヘッドの薄膜化な
どにより、外周端部の損傷も問題とされている。2. Description of the Related Art A hard magnetic disk used as a recording medium of a computer system is manufactured by using an aluminum disk as a substrate and coating the magnetic medium thereon.
An aluminum disk (a magnetic disk substrate or simply a substrate) is punched from an aluminum plate, then both front and back surfaces are polished, and side surfaces are chamfered (chamfered). If there are defects such as damages on the front and back surfaces of the substrate, the recording performance of the coated medium deteriorates, and therefore the surface is inspected by a surface inspection device. On the other hand, since the narrow area on both sides of the outer peripheral edge of the substrate and the side surface are not used for recording, damage to this portion has been conventionally considered irrelevant. But,
Due to recent advances in recording density and thinning of magnetic heads, damage to the outer peripheral edge has become a problem.
【0003】図3により外周端部の損傷とその問題点を
説明する。(a) に示す基板1において、本稿における外
周端部1a は、外周の側面と、側面より内周側の1mm
程度の狭い幅dの範囲内の表裏の両面よりなると定義さ
れる。外周端部1a には、シャンファーの不完全のため
にシャンファー損傷1b が残存しているとする。(b)は
基板1の両面に磁気媒体1c が塗布された磁気ディスク
1' を示し、これに対して磁気ヘッド2が矢印Cの方向
に移動してローディングされる。このとき、もしシャン
ファー損傷1b が図示のように表面より突起している
と、これに磁気ヘッド2が衝突する。磁気ヘッド2が薄
膜形式の場合は、表面に極めて接近してローディングさ
れるため些少な突起でも衝突し、この衝突により磁気ヘ
ッド2は破損するか、または機能に異常を生ずる。つぎ
に側面の損傷であるが、これは前記のように記録には無
関係であり、また上記のように磁気ヘッド2のローディ
ングには支障ないが、しかし経年によりやがて内周に侵
入して磁気媒体1c を腐食することが起こる可能性があ
る。以上により、シャンファー損傷1b を有する基板1
は、損傷の程度により品質がランク分けされ、甚だしい
もの不良品とされる。The damage to the outer peripheral edge and its problems will be described with reference to FIG. In the substrate 1 shown in (a), the outer peripheral edge portion 1a in this paper is the outer peripheral side surface and 1 mm on the inner peripheral side of the side surface.
It is defined as consisting of both front and back surfaces within a narrow width d. It is assumed that the chamfer damage 1b remains at the outer peripheral edge 1a due to the imperfection of the chamfer. (b) shows a magnetic disk 1'coated with the magnetic medium 1c on both sides of the substrate 1, on which the magnetic head 2 is moved in the direction of arrow C and loaded. At this time, if the chamfer damage 1b is projected from the surface as shown in the figure, the magnetic head 2 collides with it. When the magnetic head 2 is of a thin film type, it is loaded very close to the surface, so that even a small protrusion collides with the magnetic head 2 and the magnetic head 2 is damaged or its function is abnormal. Next, the damage to the side surface is not related to the recording as described above, and although it does not hinder the loading of the magnetic head 2 as described above, it eventually penetrates into the inner circumference due to aging, and eventually becomes a magnetic medium. Corrosion of 1c can occur. From the above, the substrate 1 having the chamfer damage 1b
The quality is ranked according to the degree of damage, and it is regarded as an extremely defective product.
