JPH07176675A - Semiconductor device and manufacture thereof - Google Patents

Semiconductor device and manufacture thereof

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JPH07176675A
JPH07176675A JP6066789A JP6678994A JPH07176675A JP H07176675 A JPH07176675 A JP H07176675A JP 6066789 A JP6066789 A JP 6066789A JP 6678994 A JP6678994 A JP 6678994A JP H07176675 A JPH07176675 A JP H07176675A
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JP
Japan
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solder material
melting point
hybrid
solder
wiring board
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JP6066789A
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Japanese (ja)
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Yoshio Dobashi
芳男 土橋
Tsuneo Endo
恒雄 遠藤
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To form a joint of solder material in a resin sealed body while preventing insufficient joint, swelling of resin sealed body or cracking after reflow soldering work. CONSTITUTION:A hybrid IC 36 comprises an inner board and a body 34 for resin sealing the entirety wherein a passive element 26 is connected electrically and mechanically to the inner board at a soldering part 27 in the resin sealed body 34. The outer lead 19b of the hybrid IC 36 is connected with a printed wiring board 60 at a reflow soldering part 63. An inner soldering part 27 is formed of a solder material having a melting point higher than that of solder material at the reflow soldering part 63. At the time of reflow soldering of the outer lead 19b to the printed wiring board 60, the high melting point soldering part 27 in the resin sealed body 34 is not fused and thereby the joint 27 is not open-circuited nor short-circuited. Furthermore, since the solder material is not fused in the resin sealed body, the resin sealed body 34 is not swollen nor cracked.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置、特に、非
気密封止体に封止された電気接続部についての技術に関
し、例えば、混成集積回路装置(以下、ハイブリットI
Cという。)に利用して有効な技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to a technique for an electric connection portion sealed in a non-hermetically sealed body, for example, a hybrid integrated circuit device (hereinafter referred to as hybrid I).
Called C. ) Related to effective technology.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般的なハイブリットICの製造方法を
述べてある例として、日本国特許庁公開公報特開平2−
68871号がある。すなわち、このハイブリットIC
の製造方法においては、まず、配線基板に能動素子や受
動素子等の電子部品が搭載されて、はんだ付けによって
電気的かつ機械的に接続される。次いで、配線基板の周
辺部に形成されたランドにアウタリードの取付部が挿入
され、そのランドと取付部とがはんだ付けされることに
より、配線基板にアウタリードが電気的かつ機械的に接
続される。
2. Description of the Related Art As an example which describes a general method for producing a hybrid IC, Japanese Patent Office JP-A-2-
There is 68871. That is, this hybrid IC
In the manufacturing method (1), first, electronic components such as active elements and passive elements are mounted on the wiring board, and electrically and mechanically connected by soldering. Then, the outer lead attachment portion is inserted into a land formed in the peripheral portion of the wiring board, and the land and the attachment portion are soldered to electrically and mechanically connect the outer lead to the wiring board.

【0003】また、日経マグロウヒル社発行「日経エレ
クトロニクス第480巻」1989年8月21日発行
P177〜P188には、生産性や高密度化を達成する
ためにリードフレームを使用するとともに、アウタリー
ドを除く全体を樹脂封止体によって樹脂封止したハイブ
リットICが記載されている。その中でも、受動部品が
配線基板に銀ペースト等の導電性接着材を使用されて接
続されるハイブリットICは、その生産性がきわめて良
好である。
Also, "Nikkei Electronics Volume 480," issued by Nikkei McGraw-Hill, Inc., issued August 21, 1989.
P177 to P188 describe a hybrid IC in which a lead frame is used in order to achieve productivity and high density, and the entire part except the outer leads is resin-sealed with a resin sealing body. Among them, a hybrid IC in which passive components are connected to a wiring board by using a conductive adhesive such as silver paste has extremely good productivity.

【0004】なお、電子部品の電気的接続方法を述べて
ある例としては、RCJ第2回電子デバイスのシンポジ
ウム 1992年11月開催「SMDハイブリットIC
の信頼性」がある。
As an example in which an electrical connection method for electronic components is described, the RCJ 2nd Electronic Device Symposium held in November 1992, "SMD Hybrid IC
Credibility.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、受動素
子が導電性接着材によって接続されているハイブリット
ICにおいては、次のような問題点がある。 受動部品の端子部にはんだめっき皮膜が被着されて
いる場合には、はんだめっき皮膜と銀ペーストとの相性
が良くないため、接続強度が不充分になる。 小型の電子部品が銀ペースト等の導電性接着材によ
って接続される場合には、端子間隔がきわめて狭くなる
ため、導電性接着材の粘度如何や、硬化時の膨張によっ
て導電性接着材による電気接続部の短絡が発生する。
However, the hybrid IC in which the passive elements are connected by the conductive adhesive has the following problems. When the solder plating film is deposited on the terminal portion of the passive component, the compatibility between the solder plating film and the silver paste is not good, and the connection strength becomes insufficient. When small electronic parts are connected by a conductive adhesive such as silver paste, the terminal spacing becomes extremely narrow, so the electrical connection by the conductive adhesive due to the viscosity of the conductive adhesive and expansion during curing. Short circuit occurs.

【0006】そこで、導電性接着材の代わりにはんだ材
料によって受動部品を接続すれば、このような問題点を
回避することができる。しかし、今度は次のような問題
点が発生することが本発明者によって明らかにされた。
受動部品をはんだ材料によって接続されたハイブリット
ICがプリント配線基板に電気的に接続されるに際して
は、リフロー方式のはんだ付け処理が実施される。この
リフローはんだ付け処理の作業温度は、230℃程度に
なる。そのため、はんだ材料によって受動部品を接続し
ている電気接続部も溶融状態になる。その結果、受動素
子の電気接続部におけるオープン不良や短絡不良が発生
する。また、樹脂封止体の内部ではんだ材料が溶融する
と、樹脂封止体の膨れやクラックが発生する。
Therefore, if the passive component is connected by a solder material instead of the conductive adhesive, such a problem can be avoided. However, the present inventor has clarified that the following problems occur this time.
When the hybrid IC in which the passive components are connected by the solder material is electrically connected to the printed wiring board, the reflow soldering process is performed. The working temperature of this reflow soldering process is about 230 ° C. Therefore, the electrical connection portion connecting the passive components with the solder material is also in a molten state. As a result, an open defect or a short circuit defect occurs in the electrical connection portion of the passive element. Further, when the solder material melts inside the resin encapsulant, the resin encapsulant expands or cracks.

【0007】この問題点を図12によってさらに詳細に
説明する。まず、図12(a)は、ピン挿入形のアウタ
リードを備えているハイブリットIC80がアウタリー
ド82を除く全体が樹脂封止体81によって樹脂封止さ
れた場合を、示している。このハイブリットIC80が
プリント配線基板84に実装されるに際しては、プリン
ト配線基板84に開設されたスルーホール85にアウタ
リード82が挿入されて樹脂封止体81がプリント配線
基板84の上から浮かされた状態で、フローはんだ付け
処理される。したがって、樹脂封止体81の内部は殆ど
加熱されないため、樹脂封止体81内部のはんだ接続部
83は溶融することはない。
This problem will be described in more detail with reference to FIG. First, FIG. 12A shows a case where the hybrid IC 80 including the pin insertion type outer leads is entirely resin-sealed by the resin sealing body 81 except the outer leads 82. When the hybrid IC 80 is mounted on the printed wiring board 84, the outer leads 82 are inserted into the through holes 85 formed in the printed wiring board 84 so that the resin sealing body 81 is floated above the printed wiring board 84. , Flow soldered. Therefore, since the inside of the resin sealing body 81 is hardly heated, the solder connection portion 83 inside the resin sealing body 81 does not melt.

【0008】図12(b)は、面実装形のアウタリード
を備えているハイブリットIC90がアウタリード92
を除く全体が樹脂封止体91によって樹脂封止された場
合を、示している。このハイブリットIC90がプリン
ト配線基板94に実装されるに際しては、プリント配線
基板94に形成されたランド95にアウタリード92が
当接されて樹脂封止体91がプリント配線基板94の上
に近接された状態で、リフローはんだ付け処理される。
この状態においては、樹脂封止体91はアウタリード9
2およびランド95と同等に加熱されるため、樹脂封止
体91の内部温度はリフローはんだ付け処理の作業温度
近くに達する。その結果、樹脂封止体91内のはんだ接
続部93は溶融することになる。そして、樹脂封止体9
1の内部ではんだ接続部93が溶融すると、体積が膨張
し、その膨張に伴って内部応力が発生するため、樹脂封
止体91の膨れやクラックが発生する。また、溶融した
はんだ材料が樹脂封止体91の内部で移動すると、はん
だ接続部93のオープン不良や短絡不良が発生する。
In FIG. 12 (b), a hybrid IC 90 having surface mount type outer leads is shown as an outer lead 92.
It shows a case where the entire body except for is resin-sealed by the resin sealing body 91. When the hybrid IC 90 is mounted on the printed wiring board 94, the outer leads 92 are brought into contact with the lands 95 formed on the printed wiring board 94 so that the resin sealing body 91 is brought close to the printed wiring board 94. Then, the reflow soldering process is performed.
In this state, the resin encapsulant 91 has the outer lead 9
Since it is heated in the same manner as 2 and the land 95, the internal temperature of the resin sealing body 91 reaches near the working temperature of the reflow soldering process. As a result, the solder connection portion 93 in the resin sealing body 91 is melted. Then, the resin sealing body 9
When the solder connection portion 93 melts inside 1, the volume expands and internal stress is generated due to the expansion, so that the resin sealing body 91 swells or cracks. Further, when the molten solder material moves inside the resin sealing body 91, an open defect or a short circuit defect of the solder connection portion 93 occurs.

【0009】本発明の目的は、リフローはんだ付け作業
後のオープン不良や短絡不良および非気密封止体の膨れ
やクラックの発生を防止しつつ、電子部品の接続部をは
んだ材料によって適正に形成することができる半導体装
置を提供することにある。
An object of the present invention is to properly form a connecting portion of an electronic component with a solder material while preventing open defects and short circuit defects after the reflow soldering work and swelling and cracking of the non-hermetically sealed body. An object of the present invention is to provide a semiconductor device that can be manufactured.

【0010】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、次の通り
である。
The typical ones of the inventions disclosed in the present application will be outlined below.

【0012】すなわち、非気密封止体に封止され、はん
だ材料によって形成されている接続部と、非気密封止体
から突出されており、外部とはんだ材料によって接続さ
れるアウタリードとを備えている半導体装置において、
前記非気密封止体の内部における接続部は、前記アウタ
リードの外部とのはんだ接続に使用されるはんだ材料の
融点を超える融点を有するはんだ材料によって形成され
ていることを特徴とする。
That is, it is provided with a connecting portion which is sealed by a non-hermetically sealed body and is formed of a solder material, and an outer lead which is projected from the non-hermetically sealed body and is connected to the outside by a solder material. In the existing semiconductor device,
The connection portion inside the non-hermetically sealed body is formed of a solder material having a melting point higher than that of a solder material used for solder connection with the outside of the outer lead.

