JPH0717067A - Thin film type thermal print head and production thereof - Google Patents

Thin film type thermal print head and production thereof

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JPH0717067A
JPH0717067A JP16706693A JP16706693A JPH0717067A JP H0717067 A JPH0717067 A JP H0717067A JP 16706693 A JP16706693 A JP 16706693A JP 16706693 A JP16706693 A JP 16706693A JP H0717067 A JPH0717067 A JP H0717067A
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glaze layer
layer
glass glaze
print head
substrate
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Abstract

PURPOSE:To provide a thin film type thermal print head by which printing is suitably performed through a thermal transfer method on the smooth rigid surface of plastic and metal or the like. CONSTITUTION:A glass glaze layer 16 for forming the thin film of a heat- generating part 11 on the surface thereof is formed on a base plate 13 while keeping a sufficient cross direction region. A gentle slope surface or a rounded surface 18 is formed in a part near to the edge part of the glass glaze layer 16 by reburning the slope part or the stepped part after working and forming the same. The gentle slope surface or the rounded surface 18 is made lower as it advances to the edge of the base plate. A part or the whole part in the cross direction of the heat-generating part 11 is positioned on the slope surface or the rounded surface 18.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本願発明は、プラスチック板や金
属板等の平滑な硬質表面に熱転写方式によって印刷を行
うに適するように特に構成した薄膜型サーマルプリント
ヘッドおよびその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thin film type thermal print head particularly adapted for printing on a smooth hard surface such as a plastic plate or a metal plate by a thermal transfer method, and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】熱転写方式によって印刷を行うためのサ
ーマルプリントヘッドには、その発熱部の形成方法によ
り、大きく分けて、次の二つの形式がある。すなわち、
厚膜型サーマルプリントヘッドと、薄膜型サーマルプリ
ントヘッドである。
2. Description of the Related Art A thermal print head for printing by a thermal transfer system is roughly classified into the following two types according to the method of forming its heat generating portion. That is,
A thick film type thermal print head and a thin film type thermal print head.

【0003】厚膜型サーマルプリントヘッドの発熱部
は、酸化ルテニウムなどを主成分とする抵抗体ペースト
を用いて所定幅の抵抗体をスクリーン印刷法によって印
刷し、かつ焼成することにより形成される。この厚膜型
サーマルプリントヘッドは、発熱抵抗体の形成が比較的
簡便に行いうるという利点を有しているが、微細な発熱
ドットを形成するのが困難であるという欠点がある。
The heat generating portion of the thick film type thermal print head is formed by printing a resistor having a predetermined width by a screen printing method using a resistor paste containing ruthenium oxide or the like as a main component and firing the resistor. This thick film type thermal print head has an advantage that a heating resistor can be formed relatively easily, but has a drawback that it is difficult to form fine heating dots.

【0004】一方、薄膜型サーマルプリントヘッドは、
後に詳述するように、基板上に形成したガラスグレーズ
層の上に、窒化タンタル等の抵抗体層をスパッタリング
等によって薄膜形成し、さらにその上にアルミニウム等
の導体金属による導体パターンをスパッタリング等によ
って薄膜形成した構成をもっている。このような薄膜型
サーマルプリントヘッドは、発熱ドットの微細化が容易
であるとともに、印字速度を上げることができるという
利点を有しているが、製造工程が複雑であり、比較的コ
ストが高くつくという欠点もある。
On the other hand, the thin film type thermal print head is
As described in detail later, on the glass glaze layer formed on the substrate, a resistor layer such as tantalum nitride is formed into a thin film by sputtering or the like, and a conductor pattern made of a conductive metal such as aluminum is further formed thereon by sputtering or the like. It has a thin film structure. Such a thin film type thermal print head has an advantage that the heating dots can be easily miniaturized and the printing speed can be increased, but the manufacturing process is complicated and the cost is relatively high. There is also a drawback.

【0005】ところで、熱転写による印刷方式には、溶
融型熱転写方式と、昇華型熱転写方式とがある。これを
画像の濃淡階調について見ると、溶融型熱転写方式は、
面積によって濃淡階調の差を得ざるをえないために、プ
リントヘッドの発熱ドットの密度を細かくしても、階調
の段階数を上げることができないが、昇華型熱転写方式
は、発熱ドットに対するエネルギの大きさを制御するだ
けで、無段階の濃淡階調を得ることができる。
By the way, the thermal transfer printing system includes a fusion type thermal transfer system and a sublimation type thermal transfer system. Looking at this for the gradation of the image, the fusion type thermal transfer method
Since the difference in the gradation of light and shade must be obtained depending on the area, even if the density of the heating dots of the print head is made fine, the number of gradation steps cannot be increased. Only by controlling the amount of energy, it is possible to obtain stepless gradation.

【0006】一方、最近では、熱転写方式によってカラ
ー印刷を行うための開発が盛んであり、カラー写真の忠
実な再現が求められているところである。かかる目標の
ために、一定以上の解像密度をもって、濃淡階調が無段
階のカラー写真を熱転写方式による印刷によって再現す
るには、プリントヘッドの形式としては薄膜型サーマル
プリントヘッドが、熱転写の方式としては昇華型が、そ
れぞれ適当ということになる。
On the other hand, recently, development for performing color printing by a thermal transfer system has been actively made, and faithful reproduction of color photographs is being demanded. To achieve this goal, a thin film thermal print head is used as a print head type in order to reproduce a color photograph having a gradation of stepless gradation with a resolution density of a certain level or more by printing by a thermal transfer method. As a result, the sublimation type is suitable.

【0007】以上の理由から、高品質のカラー印刷を行
うために、薄膜型サーマルプリントヘッドが多く採用さ
れている。そして、従前のこの種の一般的な薄膜型サー
マルプリントヘッドは、紙等の容易に撓曲可能なシート
材に対して印刷を行うように構成されたものである。
For the above reasons, thin-film thermal print heads are often used for high quality color printing. The conventional general thin film type thermal print head of this type is configured to perform printing on an easily bendable sheet material such as paper.