【0004】さて、前記の表面検査装置に対して、シャ
ンファー損傷1b を検出する回路を付加する考えがあ
り、この発明の特許出願人により、「平1-327967号、磁
気ディスク基板の外周端部損傷の検出回路」が先行技術
として特許出願されている。なお、表面検査装置は基板
の表面に存在し、形状の異なる各種の欠陥を検出するも
のであるが、ここでは表面欠陥として、比較的緩やかに
湾曲した皿状の凹部を検出するものが関係するので、以
下図4によりその概要を説明する。図4(a) は表面検査
装置における基板1の回転/移動機構と、基板1の表面
に存在する凹部1d に対する検査部の概略構成を示す。
基板1はスピンドル3b に装着され、マイクロプロセッ
サ(MPU)4の指令のもとに、制御回路3a より駆動
パルスと移動信号が、パルスモータ3c とR移動機構3
d にそれぞれ与えられ、スピンドル3b が回転するとと
もに、基板1はその半径Rの方向に移動する。これに対
して、凹部検査用の光学系5のレーザ光源5a より、斜
め方向にレーザビームLT が投射されて表面が走査さ
れ、その正反射光LR をピンホール板5b を通して受光
器5c により受光する。いま基板1の表面に凹部1d が
あると、レーザビームLT の反射方向が変化して反射光
LR'となり、その分正反射光LRの光量が低下する。受
光信号Ss は図示しない検出回路に入力して、そのレベ
ル低下より凹部1d が検出される。検出信号はMPU4
に取り込まれて処理され、データプリンタに検出データ
がプリントされ、またはマップ表示される。図4(b) は
上記の特許出願にかかり、図(a) に対して付加される外
周損傷検出部を示す。光学系5は図(a) の凹部検査用の
ものを共通使用し、外周損傷検出部6は移動位置検出回
路6a と、切り替えスイッチ6b および損傷検出回路6
c よりなる。MPU4の指令により、制御回路3a によ
り基板1を回転するとともに、内周より外周方向にR方
向に移動して表面検査を行う。これとともに制御回路3
a の移動信号を移動位置検出回路6a に入力して基板1
の位置を検出し、レーザビームLT が外周端部1a に投
射され始めた時点で切り替えスイッチ6b を切り替える
と、外周端部1b の散乱光の受光信号Sc が損傷検出回
路6c に入力する。外周端部1a にシャンファー損傷1
b があると、上記の凹部1d の場合と同様に反射方向が
変化して反射光LR'となるので、正反射光LR の光量の
低下によりシャンファー損傷1b が検出される。Now, it is considered that a circuit for detecting the chamfer damage 1b is added to the above-mentioned surface inspection apparatus. According to the applicant of the present invention, "Hei 1-327967, outer peripheral edge of magnetic disk substrate". A patent application for "part damage detection circuit" has been filed as prior art. It should be noted that the surface inspection device detects various defects having different shapes existing on the surface of the substrate, but here, as the surface defect, a device which detects a dish-shaped concave portion which is relatively gently curved is involved. Therefore, the outline will be described below with reference to FIG. FIG. 4A shows a schematic structure of a rotation / moving mechanism of the substrate 1 in the surface inspection apparatus and an inspection unit for the recess 1d existing on the surface of the substrate 1.
The substrate 1 is mounted on the spindle 3b, and under the command of the microprocessor (MPU) 4, the control circuit 3a outputs drive pulses and movement signals to the pulse motor 3c and the R movement mechanism 3
The substrate 3 moves in the direction of its radius R as the spindle 3b rotates, given to each d. On the other hand, the laser light source 5a of the optical system 5 for inspecting the concave portion projects a laser beam L T in an oblique direction to scan the surface, and the specularly reflected light L R is passed through the pinhole plate 5b by the light receiver 5c. Receive light. If the concave portion 1d is present on the surface of the substrate 1 now, the reflection direction of the laser beam L T changes and becomes the reflected light L R ′, and the light amount of the regular reflection light L R decreases accordingly. The light reception signal S s is input to a detection circuit (not shown), and the recess 1d is detected due to the decrease in the level. Detection signal is MPU4
The data is captured and processed, and the detected data is printed on a data printer or displayed on a map. FIG. 4 (b) shows an outer peripheral damage detection unit according to the above patent application, which is added to FIG. 4 (a). The optical system 5 is commonly used for the recess inspection shown in FIG. 1A, and the outer circumference damage detection unit 6 includes a moving position detection circuit 6a, a changeover switch 6b and a damage detection circuit 6
consists of c. In response to a command from the MPU 4, the control circuit 3a rotates the substrate 1 and moves from the inner circumference to the outer circumference in the R direction to perform surface inspection. Along with this, the control circuit 3
The movement signal of a is input to the movement position detection circuit 6a, and the substrate 1
Detecting a position, switching the selector switch 6b when the laser beam L T begins to be projected to the outer peripheral end portion 1a, the light receiving signal S c of the scattered light of the outer peripheral edge portion 1b is input to the flaw detection circuit 6c. Shamfer damage 1 on the outer edge 1a