【0013】[0013]

【作用】前記した手段によれば、アウタリードがプリン
ト配線基板にリフローはんだ付け処理されるに際して、
非気密封止体内の接続部は溶融しないため、その接続部
におけるオープン不良や短絡不良が発生することはな
い。また、非気密封止体の内部ではんだ材料が溶融しな
いため、非気密封止体の膨れやクラックが発生すること
はない。
According to the above-mentioned means, when the outer leads are reflow soldered to the printed wiring board,
Since the connection part in the non-hermetically sealed body does not melt, an open defect or a short circuit defect does not occur in the connection part. Further, since the solder material does not melt inside the non-hermetically sealed body, the non-hermetically sealed body does not swell or crack.

【0014】[0014]

【実施例】図1は本発明の一実施例であるハイブリット
ICを示す正面断面図である。図2以降はその製造方法
における各工程を示す各説明図である。
1 is a front sectional view showing a hybrid IC according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 and subsequent drawings are explanatory views showing each step in the manufacturing method.

【0015】本実施例において、本発明に係る半導体装
置はハイブリットICとして構成されている。このハイ
ブリットICはクワッド・フラット・パッケージ(以
下、QFPという。)を備えている。QFPは非気密封
止体としての樹脂封止体と、所謂ガル・ウイング形状に
成形されたアウタリードとを備えている。そして、この
ハイブリットICは以下に述べる製造方法によって製造
されている。
In this embodiment, the semiconductor device according to the present invention is constructed as a hybrid IC. This hybrid IC has a quad flat package (hereinafter referred to as QFP). The QFP includes a resin sealing body as a non-airtight sealing body and an outer lead formed in a so-called gull wing shape. The hybrid IC is manufactured by the manufacturing method described below.

【0016】以下、本発明の一実施例であるハイブリッ
トICの製造方法を説明する。この説明により、ハイブ
リットICについての構成の詳細が共に明らかにされ
る。
A method of manufacturing a hybrid IC which is an embodiment of the present invention will be described below. This description will also clarify the details of the construction of the hybrid IC.

【0017】本実施例において、ハイブリットICの製
造方法には、図2に示されている多連リードフレーム1
1が使用されており、この多連リードフレーム11は多
連リードフレーム成形工程によって製作されて準備され
ている。この多連リードフレーム11は、鉄−ニッケル
合金や燐青銅等のような比較的大きい機械的強度を有す
るばね材料からなる薄板が用いられて、打ち抜きプレス
加工またはエッチング加工等の適当な手段により一体成
形されている。多連リードフレーム11の表面には銀
(Ag)等を用いためっき処理が、後述するワイヤボン
ディングが適正に実施されるように部分的または全体的
に施されている(図示せず)。この多連リードフレーム
11には複数の単位リードフレーム12が横方向に1列
に並設されている。但し、図示および説明は連続が理解
し得る一単位についてのみ行われている。
In the present embodiment, the method of manufacturing the hybrid IC includes the multiple lead frame 1 shown in FIG.
1 is used, and the multiple lead frame 11 is manufactured and prepared by a multiple lead frame molding process. The multiple lead frame 11 is made of a thin plate made of a spring material having a relatively large mechanical strength such as iron-nickel alloy or phosphor bronze, and is integrally formed by an appropriate means such as punching press work or etching work. It is molded. A plating process using silver (Ag) or the like is partially or entirely applied to the surface of the multiple lead frame 11 so as to appropriately perform the wire bonding described later (not shown). A plurality of unit lead frames 12 are arranged side by side in a row in the multiple lead frame 11. However, illustration and description are given only for one unit in which continuity can be understood.

【0018】単位リードフレーム12は位置決め孔13
aが開設されている外枠13を一対備えており、両外枠
13は所定の間隔で平行になるように配されて一連にそ
れぞれ延設されている。隣り合う単位リードフレーム1
2、12間には一対のセクション枠14が両外枠13、
13間に互いに平行に配されて一体的に架設されてお
り、これら外枠、セクション枠により形成される略正方
形の枠体(フレーム)内に単位リードフレーム12が構
成されている。
The unit lead frame 12 has a positioning hole 13
There is provided a pair of outer frames 13 in which a is provided, and both outer frames 13 are arranged in parallel at a predetermined interval and extend in series. Adjacent unit lead frame 1
A pair of section frames 14 are provided between the outer frame 13 and the outer frame 13,
The unit lead frames 12 are arranged in parallel with each other between the 13 and are integrally installed. The unit lead frame 12 is formed in a substantially square frame body (frame) formed by the outer frame and the section frame.

【0019】単位リードフレーム12において、外枠1
3およびセクション枠14の接続部にはダム吊り部材1
5が略直角方向にそれぞれ配されて一体的に突設されて
おり、ダム吊り部材15には4本のダム部材16が略正
方形の枠形状になるように配されて、一体的に吊持され
ている。
In the unit lead frame 12, the outer frame 1
3 and the section frame 14 are connected to each other by the dam suspension member 1
5 are arranged in a substantially right-angled direction and are integrally projected, and four dam members 16 are arranged in the dam suspension member 15 so as to have a substantially square frame shape and are integrally suspended. Has been done.

【0020】セクション枠14側の各ダム部材16には
タブ吊りリード17がそれぞれの一端に配されて、略4
5度方向に対向して一体的に突設されており、各タブ吊
りリード17の先端には略正方形の枠板形状に形成され
たタブ18が、ダム部材16群の枠形状と略同心的に配
されて、これらタブ吊りリード17により吊持されるよ
うに一体的に連設されている。このタブ18の大きさは
後記する配線基板を支持し得る大きさに設定されてい
る。
Each of the dam members 16 on the side of the section frame 14 has a tab suspension lead 17 arranged at one end thereof.
The tabs 18 are integrally provided so as to be opposed to each other in the direction of 5 degrees, and each tab suspension lead 17 has a tab 18 formed in a substantially square frame plate shape substantially concentrically with the frame shape of the dam member 16 group. , And are integrally connected so as to be suspended by these tab suspension leads 17. The size of the tab 18 is set to a size capable of supporting a wiring board described later.

【0021】各タブ吊りリード17はタブ18付近にお
いてそれぞれ屈曲されており、このタブ吊りリード17
の屈曲によって、タブ18は後記するリード群の面より
も、後記する内部基板の厚さ分程度下げられている(所
謂タブ下げ。)。
Each tab suspension lead 17 is bent near the tab 18, and the tab suspension lead 17 is bent.
Due to the bending, the tab 18 is lowered from the surface of the lead group described later by the thickness of the internal substrate described later (so-called tab lowering).

【0022】また、ダム部材16には電気配線としての
リード19が複数本、長手方向に等間隔に配されて、互
いに平行で、ダム部材16と直交するように一体的に突
設されている。各リード19の内側端部は先端がタブ1
8を取り囲むように配されることにより、インナ部(以
下、インナリードという。)19aをそれぞれ構成して
いる。他方、各リード19の外側延長部分は、その先端
が外枠13およびセクション枠14に接続されており、
アウタ部(以下、アウタリードという。)19bをそれ
ぞれ構成している。そして、ダム部材16における隣り
合うリード19、19間の部分は、後述するパッケージ
成形時にレジンの流れをせき止めるダム16aを実質的
に構成している。
Further, a plurality of leads 19 as electric wiring are arranged on the dam member 16 at equal intervals in the longitudinal direction, and are integrally projected so as to be parallel to each other and orthogonal to the dam member 16. . The inner end of each lead 19 has a tab 1 at the tip.
The inner portions (hereinafter, referred to as inner leads) 19a are respectively arranged by surrounding 8. On the other hand, the outer extension of each lead 19 has its tip connected to the outer frame 13 and the section frame 14,
Each outer portion (hereinafter, referred to as outer lead) 19b is configured. The portion between the adjacent leads 19 of the dam member 16 substantially constitutes a dam 16a that blocks the flow of the resin during the later-described package molding.

【0023】本実施例において、ハイブリットICの製
造方法には、図3に示されている内部基板20が使用さ
れており、この内部基板20は内部基板成形工程によっ
て製作されて準備されている。この内部基板20は本体
21を備えており、本体21は絶縁性を有するセラミッ
ク基板が用いられて、前述したタブ18に対応する大き
さの正方形の板形状に形成されている。内部基板本体2
1を形成するセラミック基板は、後述するリフローはん
だ付け処理の作業温度によって変形や破損等の不良を発
生しないように形成されている。このようなセラミック
基板を構成する材料としては、例えば、アルミナ、窒化
アルミニウム、炭化シリコンを使用することができる。
In this embodiment, the hybrid IC manufacturing method uses the internal substrate 20 shown in FIG. 3, and the internal substrate 20 is manufactured and prepared by the internal substrate molding process. The internal substrate 20 has a main body 21, which is made of a ceramic substrate having an insulating property and is formed in a square plate shape having a size corresponding to the tab 18 described above. Internal board body 2
The ceramic substrate forming No. 1 is formed so that defects such as deformation and damage do not occur due to the working temperature of the reflow soldering process described later. As a material for forming such a ceramic substrate, for example, alumina, aluminum nitride, or silicon carbide can be used.

【0024】内部基板20の本体21における一対の主
面(以下、上面および下面という。)21a、21bの
うち上面21aにはワイヤボンディング部22が複数
個、その外周辺部に配されて、銅等の導電性を有する材
料が用いられたリソグラフィー処理法およびエッチング
処理法により形成されており、このワイヤボンディング
部22群は前記したインナリード19a群に対応するよ
うに配列されている。また、内部基板本体21の下面2
1bの外周辺にはリードフレーム固定部23が枠形状に
同様な方法によって形成されており、このリードフレー
ム固定部23は前記したタブ18に対応するように形成
されている。なお、リードフレーム固定部23の形状や
形成方法には限定がなく、要は、タブ18にリードフレ
ームを固定することができるように構成すればよい。
Of the pair of main surfaces (hereinafter referred to as the upper surface and the lower surface) 21a, 21b of the main body 21 of the internal substrate 20, a plurality of wire bonding portions 22 are arranged on the upper surface 21a, and the wire bonding portions 22 are arranged on the outer peripheral portion thereof. The wire bonding portions 22 are arranged so as to correspond to the inner leads 19a described above by using the lithography processing method and the etching processing method using a material having conductivity. In addition, the lower surface 2 of the internal board body 21
A lead frame fixing portion 23 is formed on the outer periphery of 1b in the same manner as the frame shape, and the lead frame fixing portion 23 is formed so as to correspond to the tab 18 described above. The shape and forming method of the lead frame fixing portion 23 are not limited, and the point is that the lead frame is fixed to the tab 18 so that the lead frame can be fixed.