【0008】図14ないし図16に、従前の薄膜型サー
マルプリントヘッド10の発熱部2の一般的構造例を示
す。セラミック基板3の上面には、ガラスグレーズ層4
a,4bがガラスペーストを用いたスクリーン印刷およ
び焼成によって形成される。図15に表れているよう
に、このガラスグレーズ層は、駆動IC(図示略)や導
体配線パターン5の多くの部分が載るべき主たる部分4
aと、これから離間するようにして細幅状に形成された
部分グレーズ層4bとからなっている。
14 to 16 show an example of a general structure of the heat generating portion 2 of the conventional thin film type thermal print head 10. A glass glaze layer 4 is formed on the upper surface of the ceramic substrate 3.
a and 4b are formed by screen printing using glass paste and firing. As shown in FIG. 15, the glass glaze layer is a main portion 4 on which many parts of the drive IC (not shown) and the conductor wiring pattern 5 should be mounted.
a and a partial glaze layer 4b formed in a narrow width so as to be separated therefrom.

【0009】かかる部分グレーズ層4bを設けるゆえん
は、この部分グレーズ層4bによって凸部を形成すると
ともに、この凸部上に発熱部2を配置することにより、
印刷対象である紙等の記録紙に対する発熱部2の確実な
接触を図るためである。この部分グレーズ層4bの表面
には、発熱抵抗体層6がスパッタリング等によって薄膜
形成される。そして、部分グレーズ層4bの頂部近傍に
おける抵抗体層6を部分グレーズ層4bの長手方向の帯
状に臨ませるようにして、所定形態の導体配線パターン
層5がアルミニウム等を材料としてスパッタリング等に
よって薄膜形成される。さらに、上記各層6,5を覆う
ようにして、保護ガラス層7がスパッタリング等によっ
て形成される。
The reason why the partial glaze layer 4b is provided is that the convex portion is formed by the partial glaze layer 4b and the heat generating portion 2 is arranged on the convex portion.
This is for ensuring the contact of the heat generating portion 2 with the recording paper such as paper to be printed. On the surface of the partial glaze layer 4b, the heating resistor layer 6 is formed into a thin film by sputtering or the like. Then, the resistor layer 6 near the top of the partial glaze layer 4b is made to face the strip shape in the longitudinal direction of the partial glaze layer 4b, and the conductor wiring pattern layer 5 of a predetermined form is formed into a thin film by sputtering or the like using aluminum or the like as a material. To be done. Furthermore, a protective glass layer 7 is formed by sputtering or the like so as to cover the layers 6 and 5.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記部分グ
レーズ層4bは、その幅が約100〜200μmときわ
めて細いにもかかわらず、ガラスペーストを用いたスク
リーン印刷法による印刷、ないし焼成によって形成され
る。焼成過程においてガラスペーストがいったん流動化
させられることから、この部分グレーズ層4bは、図1
5に示すように、円弧断面状となるのであるが、スクリ
ーン印刷であるがために印刷直後のガラスペーストのエ
ッジの正確な直線性が確保されないことと、基板長手方
向各部位におけるセラミック基板表面に対する濡れ性が
まちまちとなることから、印刷焼成後の部分グレーズ層
4bは、図16に強調して示すように、幅方向両側にお
けるエッジにうねりが生じ、これに起因して、この部分
グレーズ層4bの頂部高さにも、うねりが生じてしま
う。かかるうねりの程度は、たとえば、長手方向1mm
に対して1μmあるいはそれ以上となることが確認され
ている。
By the way, the partial glaze layer 4b is formed by printing by screen printing method using glass paste or firing, although its width is extremely thin, about 100 to 200 .mu.m. . Since the glass paste is once fluidized in the firing process, the partial glaze layer 4b is formed as shown in FIG.
As shown in FIG. 5, although it has an arc cross section, since it is screen printing, the accurate linearity of the edge of the glass paste immediately after printing cannot be ensured and the ceramic substrate surface at each site in the substrate longitudinal direction is Since the wettability varies, the partial glaze layer 4b after printing and baking has undulations on the edges on both sides in the width direction, as shown in an emphasized manner in FIG. 16, which causes the partial glaze layer 4b. The swell also occurs at the top height of the. The degree of such waviness is, for example, 1 mm in the longitudinal direction.
It has been confirmed that it is 1 μm or more.

【0011】上記のようにして部分グレーズ層4bの頂
部にうねりが生じていても、紙等の撓曲容易なシート状
の印刷対象に対して、これをゴム製のプラテンでバック
アップしながら印刷を行うかぎりにおいて、印字品質に
ほとんど問題を生じることはない。なぜなら、上記のう
ねりの振幅は、数μmオーダであり、弾性変形可能なプ
ラテンによって撓曲性のあるシートを上記のうねりのあ
るガラスグレーズ層の頂部に押しつけるかぎりにおい
て、シートをガラスグレーズ層の長手方向全長にわたっ
てほぼ均一な押圧力で押しつけることができるからであ
る。
Even if the top of the partial glaze layer 4b is undulated as described above, it is possible to print on a sheet-shaped printing object such as paper which is easily bent while backing it up with a rubber platen. As long as it is done, there is almost no problem in print quality. Because the amplitude of the waviness is on the order of a few μm, as long as the elastically deformable platen presses the flexible sheet against the top of the wavy glass glaze layer, the sheet is stretched in the longitudinal direction of the glass glaze layer. This is because it can be pressed with a substantially uniform pressing force over the entire length in the direction.

