JPH0718795B2 - Luminescence analyzer - Google Patents

Luminescence analyzer

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JPH0718795B2
JPH0718795B2 JP61077196A JP7719686A JPH0718795B2 JP H0718795 B2 JPH0718795 B2 JP H0718795B2 JP 61077196 A JP61077196 A JP 61077196A JP 7719686 A JP7719686 A JP 7719686A JP H0718795 B2 JPH0718795 B2 JP H0718795B2
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spectrum
wavelength
analysis
line
emission
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正太佳 古賀
公之助 大石
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  • Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、発光分析装置に係り、環境,各種材料,臨
床,薬品等の幅広い分野に係り、特に主成分中の微量成
分の分析等のマトリツクスの高い試料の分析に好適な、
発光分光分析装置に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an optical emission spectrometer, and relates to a wide range of fields such as environment, various materials, clinical, and chemicals, and particularly to analysis of trace components in main components. Suitable for analysis of samples with high matrix,
The present invention relates to an emission spectroscopic analyzer.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、分光分析装置としては、特開昭60-122357号公報
に示されたものが知られている。すなわち目的の元素の
分析線波長の近傍を波長走査して上記分析線波長を含む
指定の波長区間における信号の最大値と上記指定の波長
区間より短波長側の指定の波長区間と長波長側の指定の
波置区間における信号の最小値とを検出する手段と、上
記最大値と上記最小値との差を演算してその結果から連
続光成分の影響を受けない上記元素の真の輝線スペクト
ル強度に対応する値を求める手段とを具備した構成とす
るものである。
Conventionally, as a spectroscopic analyzer, the one disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 60-122357 is known. That is, by scanning the vicinity of the analysis line wavelength of the target element, the maximum value of the signal in the specified wavelength section including the analysis line wavelength and the specified wavelength section on the short wavelength side and the long wavelength side of the specified wavelength section. Means for detecting the minimum value of the signal in the specified wave arrangement section, and the difference between the maximum value and the minimum value is calculated, and from the result, the true line spectrum intensity of the element not affected by the continuous light component And a means for obtaining a value corresponding to.

これにより、分析値を狂わせる連続光の妨害を自動的に
速やかに補正するようにしたものである。
As a result, the interference of continuous light that disturbs the analysis value is automatically and promptly corrected.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

通常、分光分析法では、分析する元素が発光する複数の
波長の内から、最も強度の高い、すなわち分析感度の波
長を選択して分析する。上記従来技術においては、一番
感度の高い波長が他の原子または分子が発する近接した
波長の光の干渉を受けている場合、一番目の波長を断念
して二番目に感度の高い波長を用いるか、あるいは、定
量計算値の誤差を覚悟して干渉を受けたまま測定してい
た。特に希土類元素は非常に多くの発光線を有するた
め、希土類元素中の微量の希土類元素の分析の場合に
は、全く干渉を受けていない波長を捜すのが困難な程で
ある。希土類元素以外にも、鉄,ニツケルやコバルト等
の遷移金属も多くの発光線を有するため、鉄中の微量元
素の分析の場合も干渉を起こしやすい。また、水溶液試
料はH2Oの水分子が光源中で分解されて多量のOH分子が
生成され、306.4nmとバンドヘツドに長波長側に延びるO
Hバンドを形成し、数十nmの波長範囲に無数の発光線が
存在する。特にアルミニウムやバナジウムは、感度の高
い発光線がこの波長域にあるため、感度が低い別の波長
を用いざるを得ないことが多いものであつた。
Usually, in the spectroscopic analysis method, the wavelength having the highest intensity, that is, the sensitivity of analysis is selected from a plurality of wavelengths emitted by the element to be analyzed, and the wavelength is analyzed. In the above-mentioned conventional technology, when the most sensitive wavelength is interfered with by the light of the adjacent wavelength emitted by another atom or molecule, the first wavelength is abandoned and the second most sensitive wavelength is used. Or, I was preparing for the error of the quantitative calculation value and measured with interference. In particular, since rare earth elements have a large number of emission lines, it is difficult to find a wavelength that is not interfered with in the analysis of a small amount of rare earth elements in rare earth elements. In addition to rare earth elements, transition metals such as iron, nickel and cobalt also have many emission lines, so that interference is likely to occur in the analysis of trace elements in iron. Further, in the aqueous solution sample, H 2 O water molecules are decomposed in the light source to generate a large amount of OH molecules, and O extends to the long wavelength side at 306.4 nm and the band head.
The H band is formed, and countless emission lines exist in the wavelength range of several tens of nm. In particular, since aluminum and vanadium have a highly sensitive light emission line in this wavelength range, it is unavoidable to use another wavelength having low sensitivity.