【0025】内部基板本体21の上面21aおよび下面
21bには受動素子用のランド24および能動素子用の
ランド25が複数個宛、実装対象物となる受動素子およ
び能動素子にそれぞれ対応するように配されて、銅等の
導電性を有する材料が用いられたリソグラフィー処理法
およびエッチング処理法により形成されている。さら
に、内部基板本体21の上面21aおよび下面21bに
は電気配線(図示せず)が、銅等の導電性を有する材料
が用いられたリソグラフィー処理法およびエッチング処
理法により形成されている。この電気配線は本体21を
貫通するスルーホールや、本体21の内部に形成された
積層配線を備えている場合もある。そして、各ランド2
4、25はワイヤボンディング部22にこの電気配線に
よって適宜電気的に接続されている。
A plurality of lands 24 for passive elements and 25 lands for active elements are provided on the upper surface 21a and the lower surface 21b of the internal substrate body 21 and are arranged so as to correspond to the passive elements and active elements to be mounted, respectively. Then, it is formed by a lithography processing method and an etching processing method using a conductive material such as copper. Further, electric wirings (not shown) are formed on the upper surface 21a and the lower surface 21b of the inner substrate body 21 by a lithographic processing method and an etching processing method using a conductive material such as copper. This electric wiring may be provided with a through hole penetrating the main body 21 or a laminated wiring formed inside the main body 21. And each land 2
Reference numerals 4 and 25 are appropriately electrically connected to the wire bonding portion 22 by this electric wiring.

【0026】このように構成されている内部基板20に
は受動素子26が各受動素子用ランド24に、受動素子
はんだ接続工程において高融点はんだ材料が用いられ
て、図4に示されているようにはんだ付けされる。ハイ
ブリットICに使用される受動素子26としては、チッ
プコンデンサー、チップ抵抗、インダクター等の多種多
様の電子部品が存在するが、便宜上、受動素子26とし
て説明する。この受動素子26のはんだ付けに使用され
る高融点はんだ材料は、後述するアウタリードの外部と
のはんだ接続に使用されるはんだ材料の融点を超える融
点を有するはんだ材料であり、本実施例においては約2
35℃の融点を有するはんだ材料が使用されている。高
融点を有するはんだ材料としては、鉛(Pb)の比率が
高い錫(Sn)−鉛共晶はんだ材料や、錫−アンチモン
(Sb)系はんだ材料等がある。
As shown in FIG. 4, the passive element 26 is formed on each of the passive element lands 24 on the internal substrate 20 having the above-described structure, and the high melting point solder material is used in the passive element solder connecting step. Be soldered to. As the passive element 26 used in the hybrid IC, there are various kinds of electronic components such as a chip capacitor, a chip resistor, and an inductor. For convenience, the passive element 26 will be described. The high-melting-point solder material used for soldering the passive element 26 is a solder material having a melting point higher than that of the solder material used for solder connection with the outside of the outer lead, which will be described later. Two
A solder material having a melting point of 35 ° C. has been used. Examples of the solder material having a high melting point include a tin (Sn) -lead eutectic solder material having a high lead (Pb) ratio and a tin-antimony (Sb) solder material.

【0027】次の表1にはんだ材料の実例を示す。な
お、表1中、種類の記号は日本工業規格で使用されてい
るはんだ材料の種類を表す記号である。そして、本実施
例においては、表1中、H95Sb5Aが高融点はんだ
材料として使用される。この高融点はんだ材料の融点
(固相線温度)は、約235℃であるが、作業温度とし
ては、280℃が設定される。
Table 1 below shows examples of solder materials. In Table 1, the type symbol is a symbol indicating the type of solder material used in Japanese Industrial Standards. In this embodiment, H95Sb5A in Table 1 is used as the high melting point solder material. The melting point (solidus temperature) of this high melting point solder material is about 235 ° C., but the working temperature is set to 280 ° C.

【0028】 [0028]

【0029】高融点はんだ材料によるはんだ付け方法
は、通常のはんだ付け方法と同様に次のように実施する
ことができる。予め、受動素子用ランド24群にペース
ト状の高融点はんだ材料(図示せず)が、スクリーン印
刷法等の適当な手段により塗布される。その後、各受動
素子用ランド24に所定の受動素子26がそれぞれ搭載
されて、高融点はんだ材料自体の粘着力によって粘着さ
れる。次いで、受動素子26群が搭載された内部基板2
0が加熱炉等の適当な加熱手段によって、本実施例にお
ける高融点はんだ材料の融点約235℃以上の作業温度
である約280℃に加熱される。この加熱によって高融
点はんだ材料が溶融され、冷却後に受動素子26の端子
部26aとランド24との間に高融点はんだ材料から成
るはんだ接続部27が形成される。
The soldering method using the high melting point solder material can be carried out as follows in the same manner as the ordinary soldering method. In advance, a paste-like high melting point solder material (not shown) is applied to the passive element lands 24 by an appropriate means such as a screen printing method. After that, predetermined passive elements 26 are mounted on the respective passive element lands 24 and adhered by the adhesive force of the high melting point solder material itself. Then, the internal substrate 2 on which the passive elements 26 are mounted
0 is heated by a suitable heating means such as a heating furnace to about 280 ° C. which is a working temperature of the melting point of the high melting point solder material in this embodiment of about 235 ° C. or higher. By this heating, the high melting point solder material is melted, and after cooling, the solder connection portion 27 made of the high melting point solder material is formed between the terminal portion 26a of the passive element 26 and the land 24.

【0030】受動素子26が受動素子用ランド24に高
融点はんだ材料が使用されてはんだ付けされると、図4
に示されているように、高融点はんだ材料から成るはん
だ接続部(以下、高融点はんだ付け部という。)27に
よって、受動素子26は受動素子用ランド24に電気的
かつ機械的に接続された状態になる。この高融点はんだ
付け部27ははんだ付けによって形成されているため、
受動素子26の端子部26a、26a間がたとえ狭小で
あっても、ブリッジ現象等による短絡不良が発生するこ
とはない。また、受動素子26の端子部26aの表面に
はんだめっき皮膜(図示せず)が被着されている場合に
は、高融点はんだ付け部27の接続強度はきわめて高い
ものとなる。ちなみに、はんだめっき皮膜が被着された
端子部26aが導電性接着材によって接続される場合に
は、はんだめっき皮膜と導電性接着材との相性が悪いた
め、その接続強度が低くなってしまう。
When the passive element 26 is soldered to the land 24 for the passive element by using a high melting point solder material, as shown in FIG.
, The passive element 26 is electrically and mechanically connected to the passive element land 24 by a solder connection portion 27 (hereinafter referred to as a high melting point soldering portion) made of a high melting point solder material. It becomes a state. Since the high melting point soldering portion 27 is formed by soldering,
Even if the distance between the terminals 26a, 26a of the passive element 26 is small, a short circuit failure due to a bridge phenomenon or the like does not occur. Further, when a solder plating film (not shown) is applied to the surface of the terminal portion 26a of the passive element 26, the connection strength of the high melting point soldering portion 27 becomes extremely high. By the way, when the terminal portion 26a coated with the solder plating film is connected by the conductive adhesive, the connection strength becomes low because the compatibility between the solder plating film and the conductive adhesive is poor.

【0031】以上のようにして受動素子26が受動素子
用ランド24に高融点はんだ付け部27によって電気的
かつ機械的に接続された後に、図5に示されているよう
に、内部基板20には能動素子28が各能動素子用ラン
ド25に、導電性接着材としての銀ペーストが用いられ
て固着される。ハイブリットICに使用される能動素子
28としては、メモリーやロジック等を構成する半導体
集積回路装置(IC、LSI)およびトランジスターア
レー等が存在するが、便宜上、半導体集積回路装置のペ
レット(以下、ペレットという。)を実施例として説明
する。そして、このペレット28は平面視が略正方形の
平盤形状に形成されており、能動素子用ランド25はこ
のペレット28の平面視の大きさよりも若干大きめに形
成されている。
After the passive element 26 is electrically and mechanically connected to the passive element land 24 by the high melting point soldering portion 27 as described above, the internal substrate 20 is attached to the internal substrate 20, as shown in FIG. The active element 28 is fixed to each active element land 25 by using a silver paste as a conductive adhesive. As the active element 28 used in the hybrid IC, there are a semiconductor integrated circuit device (IC, LSI) and a transistor array forming a memory, a logic, etc., but for the sake of convenience, a pellet of the semiconductor integrated circuit device (hereinafter, referred to as a pellet). .) Will be described as an example. The pellet 28 is formed in a flat plate shape having a substantially square shape in plan view, and the active element land 25 is formed slightly larger than the size of the pellet 28 in plan view.

【0032】銀ペーストは、エポキシ系樹脂接着剤、硬
化促進剤、および溶剤に銀粉が混入されて構成されてい
る導電性接着材である。この銀ペーストによる固着方法
は、次のようにして実施される。まず、各能動素子用ラ
ンド25に銀ペースト(図示せず)が、ディスペンサー
が使用される方法等の適当な手段により塗布される。そ
の後、各能動素子用ランド25に所定のペレット28が
それぞれ搭載されて、銀ペースト自体の粘着力によって
粘着される。次いで、能動素子28群を搭載された内部
基板20が、加熱炉等の適当な加熱手段によって銀ペー
ストのキュア温度以上の温度である約180℃に加熱さ
れる。この加熱によって銀ペーストが硬化され、硬化後
に能動素子28とランド25との間に銀ペーストから成
るペレットボンディング部29が形成される。
The silver paste is a conductive adhesive composed of an epoxy resin adhesive, a curing accelerator, and a solvent mixed with silver powder. This fixing method using silver paste is carried out as follows. First, a silver paste (not shown) is applied to each active element land 25 by an appropriate means such as a method using a dispenser. After that, a predetermined pellet 28 is mounted on each active element land 25 and adhered by the adhesive force of the silver paste itself. Next, the internal substrate 20 on which the group of active elements 28 is mounted is heated to about 180 ° C., which is higher than the curing temperature of the silver paste, by a suitable heating means such as a heating furnace. This heating cures the silver paste, and after curing, a pellet bonding portion 29 made of silver paste is formed between the active element 28 and the land 25.

【0033】ペレット28が能動素子用ランド25に銀
ペーストが使用されてボンディングされると、銀ペース
トから成るペレットボンディング部29によって、ペレ
ット28は能動素子用ランド25に電気的かつ機械的に
接続された状態になる。このペレットボンディング部2
9が形成されるに際しての銀ペーストのキュア温度(約
180℃)は、高融点はんだ材料の融点(約235℃)
よりも低いので、このペレットボンディング部29の形
成に際して、高融点はんだ付け部27が溶融することは
ない。したがって、受動素子用ランド24に固定された
受動素子26が、このペレットボンディング部29の形
成に際して遊動することはない。
When the pellet 28 is bonded to the active element land 25 by using silver paste, the pellet 28 is electrically and mechanically connected to the active element land 25 by the pellet bonding portion 29 made of silver paste. Will be in a state of This pellet bonding part 2
The curing temperature of the silver paste (about 180 ° C.) when forming No. 9 is the melting point of the high melting point solder material (about 235 ° C.)
Therefore, the high melting point soldering portion 27 does not melt when the pellet bonding portion 29 is formed. Therefore, the passive element 26 fixed to the passive element land 24 does not move when the pellet bonding portion 29 is formed.