【0012】ところで、熱転写方式のカラー印刷が普及
するにともない、たとえば、プリペイドカード、キャッ
シュカードあるいはICカード等のプラスチックカード
のように、硬質で平滑な表面をもつ対象物に熱転写方式
によるカラー印刷を行うというニーズが生じてきてい
る。しかしながら、図14ないし図16に示すような従
前の一般的構造をもつ薄膜型サーマルプリントヘッドで
は、上記のプラスチックカードのような対象物に適正な
印字を行うことができないということが判明した。その
理由は、上記部分グレーズ層4bないしその頂部に形成
される発熱部にうねりが存在し、このうねりの程度は、
1mmの長さにおいて数μmの程度であるとはいえ、プ
ラスチックカードのような平滑性をもっており、しかも
容易に撓曲できない対象表面に対しては、発熱部がその
長手方向各部において均等な圧力で対象表面に接触する
ことができないからである。
With the widespread use of thermal transfer type color printing, for example, thermal transfer type color printing is applied to an object having a hard and smooth surface such as a plastic card such as a prepaid card, a cash card or an IC card. The need to do so is emerging. However, it has been found that the thin film thermal print head having the conventional general structure as shown in FIGS. 14 to 16 cannot perform proper printing on an object such as the plastic card. The reason is that there is undulation in the partial glaze layer 4b or the heating portion formed on the top thereof, and the degree of this undulation is
Even if it is about several μm in a length of 1 mm, the heat generating part has a uniform pressure in each part in its longitudinal direction on a target surface that has smoothness like a plastic card and cannot be easily bent. This is because the target surface cannot be touched.

【0013】上記の従前の薄膜型サーマルプリントヘッ
ドによってプラスチックカードのような平滑表面に印刷
を行うと、濃淡による縞模様が顕著に現れてしまうので
ある。
When printing is performed on a smooth surface such as a plastic card by the conventional thin film thermal print head described above, a striped pattern due to light and shade appears remarkably.

【0014】本願発明は、上述した事情のもとで考え出
されたものであって、プラスチックや金属板等の平滑な
硬質表面に対し、熱転写方式によって細密な印刷を適正
に行うことができるように構成した薄膜型サーマルプリ
ントヘッドおよびその製造方法を提供することをその課
題としている。
The present invention has been devised under the above-mentioned circumstances, and enables fine printing to be appropriately performed on a smooth hard surface such as a plastic or metal plate by a thermal transfer method. It is an object of the present invention to provide a thin-film type thermal print head configured as described above and a manufacturing method thereof.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本願発明では、次の各技術的手段を講じている。
In order to solve the above problems, the present invention takes the following technical means.

【0016】本願の請求項1に記載した発明は、基板表
面に形成されたガラスグレーズ層と、このガラスグレー
ズ層の表面に薄膜形成された抵抗体層と、この抵抗体層
上に形成された導体パターン層とを備え、上記導体パタ
ーン層の形態により、上記抵抗体層のうちの帯状領域を
単位長さごとに個別発熱させる発熱部として機能させる
ように構成された薄膜型サーマルプリントヘッドであっ
て、上記ガラスグレーズ層は、十分な幅方向領域をもっ
て形成されるとともに、基板縁部近傍部位に、基板の縁
に向かうほど低位となる緩やかな傾斜表面またはラウン
ド表面をもつように形成されており、上記発熱部の幅方
向一部または全部は、上記傾斜表面またはラウンド表面
上に位置させられていることに特徴づけられる。
According to the invention described in claim 1 of the present application, the glass glaze layer formed on the surface of the substrate, the resistor layer formed as a thin film on the surface of the glass glaze layer, and the resistor layer formed on the resistor layer. A thin film thermal print head comprising a conductor pattern layer, and configured to function as a heat generating portion for individually heating the strip-shaped region of the resistor layer for each unit length in the form of the conductor pattern layer. The glass glaze layer is formed with a sufficient width direction region, and is formed in a region near the edge of the substrate so as to have a gently inclined surface or a round surface that becomes lower toward the edge of the substrate. A part or all of the heat generating portion in the width direction is characterized by being located on the inclined surface or round surface.

【0017】そして、本願の請求項2に記載した発明
は、薄膜型サーマルプリントヘッドの製造方法であっ
て、特に、上記請求項1の発明において規定したガラス
グレーズ層の傾斜表面またはラウンド表面の形成方法に
特徴づけられるものである。
The invention described in claim 2 of the present application is a method for manufacturing a thin film type thermal print head, and in particular, formation of an inclined surface or round surface of the glass glaze layer defined in the invention of claim 1 above. It is characterized by the method.

【0018】すなわち、この薄膜型サーマルプリントヘ
ッドの製造方法は、基板表面の縁部から十分な幅方向領
域にガラスグレーズ層を形成し、上記ガラスグレーズ層
の所定部位に抵抗体層を薄膜形成し、上記抵抗体層上に
所定の導体パターン層を形成して上記抵抗体層のうちの
帯状領域を単位長さごとに個別発熱させることができる
発熱部として形成することを含む薄膜型サーマルプリン
トヘッドの製造方法であって、上記ガラスグレーズ層
は、ガラスペーストを用いた印刷・焼成により、基板の
縁部にいたるまで一定厚みに形成するステップ、この一
定厚みのガラスグレーズ層の基板縁部近傍部位に傾斜部
または階段部を加工形成するステップ、この加工形成
後、ガラスグレーズ層を再焼成するステップ、を経て形
成することにより、基板縁部近傍部位に、基板の縁に向
かうほど低位となる緩やかな傾斜表面またはラウンド表
面が形成されるようになし、上記ガラスグレーズ層の上
記傾斜表面またはラウンド表面上に上記発熱部の幅方向
一部または全部を配置するというものである。
That is, in this method for manufacturing a thin film type thermal print head, a glass glaze layer is formed in a sufficient width direction region from an edge portion of a substrate surface, and a resistor layer is thinly formed at a predetermined portion of the glass glaze layer. A thin film type thermal printhead including forming a predetermined conductor pattern layer on the resistor layer and forming a band-shaped region of the resistor layer as a heating portion capable of individually generating heat for each unit length. In the manufacturing method, the glass glaze layer is formed by printing and firing using a glass paste to a constant thickness down to the edge of the substrate, and a portion of the glass glaze layer having a constant thickness near the edge of the substrate. By forming a sloped portion or a stepped portion in the step of forming a glass glaze layer and then re-baking the glass glaze layer. A gentle sloped surface or round surface is formed in the vicinity of the edge so as to be lower toward the edge of the substrate, and the width direction of the heat generating part is formed on the sloped surface or round surface of the glass glaze layer. It is to arrange parts or all.