When b is present, the reflection direction changes to be reflected light L R 'as in the case of the recess 1d, so that the chamfer damage 1b is detected due to the decrease in the light amount of the regular reflected light L R.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】上記の光学系5は凹部
検査用のものを兼用しているために、シャンファー損傷
1b の検出には適切でない。すなわち、レーザビームL
T の投射は基板1の表面に対して図示の斜め方向である
ため、表面側のシャンファー損傷は検出できるが、しか
し側面および裏面に対してレーザビームLT は投射され
ないので、この部分の損傷は検出できない。従って、裏
面の検査には基板1を反転することが必要であるが、反
転してもなお側面は検出できない。これに対して、レー
ザビームL T の投光方向を変えて、両面と側面を同時に
照射すれば、各部の損傷が漏れなく一挙に検出されて効
率的である。また、上記の光学系5によれば、損傷が緩
やかに湾曲しているときは表面の凹部1d と同様に検出
できるが、一般的にはシャンファー損傷1b は複雑な凹
凸をなすもので、その反射光は指向性の広い散乱光であ
る。従って、この散乱光を効率よく受光することが望ま
しい。この発明は以上に鑑みてなされたもので、表面検
査装置に対して、外周端部1a の表裏の両面および側面
のシャンファー損傷1b を、良好に検出できる専用の検
査光学系を設けて外周端部検査装置を構成することを目
的とする。The above optical system 5 is a concave portion.
Because it is also used for inspection, it damages the chamfer.
Not suitable for detecting 1b. That is, the laser beam L
T Is projected obliquely with respect to the surface of the substrate 1
Therefore, the damage on the surface side can be detected, but only
Laser beam L on both sides and backT Is projected
Since there is no damage to this part, it cannot be detected. Therefore, the back
It is necessary to turn over the substrate 1 to inspect the surface, but
The side cannot be detected even if it is rolled. On the other hand,
The Beam L T Change the direction of the light emitted from both sides
By irradiating, damage to each part can be detected all at once without leakage and it is effective.
Be rational. Further, according to the above optical system 5, the damage is gentle.
If it is gently curved, it will be detected in the same way as the concave portion 1d on the surface.
Yes, but generally chamfer damage 1b is a complicated concave
The reflected light is a scattered light with a wide directivity.
It Therefore, it is desirable to efficiently receive this scattered light.
Good The present invention has been made in view of the above, and the surface inspection
Both sides and sides of the front and back of the outer peripheral edge 1a with respect to the inspection device
Dedicated inspection that can detect the chamfer damage 1b of the
Aim to provide an inspection optical system and configure an outer peripheral edge inspection device.
Target
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】この発明は磁気ディスク
基板の外周端部検査装置であって、前記の表面検査装置
に対して、基板と同一の平面内に投光系および散乱光受
光系を配設する。投光系より、回転する基板の外周端部
の側面および表裏両面をカバーするレーザビームを投射
し、散乱光受光系により、レーザビームの正反射光を除
外し、外周端部のシャンファー損傷による散乱光を集光
レンズにより集光して受光器に受光する。受光器の受光
信号を複数の適当な閾値に比較してシャンファー損傷を
大きさのランク別に検出し、その検出信号を表面検査装
置のマイクロプロセッサにより処理し、シャンファー損
傷の個数をランク別にデータプリンタに出力する。ま
た、表面検査装置の制御回路よりえられる基板の回転角
度情報を参照して、シャンファー損傷の角度位置をデー
タプリンタにマップ表示するものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is an apparatus for inspecting an outer peripheral edge of a magnetic disk substrate, wherein a light projecting system and a scattered light receiving system are provided in the same plane as the surface inspection apparatus. Arrange. The light projecting system projects a laser beam that covers both the side and front and back sides of the outer peripheral edge of the rotating substrate, and the scattered light receiving system excludes the specularly reflected light of the laser beam, resulting in chamfer damage at the outer peripheral edge. The scattered light is condensed by the condenser lens and is received by the light receiver. The received light signal of the light receiver is compared with a plurality of appropriate thresholds to detect the chamfer damage by rank, and the detected signal is processed by the microprocessor of the surface inspection device, and the number of chamfer damages is data by rank. Output to printer. The angular position of the chamfer damage is displayed as a map on the data printer by referring to the rotation angle information of the substrate obtained from the control circuit of the surface inspection device.