本発明の目的は、近接線の干渉を受けたスペクトルを数
学的に解決することにより、干渉を除去し、高感度で高
精度の定量測定をすることのできる発光分析装置を提供
することにある。
It is an object of the present invention to provide an optical emission spectrometer capable of removing interference by mathematically solving a spectrum affected by interference of near lines and performing quantitative measurement with high sensitivity and high accuracy. .

〔問題を解決するための手段〕[Means for solving problems]

上記問題を解決するために、発光分析法におけるスペク
トルについて検討する必要がある。発光分析の光源とし
ては、高温プラズマが用いられる。高温プラズマから
は、原子の発光線、2原子分子の発光線、および
黒体輻射による連続スペクトルが放射されている。従つ
て上記の連続スペクトル分をバツクグランドとして差
引くことを行なえば、他の上記と上記のラインスペ
クトルについて考慮すれば良いことになる。また、干渉
の問題を解決するためには、妨害線のスペクトルだけを
消去できれば良いことになる。そのために、ラインスペ
クトルを数学的に合成して妨害線のスペクトルと一致さ
せ、差引きすることにより、分析線のスペクトルのみを
残すことによつて、前記目的を達成できることになる。
In order to solve the above problem, it is necessary to study the spectrum in the emission spectrometry. High temperature plasma is used as a light source for emission analysis. From the high-temperature plasma, emission lines of atoms, emission lines of two-atom molecules, and a continuous spectrum due to black body radiation are emitted. Therefore, if the above continuous spectrum is subtracted as the back ground, the other above and above line spectra should be considered. Further, in order to solve the interference problem, it is only necessary to eliminate the spectrum of the interference line. Therefore, the above-described object can be achieved by mathematically combining the line spectra to match the spectrum of the interference line and subtracting the spectrum to leave only the spectrum of the analysis line.

すなわち、本発明は、元素固有の波長の光を分析の手段
に用いる発光分析法において、分析対象元素の特定の波
長付近を波長スキヤンし、発光スペクトルを実測する手
段と、該分析波長が近接線の妨害を受けている場合に、
該妨害線スペクトルのみをガウス分布とローレンツ分布
の一次結合により数学的に合成し、実測スペクトルと合
成スペクトルの差を取ることにより、分析線のスペクト
ルを明確化する手段とを有するようにしたものである。
That is, the present invention is an emission analysis method using light having a wavelength peculiar to an element as a means for analysis. Is being disturbed by
Only the interference line spectrum is mathematically synthesized by a linear combination of a Gaussian distribution and a Lorentz distribution, and a means for clarifying the spectrum of the analysis line is obtained by taking the difference between the measured spectrum and the synthesized spectrum. is there.

〔作用〕[Action]