【0019】上記の方法におけるガラスグレーズ層の基
板縁部近傍部位に傾斜部または階段部を加工形成するた
めの具体的方法としては、たとえば、回転砥石による切
削(請求項3)、あるいは、ブラスト法(請求項4)が
ある。
As a concrete method for processing and forming the inclined portion or the stepped portion in the vicinity of the substrate edge portion of the glass glaze layer in the above method, for example, cutting with a rotary grindstone (claim 3) or blasting method There is (claim 4).

【0020】[0020]

【発明の作用および効果】本願発明の薄膜型サーマルプ
リントヘッドにおいては、発熱部を形成するべきガラス
グレーズ層の形態、および、その形成方法に特徴づけら
れる。
The thin film thermal print head of the present invention is characterized by the form of the glass glaze layer for forming the heat generating portion and the method for forming the glass glaze layer.

【0021】従前の薄膜型サーマルプリントヘッドにお
ける発熱部を形成するべきガラスグレーズ層と、本願発
明におけるガラスグレーズ層の形態上の相違は、従前の
プリントヘッドにおける上記ガラスグレーズ層は、細幅
の部分グレーズ層であるのに対し、本願発明のガラスグ
レーズ層は、十分な幅方向領域をもっているということ
である。
The difference in morphology between the glass glaze layer for forming the heat generating portion in the conventional thin film thermal print head and the glass glaze layer in the present invention is that the glass glaze layer in the conventional print head has a narrow portion. In contrast to the glaze layer, the glass glaze layer of the present invention has a sufficient width direction region.

【0022】そして、上記ガラスグレーズ層における基
板縁部近傍部位には、基板の縁に向かうほど低位となる
緩やかな傾斜表面またはラウンド表面が形成され、発熱
部は、かかる傾斜表面またはラウンド表面に形成される
ことになる。
In the glass glaze layer, near the substrate edge, a gentle sloped surface or round surface is formed, which becomes lower toward the edge of the substrate, and the heat generating portion is formed on the sloped surface or round surface. Will be done.

【0023】本願発明において上記のように発熱部が形
成されるべきガラスグレーズ層における緩やかな傾斜表
面またはラウンド表面は、特に、次のようなステップを
経て形成される。すなわち、上記請求項2に規定したよ
うに、まず、ガラスペーストを用いた印刷・焼成によ
り、基板の縁部にいたるまで一定厚みグレーズ層を形成
した後、この一定厚みのガラスグレーズ層の基板縁部近
傍部位に加工によって傾斜部または階段部を形成し、そ
の後にガラスグレーズ層を再度焼成するのである。上記
の加工形成の後の再焼成により、ガラスグレーズ層は、
上記傾斜部または階段部において流動化し、表面張力の
作用等によって、結果的に緩やかな傾斜表面またはラウ
ンド表面となるのである。
In the present invention, the gently sloping surface or round surface in the glass glaze layer in which the heat generating portion is to be formed as described above is formed through the following steps, in particular. That is, as defined in claim 2 above, first, a glass glaze layer having a constant thickness is formed to the edge of the substrate by printing and firing using a glass paste, and then the substrate edge of the glass glaze layer having this constant thickness is formed. The inclined portion or the step portion is formed by processing in the vicinity of the portion, and then the glass glaze layer is fired again. By re-baking after the above-mentioned processing formation, the glass glaze layer,
It is fluidized in the inclined portion or the stepped portion, and as a result of the action of surface tension or the like, it becomes a gently inclined surface or a round surface.

【0024】このようにして形成された本願発明におけ
るガラスグレーズ層の傾斜表面またはラウンド表面は、
問題となるうねりのない直線性をもったものとなる。そ
の理由の第一は、ガラスグレーズ層そのものが基本的に
十分な幅方向領域をもっているために、発熱部を形成す
るべき傾斜表面またはラウンド表面の近傍において、平
面的に基板表面と境界する部位がなく、したがって、ス
クリーン印刷時のエッジの不整、あるいは基板に対する
濡れ性の相違に起因するうねりが生じないこと、そし
て、その理由の第二は、なだらかな傾斜表面またはラウ
ンド表面を再焼成時における流動化現象によって達成す
るに先立つグレーズ層に対しておこなう傾斜部または階
段部の形成を、加工によって行っていることから、上記
再焼成時のガラス流動化現象を長手方向各部において画
一化しつつ行うことができること、である。
The inclined surface or round surface of the glass glaze layer in the present invention thus formed is
It will have linearity without waviness. The first reason is that since the glass glaze layer itself basically has a sufficient width direction region, a portion that planarly borders the substrate surface in the vicinity of the inclined surface or the round surface where the heat generating portion is to be formed is Therefore, there is no waviness due to edge irregularity during screen printing or difference in wettability to the substrate, and the second reason for this is that smooth sloped surface or round surface does not flow during rebaking. Since the formation of the inclined portion or the stepped portion on the glaze layer prior to the achievement of the liquefaction phenomenon is performed by processing, the glass fluidization phenomenon at the time of the above re-firing should be performed uniformly in each longitudinal direction portion. That is what you can do.

【0025】以上の結果、本願発明の薄膜型サーマルプ
リントヘッドにおいて十分な幅方向領域をもって形成さ
れるガラスグレーズ層の基板縁部近傍部位に形成される
緩やかな傾斜表面またはラウンド表面は、基板長手方向
について直線性が高度に確保されることになる。換言す
ると、従前の薄膜型サーマルプリントヘッドにおける部
分グレーズ層のように、その頂部に問題となるうねりが
ほとんど発生しない。
As a result of the above, in the thin-film thermal print head of the present invention, the gently sloping surface or round surface formed in the vicinity of the substrate edge of the glass glaze layer formed with a sufficient widthwise area is the substrate longitudinal direction. A high degree of linearity will be secured. In other words, unlike the partial glaze layer in the conventional thin film thermal printhead, there is almost no problematic waviness at the top.

【0026】したがって、本願発明の薄膜型サーマルプ
リントヘッドを用いることにより、プラスチックカー
ド、あるいは金属等の平滑な硬質表面をもつ対象物に問
題なく印刷を施すことが可能となる。
Therefore, by using the thin film type thermal print head of the present invention, it becomes possible to print on a plastic card or an object having a smooth hard surface such as metal without any problem.