【0007】[0007]
【作用】上記の外周端部検査装置においては、基板と同
一の平面内に配設された投光系より投射されるレーザビ
ームは、基板の外周端部の側面および表裏両面をカバー
するので、外周端部は投射漏れがなく全体が同時に走査
される。同様に配設された散乱光受光系により、レーザ
ビームの正反射光が除外され、シャンファー損傷による
散乱光のみが集光レンズにより集光されて効率よく受光
器に受光され、良好なS/N比の受光信号がえられる。
受光信号は複数の適当な閾値に比較されてシャンファー
損傷が大きさのランク別に検出され、これをマイクロプ
ロセッサにより処理してシャンファー損傷のランク別の
個数がデータプリンタに出力される。また、制御回路よ
りえられる基板の回転回転角度を参照して、シャンファ
ー損傷の角度位置がデータプリンタにマップ表示され
る。In the above outer peripheral edge inspection apparatus, since the laser beam projected from the light projecting system disposed in the same plane as the substrate covers the side surface of the outer peripheral edge of the substrate and both front and back surfaces, There is no projection omission at the outer peripheral edge, and the entire part is scanned at the same time. By the scattered light receiving system similarly arranged, the specularly reflected light of the laser beam is excluded, and only the scattered light due to the chamfer damage is condensed by the condensing lens and efficiently received by the light receiver. A light reception signal of N ratio is obtained.
The received light signal is compared with a plurality of appropriate thresholds to detect the chamfer damage by rank of magnitude, and this is processed by a microprocessor to output the number of chamfer damages by rank to a data printer. Further, the angular position of the damage of the chamfer is displayed as a map on the data printer by referring to the rotation angle of the substrate obtained from the control circuit.
【0008】[0008]
【実施例】図1は、この発明の一実施例における検査光
学系7を示し、レーザ光源71a 、ビームエキスパンダ71
b および集束レンズ71c よりなる投光系71と、集光レン
ズ72a および受光器72b よりなる散乱光受光系72とによ
り構成される。投光系71と散乱光受光系72は、それぞれ
の光軸が、表面検査装置に装着された基板1と同一平面
内にあるように配設して、前記した表面検査装置に付加
される。FIG. 1 shows an inspection optical system 7 according to an embodiment of the present invention, which includes a laser light source 71a and a beam expander 71.
b and a focusing lens 71c, and a scattered light receiving system 72 including a condenser lens 72a and a light receiver 72b. The light projecting system 71 and the scattered light receiving system 72 are arranged so that their optical axes are in the same plane as the substrate 1 mounted on the surface inspection apparatus, and are added to the above-described surface inspection apparatus.
【0009】レーザ光源71a よりのレーザビームLT は
ビームエキスパンダ71b により適当なビーム径に変換さ
れ、さらに集束レンズ71c により集束されて基板1の外
周端部1a の側面および両面をカバーするように投射さ
れる。外周端部1a によるレーザビームLT の正反射光
LR を除外できる方向に散乱光受光系72を配設し、散乱
光Lc を集光レンズ72a により集光して効率よく受光器
72b に受光し、S/N比の良好な受光信号Sc がえられ
る。The laser beam L T from the laser light source 71a is converted into an appropriate beam diameter by the beam expander 71b and further focused by the focusing lens 71c so as to cover the side surface and both surfaces of the outer peripheral end 1a of the substrate 1. Is projected. The scattered light receiving system 72 is arranged in a direction in which the specularly reflected light L R of the laser beam L T by the outer peripheral end 1a can be excluded, and the scattered light L c is condensed by the condenser lens 72a to efficiently receive the light.