【0034】なお、ペレット28の能動素子用ランド2
5への固着手段としては、銀ペースト等の導電性接着材
を使用するに限らず、金−シリコン共晶層によるペレッ
トボンディング法等を用いることが可能である。この場
合、金−シリコン共晶層によりペレットボンディング部
はきわめて耐熱性が高いので、リフローはんだ処理に際
して、溶融するのを確実に防止することができる。
The active element land 2 of the pellet 28 is used.
The fixing means to 5 is not limited to using a conductive adhesive such as silver paste, but a pellet bonding method using a gold-silicon eutectic layer or the like can be used. In this case, the gold-silicon eutectic layer causes the pellet bonding portion to have extremely high heat resistance, so that it is possible to reliably prevent melting during the reflow soldering process.

【0035】以上のようにして受動素子26が受動素子
用ランド24に高融点はんだ付け部27によって電気的
かつ機械的に接続されるとともに、能動素子としてのペ
レット28が能動素子用ランド25に銀ペーストから成
るペレットボンディング部29によって電気的かつ機械
的に接続された後に、図6(a)に示されているよう
に、内部基板20には多連リードフレーム11における
単位リードフレーム12のタブ18が、接着材としての
銀ペーストが用いられて固定される。この銀ペーストに
よる固定方法は、次のようにして実施される。なお、接
着材としては銀ペーストに限らず、他の接着剤を使用す
ることができる。
As described above, the passive element 26 is electrically and mechanically connected to the passive element land 24 by the high melting point soldering portion 27, and the pellet 28 as the active element is silver on the active element land 25. After being electrically and mechanically connected by the pellet bonding portion 29 made of paste, the tab 18 of the unit lead frame 12 in the multiple lead frame 11 is attached to the internal substrate 20 as shown in FIG. 6A. However, it is fixed by using a silver paste as an adhesive material. This fixing method using silver paste is carried out as follows. The adhesive is not limited to the silver paste, and other adhesives can be used.

【0036】まず、内部基板20のリードフレーム固定
部23またはタブ18に銀ペースト(図示せず)が、デ
ィスペンサーが使用される方法等の適当な手段により塗
布される。その後、内部基板20のリードフレーム固定
部23と単位リードフレーム12のタブ18とが整合さ
れて、銀ペースト自体の粘着力によって粘着される。次
いで、内部基板20を各単位リードフレーム12に組み
付けられた多連リードフレーム11が、加熱炉等の適当
な加熱手段によって銀ペーストのキュア温度以上の温度
である約180℃に加熱される。この加熱によって銀ペ
ーストが硬化され、硬化後に内部基板20とタブ18と
の間に銀ペーストから成るリードフレームボンディング
部30が形成される。
First, a silver paste (not shown) is applied to the lead frame fixing portion 23 or the tab 18 of the internal substrate 20 by an appropriate means such as a method using a dispenser. After that, the lead frame fixing portion 23 of the internal substrate 20 and the tab 18 of the unit lead frame 12 are aligned and adhered by the adhesive force of the silver paste itself. Next, the multiple lead frame 11 in which the inner substrate 20 is assembled to each unit lead frame 12 is heated to about 180 ° C. which is a temperature higher than the curing temperature of the silver paste by an appropriate heating means such as a heating furnace. This heating cures the silver paste, and after curing, the lead frame bonding portion 30 made of silver paste is formed between the internal substrate 20 and the tab 18.

【0037】このリードフレームボンディング部30が
形成される際の銀ペーストのキュア温度(約180℃)
は、高融点はんだ材料の融点(約235℃)よりも低い
ので、このリードフレームボンディング部30の形成に
際して、高融点はんだ付け部27が溶融することはな
い。したがって、受動素子用ランド24に固定された受
動素子26が、このリードフレームボンディング部30
の形成に際して遊動することはない。
Cure temperature of the silver paste when the lead frame bonding portion 30 is formed (about 180 ° C.)
Is lower than the melting point of the high melting point solder material (about 235 ° C.), the high melting point soldering portion 27 does not melt when forming the lead frame bonding portion 30. Therefore, the passive element 26 fixed to the passive element land 24 is connected to the lead frame bonding portion 30.
It does not move when it is formed.

【0038】以上のようにして内部基板20が各単位リ
ードフレーム12にそれぞれ組み付けられた多連リード
フレーム11には、ワイヤボンディング工程において、
ワイヤボンディング作業が図6(b)に示されているよ
うに実施される。このワイヤボンディング作業は多連リ
ードフレームが横方向にピッチ送りされることにより、
各単位リードフレーム毎に順次実施される。なお、本実
施例においては、内部基板20の上下面にペレット28
がそれぞれボンディングされているので、このワイヤボ
ンディング作業の実施に際して、反対側の主面のペレッ
トとの干渉を避ける必要がある。例えば、内部基板20
の上面21aのペレット28と下面21bのペレット2
8とは、平面視において互いに重なり合わないように配
置することが望ましい。
In the wire bonding process, the multiple lead frame 11 in which the internal substrate 20 is assembled to each unit lead frame 12 as described above is
The wire bonding operation is performed as shown in FIG. 6 (b). This wire bonding work is performed by feeding the multiple lead frames in the lateral pitch.
This is sequentially performed for each unit lead frame. In this embodiment, pellets 28 are formed on the upper and lower surfaces of the internal substrate 20.
Since they are bonded to each other, it is necessary to avoid interference with the pellet on the opposite main surface when performing this wire bonding operation. For example, the internal substrate 20
The upper surface 21a of the pellet 28 and the lower surface 21b of the pellet 2
It is desirable that 8 are arranged so as not to overlap each other in a plan view.

【0039】本実施例においては、2種類のワイヤボン
ディング作業が実施されることになる。一方は、能動素
子としての各ペレット28毎についてのワイヤボンディ
ング作業である。すなわち、内部基板20の能動素子用
ランド25上にボンディングされたペレット28のボン
ディングパッド(図示せず)と、能動素子用ランド25
におけるワイヤボンディング部25aとの間にボンディ
ングワイヤ31が、超音波熱圧着式ワイヤボンディング
装置等の適当なワイヤボンディング装置(図示せず)が
使用されることにより、その両端部をそれぞれボンディ
ングされて橋絡される。これにより、ペレット28に作
り込まれている集積回路は、ボンディングパッド、ボン
ディングワイヤ31および内部基板20に配線された電
気配線(図示せず)を介して内部基板20の外周辺部に
形成されたワイヤボンディング部22に電気的に引き出
されることになる。
In this embodiment, two types of wire bonding work are carried out. One is a wire bonding operation for each pellet 28 as an active element. That is, the bonding pad (not shown) of the pellet 28 bonded on the active element land 25 of the internal substrate 20 and the active element land 25.
The bonding wire 31 is bonded to the wire bonding part 25a in the above-mentioned step by using an appropriate wire bonding device (not shown) such as an ultrasonic thermocompression-bonding wire bonding device so that both ends thereof are bonded to each other. Entangled. As a result, the integrated circuit built in the pellet 28 is formed on the outer peripheral portion of the internal substrate 20 via the bonding pad, the bonding wire 31, and the electric wiring (not shown) wired to the internal substrate 20. It will be electrically drawn out to the wire bonding portion 22.

【0040】他方は、内部基板20と単位リードフレー
ム12との間を電気的に接続するためのワイヤボンディ
ング作業である。すなわち、単位リードフレーム12に
おける各インナリード19aと、内部基板20の各ワイ
ヤボンディング部22との間に、リード用ボンディング
ワイヤ32が超音波熱圧着式ワイヤボンディング装置等
の適当なワイヤボンディング装置(図示せず)が使用さ
れることにより、その両端部をそれぞれボンディングさ
れて橋絡される。内部基板20に電気的に接続された受
動素子24群およびペレット25群は、内部基板20に
配線された電気配線(図示せず)、内部基板20の外周
辺部に形成されたワイヤボンディング部22、リード用
ボンディングワイヤ32およびアウタリード19bを介
して電気的に外部に引き出されることになる。
The other is a wire bonding operation for electrically connecting the internal substrate 20 and the unit lead frame 12. That is, a lead bonding wire 32 is provided between each inner lead 19a in the unit lead frame 12 and each wire bonding portion 22 of the internal substrate 20 by a suitable wire bonding device such as an ultrasonic thermocompression bonding wire bonding device (see FIG. (Not shown) is used to bond and bridge both ends of each. The group of passive elements 24 and the group of pellets 25 electrically connected to the internal substrate 20 include an electrical wiring (not shown) wired on the internal substrate 20, and a wire bonding portion 22 formed on the outer peripheral portion of the internal substrate 20. , And is electrically led out through the lead bonding wire 32 and the outer lead 19b.

【0041】このようにして内部基板20、受動素子2
4、ペレット28および多連リードフレーム11が組み
立てられた組立体33には、各単位リードフレーム毎に
非気密封止体としての樹脂封止体34が、図7に示され
ているようなトランスファ成形装置40が使用されて各
単位リードフレームについて同時に成形される。
In this way, the internal substrate 20, the passive element 2
4, the pellet 28 and the multiple lead frame 11 are assembled into the assembly 33, and a resin sealing body 34 as a non-airtight sealing body is provided for each unit lead frame as shown in FIG. The molding apparatus 40 is used to mold each unit lead frame simultaneously.

【0042】図7に示されているトランスファ成形装置
40は、シリンダ装置等(図示せず)によって互いに型
締めされる一対の上型41と下型42とを備えており、
上型41と下型42との合わせ面には上型キャビティー
凹部43aと下型キャビティー凹部43bとが互いに協
働してキャビティー43を形成するようにそれぞれ複数
組没設されている。
The transfer molding apparatus 40 shown in FIG. 7 includes a pair of upper and lower dies 41 and 42 which are clamped to each other by a cylinder device or the like (not shown).
On the mating surface of the upper mold 41 and the lower mold 42, a plurality of sets of upper mold cavity recesses 43a and lower mold cavity recesses 43b are formed so as to cooperate with each other to form the cavities 43.

【0043】上型41の合わせ面にはポット44が開設
されており、ポット44にはシリンダ装置(図示せず)
により進退されるプランジャ45が成形材料としての樹
脂(以下、レジンという。)を送給し得るように挿入さ
れている。
A pot 44 is opened on the mating surface of the upper mold 41, and a cylinder device (not shown) is provided in the pot 44.
A plunger 45 that is advanced and retracted by is inserted so that a resin (hereinafter, referred to as a resin) as a molding material can be fed.