【0027】また、発熱部は、上記ガラスグレーズ層の
基板縁部近傍部に設けたなだらかな傾斜表面またはラウ
ンド表面上に形成されているので、ヘッド全体を上記の
ような平滑表面に対して傾斜させながら、上記発熱部を
都合よく対象表面に接触させることができる。
Further, since the heat generating portion is formed on the gently sloping surface or round surface provided in the vicinity of the substrate edge portion of the glass glaze layer, the entire head is inclined with respect to the smooth surface as described above. While doing so, the heat generating portion can be brought into contact with the target surface conveniently.

【0028】このように、本願発明の薄膜型サーマルプ
リントヘッドによれば、平滑な硬質表面をもつ対象物に
対して、問題なく熱転写方式による印刷を行うことがで
きる。
As described above, according to the thin film type thermal print head of the present invention, it is possible to perform printing by the thermal transfer system on an object having a smooth hard surface without any problem.

【0029】なお、本願発明においては、ガラスグレー
ズ層の容量が大きくなることから、発熱性が低下し、エ
ネルギ効率が低下することが考えられるが、昇華型熱転
写方式によって印刷を行う場合には、そもそも、発熱部
に与えるべきエネルギが十分に大きく、しかも、副走査
方向への送り速度が遅いので、問題なく印刷を行うこと
ができる。
In the present invention, since the capacity of the glass glaze layer is increased, the heat generation property may be decreased and the energy efficiency may be decreased. However, when printing by the sublimation type thermal transfer system, In the first place, since the energy to be applied to the heat generating portion is sufficiently large and the feeding speed in the sub-scanning direction is slow, printing can be performed without any problem.

【0030】[0030]

【実施例の説明】以下、本願発明の好ましい実施例を、
図面を参照しつつ具体的に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The preferred embodiments of the present invention will be described below.
A specific description will be given with reference to the drawings.

【0031】図1に本願発明の薄膜型サーマルプリント
ヘッド10の平面図を、図2および図3に上記サーマル
プリントヘッド10の要部を示す断面図を、図4に発熱
部11の拡大平面図を、それぞれ示す。
FIG. 1 is a plan view of the thin-film thermal print head 10 of the present invention, FIGS. 2 and 3 are sectional views showing the main part of the thermal print head 10, and FIG. 4 is an enlarged plan view of the heat generating portion 11. Are shown respectively.

【0032】所定厚みのアルミニウム板等からなる放熱
板12上に、ヘッド基板13が重ね合わせ固定されてい
る。このヘッド基板13の上面一側縁部近傍には、基板
長手方向に延びる発熱部11が形成されるとともに、他
側部には、上記発熱部11を所定長さごとに区分して構
成される各発熱ドットを独立して駆動するための複数個
の駆動IC14が搭載されている。上記ヘッド基板13
の上記駆動IC搭載部よりもさらに側方には、いわゆる
フレキシブル基板15等の外部接続ケーブルが連結され
ている。
A head substrate 13 is superposed and fixed on a heat dissipation plate 12 made of an aluminum plate or the like having a predetermined thickness. A heat generating portion 11 extending in the longitudinal direction of the substrate is formed in the vicinity of one edge portion of the upper surface of the head substrate 13, and the heat generating portion 11 is divided into predetermined lengths on the other side portion. A plurality of drive ICs 14 for independently driving each heating dot are mounted. The head substrate 13
An external connection cable such as a so-called flexible board 15 is connected to the side of the drive IC mounting portion.

【0033】上記発熱部11は、具体的には、次のよう
にして形成される。図2および図3に示すように、アル
ミナセラミック等の基板13の表面に、ガラスグレーズ
層16が形成される。本願発明におけるこのガラスグレ
ーズ層16は、基板幅方向に十分な領域をもたせてあ
る。後述するように、導体パターン層17は上記ガラス
グレーズ層上にスパッタリング形成されることから、上
記ガラスグレーズ層16は、基板の幅方向全域に設ける
こともできる。
Specifically, the heat generating portion 11 is formed as follows. As shown in FIGS. 2 and 3, a glass glaze layer 16 is formed on the surface of a substrate 13 made of alumina ceramic or the like. The glass glaze layer 16 in the present invention has a sufficient area in the substrate width direction. As will be described later, since the conductor pattern layer 17 is formed on the glass glaze layer by sputtering, the glass glaze layer 16 can be provided over the entire width direction of the substrate.

【0034】図2および図3に表れているように、上記
のガラスグレーズ層16の基板縁部近傍部位には、基板
の縁に向かうほど低位となる緩やかな傾斜表面またはラ
ウンド表面18が形成される。本願発明は、かかる傾斜
表面またはラウンド表面の形成方法にも特徴づけられて
おり、その詳細は後述する。
As shown in FIGS. 2 and 3, a gentle sloped surface or round surface 18 is formed near the substrate edge of the glass glaze layer 16 and becomes lower toward the edge of the substrate. It The present invention is also characterized by the method for forming such an inclined surface or round surface, the details of which will be described later.

【0035】上記ガラスグレーズ層16の基本的な厚み
は、たとえば、70μmとされ、上記緩やかな傾斜表面
またはラウンド表面18が形成される領域の幅方向寸法
は、たとえば、400ないし500μmとされる。
The basic thickness of the glass glaze layer 16 is, for example, 70 μm, and the widthwise dimension of the region where the gently inclined surface or the round surface 18 is formed is, for example, 400 to 500 μm.

【0036】上記ガラスグレーズ層16の表面には、た
とえば、窒化タンタルを材料とする抵抗体層19がスパ
ッタリング等によって薄膜形成される。この抵抗体層1
9の厚みは、たとえば、0.05ないし0.15μmと
される。この発熱抵抗体層19が形成されるべき領域
は、少なくとも、上記傾斜表面あるいはラウンド表面1
8を含むべきであるが、適当な範囲に形成して差し支え
ない。
A resistor layer 19 made of, for example, tantalum nitride is formed as a thin film on the surface of the glass glaze layer 16 by sputtering or the like. This resistor layer 1
The thickness of 9 is, for example, 0.05 to 0.15 μm. The region where the heating resistor layer 19 is to be formed is at least the inclined surface or the round surface 1
8 should be included, but may be formed in an appropriate range.