The light is received by 72b, and a light reception signal S c having a good S / N ratio is obtained.
【0010】図2(a) は、図1に対する外周損傷検出部
と、検出データの処理部などの概略構成を示す。外周損
傷検出部8は外周損傷検出回路8a と、A/D変換器8
b よりなり前記の表面検査装置に付加される。検出デー
タ処理部は表面検査装置のMPU4とデータプリンタ4
a を共用する。基板1は表面検査装置の回転/移動機構
3のスピンドル3b に装着され、MPU4の指令のもと
に、制御回路3a よりの駆動パルスによりパルスモータ
3c が駆動されて基板1が回転することは従来と同様で
あるが、この場合は基板1のR方向の移動を停止する。
外周端部1a の散乱光Lc が逐次に受光器72b に受光さ
れ、受光信号Sc は外周損損傷検出回路8a に入力す
る。検出回路8a には予め、例えば3段階の閾値vs1,
vs2,vs3が与えられ、受光信号Sc はこれらに比較さ
れてシャンファー損傷1b は、大、中、小のランク別に
検出される。これらの検出信号はA/D変換器8b によ
りデジタル化され、制御回路3a よりの駆動パルスごと
に出力されてインタフェース(IF)4b を経てMPU
4に取り込まれ、シャンファー損傷1b のランク別の個
数がデータプリンタ4a に出力される。この場合、駆動
パルスとして基板1を円周方向に、例えば2048個の
エリアに分割するものを使用し、各エリアごとにシャン
ファー損傷を検出して個数をカウントする。また、MP
U4により駆動パルスをカウントすることにより、検出
されたシャンファー損傷の角度位置が判明するので、シ
ャンファー損傷が、図2(b) に*印で例示するようにデ
ータプリンタ4a によりマップ表示される。なお、シャ
ンファー損傷の検出データとマップ表示は、基板1の品
質評価に便利なように、表面検査装置の検査データに並
記してプリントされる。FIG. 2 (a) shows a schematic structure of an outer peripheral damage detection unit, a detection data processing unit and the like for FIG. The outer circumference damage detection unit 8 includes an outer circumference damage detection circuit 8a and an A / D converter 8
It consists of b and is added to the above-mentioned surface inspection device. The detection data processing unit is the MPU 4 and the data printer 4 of the surface inspection device.
share a. The substrate 1 is mounted on the spindle 3b of the rotation / movement mechanism 3 of the surface inspection apparatus, and the pulse motor 3c is driven by the drive pulse from the control circuit 3a under the command of the MPU 4 so that the substrate 1 is rotated conventionally. However, in this case, the movement of the substrate 1 in the R direction is stopped.
The scattered light L c from the outer peripheral edge 1a is sequentially received by the light receiver 72b, and the received light signal S c is input to the outer peripheral loss damage detection circuit 8a. In the detection circuit 8a, for example, three-step threshold values v s1 ,
Given v s2 and v s3 , the received light signal S c is compared with these, and the chamfer damage 1 b is detected for each of large, medium and small ranks. These detection signals are digitized by the A / D converter 8b, output for each drive pulse from the control circuit 3a, and passed through the interface (IF) 4b to the MPU.
4, the number of chamfer damages 1b by rank is output to the data printer 4a. In this case, as the drive pulse, one that divides the substrate 1 in the circumferential direction into, for example, 2048 areas is used, and the chamfer damage is detected and the number is counted for each area. Also, MP
Since the angular position of the detected chamfer damage is found by counting the drive pulse by U4, the chamfer damage is displayed on the map by the data printer 4a as illustrated by * mark in FIG. 2 (b). . Incidentally, the detection data of the chamfer damage and the map display are printed together with the inspection data of the surface inspection device so as to be convenient for the quality evaluation of the substrate 1.