【0044】下型42の合わせ面にはカル46がポット
44との対向位置に配されて没設されているとともに、
複数条のランナ47がポット44にそれぞれ接続するよ
うに放射状に配されて没設されている。各ランナ47の
他端部は下側キャビティー凹部43bにそれぞれ接続さ
れており、その接続部にはゲート48がレジンをキャビ
ティー43内に注入し得るように形成されている。ま
た、下型42の合わせ面には逃げ凹所49がリードフレ
ームの厚みを逃げ得るように、多連リードフレーム11
の外形よりも若干大きめの長方形で、その厚さと略等し
い寸法の一定深さに没設されている。
On the mating surface of the lower mold 42, a cull 46 is arranged at a position facing the pot 44 and is sunk.
A plurality of runners 47 are radially arranged so as to be respectively connected to the pots 44 and are recessed. The other end of each runner 47 is connected to the lower cavity recess 43b, and a gate 48 is formed at that connection so that the resin can be injected into the cavity 43. In addition, the multiple lead frame 11 is provided so that an escape recess 49 can escape the thickness of the lead frame on the mating surface of the lower mold 42.
It has a rectangular shape slightly larger than the outer shape, and is submerged at a constant depth of a size approximately equal to its thickness.

【0045】前記構成にかかる組立体33が用いられて
樹脂封止体34がトランスファ成形される場合、上型4
1および下型42における各キャビティー43は各単位
リードフレーム12における一対のダム16a、16a
間の空間にそれぞれ対応される。したがって、樹脂封止
体34は単位リードフレーム12において4本のダム部
材16が取り囲む内側空間を包み込むことになる。
When the resin encapsulant 34 is transfer-molded by using the assembly 33 having the above structure, the upper die 4
1 and the lower mold 42, each cavity 43 is a pair of dams 16a, 16a in each unit lead frame 12.
Corresponding to each space between. Therefore, the resin encapsulant 34 encloses the inner space surrounded by the four dam members 16 in the unit lead frame 12.

【0046】トランスファ成形時において、前記構成に
かかる組立体33は、多連リードフレーム11が下型4
2に没設されている逃げ凹所49内に収容され、各単位
リードフレーム12における内部基板20が各キャビテ
ィー43内にそれぞれ収容されるように配されてセット
される。このとき、本実施例においては、内部基板20
がキャビティー43の上下方向の略中央に位置する状態
になる。
At the time of transfer molding, in the assembly 33 having the above-mentioned structure, the multiple lead frame 11 has the lower die 4
2 is housed in a recessed recess 49 that is recessed in 2, and the inner substrate 20 of each unit lead frame 12 is arranged and set so as to be housed in each cavity 43. At this time, in this embodiment, the internal substrate 20
Is positioned substantially at the center of the cavity 43 in the vertical direction.

【0047】続いて、上型41と下型42とが型締めさ
れ、ポット44からプランジャ45によりレジン50が
ランナ47およびゲート48を通じて各キャビティー4
3に送給されて注入される。
Subsequently, the upper mold 41 and the lower mold 42 are clamped, and the resin 50 is moved from the pot 44 by the plunger 45 through the runner 47 and the gate 48 into each cavity 4.
3 is delivered and injected.

【0048】注入後、レジンが熱硬化されると、樹脂封
止体34が成形される。樹脂封止体34が成形される
と、上型41および下型42は型開きされるとともに、
エジェクタ・ピン(図示せず)により樹脂封止体34が
離型される。このようにして、図8に示されているよう
に、樹脂封止体34が成形された成形体35はトランス
ファ成形装置40から脱装される。そして、このように
樹脂成形された樹脂封止体34の内部には、内部基板2
0、受動素子24、ペレット28、インナリード19a
およびボンディングワイヤ31、32が樹脂封止された
状態になる。
After the injection, when the resin is thermoset, the resin sealing body 34 is molded. When the resin sealing body 34 is molded, the upper mold 41 and the lower mold 42 are opened, and
The resin sealing body 34 is released from the mold by ejector pins (not shown). In this way, as shown in FIG. 8, the molded body 35 in which the resin sealing body 34 is molded is removed from the transfer molding device 40. Then, inside the resin sealing body 34 resin-molded in this way, the internal substrate 2
0, passive element 24, pellet 28, inner lead 19a
And the bonding wires 31 and 32 are resin-sealed.

【0049】樹脂封止体34を成形された半完成品とし
ての成形体35は、図示しないが、リード切断成形工程
において各単位リードフレーム毎に順次、外枠13およ
びダム16aを切り落とされるとともに、各アウタリー
ド19bをガル・ウイング形状に屈曲形成される。
Although not shown, the molded body 35 as a semi-finished product in which the resin sealing body 34 is molded, the outer frame 13 and the dam 16a are sequentially cut off for each unit lead frame in the lead cutting molding process. Each outer lead 19b is bent and formed in a gull wing shape.

【0050】以上のようにして製造されたハイブリット
IC36は図1に示されているようにプリント配線基板
に、次のようなリフローはんだ処理によって実装され
る。
The hybrid IC 36 manufactured as described above is mounted on a printed wiring board as shown in FIG. 1 by the following reflow soldering process.

【0051】プリント配線基板60は本体61を備えて
おり、本体61はガラス繊維にエポキシ樹脂が含浸され
て成るガラスエポキシ基板が用いられて、所望の大きさ
の板形状に形成されている。プリント配線基板本体61
を形成するガラスエポキシ基板は、リフローはんだ処理
の作業温度によって変形や破損等の不良を発生しないよ
うに形成されている。
The printed wiring board 60 has a main body 61, and the main body 61 is formed of a glass epoxy substrate in which glass fibers are impregnated with an epoxy resin, and is formed into a plate shape having a desired size. Printed wiring board body 61
The glass epoxy substrate for forming is formed so that defects such as deformation and damage do not occur due to the working temperature of the reflow soldering process.

【0052】プリント配線基板60の本体61における
一方の主面(以下、上面という。)61aにはランド6
2が複数個、実装対象物となるハイブリットIC36の
アウタリード19b群に対応するように配されて、銅等
の導電性を有する材料が用いられたスクリーン印刷法や
リソグラフィー処理法およびエッチング処理法により形
成されている。さらに、プリント配線基板本体61の上
面61aには電気配線(図示せず)が、銅等の導電性を
有する材料が用いられたスクリーン印刷法やリソグラフ
ィー処理法およびエッチング処理法により形成されてい
る。この電気配線は本体61を貫通するスルーホール
や、本体61の内部に形成された積層配線を備えている
場合もある。そして、各ランド62はこの電気配線によ
って適宜電気的に接続されている。
The land 6 is formed on one main surface (hereinafter referred to as the upper surface) 61a of the main body 61 of the printed wiring board 60.
2 are arranged so as to correspond to the outer lead 19b group of the hybrid IC 36 to be mounted, and are formed by a screen printing method, a lithography processing method, and an etching processing method using a conductive material such as copper. Has been done. Further, electric wiring (not shown) is formed on the upper surface 61a of the printed wiring board body 61 by a screen printing method, a lithography processing method, and an etching processing method using a conductive material such as copper. This electric wiring may be provided with a through hole penetrating the main body 61 or a laminated wiring formed inside the main body 61. Then, the respective lands 62 are appropriately electrically connected by this electric wiring.

【0053】このように構成されているプリント配線基
板60には前記のようにして製造されたハイブリットI
C36が、通常の融点を有するはんだ材料が用いられて
リフローはんだ付け処理される。ハイブリットIC36
のリフローはんだ付け処理に使用されるはんだ材料は、
内部基板20に受動素子26をはんだ付けした高融点は
んだ材料の融点である約235℃よりも低い融点を有す
るはんだ材料であり、約183℃の融点を有するはんだ
材料が使用される。このような融点を有するはんだ材料
としては、鉛の比率が高融点はんだ材料よりも低い錫−
鉛共晶はんだ材料等がある。本実施例においては、前記
した表1中、汎用性が高いはんだ材料であるH95また
はH63のはんだ材料が使用される。これらのはんだ材
料の融点は、約183℃であるが、作業温度としては、
約235℃が設定される。
The printed wiring board 60 thus constructed has the hybrid I manufactured as described above.
C36 is reflow soldered using a solder material with a normal melting point. Hybrid IC36
The solder materials used in the reflow soldering process are
It is a solder material having a melting point lower than about 235 ° C., which is the melting point of the high melting point solder material in which the passive element 26 is soldered to the internal substrate 20, and a solder material having a melting point of about 183 ° C. is used. As a solder material having such a melting point, tin-
Lead eutectic solder materials are available. In this embodiment, the solder material of H95 or H63 which is a versatile solder material in Table 1 is used. The melting point of these solder materials is about 183 ° C., but the working temperature is
About 235 ° C is set.

【0054】ハイブリットIC36のプリント配線基板
60へのリフローはんだ付け方法は、通常のリフローは
んだ付け方法と同様に次のように実施することができ
る。予め、プリント配線基板60のランド62群にペー
スト状のはんだ材料(図示せず)が、スクリーン印刷法
等の適当な手段により塗布される。その後、プリント配
線基板60上にハイブリットIC36が、各アウタリー
ド19bが各ランド62に整合されて搭載され、はんだ
材料自体の粘着力によって粘着される。次いで、ハイブ
リットIC36が搭載されたプリント配線基板60が加
熱炉等の適当な加熱手段によって、ランド62に塗布さ
れたはんだ材料の融点(約183℃)以上の温度である
作業温度(約235℃)に加熱される。この加熱によっ
てはんだ材料が溶融され、冷却後にハイブリットIC3
6のアウタリード19bとランド62との間にはんだ材
料から成るリフローはんだ付け部63が形成される。こ
のリフローはんだ付け部63によってハイブリットIC
36はランド62に電気的かつ機械的に接続された状態
になる。
The reflow soldering method of the hybrid IC 36 to the printed wiring board 60 can be carried out as follows in the same manner as the normal reflow soldering method. A paste solder material (not shown) is previously applied to the lands 62 of the printed wiring board 60 by an appropriate means such as a screen printing method. After that, the hybrid IC 36 is mounted on the printed wiring board 60 with each outer lead 19b aligned with each land 62, and adhered by the adhesive force of the solder material itself. Then, the working temperature (about 235 ° C.) at which the printed wiring board 60 on which the hybrid IC 36 is mounted is higher than the melting point (about 183 ° C.) of the solder material applied to the lands 62 by an appropriate heating means such as a heating furnace. To be heated. This heating melts the solder material, and after cooling, the hybrid IC3
A reflow soldering portion 63 made of a solder material is formed between the outer lead 19 b of No. 6 and the land 62. This reflow soldering section 63 allows the hybrid IC
36 is in a state of being electrically and mechanically connected to the land 62.

【0055】以上のハイブリットIC36のプリント配
線基板60へのリフローはんだ付け方法の実施に際し
て、ハイブリットIC36内における受動素子26の電
気接続部としての高融点はんだ付け部27は、リフロー
はんだ付け方法の作業温度(約235℃)以上の融点
(約235℃)を有する高融点はんだ材料が使用されて
形成されているため、溶融することはない。
In carrying out the reflow soldering method of the hybrid IC 36 to the printed wiring board 60, the high melting point soldering portion 27 as an electric connection portion of the passive element 26 in the hybrid IC 36 is operated at the working temperature of the reflow soldering method. Since the high melting point solder material having a melting point (about 235 ° C.) or higher (about 235 ° C.) is used, it does not melt.