ラインスペクトルを数学的にシミユレートするために
は、スペクトルの形状を把握しておく必要がある。発光
分析に用いられる分光器は、通常焦点距離が0.5〜1mの
大形のものが用いられ、分解能を示す半値幅は0.01nm程
度であることが多い。一方光源である高温プラズマでの
発光線の半値幅は、0.001nmのオーダであり分光器の分
解能より1桁近く小さく、発光分析装置が描くスペクト
ルは分光器が決定していると言える。分光器の中でも、
スリツトがスペクトル形状を決定するのに重要な役割を
果している。特に0.01nm程度の高分解能を達成するため
に、スリツト幅は10〜20μm程度の狭さが要求され、ス
リツト幅に対し端面の不均一さが無視できなくなり、ス
ペクトル形状に影響を与える。また、入射スリツトと出
射スリツトの幅の関係も、スペクトル形状に決定的な影
響を与える。さらに、コリメーテイングミラーやカメラ
ミラーの球面度、光源の像が入射スリツト上に結像して
いるか否かや、光源が分光器光軸上に載つているか否か
等の要因も、スペクトル形状に影響を与えている。以上
の個々の要因がスペクトル形状に与える影響度を、理論
的に計算して求めることは非常に困難であり、現実的で
ない。このことに鑑み本発明においては、ガウス分布と
ローレンツ分布を組合わせる関数を用いることにより、
実際に測定して得られたスペクトルの妨害線のスペクト
ル形状に合うように合成する手法を確立したことによつ
て上記目的が達成し得る。なお、ガウス分布とローレン
ツ分布の数学的に組合せた関数をスペクトル合成に用い
ることは、複雑な妨害スペクトルの形状をガウス分布又
はローレンツ分布だけの形状でシミュレートできない場
合に適宜応用できる。
In order to mathematically simulate the line spectrum, it is necessary to understand the shape of the spectrum. As a spectroscope used for emission analysis, a large spectroscope having a focal length of 0.5 to 1 m is usually used, and a half value width showing a resolution is often about 0.01 nm. On the other hand, the full width at half maximum of the emission line in the high temperature plasma, which is the light source, is on the order of 0.001 nm, which is smaller than the resolution of the spectrometer by almost an order of magnitude, and it can be said that the spectrum determined by the emission analyzer is determined by the spectrometer. Among spectrographs,
The slit plays an important role in determining the spectral shape. In particular, in order to achieve a high resolution of about 0.01 nm, the slit width is required to be as narrow as about 10 to 20 μm, and the unevenness of the end face cannot be ignored with respect to the slit width, which affects the spectrum shape. Further, the relationship between the widths of the entrance slit and the exit slit also has a decisive effect on the spectral shape. In addition, factors such as the sphericity of the collimating mirror and the camera mirror, whether the image of the light source is formed on the incident slit, and whether the light source is on the spectroscope optical axis are also the spectral shape. Is affecting. It is very difficult and theoretically impossible to theoretically calculate and obtain the degree of influence of the above individual factors on the spectrum shape. In view of this, in the present invention, by using a function that combines the Gaussian distribution and the Lorentz distribution,
The above object can be achieved by establishing a method of synthesizing so as to match the spectrum shape of the interference line of the spectrum actually measured. The use of a mathematically combined function of the Gaussian distribution and the Lorentz distribution for spectrum synthesis can be appropriately applied when the complicated interference spectrum shape cannot be simulated with only the Gaussian distribution or the Lorentz distribution.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の一実施例を図面を用いて説明する。第2
図に、光源として誘導結合プラズマ(以下ICPと略す)
を用いるICP発光分析装置の光学系を示す。高周波電源2
4から自動マツチング回路23を通してコイル19に供給さ
れた高周波電力により、ICPのプラズマ18が形成され
る。サンプル21はトーチ20を通り、プラズマ18に導入さ
れ、各元素固有の波長の光を発光する。この光はレンズ
25とミラー26により、入射スリツト27上に結像する。ま
た、光束を平行にするコリメータイングミラー28、単一
波長の光を取出すグレーチング29および、出射スリツト
32上に入射スリツト27の像を結像させるカメラミラー31
より成るグレーチング29はグレーチング台30に取付けら
れており、グレーチング台30を回転することにより、光
束とグレーチングとの角度が変わり、出射スリツト32を
通過する光の波長を変化させることができる。出射スリ
ツト32を通過した光は、ホトマルチプライヤ33に入射
し、電気信号に変換させられる。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. Second
In the figure, inductively coupled plasma (hereinafter abbreviated as ICP) is used as the light source.
2 shows an optical system of an ICP emission spectrometer using the. High frequency power supply 2
The high frequency power supplied from 4 to the coil 19 through the automatic matching circuit 23 forms the plasma 18 of the ICP. The sample 21 is introduced into the plasma 18 through the torch 20 and emits light having a wavelength peculiar to each element. This light is a lens
An image is formed on the incident slit 27 by the mirror 25 and the mirror 26. Also, a collimating mirror 28 that collimates the light flux, a grating 29 that extracts light of a single wavelength, and an output slit.
Camera mirror 31 for forming an image of the incident slit 27 on 32
The grating 29 composed of is attached to the grating table 30, and by rotating the grating table 30, the angle between the luminous flux and the grating is changed, and the wavelength of the light passing through the emission slit 32 can be changed. The light passing through the emission slit 32 is incident on the photomultiplier 33 and converted into an electric signal.