【0011】[0011]
【発明の効果】以上の説明のとおり、この発明による外
周端部検査装置においては、磁気ディスク基板の表面検
査装置に対して、外周端部専用の検査光学系を付加し、
その投光系より外周端部の側面および表裏の両面に対し
てレーザビームが同時に投射され、外周端部の散乱光が
良好なS/N比で散乱光受光系に受光され、シャンファ
ー損傷が外周端部の全体に亘って漏れなく検出され、大
きさのランク別の個数がデータプリンタに出力されると
ともに、損傷の位置がデータプリンタによりマップ表示
されるもので、表面検査装置による表面欠陥の検出とと
もに、外周端部の有害なシャンファー損傷が検出され、
磁気ディスク基板の検査に寄与するところには大きいも
のがある。As described above, in the outer peripheral edge inspection apparatus according to the present invention, an inspection optical system dedicated to the outer peripheral edge is added to the magnetic disk substrate surface inspection apparatus,
A laser beam is simultaneously projected from the light projecting system to the side surface of the outer peripheral end and both the front and back surfaces, and the scattered light at the outer peripheral end is received by the scattered light receiving system with a good S / N ratio, resulting in chamfer damage. The entire outer peripheral edge is detected without omission, and the number of ranks of the size is output to the data printer, and the damage position is displayed on the map by the data printer. Along with the detection, harmful chamfer damage on the outer peripheral edge is detected,
There is a great contribution to the inspection of the magnetic disk substrate.
【図1】 この発明の一実施例における検査光学系の構
成図である。FIG. 1 is a configuration diagram of an inspection optical system in an embodiment of the present invention.
【図2】 (a) は図1に対する外周損傷検出部と、検出
データの処理部などの概略構成図、(b) はシャンファー
損傷のマップ表示の一例を示す図である。FIG. 2A is a schematic configuration diagram of an outer peripheral damage detection unit and a processing unit of detection data, etc. with respect to FIG. 1, and FIG. 2B is a diagram showing an example of a map display of chamfer damage.
【図3】 (a) は磁気ディスク基板と、外周端部および
外周端部に生じたシャンファー損傷の説明図、(b) は磁
気ヘッドに対するシャンファー損傷の衝突の説明図であ
る。3A is an explanatory view of a magnetic disk substrate, an outer peripheral end portion and shamfer damage generated at the outer peripheral end portion, and FIG. 3B is an explanatory view of collision of the magnetic head with shamfer damage.
【図4】 (a) は表面検査装置の基板の凹部に対する検
査部の概略構成図、(b) は特許出願にかかり、(a) に対
して付加される外周損傷検出部の構成図である。4A is a schematic configuration diagram of an inspection unit for a concave portion of a substrate of a surface inspection apparatus, and FIG. 4B is a configuration diagram of a peripheral damage detection unit added to FIG. .
1…磁気ディスク基板、単に基板、1’…磁気ディス
ク、1a …外周端部、1b …シャンファー損傷 1c …
磁気媒体、1…凹部、2…磁気ヘッド、3…回転/移動
機構、3a …制御回路、3b …スピンドル、3c …パル
スモータ、3d …R移動機構、4…マイクロプロセッサ
(MPU)、4a …データプリンタ、4b …インタフェ
ース(IF)、5…表面検査用の光学系、5a …レーザ
光源、5b …ピンホール板、5c …受光器、6…従来の
外周損傷検出部、6a …移動位置検出回路、6b …切り
替えスイッチ、6c …損傷検出回路、7…この発明の検
査光学系、71…投光系、71a …レーザ光源、71b …ビー
ムエキスパンダ、71c …集束レンズ、72…受光系、72a
…集光レンズ、72b …受光器、8…この発明の外周損傷
検出部、8a …外周損傷検出回路、8b …A/D変換
器、LT …レーザビーム、LR …正反射光、LR'…反射
光、Lc …外周端部またはシャンファー損傷の散乱光、
Ss …基板表面の凹部に対する受光信号、Sc …散乱光
に対する受光信号、vs1, vs2, vs3…受光信号Sc に
対する閾値。1 ... Magnetic disk substrate, simply substrate, 1 '... Magnetic disk, 1a ... Outer peripheral portion, 1b ... Shamfer damage 1c ...