【0056】万一、ハイブリットIC36の内部におけ
るはんだ接続部としてのはんだ付け部27が溶融する
と、体積が例えば10%程度膨張することにより、例え
ば30Kg/mm2 の内部応力が作用することがある。
このため、この内部応力が樹脂封止体34の耐力、例え
ば、15Kg/mm2 を越えることによって、樹脂封止
体34の膨れやクラックが発生することがある。しか
し、本実施例においては、ハイブリットIC36の内部
におけるはんだ接続部としての高融点はんだ付け部27
は溶融することがないため、樹脂封止体34の膨れやク
ラックは必然的に発生することはない。
If the soldering portion 27 as a solder connecting portion inside the hybrid IC 36 melts, the volume may expand by, for example, about 10%, and an internal stress of, for example, 30 Kg / mm 2 may act.
Therefore, when the internal stress exceeds the proof stress of the resin sealing body 34, for example, 15 Kg / mm 2 , the resin sealing body 34 may be swollen or cracked. However, in this embodiment, the high melting point soldering portion 27 as a solder connecting portion inside the hybrid IC 36 is used.
Does not melt, so that the resin encapsulant 34 does not necessarily swell or crack.

【0057】図9は移動体電話器のマザーボードへの本
実施例に係るハイブリットICの実装例を示す一部省略
斜視図である。
FIG. 9 is a partially omitted perspective view showing an example of mounting the hybrid IC according to this embodiment on a mother board of a mobile telephone.

【0058】この実装例において、ハイブリットIC3
6は移動体電話器に使用される高周波増幅モジュールと
して構成されている。そして、図1に示されている実施
例に係るプリント配線基板60に相当するマザーボード
60Aは、図1に示されているプリント配線基板60と
実質的に同等に構成されているので、その詳細な説明は
省略する。また、このマザーボード60Aには前記のよ
うにして製造されたハイブリットIC36が、図1につ
いて説明したと同様に、通常の融点を有するはんだ材料
が用いられてはんだ付けされる。さらに、このマザーボ
ード60AへのハイブリットIC36のリフローはんだ
付け方法は、図1について説明したと同様に、通常のリ
フローはんだ付け方法によって実施される。
In this mounting example, the hybrid IC3
6 is configured as a high frequency amplifier module used in a mobile telephone. Since the mother board 60A corresponding to the printed wiring board 60 according to the embodiment shown in FIG. 1 is configured substantially the same as the printed wiring board 60 shown in FIG. 1, its detailed description will be omitted. The description is omitted. The hybrid IC 36 manufactured as described above is soldered to the mother board 60A using a solder material having a normal melting point, as in the case described with reference to FIG. Further, the reflow soldering method of the hybrid IC 36 to the mother board 60A is carried out by the normal reflow soldering method as described with reference to FIG.

【0059】このマザーボード60Aへのハイブリット
IC36のリフローはんだ付け方法に際して、マザーボ
ード60Aには本実施例に係る高周波増幅モジュールで
あるハイブリットIC36の他に、中央処理ユニット
(CPU)回路が構築されたIC64や、チップコンデ
ンサー、チップ抵抗、インダクター等の多種多様の受動
素子26Aが搭載されてリフローはんだ付け処理され
る。そして、これらの搭載部品と一緒に、ハイブリット
IC36を一括してリフローはんだ付け処理することが
可能な点が、本実施例における顕著な作用および効果と
いうことになる。
In the method of reflow soldering the hybrid IC 36 to the mother board 60A, in addition to the hybrid IC 36 which is the high frequency amplification module according to the present embodiment, the mother board 60A has an IC 64 having a central processing unit (CPU) circuit built therein. , Various types of passive elements 26A such as chip capacitors, chip resistors, and inductors are mounted and subjected to reflow soldering processing. The point that the hybrid IC 36 can be collectively subjected to the reflow soldering process together with these mounted parts is a remarkable action and effect in this embodiment.

【0060】すなわち、マザーボード60Aへのこれら
の搭載部品と共に、ハイブリットIC36が一括してリ
フローはんだ付け処理された場合には、融点が約183
℃である汎用性の高いはんだ材料が使用されて、そのは
んだ材料の融点以上の温度である作業温度(約235
℃)に加熱される。このマザーボード60Aに対するリ
フローはんだ付け方法の実施に際して、ハイブリットI
C36内における受動素子26の電気接続部としての高
融点はんだ付け部27は、リフローはんだ付け方法の作
業温度(約235℃)以上の融点(約235℃)を有す
る高融点はんだ材料が使用されて形成されているため、
溶融することはない。したがって、ハイブリットIC3
6における樹脂封止体34の膨れやクラックは必然的に
発生することはないし、樹脂封止体34の内部における
オープン不良や短絡不良も発生しない。つまり、本実施
例によれば、ハイブリットIC36を他の搭載部品と一
緒に一括してマザーボード60Aにリフローはんだ付け
処理することができる。その結果、ハイブリットIC3
6をアウタリード19bを除いて全体的に樹脂封止体3
4をもって樹脂封止することによるマザーボード60A
のリフローはんだ付け処理コスト、しいては、マザーボ
ードの全体としての製造コストの増加を未然に回避する
ことができる。
That is, when the hybrid ICs 36 are collectively reflow-soldered together with these components mounted on the mother board 60A, the melting point is about 183.
A highly versatile solder material having a temperature of ℃ is used, and a working temperature (about 235
(° C). When performing the reflow soldering method for this mother board 60A, the Hybrid I
The high melting point soldering portion 27 as an electrical connection portion of the passive element 26 in the C36 is made of a high melting point solder material having a melting point (about 235 ° C.) higher than the working temperature (about 235 ° C.) of the reflow soldering method. Because it is formed
It does not melt. Therefore, the hybrid IC3
No bulging or cracking of the resin encapsulant 34 in 6 occurs inevitably, and neither open defects nor short circuit defects occur inside the resin encapsulant 34. That is, according to the present embodiment, the hybrid IC 36 can be collectively reflow soldered to the motherboard 60A together with other mounted components. As a result, hybrid IC3
6 is a resin encapsulant 3 as a whole except for the outer leads 19b.
Motherboard 60A by resin sealing with 4
It is possible to avoid the increase in the reflow soldering process cost, and hence the manufacturing cost of the motherboard as a whole.

【0061】前記実施例によれば次の効果が得られる。 (1) ハイブリットIC36内における受動素子26
のはんだ接続部27は、リフローはんだ付け方法の作業
温度(約235℃)以上の高い融点(約235℃)を有
する高融点はんだ材料が使用されて形成されているた
め、ハイブリットIC36のプリント配線基板60への
リフローはんだ付け方法の実施に際して、溶融すること
はない。その結果、ハイブリットIC36の内部におけ
るはんだ接続部としてのはんだ付け部27が溶融した場
合に発生する樹脂封止体34の膨れやクラックは必然的
に発生することはない。
According to the above embodiment, the following effects can be obtained. (1) Passive element 26 in hybrid IC 36
Since the solder connection portion 27 of is formed by using a high melting point solder material having a high melting point (about 235 ° C.) higher than the working temperature (about 235 ° C.) of the reflow soldering method, the printed wiring board of the hybrid IC 36 is formed. When performing the reflow soldering method to 60, it does not melt. As a result, swelling and cracking of the resin encapsulant 34 that occurs when the soldering portion 27 as the solder connecting portion inside the hybrid IC 36 is melted does not necessarily occur.

【0062】(2) 受動素子26を受動素子用ランド
24に電気的かつ機械的に接続する接続部は高融点はん
だ付け部27によって形成されて、リフローはんだ付け
処理の実施に際して溶融することがないため、受動素子
26の端子部26a、26a間がたとえ狭小であって
も、ブリッジ現象等による短絡不良が発生することはな
い。その結果、ハイブリットIC36の内部における受
動素子26群の実装密度を高めることができる。
(2) The connection portion for electrically and mechanically connecting the passive element 26 to the passive element land 24 is formed by the high melting point soldering portion 27 and does not melt during the reflow soldering process. Therefore, even if the distance between the terminal portions 26a of the passive element 26 is small, a short circuit failure due to a bridge phenomenon or the like does not occur. As a result, the mounting density of the passive element group 26 inside the hybrid IC 36 can be increased.

【0063】(3) 受動素子26を受動素子用ランド
24に電気的かつ機械的に接続する接続部を高融点はん
だ付け部27によって形成することにより、受動素子2
6の端子部26aの表面にはんだめっき皮膜が被着され
ている場合であっても、受動素子26をランド24に電
気的かつ機械的に接続するための接続部27の接続強度
をきわめて高く維持することができる。
(3) The passive element 2 is formed by forming the connection portion for electrically and mechanically connecting the passive element 26 to the passive element land 24 by the high melting point soldering portion 27.
Even when the surface of the terminal portion 26a of No. 6 is coated with the solder plating film, the connection strength of the connection portion 27 for electrically and mechanically connecting the passive element 26 to the land 24 is kept extremely high. can do.

【0064】(4) マザーボード60Aにハイブリッ
トIC36を他の搭載部品と一緒に一括してリフローは
んだ付け処理することができるため、ハイブリットIC
36をアウタリード19bを除いて全体的に樹脂封止体
34をもって樹脂封止することによるマザーボード60
Aのリフローはんだ付け処理コスト、しいては、マザー
ボードの全体としての製造コストの増加を未然に回避す
ることができる。
(4) Since the hybrid IC 36 can be collectively reflow-soldered together with other mounting components on the motherboard 60A, the hybrid IC 36 can be processed.
Motherboard 60 obtained by resin-encapsulating 36 with resin encapsulant 34 excluding outer leads 19b
It is possible to avoid an increase in the reflow soldering treatment cost of A, and hence the manufacturing cost of the motherboard as a whole.

【0065】図10は本発明の実施例2であるハイブリ
ットICを示す正面断面図である。
FIG. 10 is a front sectional view showing a hybrid IC which is Embodiment 2 of the present invention.

【0066】本実施例2が前記実施例1と異なる点は、
ハイブリットIC36Aがケースモールドタイプのパッ
ケージ37を備えている点にある。すなわち、ケースモ
ールドタイプのパッケージ37は配線基板20Aと、ヘ
ッダー38とを備えている。前記実施例1の内部基板2
0と同様に、配線基板20Aの一主面(以下、上面とす
る。)には受動素子26が受動素子用ランド24に高融
点はんだ付け部27によって電気的かつ機械的に接続さ
れており、能動素子としてのペレット28が銀ペースト
から成るペレットボンディング部29によってボンディ
ングされている。そして、ペレット28の集積回路はボ
ンディングワイヤ31によって外部に電気的に引き出さ
れている。
The second embodiment differs from the first embodiment in that
The hybrid IC 36A is provided with a case mold type package 37. That is, the case mold type package 37 includes the wiring board 20A and the header 38. Internal substrate 2 of the first embodiment
Similarly to 0, the passive element 26 is electrically and mechanically connected to the passive element land 24 by the high melting point soldering portion 27 on one main surface (hereinafter referred to as the upper surface) of the wiring board 20A, A pellet 28 as an active element is bonded by a pellet bonding part 29 made of silver paste. The integrated circuit of the pellet 28 is electrically drawn to the outside by the bonding wire 31.