第3図に、ICP発光分析装置の電気系システムを示す。
同図においてはプラズマ18からの光は分光器34で単色化
されるようになつており、この分光器はツエルニターナ
のマウンテイングとなつている。ホトマルチプライヤ33
で電気信号に変換されたプラズマからの発光信号は、プ
リアンプ35で増幅され、さらにマルチプレクサを有する
メインアンプ36で増幅され、A/Dコンバータ37でデイジ
タル信号に変換され、CPUバス38に入る。CPU42は、プラ
ズマ18からの信号を受取るだけでなく、PIA39を通して
ホトマルチプライヤ33への供給高電圧を制御し、さらに
ステツピングモータ制御回路40を通して、ステツピング
モータ41を制御している。ステツピングモータ41の回転
は、駆動力伝達機構を通して第2図に示したグレーチン
グ台30を回転させ、任意の波長範囲のスペクトルを取る
ことができる。CPU42は、GPIB43を通して、上位コンピ
ユータ44と接続されており、測定者はコンピユータ44の
CRTを見ながらキーボードよりび示することができる。
コンピユータ44には、GPIB43を介して、プリンタ45やXY
プロツタ46の出力装置が接続されている。
FIG. 3 shows an electric system of the ICP emission spectrometer.
In the figure, the light from the plasma 18 is made to be monochromatic by the spectroscope 34, and this spectroscope is the mounting of the Zuelnitana. Photomultiplier 33
The light emission signal from the plasma, which has been converted into an electric signal by the amplifier, is amplified by the preamplifier 35, further amplified by the main amplifier 36 having a multiplexer, converted into a digital signal by the A / D converter 37, and input to the CPU bus 38. The CPU 42 not only receives the signal from the plasma 18, but also controls the high voltage supplied to the photomultiplier 33 through the PIA 39, and further controls the stepping motor 41 through the stepping motor control circuit 40. The rotation of the stepping motor 41 can rotate the grating table 30 shown in FIG. 2 through the driving force transmission mechanism to take a spectrum in an arbitrary wavelength range. The CPU 42 is connected to the host computer 44 through the GPIB 43, and the measurer is the computer 44
You can show it from the keyboard while looking at the CRT.
The computer 44 is connected to the printer 45 or XY via GPIB43.
The output device of the plotter 46 is connected.

以上のシステムにおいて、本発明の内容はコンピユータ
44のメモリに蓄えられている。第1図(a)と(b)を
用いて、妨害ピークの影響を取除くシーケンスを説明す
る。コンピユータ44からSTART(ステツプ1)の指示を
出すと、ステツピングモータ駆動回路40がステツピング
モータ41を回転させることにより、予め指定しておいた
波長区間のスペクトルを実測する(ステツプ2)。実測
したスペクトルは、コンピユータ44のCRT上に表示さ
れ、分析線を妨害するピークがある場合には、後述の第
1図(b)に示す方法で、妨害ピークをシミユレーシヨ
ンして合成する(ステツプ3)。妨害ピークがうまくシ
ミユレートされていると、実測スペクトルを差引くこと
により(ステツプ4)、分析線から妨害を取除くことが
できる。この場合には分析線のピークハイトを求めるこ
とは容易にでき(ステツプ5)、試料の測定が完了する
(スイツプ6)。
In the above system, the contents of the present invention are computer
It is stored in 44 memories. A sequence for removing the influence of the interference peak will be described with reference to FIGS. 1 (a) and 1 (b). When a START (step 1) instruction is issued from the computer 44, the stepping motor drive circuit 40 rotates the stepping motor 41 to actually measure a spectrum in a wavelength section designated in advance (step 2). The measured spectrum is displayed on the CRT of the computer 44, and if there is a peak that disturbs the analysis line, the disturbing peak is simulated and synthesized by the method shown in FIG. 1 (b) described later (step 3). ). If the disturbing peaks are well simulated, then the disturbing can be removed from the analysis line by subtracting the measured spectrum (step 4). In this case, the peak height of the analysis line can be easily obtained (step 5), and the measurement of the sample is completed (step 6).