【0037】さらに、上記抵抗体層19の上には、図4
に示すような平面形態をもつ導体パターン層17が、た
とえば、アルミニウムを材料とするスパッタリングによ
って薄膜形成される。図4において斜線で示す領域が上
記抵抗体層19が臨んで形成される発熱部11としての
帯状領域である。図4に表れているように、この発熱部
としての帯状領域には、スリット20がエッチング等に
よって形成されており、発熱部の幅方向に延びる各帯状
の発熱単位(ドット)11aに分断されている。図4に
おいて、符号17aで示すパターンは、駆動ICにつな
がる駆動パターンであり、符号17bで示すいずれかの
パターンが、コモンパターンである。たとえば、図4の
符号17aで示すいずれかの駆動パターンに通電する
と、電流が図4に矢印で示すように流れ、図4に網線で
示す領域が発熱する。
Further, on the resistor layer 19 shown in FIG.
The conductor pattern layer 17 having a planar shape as shown in (3) is formed into a thin film by sputtering using aluminum as a material, for example. The hatched area in FIG. 4 is a strip-shaped area as the heat generating portion 11 formed facing the resistor layer 19. As shown in FIG. 4, a slit 20 is formed by etching or the like in the strip-shaped region serving as the heat generating portion, and is divided into strip-shaped heat generating units (dots) 11a extending in the width direction of the heat generating portion. There is. In FIG. 4, a pattern 17a is a drive pattern connected to the drive IC, and one of the patterns 17b is a common pattern. For example, when one of the drive patterns indicated by reference numeral 17a in FIG. 4 is energized, a current flows as indicated by an arrow in FIG. 4, and a region indicated by a mesh line in FIG. 4 generates heat.

【0038】なお、上記抵抗体層19、導体パターン層
17、をさらに覆うようにして、ガラスによる保護層2
1がたとえば4ないし5μmの厚みでスパッタリング等
により形成されている。
The protective layer 2 made of glass is provided so as to further cover the resistor layer 19 and the conductor pattern layer 17.
1 has a thickness of 4 to 5 μm and is formed by sputtering or the like.

【0039】ところで、上記したガラスグレーズ層16
の基板縁部近傍における緩やかな傾斜表面あるいはラウ
ンド表面18は、本願発明では、次のようにして形成さ
れる。
By the way, the above-mentioned glass glaze layer 16
The gently sloping surface or round surface 18 in the vicinity of the substrate edge is formed in the following manner in the present invention.

【0040】図5ないし図10は、ガラスグレーズ層1
6の上記傾斜表面あるいはラウンド表面18の形成方法
の第一の実施例を示している。まず、図5に示すよう
に、セラミック基板13の表面に、一定厚みのグレーズ
層16を印刷・焼成により形成する。図5に示すよう
に、このグレーズ層16は、分割線PLによって後の工
程で各単位基板に分割するべき集合基板に対して形成さ
れるのであり、したがって、単位基板についてみれば、
上記グレーズ層16は、その縁部にいたるまで一定厚み
で形成されていることになる。
FIGS. 5 to 10 show the glass glaze layer 1
6 shows a first embodiment of the method for forming the inclined surface or round surface 18 of No. 6 above. First, as shown in FIG. 5, a glaze layer 16 having a constant thickness is formed on the surface of the ceramic substrate 13 by printing and firing. As shown in FIG. 5, the glaze layer 16 is formed on the collective substrate to be divided into each unit substrate in the subsequent step by the dividing line PL. Therefore, regarding the unit substrate,
The glaze layer 16 is formed with a constant thickness up to the edge thereof.

【0041】次に、サンドブラスト法により、グレーズ
層16の表面に、所定幅の溝16aを形成する。これに
は、たとえば、形成するべき溝領域と同様の開口をもつ
マスク板22をグレーズ層表面に密着させ、その上方か
らマスク板22に向けてサンドブラスト処理を行うこと
により、図7に示すように、グレーズ層16の表面にに
溝16aを形成することができる。この溝深さは、たと
えば、50μmとすることができる。溝深さの管理は、
サンドブラストの強さおよび時間を調整することによ
り、比較的容易に行うことができる。
Next, a groove 16a having a predetermined width is formed on the surface of the glaze layer 16 by the sandblast method. For this purpose, for example, a mask plate 22 having an opening similar to the groove region to be formed is brought into close contact with the surface of the glaze layer, and sandblasting is performed from above to the mask plate 22, as shown in FIG. The groove 16a can be formed on the surface of the glaze layer 16. The groove depth can be set to 50 μm, for example. Management of groove depth is
It can be performed relatively easily by adjusting the strength and time of sandblasting.

【0042】次に、上記サンドブラストによって形成さ
れた溝16aの中央部に、たとえばダイシングブレード
23によって材料基板13にいたる細溝24を形成す
る。これにより、グレーズ層16の基板端部領域に、階
段部が精度よく形成される。
Next, in the central portion of the groove 16a formed by the sandblast, a fine groove 24 reaching the material substrate 13 is formed by, for example, a dicing blade 23. As a result, the stairs are accurately formed in the substrate end region of the glaze layer 16.

【0043】次に、図9の状態の材料基板を再焼成す
る。このときの熱によって上記の階段部分が流動化し、
表面張力によって図10に示すような緩やかなラウンド
部18が形成されてこの状態で硬化する。
Next, the material substrate in the state of FIG. 9 is refired. The heat at this time causes the above-mentioned stairs to fluidize,
Due to the surface tension, a gentle rounded portion 18 as shown in FIG. 10 is formed and cured in this state.

【0044】このようにして、基板縁部近傍において緩
やかなラウンド部が形成されたガラスグレーズ層16の
上面に、既に説明したように、抵抗体層19の薄膜形
成、導体パターン層17の薄膜形成、および保護層21
の形成が行われるのである。
As described above, the thin film formation of the resistor layer 19 and the thin film formation of the conductor pattern layer 17 are performed on the upper surface of the glass glaze layer 16 in which the gentle round portion is formed in the vicinity of the edge of the substrate. And the protective layer 21
Is formed.