【0067】また、配線基板20Aの上面における一端
辺部にはアウタリード39をボンディングするためのボ
ンディング部22Aが複数個形成されており、このボン
ディング部22Aのそれぞれにはアウタリード39が高
融点はんだ付け部27によって電気的かつ機械的に接続
されている。そして、配線基板20Aの上面には電気配
線(図示せず)が適宜配線されており、この電気配線に
よって各受動素子26およびペレット28は各ボンディ
ング部22Aに電気的に接続されている。
Further, a plurality of bonding portions 22A for bonding the outer leads 39 are formed on one end side of the upper surface of the wiring board 20A. They are electrically and mechanically connected by 27. Electric wiring (not shown) is appropriately arranged on the upper surface of the wiring board 20A, and the passive elements 26 and the pellets 28 are electrically connected to the bonding portions 22A by this electric wiring.

【0068】他方、ヘッダー38は鉄系または銅系等の
熱伝導性の良好な材料が用いられて長方形の箱形状に形
成されており、このヘッダー38内に配線基板20Aが
収容されて高融点はんだ材料から成るボンディング部2
7によって固定されている。そして、配線基板20Aに
ボンディングされたリード39はヘッダー38の外部に
突出されて所望の形状に屈曲成形されている。
On the other hand, the header 38 is formed in a rectangular box shape by using a material having good thermal conductivity such as iron or copper, and the wiring board 20A is housed in the header 38 to have a high melting point. Bonding part 2 made of solder material
It is fixed by 7. Then, the lead 39 bonded to the wiring board 20A is projected to the outside of the header 38 and is bent and formed into a desired shape.

【0069】配線基板20A上に搭載された受動素子2
6およびペレット28は、ポッティング樹脂によって成
形された非気密封止体としての樹脂封止体34Aによっ
て非気密封止されている。この樹脂封止体34Aを成形
するためのポッティング樹脂としては、エポキシ樹脂を
主成分とする成形材料がある。ポッティング法による樹
脂封止体34Aの成形方法は、このポッティング樹脂を
配線基板20A上における受動素子26およびペレット
28にディスペンサー等によって被覆するように塗布す
ることにより、実施することができる。
Passive element 2 mounted on wiring board 20A
6 and the pellet 28 are non-hermetically sealed by a resin sealing body 34A which is a non-hermetic sealing body formed of potting resin. As a potting resin for molding the resin sealing body 34A, there is a molding material containing an epoxy resin as a main component. The molding method of the resin sealing body 34A by the potting method can be carried out by applying the potting resin to the passive elements 26 and the pellets 28 on the wiring board 20A so as to cover them with a dispenser or the like.

【0070】本実施例において、配線基板20Aにボン
ディングされたアウタリード39は、樹脂封止体34A
と成分が異なるポッティング樹脂によって成形された非
気密封止体としての樹脂封止体34Bによって非気密封
止されている。この樹脂封止体34Bを成形するための
ポッティング樹脂としては、シリコーン樹脂を主成分と
する成形材料がある。ポッティング法による樹脂封止体
34Bの成形方法は、このポッティング樹脂を配線基板
20A上における高融点はんだ付け部27にディスペン
サー等によって被覆するように塗布することにより、実
施することができる。
In this embodiment, the outer leads 39 bonded to the wiring board 20A are the resin encapsulant 34A.
Is non-airtightly sealed by a resin sealing body 34B as a non-airtight sealing body formed of potting resin having different components. As a potting resin for molding the resin sealing body 34B, there is a molding material containing silicone resin as a main component. The molding method of the resin sealing body 34B by the potting method can be carried out by applying the potting resin so as to cover the high melting point soldering portion 27 on the wiring board 20A with a dispenser or the like.

【0071】本実施例2においても、樹脂封止体34A
に非気密封止された受動素子26のはんだ接続部、およ
び樹脂封止体34Bに非気密封止されたアウタリード3
9のはんだ接続部が高融点はんだ付け部27によってそ
れぞれ形成されているため、前記実施例1と同様の作用
および効果が奏される。
Also in the second embodiment, the resin sealing body 34A is used.
The non-hermetically sealed solder connection part of the passive element 26 and the non-hermetically sealed outer lead 3 in the resin sealing body 34B.
Since the solder connection portions 9 are formed by the high melting point soldering portions 27, the same action and effect as those of the first embodiment can be obtained.

【0072】図11は移動体電話器のマザーボードへの
実施例2に係るハイブリットICの実装例を示す一部省
略斜視図である。
FIG. 11 is a partially omitted perspective view showing a mounting example of the hybrid IC according to the second embodiment on the motherboard of the mobile telephone.

【0073】この実装例において、ハイブリットIC3
6Aは移動体電話器に使用される高周波増幅モジュール
として構成されている。また、ケースモールドタイプの
パッケージ37にはキャップ37aが被せられている。
そして、図1に示されている実施例に係るプリント配線
基板60に相当するマザーボード60Bは、図1に示さ
れているプリント配線基板60と実質的に同等に構成さ
れているので、その詳細な説明は省略する。また、この
マザーボード60Bには図10について説明されたハイ
ブリットIC36Aが、図1について説明したと同様
に、通常の融点を有するはんだ材料が用いられてはんだ
付けされる。さらに、このマザーボード60Bへのハイ
ブリットIC36Aのリフローはんだ付け方法は、図1
について説明したと同様に、通常のリフローはんだ付け
方法によって実施される。
In this mounting example, the hybrid IC3
6A is configured as a high frequency amplification module used in a mobile telephone. A cap 37a is placed on the case mold type package 37.
Since the mother board 60B corresponding to the printed wiring board 60 according to the embodiment shown in FIG. 1 is configured substantially the same as the printed wiring board 60 shown in FIG. 1, its detailed description will be omitted. The description is omitted. The hybrid IC 36A described with reference to FIG. 10 is soldered to the mother board 60B using a solder material having a normal melting point as in the case described with reference to FIG. Furthermore, the method of reflow soldering the hybrid IC 36A to the mother board 60B is as shown in FIG.
As described above, the conventional reflow soldering method is used.

【0074】このマザーボード60Bへのハイブリット
IC36Aのリフローはんだ付け方法に際して、マザー
ボード60Bには本実施例に係る高周波増幅モジュール
であるハイブリットIC36Aの他に、中央処理ユニッ
ト(CPU)回路が構築されたIC64Bや、チップコ
ンデンサー、チップ抵抗、インダクター等の多種多様の
受動素子26Bが搭載されてリフローはんだ付け処理さ
れる。そして、図9について説明したと同様に、これら
の搭載部品と一緒に、ハイブリットIC36Aを一括し
てリフローはんだ付け処理することが可能な点が、本実
施例における顕著な作用および効果ということになる。
In the method of reflow soldering the hybrid IC 36A to the mother board 60B, in addition to the hybrid IC 36A which is the high frequency amplification module according to the present embodiment, an IC 64B having a central processing unit (CPU) circuit is constructed on the mother board 60B. , Various types of passive elements 26B such as chip capacitors, chip resistors, and inductors are mounted and subjected to reflow soldering processing. Then, as described with reference to FIG. 9, the point that the hybrid IC 36A can be collectively subjected to the reflow soldering processing together with these mounted parts is a remarkable action and effect in the present embodiment. .

【0075】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say.

【0076】樹脂封止体の内部におけるはんだ接続部を
形成する高融点はんだ材料の融点は、前記実施例に限ら
ず、アウタリードのリフローはんだ付け処理に使用され
るはんだ材料の融点に対応して最適値を選定することが
望ましい。
The melting point of the high melting point solder material forming the solder connection portion inside the resin encapsulant is not limited to that in the above-mentioned embodiment, but is optimum corresponding to the melting point of the solder material used in the reflow soldering process of the outer leads. It is desirable to select a value.

【0077】特に、アウタリードのリフローはんだ付け
処理において、融点が183℃未満の低融点はんだ材料
が使用される場合には、樹脂封止体の内部におけるはん
だ接続部を形成する高融点はんだ材料は、融点が約18
3℃以上のものから選定することができるのに、留意す
べきである。つまり、アウタリードのリフローはんだ付
け処理において汎用性の低い低融点はんだ材料が使用さ
れる特殊な事情の下では、樹脂封止体の内部におけるは
んだ接続部を形成するのに使用するはんだ材料は、汎用
性の高い通常のはんだ材料の中からも選定することがで
きる。すなわち、樹脂封止体の内部におけるはんだ接続
部を形成するはんだ材料の融点は、アウタリードのリフ
ローはんだ付け処理に使用されるはんだ材料の融点より
も、相対的に高いものであればよい。
In particular, in the reflow soldering process for the outer leads, when a low melting point solder material having a melting point of less than 183 ° C. is used, the high melting point solder material forming the solder connection portion inside the resin encapsulant is Melting point about 18
It should be noted that it is possible to select from those above 3 ° C. In other words, under the special circumstances in which low melting point solder material with low versatility is used in the reflow soldering process of the outer leads, the solder material used to form the solder connection part inside the resin encapsulant is It can also be selected from among ordinary solder materials having high properties. That is, the melting point of the solder material forming the solder connection portion inside the resin sealing body may be relatively higher than the melting point of the solder material used for the reflow soldering process of the outer leads.

【0078】非気密封止体を成形する材料は、前記実施
例に限らず、ハイブリットICの使用条件等に対応して
適宜選定することができる。また、パッケージの形状や
構造は、QFPやケースモールドタイプに限らず、ハイ
ブリットICの用途や、顧客の所望等に対応して適宜選
定することができる。
The material for molding the non-hermetically sealed body is not limited to the above-mentioned embodiment, and can be appropriately selected according to the usage conditions of the hybrid IC. Further, the shape and structure of the package are not limited to the QFP and the case mold type, and can be appropriately selected according to the application of the hybrid IC and the customer's desire.

【0079】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるハイブ
リットICに適用した場合について主に説明したが、そ
れに限定されるものではなく、非気密封止体の内部には
んだ接続部を備えている半導体装置全般に適用すること
ができる。
In the above explanation, the case where the invention made by the present inventor is mainly applied to the hybrid IC which is the background field of application has been mainly explained, but the present invention is not limited to this, and the non-hermetic sealing is performed. It can be applied to all semiconductor devices having a solder connection part inside the body.

【0080】[0080]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、次
の通りである。
The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0081】半導体装置の非気密封止体内におけるはん
だ接続部は、アウタリードのリフローはんだ付け処理に
使用されるはんだ材料の融点よりも相対的に高い融点を
有するはんだ材料が使用されて形成されているため、半
導体装置のプリント配線基板へのリフローはんだ付け方
法の実施に際して溶融することはない。その結果、半導
体装置の非気密封止体の内部におけるはんだ接続部が溶
融した場合に発生する非気密封止体の膨れやクラックは
必然的に発生することはない。
The solder connection portion in the non-hermetically sealed body of the semiconductor device is formed by using a solder material having a melting point relatively higher than that of the solder material used for the reflow soldering process of the outer leads. Therefore, it does not melt when the reflow soldering method of the semiconductor device to the printed wiring board is performed. As a result, swelling or cracking of the non-hermetically sealed body that occurs when the solder connection portion inside the non-hermetically sealed body of the semiconductor device is melted does not necessarily occur.