第1図(b)に、妨害スペクトルのシミユレーシヨンの
シーケンスを示す。シミユレーシヨンを始めるには(ス
テツプ7)、まず実測スペクトルにスムージングをか
け、ノイズを低減する(ステツプ8)。続いて分析線ピ
ークを妨害するピークの有無を確認し(ステツプ9)、
このとき、妨害ピークがある場合には、その数(=N)
も数えておく(ステツプ10,11)。妨害ピークのシミユ
レーシヨンは1本ずつ行なう。第一の妨害ピークについ
て、中心波長を指定し(ステツプ12)、かつそのピーク
高さおよびバツクグラウンドレベルを指定する(ステツ
プ13)。さらにピークの半値幅を指定し(ステツプ1
4)、本実施例で用いているシミユレーシヨン関数であ
るガウス分布とローレンツ分布の割合を入力する(ステ
ツプ15)ことにより、一つの妨害ピークのシミユレーシ
ヨンが完了する(ステツプ17)。中心波長指定(ステツ
プ12)からガウス分布とローレンツ分布の割合入力(ス
テツプ15)までは、CRT上に表示されるシミユレートさ
れたスペクトルを見ながら、実測スペクトルに合わせる
ように実行する。いずれの過程においても、各ピラメー
タを入力した後でも、やり直しが可能であるようにシー
ケンスを組んでおく。第1の妨害ピークのシミユレーシ
ヨンが完了したら、第2さらに第3の妨害ピークをシミ
ユレートし、分析線に妨害を及ぼしているすべてのピー
クのシミユレーシヨンを行なうことにより、シミユレー
シヨンが完了する。
FIG. 1 (b) shows the sequence of interference spectrum interference. To start the simulation (step 7), the measured spectrum is first smoothed to reduce noise (step 8). Then, confirm the presence or absence of a peak that interferes with the analysis line peak (step 9),
At this time, if there are interference peaks, the number (= N)
Also count (steps 10 and 11). Interfere peak simulation is performed one by one. For the first disturbing peak, specify the center wavelength (step 12) and its peak height and background level (step 13). In addition, specify the half width of the peak (step 1
4) By inputting the ratio of the Gaussian distribution and the Lorentz distribution which are the simulation functions used in this embodiment (step 15), the simulation of one disturbing peak is completed (step 17). From the specification of the central wavelength (step 12) to the input of the ratio of the Gaussian distribution and the Lorentz distribution (step 15), the simulation is performed while observing the simulated spectrum displayed on the CRT. In any process, a sequence is set up so that redoing is possible even after inputting each pyramid. When the simulation of the first disturbing peak is completed, the simulation is completed by simulating the second and third disturbing peaks and simulating all the peaks that are disturbing the analysis line.

ここでシミユレーシヨン関数について説明しておく。ピ
ーク状の関数としてガウス分布(1)式とローレンツ分
布(2)式はよく用いられる関数である。
Here, the simulation function will be described. The Gaussian distribution (1) and the Lorentz distribution (2) are frequently used as peak-like functions.

IG(λ)=b・exp{−a2(λ0−λ)2} ……(1) ただし、 IL(λ)=d/{1+C2(λ0−λ)2} ……(2) ただし、 ガウス分布は、正規分布で知られる関数であり、一方ロ
ーレンツ分布はガウス分布に比べピークのすそ野が拡が
つた関数である。なおΔλはピークの半値幅λ0は中心
波長である。両者の分布を同時に考え合わせると少し複
雑な関数になり、計算に手間取るため、(3)式に示す
ガウス分布とローレンツ分布の一次結合の近似合成関数
を用いることが適当となる。
I G (λ) = b · exp {−a 20 −λ) 2 } (1) where I L (λ) = d / {1 + C 20 −λ) 2 } (2) where The Gaussian distribution is a function known as a normal distribution, while the Lorentz distribution is a function with a wider peak base than the Gaussian distribution. Note that Δλ is the half-value width λ 0 of the peak and is the center wavelength. If both distributions are considered at the same time, the function becomes a little complicated, and it takes time to calculate. Therefore, it is appropriate to use the approximate combination function of the linear combination of the Gaussian distribution and the Lorentz distribution shown in the equation (3).