Magnetic medium, 1 ... Recessed portion, 2 ... Magnetic head, 3 ... Rotation / moving mechanism, 3a ... Control circuit, 3b ... Spindle, 3c ... Pulse motor, 3d ... R moving mechanism, 4 ... Microprocessor (MPU), 4a ... Data Printer, 4b ... Interface (IF), 5 ... Optical system for surface inspection, 5a ... Laser light source, 5b ... Pinhole plate, 5c ... Photodetector, 6 ... Conventional outer peripheral damage detection unit, 6a ... Moving position detection circuit, 6b ... Changeover switch, 6c ... Damage detection circuit, 7 ... Inspection optical system of this invention, 71 ... Projection system, 71a ... Laser light source, 71b ... Beam expander, 71c ... Focusing lens, 72 ... Light receiving system, 72a
... condenser lens, 72b ... light receiver, 8 ... outer peripheral damage detection of the present invention, 8a ... outer peripheral damage detection circuit, 8b ... A / D converter, L T ... laser beam, L R ... regularly reflected light, L R '... Reflected light, Lc ... scattered light from outer peripheral edge or chamfer damage,
S s : light reception signal for the concave portion on the substrate surface, S c : light reception signal for scattered light, v s1 , v s2 , v s3 ... Threshold value for light reception signal S c .
Claims (1)
パルスモータと、マイクロプロセッサの指令のもとに、
該パルスモータの回転を制御する制御回路、およびデー
タプリンタとを具備する表面検査装置に対して、前記基
板と同一の平面内に投光系および散乱光受光系を配設
し、該投光系より、前記回転する基板の外周端部の側面
および表裏両面をカバーするレーザビームを投射し、該
散乱光受光系により、該レーザビームの正反射光を除外
し、該外周端部のシャンファー損傷による散乱光を集光
レンズにより集光して受光器に受光し、該受光器の受光
信号を複数の適当な閾値に比較して該シャンファー損傷
を大きさのランク別に検出し、該検出信号を前記マイク
ロプロセッサにより処理し、該シャンファー損傷の該ラ
ンク別の個数を前記データプリンタに出力し、かつ、前
記制御回路よりえられる前記基板の回転角度情報を参照
して、該シャンファー損傷の角度位置を前記データプリ
ンタにマップ表示することを特徴とする、磁気ディスク
基板の外周端部検査装置。1. A pulse motor that mounts and rotates a magnetic disk substrate, and under the command of a microprocessor,
For a surface inspection device including a control circuit for controlling the rotation of the pulse motor and a data printer, a light projecting system and a scattered light receiving system are arranged in the same plane as the substrate, and the light projecting system is provided. By projecting a laser beam covering the side surface and both front and back sides of the outer peripheral edge of the rotating substrate, and eliminating specularly reflected light of the laser beam by the scattered light receiving system, thereby damaging the chamfer at the outer peripheral edge. The scattered light due to the light is condensed by a condenser lens and received by a light receiver, and the received light signal of the light receiver is compared with a plurality of appropriate thresholds to detect the chamfer damage by rank of magnitude, and the detection signal Is processed by the microprocessor, the number of damages by the rank of the chamfer is output to the data printer, and the rotation angle information of the substrate obtained from the control circuit is referred to so as to refer to the chamfer. The angular position of the damage, characterized in that the map displayed on the data printer, an outer peripheral end portion inspection apparatus of the magnetic disk substrate.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34855593A JPH07190951A (en) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | Peripheral edge inspection device for magnetic disk substrate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34855593A JPH07190951A (en) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | Peripheral edge inspection device for magnetic disk substrate |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07190951A true JPH07190951A (en) | 1995-07-28 |
Family
ID=18397814
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP34855593A Pending JPH07190951A (en) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | Peripheral edge inspection device for magnetic disk substrate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07190951A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5909117A (en) * | 1996-09-10 | 1999-06-01 | Hitachi Electronics Engineering Co., Ltd. | Apparatus and method for inspecting disks |
-
1993
- 1993-12-27 JP JP34855593A patent/JPH07190951A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5909117A (en) * | 1996-09-10 | 1999-06-01 | Hitachi Electronics Engineering Co., Ltd. | Apparatus and method for inspecting disks |
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