【0082】半導体装置の非気密封止体内の接続部を相
対的に高融点のはんだ材料を使用して形成することによ
り、接続部間がたとえ狭小であっても、ブリッジ現象等
による短絡不良の発生を防止することができるため、非
気密封止体内部における接続部群の実装密度を高めるこ
とができる。
By forming the connection portion in the non-hermetically sealed body of the semiconductor device by using a solder material having a relatively high melting point, short circuit failure due to a bridge phenomenon or the like can be prevented even if the connection portion is narrow. Since it can be prevented from occurring, the mounting density of the connecting portion group inside the non-hermetically sealed body can be increased.

【0083】半導体装置の非気密封止体内の接続部をは
んだ材料を使用して形成することにより、接続部の接続
界面にはんだめっき皮膜が被着されている場合であって
も、接続部の接続強度をきわめて高く維持することがで
きる。
By forming the connection portion in the non-hermetically sealed body of the semiconductor device by using the solder material, even if the solder plating film is applied to the connection interface of the connection portion, The connection strength can be kept extremely high.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例であるハイブリットICを示
しており、(a)は正面断面図、(b)はアウタリード
のはんだ付け部を示す拡大部分斜視図である。
FIG. 1 shows a hybrid IC according to an embodiment of the present invention, in which (a) is a front sectional view and (b) is an enlarged partial perspective view showing a soldering portion of an outer lead.

【図2】そのハイブリットICの製造方法に使用される
多連リードフレームを示しており、(a)は一部省略平
面図、(b)は正面断面図である。
FIG. 2 shows a multiple lead frame used in the method for manufacturing the hybrid IC, in which (a) is a partially omitted plan view and (b) is a front sectional view.

【図3】そのハイブリットICの製造方法に使用される
内部基板を示しており、(a)は正面断面図、(b)は
平面図である。
3A and 3B show an internal substrate used in the hybrid IC manufacturing method, wherein FIG. 3A is a front sectional view and FIG. 3B is a plan view.

【図4】受動素子のはんだ付け工程後を示しており、
(a)は正面断面図、(b)は平面図である。
FIG. 4 shows after a passive element soldering process,
(A) is a front sectional view and (b) is a plan view.

【図5】ペレットボンディング工程後を示しており、
(a)は正面断面図、(b)は平面図である。
FIG. 5 shows after the pellet bonding process,
(A) is a front sectional view and (b) is a plan view.

【図6】(a)はリードフレーム組付工程後を示す正面
断面図、(b)はワイヤボンディング工程後を示す正面
断面図である。
6A is a front sectional view showing a state after a lead frame assembling step, and FIG. 6B is a front sectional view showing a state after a wire bonding step.

【図7】樹脂封止体の成形工程を示す一部省略縦断面図
である。
FIG. 7 is a partially omitted vertical sectional view showing a molding step of a resin sealing body.

【図8】樹脂封止体成形後の成形体を示しており、
(a)は一部切断平面図、(b)は正面断面図である。
FIG. 8 shows a molded body after molding the resin encapsulant,
(A) is a partially cutaway plan view and (b) is a front sectional view.

【図9】そのハイブリットICの移動体電話器のマザー
ボードへの実装例を示す一部省略斜視図である。
FIG. 9 is a partially omitted perspective view showing an example of mounting the hybrid IC on a motherboard of a mobile phone.

【図10】本発明の他の実施例であるハイブリットIC
を示す正面断面図である。
FIG. 10 is a hybrid IC according to another embodiment of the present invention.
It is a front sectional view showing.

【図11】そのハイブリットICの移動体電話器のマザ
ーボードへの実装例を示す一部省略斜視図である。
FIG. 11 is a partially omitted perspective view showing an example of mounting the hybrid IC on a motherboard of a mobile phone.

【図12】(a)、(b)は各従来例を示す各正面断面
図である。
12 (a) and 12 (b) are front sectional views showing conventional examples.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11…多連リードフレーム、12…単位リードフレー
ム、13…外枠、14…セクション枠、15…ダム吊り
部材、16…ダム部材、16a…ダム、17…タブ吊り
リード、18…タブ、19…リード、19a…インナ部
(インナリード)、19b…アウタ部(アウタリー
ド)、20…内部基板(配線基板)、21…内部基板本
体、21a、21b…上面および下面、22…ワイヤボ
ンディング部、22A…アウタリードボンディング部、
23…リードフレーム固定部、24…受動素子用ラン
ド、25…能動素子用ランド、26、26A、26B…
受動素子、27…高融点はんだ材料から成る接続部(高
融点はんだ付け部)、28…ペレット(能動素子)、2
9…銀ペーストから成るペレットボンディング部、30
…リードフレームボンディング部、31、32…ボンデ
ィングワイヤ、33…組立体、34、34A、34B…
樹脂封止体(非気密封止体)、35…成形体、36…Q
FPを備えているハイブリットIC(半導体装置)、3
6A…ケースモールドタイプのパッケージ備えているハ
イブリットIC(半導体装置)、37…ケースモールド
タイプのパッケージ、38…ヘッダー、39…アウタリ
ード、40…トランスファ成形装置、41…上型、42
…下型、43…キャビティー、44…ポット、45…プ
ランジャ、46…カル、47…ランナ、48…ゲート、
49…逃げ凹所、50…レジン、60…プリント配線基
板、60A、60B…マザーボード、61…本体、62
…ランド、63…リフローはんだ付け部。
11 ... Multiple lead frame, 12 ... Unit lead frame, 13 ... Outer frame, 14 ... Section frame, 15 ... Dam suspension member, 16 ... Dam member, 16a ... Dam, 17 ... Tab suspension lead, 18 ... Tab, 19 ... Leads, 19a ... Inner part (inner lead), 19b ... Outer part (outer lead), 20 ... Internal board (wiring board), 21 ... Internal board body, 21a, 21b ... Top and bottom surface, 22 ... Wire bonding section, 22A ... Outer lead bonding part,
23 ... Lead frame fixing part, 24 ... Passive element land, 25 ... Active element land, 26, 26A, 26B ...
Passive elements, 27 ... Connection parts made of high melting point solder material (high melting point soldering parts), 28 ... Pellets (active elements), 2
9 ... Pellet bonding part made of silver paste, 30
... Lead frame bonding portion, 31, 32 ... Bonding wire, 33 ... Assembly, 34, 34A, 34B ...
Resin sealing body (non-airtight sealing body), 35 ... Molded body, 36 ... Q
Hybrid IC (semiconductor device) equipped with FP, 3
6A ... Hybrid IC (semiconductor device) equipped with case mold type package, 37 ... Case mold type package, 38 ... Header, 39 ... Outer lead, 40 ... Transfer molding device, 41 ... Upper mold, 42
... Lower mold, 43 ... Cavity, 44 ... Pot, 45 ... Plunger, 46 ... Cull, 47 ... Runner, 48 ... Gate,
49 ... Escape recess, 50 ... Resin, 60 ... Printed wiring board, 60A, 60B ... Motherboard, 61 ... Main body, 62
… Land, 63… Reflow soldering part.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 25/04 25/18 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Office reference number FI technical display location H01L 25/04 25/18

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 非気密封止体に封止され、はんだ材料に
よって形成されている接続部と、非気密封止体から突出
されており、外部とはんだ材料によって接続されるアウ
タリードとを備えている半導体装置において、 前記非気密封止体の内部における接続部は、前記アウタ
リードの外部とのはんだ接続に使用されるはんだ材料の
融点を超える融点を有するはんだ材料によって形成され
ていることを特徴とする半導体装置。
1. A connection part formed of a solder material and sealed with a non-hermetically sealed body, and an outer lead protruding from the non-hermetically sealed body and connected to the outside by a solder material. In the semiconductor device, the connection portion inside the non-hermetically sealed body is formed of a solder material having a melting point higher than a melting point of a solder material used for solder connection with the outside of the outer lead. Semiconductor device.
【請求項2】 接続部は配線基板に形成されており、こ
の配線基板は変形や断線等について耐久性を有するよう
に構成されていることを特徴とする請求項1に記載の半
導体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the connecting portion is formed on the wiring board, and the wiring board is configured to have durability against deformation, disconnection, and the like.
【請求項3】 非気密封止体の内部における接続部は、
融点が183℃以上のはんだ材料によって形成されてい
ることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の半
導体装置。
3. The connection portion inside the non-hermetically sealed body comprises:
The semiconductor device according to claim 1 or 2, wherein the semiconductor device is formed of a solder material having a melting point of 183 ° C or higher.
【請求項4】 アウタリードを外部と接続させるはんだ
材料の融点が183℃未満であり、内部の接続部は融点
がそのアウタリードを外部と接続させるはんだ材料の融
点以上のはんだ材料によって形成されていることを特徴
とする請求項1または請求項2に記載の半導体装置。
4. The solder material for connecting the outer lead to the outside has a melting point of less than 183 ° C., and the internal connecting portion is formed of a solder material having a melting point higher than that of the solder material for connecting the outer lead to the outside. The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor device is a semiconductor device.
【請求項5】 非気密封止体に封止され、はんだ材料に
よって形成されている接続部と、非気密封止体から突出
されており、外部とはんだ材料によって接続されるアウ
タリードとを備えている半導体装置の製造方法におい
て、 配線基板に電子部品が、前記アウタリードの外部とのは
んだ接続に使用されるはんだ材料の融点を超える融点を
有するはんだ材料によって形成される接続部によって接
続される工程と、 この配線基板に前記アウタリードを形成するリードフレ
ームが固着される工程と、 前記非気密封止体が少なくとも前記はんだ接続部を封止
するように形成される工程と、 を備えていることを特徴とする半導体装置の製造方法。
5. A non-hermetically sealed body is provided with a connecting portion formed of a solder material, and an outer lead projecting from the non-hermetically sealed body and connected to the outside by a solder material. In the method for manufacturing a semiconductor device, a step of connecting an electronic component to a wiring board by a connecting portion formed of a solder material having a melting point higher than that of a solder material used for solder connection with the outside of the outer lead, And a step of fixing a lead frame for forming the outer lead to the wiring board, and a step of forming the non-hermetically sealed body so as to seal at least the solder connection portion. And a method for manufacturing a semiconductor device.
【請求項6】 はんだ接続部を封止する非気密封止体
は、樹脂により形成されることを特徴とする請求項5に
記載の半導体装置の製造方法。
6. The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 5, wherein the non-hermetically sealed body that seals the solder connection portion is made of resin.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998036626A1 (en) * 1997-02-14 1998-08-20 Pulse Engineering, Inc. Printed circuit assembly
JP2018107367A (en) * 2016-12-28 2018-07-05 株式会社ケーヒン Power semiconductor module

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