IGL(λ)=M/(1+A)+(1−M)・exp(−A・ln
2) ……(3) ただし、A=4.(λ0−λ)2/(Δλ)2 M=0〜1 ここで、Mはガウス分布とローレンツ分布の割合を示す
ものであり、M=0である場合、式(3)ガウス分布と
なり、M=1である場合、式(3)はローレンツ分布と
なる。
I GL (λ) = M / (1 + A) + (1-M) ・ exp (-A ・ ln
2) …… (3) However, A = 4. (Λ 0 −λ) 2 / (Δλ) 2 M = 0 to 1 Here, M represents a ratio between the Gaussian distribution and the Lorentz distribution. When M = 0, the equation (3) is Gaussian distribution, and when M = 1, the equation (3) is Lorentz distribution.

次に、第4図から第7図を用いて本実施例の効果を示
す。第4図は、Ce100ppm中のPr406.281nm付近のスペク
トルを示す。Prの濃度は0ppm(図中47に示す),0.5ppm
(図中48に示す),1.0ppm(図中49に示す)および2.0pp
m(図中50に示す)であり。Prの分析線は、高濃度で存
在するCeの2つの波長406.256nm(図中51に示す)と40
6.294nm(図中52に示す)の妨害を受けており、Pr406.2
81nmの波長を使つてのppmのオーダの定量測定は事実上
不可能である。第5図にスペクトルのシミユレーシヨン
を示す。第5図で入力した各パラメータは次の表に示す
とおりである。
Next, the effect of this embodiment will be shown with reference to FIGS. FIG. 4 shows a spectrum around Pr406.281 nm in 100 ppm of Ce. Pr concentration is 0ppm (shown as 47 in the figure), 0.5ppm
(Indicated by 48 in the figure), 1.0 ppm (indicated by 49 in the figure) and 2.0 pp
m (indicated by 50 in the figure). The analytical lines of Pr are two wavelengths of Ce, which exists at high concentration, 406.256 nm (shown as 51 in the figure) and 40.
Interfering with 6.294 nm (shown as 52 in the figure), Pr406.2
Quantitative measurement in the ppm order using the 81 nm wavelength is virtually impossible. FIG. 5 shows the spectrum simulation. The parameters input in FIG. 5 are as shown in the following table.

第4図の例では、Prの0ppmのサンプルすなわちブランク
液が存在したため、妨害ピークのシミユレーシヨンにも
ブランク液のスペクトルを用いたが、ブランク液が存在
しない場合にも、本方法は有効である。実際の分析では
ブランク液が存在しない場合がしばしばであり、その場
合には、最も低濃度のサンプルのスペクトルを対象にシ
ミユレートすれば良い。
In the example of FIG. 4, since a 0 ppm Pr sample, that is, a blank solution was present, the spectrum of the blank solution was used for the simulation of interference peaks, but the method is also effective when no blank solution is present. In actual analysis, a blank solution often does not exist, and in this case, the spectrum of the sample with the lowest concentration may be simulated.

第6図に、実測スペクトルからシミユレーシヨンしたス
ペクトルを差引いたスペクトルを示す。Pr0ppm(図中54
に示す)、0.5ppm(図中55に示す)、1.0ppm(図中56に
示す)および2.0ppm(図中57に示す)の各スペクトルで
ある。
FIG. 6 shows a spectrum obtained by subtracting the simulated spectrum from the measured spectrum. Pr0ppm (54 in the figure
Are shown), 0.5 ppm (shown as 55 in the figure), 1.0 ppm (shown as 56 in the figure) and 2.0 ppm (shown as 57 in the figure).