【0045】そして、発熱部11は、図2に表れている
ように、その幅方向全部が上記ラウンド表面18に位置
するか、または、図3に示すように、その一部が上記ラ
ウンド表面18に位置するようになされる。かかる相違
は、必要により、ラウンド表面のアルミを変更すること
によって達成することができる。
As shown in FIG. 2, the heat generating portion 11 is entirely located on the round surface 18 in the width direction, or as shown in FIG. Is located in. Such a difference can be achieved by changing the aluminum of the round surface, if necessary.

【0046】こうして保護層21の形成までの工程を終
えた材料基板13は、分割線PLによって分割され、個
々の基板となされる。
The material substrate 13 which has undergone the steps up to the formation of the protective layer 21 in this way is divided along the dividing line PL to be an individual substrate.

【0047】上記の傾斜表面またはラウンド表面18の
形成のために行うガラスグレーズ層16に対する加工
は、上記のような階段部を設けるほか、図12に示すよ
うな傾斜部を設けることによってもよい。かかる傾斜部
は、図11に示すように、傾斜状の周面を有するダイシ
ングブレード23aによって切削を行うことにより容易
に形成できる。
The processing for the glass glaze layer 16 for forming the inclined surface or the round surface 18 may be performed by providing the stepped portion as described above and also by providing the inclined portion as shown in FIG. As shown in FIG. 11, such an inclined portion can be easily formed by cutting with a dicing blade 23a having an inclined peripheral surface.

【0048】また、図5ないし図10に示した方法にお
いては、符号16aで示す溝は、サンドブラスト法で行
うほか、所定幅をもつダイシングブレードによる切削に
より形成してもよい。
In the method shown in FIGS. 5 to 10, the groove 16a may be formed by sandblasting or may be formed by cutting with a dicing blade having a predetermined width.

【0049】なお、グレーズ層表面からの溝深さの管理
は、サンドブラスト法による方が容易であり、材料基板
13の厚み、あるいはグレーズ層16の基準厚みにばら
つきが生じうる状況においては、グレーズ層16の表面
からの深さ管理が容易なサンドブラスト法によるのが好
適である。
It is easier to control the groove depth from the surface of the glaze layer by the sandblast method, and in a situation where the thickness of the material substrate 13 or the reference thickness of the glaze layer 16 may vary, the glaze layer It is preferable to use the sand blast method, which makes it easy to control the depth from the surface of 16.

【0050】以上のようにして形成されるガラスグレー
ズ層16の基板縁部近傍に形成された傾斜表面あるいは
ラウンド表面18の高さには、基板長手方向に直線性が
担保されている。換言すると、従前のサーマルプリント
ヘッド1における部分グレーズ層4b見られたようなう
ねりは著しく減じられる。
The height of the inclined surface or round surface 18 formed in the vicinity of the substrate edge of the glass glaze layer 16 formed as described above is guaranteed to be linear in the substrate longitudinal direction. In other words, the waviness as seen in the partial glaze layer 4b in the conventional thermal print head 1 is significantly reduced.

【0051】このことは、従前の部分グレーズ層4bに
うねりが生じた原因に鑑みれば明らかである。従来の技
術の項で既に説明したように、細幅のガラス部分グレー
ズ層をスクリーン印刷ないし焼成によって形成するにあ
たっては、スクリーンによる印刷直後のガラスペースト
のエッジに正確な直線性が確保されず、また、焼成時の
熱によってガラスペーストが流動化させられた際に、基
板に対する濡れ性が各所によって異なることが、上述の
うねりの発生の主たる原因であった。上述した本願発明
による上記ガラスグレーズ層の形成方法においては、上
記の従来例における部分グレーズ層のうねりの原因が、
全く取り除かれているのである。
This is clear in view of the cause of the undulation in the conventional partial glaze layer 4b. As already described in the section of the prior art, in forming the narrow glass partial glaze layer by screen printing or firing, accurate linearity is not ensured at the edge of the glass paste immediately after printing by the screen, and The main cause of the above-mentioned undulation is that the wettability with respect to the substrate varies from place to place when the glass paste is fluidized by heat during firing. In the method for forming the glass glaze layer according to the present invention described above, the cause of the waviness of the partial glaze layer in the above conventional example,
It has been removed altogether.

【0052】すなわち、ガラスグレーズ層16それ自体
が十分な幅方向領域に形成されていることから、発熱部
に対して駆動IC側の側方において、ガラスグレーズ層
が平面的に基板と境界を接することがなく、また、上記
傾斜表面またはラウンド表面18の形成の前段階とし
て、正確な加工によって第一段階の焼成後のグレーズ層
に傾斜面ないしは階段部を形成していることから、かか
る傾斜部または階段部が再焼成時において流動化した場
合においても、かかる流動化は、基板に対する濡れ性に
は全く関係なく長手方向各所において均一に行えること
になり、その結果、発熱部を設けるべき部位に、焼成後
のうねりが生じる原因が全く消失するのである。
That is, since the glass glaze layer 16 itself is formed in a sufficient width direction region, the glass glaze layer planarly contacts the substrate on the side of the driving IC side with respect to the heat generating portion. In addition, since the inclined surface or the step portion is formed in the glaze layer after the first step by accurate processing as a step before the formation of the inclined surface or the round surface 18, the inclined portion is not formed. Or, even if the staircase is fluidized during re-firing, such fluidization can be uniformly performed in various parts in the longitudinal direction regardless of the wettability with respect to the substrate. However, the cause of the undulation after firing completely disappears.

【0053】したがって、本願発明による薄膜型サーマ
ルプリントヘッドによれば、その発熱部を、プラスチッ
ク板あるいは金属板のような硬質の平滑面に対して長手
方向に均一に押しつけることができるのであり、その結
果、従前のこの種の薄膜型サーマルプリントヘッドにお
いては不可能であった、硬質平滑面への熱転写方式によ
る印刷が、初めて可能となったのである。
Therefore, according to the thin-film thermal print head of the present invention, its heat generating portion can be uniformly pressed in the longitudinal direction against a hard smooth surface such as a plastic plate or a metal plate. As a result, for the first time, printing by a thermal transfer method onto a hard smooth surface, which was not possible with the thin film type thermal print head of this type in the past, has become possible.