第7図に、第6図から求めたPr406.281nmの強度から作
成した検量線を示す。1ppm以下の濃度域まで、良い直線
性を示しており、本実施例を用いることにより、妨害ピ
ークの影響を取除くことができるが判る。
FIG. 7 shows a calibration curve prepared from the intensity of Pr406.281 nm obtained from FIG. Good linearity is shown up to a concentration range of 1 ppm or less, and it is understood that the influence of the interference peak can be removed by using this example.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上説明したことから明らかなように、本発明によれ
ば、発光分析法において分析線が近接する発光線の妨害
を受けている場合、妨害線のスペクトルのみをガウス分
布とローレンツ分布の一次結合により数学的に合成する
手段は、中心波長、ピークハイト、反値幅以外にガウス
分布とローレンツ分布の割合を妨害スペクトルのシミユ
レーシヨンにおいて一つのパラメータとしてつかえるの
で、妨害スペクトルを良くシミユレーシヨンでき、実測
スペクトルと合成スペクトルの差を適切に取ることがで
き、妨害を取り除くことができる。これにより、第2あ
るいは第3の発光線を捜し、再び妨害の有無について検
討する手間を省くことができる。さらに、第2あるいは
第3の発光線を用いた場合には、感度の低下が避けられ
ないが、第1の発光線を用いることにより、高感度で分
析することができるようになる。
As is apparent from the above description, according to the present invention, in the emission analysis method, when the analysis line is interfered by the adjacent emission line, only the spectrum of the interference line is analyzed by the linear combination of the Gaussian distribution and the Lorentz distribution. In addition to the central wavelength, peak height, and inverse width, the means of mathematically combining can use the ratio of Gaussian distribution and Lorentz distribution as one parameter in the simulation of interference spectrum. The difference can be properly taken, and the interference can be removed. Accordingly, it is possible to save the trouble of searching for the second or third light emitting line and again examining the presence or absence of interference. Further, when the second or third emission line is used, a decrease in sensitivity cannot be avoided, but by using the first emission line, it becomes possible to perform analysis with high sensitivity.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図(a)および(b)は本発明による発光分析装置
の要部を示すスペクトルシミユレーシヨンのフローチヤ
ート、第2図,第3図はそれぞれ本発明による発光分析
装置の光学系および電気系を示す構成図、第4図ないし
第7図はそれぞれ本発明による発光分析装置の効果を示
すグラフである。18……ICPプラズマ、24……高周波電
源、29……グレーチング、34……発光器、40……ステツ
ピングモータ駆動回路、41……ステツピングモータ、42
……CPU、44……コンピユータ。
1 (a) and 1 (b) are flow charts of a spectrum simulation showing an essential part of an emission analysis apparatus according to the present invention, and FIGS. 2 and 3 are optical systems of the emission analysis apparatus according to the present invention, respectively. 4 and 7 are graphs showing the effects of the optical emission analyzer according to the present invention. 18 …… ICP plasma, 24 …… high frequency power supply, 29 …… grating, 34 …… light emitter, 40 …… stepping motor drive circuit, 41 …… stepping motor, 42
…… CPU, 44 …… Computer.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】元素固有の波長の光を分析の手段に用いる
発光分析装置において、分析対象元素の特定の波長付近
を波長スキャンし、発光スピクトルを実測する手段と、
該分析波長が近接線の妨害を受けている場合に、ガウス
分布とローレンツ分布の一次結合である次の式、 IGL(λ)=M/(1+A)+(1−M)・exp(−A・1n
2) (ここで、A=4・(λ0−λ)2/(Δλ)2、 M=0〜1、 {0…ガウス分布、1…ローレンツ分布}、 Mはガウス分布とローレンツ分布の割合であり、λは波
長変数であり、λ0は中心波長であり、Δλは反値幅で
ある) を該妨害線のスペクトルのみの合成に使用し、実測スペ
クトルと合成スペクトルの差を取ることにより、分析線
のスペクトルを明確化する手段とを有することを特徴と
する発光分析装置。
1. An emission analyzer using light having a wavelength peculiar to an element as means for analysis, means for wavelength-scanning around a specific wavelength of an element to be analyzed and measuring emission spectrum.
When the analysis wavelength is disturbed by a near line, the following equation, which is a linear combination of a Gaussian distribution and a Lorentz distribution, I GL (λ) = M / (1 + A) + (1−M) exp (− A / 1n
2) (where A = 4 · (λ 0 −λ) 2 / (Δλ) 2 , M = 0 to 1, {0 ... Gaussian distribution, 1 ... Lorentz distribution}, M is the ratio of Gaussian distribution and Lorentz distribution) , Λ is the wavelength variable, λ 0 is the central wavelength, and Δλ is the inverse value width.) Is used to synthesize only the spectrum of the interference line, and the difference between the measured spectrum and the synthesized spectrum is calculated to obtain And a means for clarifying the spectrum of the analysis line.
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