【0054】図2および図3に示すように、上記発熱部
11は、ガラスグレーズ層16に設けた傾斜表面または
ラウンド表面18に一部または全部が形成されているた
め、印刷対象平滑表面Fに対して図1に示すようにプリ
ントヘッド10を傾斜させることにより、ヘッド基板上
に載るIC14の印刷対象表面Fに対する干渉を都合よ
く回避しながら、上記発熱部11を印刷対象平滑面Fに
接触させることができるのである。なお、図1には図示
を省略してあるが、印刷対象平滑表面Fとプリントヘッ
ド10との間には、インクリボンが介装させられる。
As shown in FIGS. 2 and 3, the heat generating portion 11 is partially or wholly formed on the inclined surface or the round surface 18 provided on the glass glaze layer 16, and therefore, on the smooth surface F to be printed. On the other hand, by tilting the print head 10 as shown in FIG. 1, the heat generating portion 11 is brought into contact with the printing target smooth surface F while conveniently avoiding the interference of the IC 14 mounted on the head substrate with the printing target surface F. It is possible. Although not shown in FIG. 1, an ink ribbon is interposed between the print target smooth surface F and the print head 10.

【0055】このインクリボンとして昇華型のものを採
用し、ヘッドに昇華方式の駆動をかけて印刷を行うこと
が、本願発明の薄膜型サーマルプリントヘッドにおいて
は特に好適である。ガラスグレーズ層16が幅方向に十
分な領域にわたって存在しているがために、発熱部の直
下部の蓄熱性能が低下し、エネルギ効率が低下するきら
いがあるが、昇華型の印字方式にあっては、発熱部11
に十分なエネルギが供給され、かつ、副走査方向への印
字速度が比較的小さいことから、上記ガラスグレーズ層
の蓄熱性能の低さが印字品質に実質的な悪影響を及ぼす
ことがないからである。
It is particularly suitable for the thin film type thermal print head of the present invention to employ a sublimation type ink ribbon as this ink ribbon and drive the head by a sublimation system for printing. Since the glass glaze layer 16 is present over a sufficient area in the width direction, the heat storage performance immediately below the heat generating portion may be deteriorated and the energy efficiency may be deteriorated. However, in the sublimation type printing method. Is the heating unit 11
Is sufficient energy is supplied and the printing speed in the sub-scanning direction is relatively low, so that the low heat storage performance of the glass glaze layer does not substantially affect printing quality. .

【0056】もちろん、本願発明の範囲は、上述した実
施例に限定されるものではない。ガラスグレーズ層1
6、発熱抵抗体層19、導体パターン層17、保護層2
1の厚みは、薄膜型サーマルプリントヘッドの範疇にお
いて常識的な範囲で種々に設定することができる。
Of course, the scope of the present invention is not limited to the above embodiments. Glass glaze layer 1
6, heating resistor layer 19, conductor pattern layer 17, protective layer 2
The thickness of 1 can be variously set within a common sense range in the category of the thin-film thermal print head.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本願発明の薄膜型サーマルプリントヘッドの一
実施例の平面図である。
FIG. 1 is a plan view of an embodiment of a thin film type thermal print head of the present invention.

【図2】図1のサーマルプリントヘッドの要部の断面図
であって、発熱部が緩やかな傾斜面に位置するタイプを
示している。
FIG. 2 is a cross-sectional view of a main part of the thermal print head of FIG. 1, showing a type in which a heat generating part is located on a gently inclined surface.

【図3】図1のサーマルプリントヘッドの要部の断面図
であって、発熱部がラウンド表面に位置するタイプを示
している。
3 is a cross-sectional view of a main part of the thermal print head of FIG. 1, showing a type in which a heat generating part is located on a round surface.

【図4】上記サーマルプリントヘッドにおける発熱部の
拡大平面図である。
FIG. 4 is an enlarged plan view of a heat generating portion in the thermal print head.

【図5】上記サーマルプリントヘッドの形成方法の第一
の実施例であり、セラミック基板の表面にグレーズ層を
形成する工程を示す。
FIG. 5 is a first embodiment of the method for forming the thermal print head, and shows a step of forming a glaze layer on the surface of the ceramic substrate.

【図6】上記サーマルプリントヘッドの形成方法の第一
の実施例であり、図5において形成されたグレーズ層に
対してサンドブラスト処理を行う工程を示す。
FIG. 6 is a first embodiment of the method for forming the thermal print head, and shows a step of performing sandblasting on the glaze layer formed in FIG.

【図7】上記サーマルプリントヘッドの形成方法の第一
の実施例であり、図6のサンドブラスト処理によって形
成された溝を示す。
FIG. 7 is a first embodiment of the method for forming the thermal print head, showing the grooves formed by the sandblasting process of FIG.

【図8】上記サーマルプリントヘッドの形成方法の第一
の実施例であり、図6において形成された溝の中央部に
細溝を形成する工程を示す。
8 is a first embodiment of the method for forming the thermal print head described above, showing a step of forming a fine groove in the center of the groove formed in FIG.

【図9】上記サーマルプリントヘッドの形成方法の第一
の実施例であり、図6および図8の工程によって形成さ
れた溝および細溝によって構成される階段部を示す。
FIG. 9 is a first embodiment of the method for forming the thermal print head described above, showing a step portion formed by the grooves and the narrow grooves formed by the steps of FIGS. 6 and 8.

【図10】上記サーマルプリントヘッドの形成方法の第
一の実施例であり、図9の状態のプリント基板を再焼成
した状態を示す。
10 is a first embodiment of the method for forming the thermal print head, showing a state where the printed circuit board in the state of FIG. 9 is re-fired.

【図11】上記サーマルプリントヘッドの形成方法の第
二の実施例であり、図5のグレーズ層に対して切削加工
による傾斜部を形成する工程を示す。
11 is a second embodiment of the method for forming the thermal print head, showing a step of forming an inclined portion by cutting on the glaze layer of FIG.

【図12】上記サーマルプリントヘッドの形成方法の第
二の実施例であり、図11の切削加工によって形成され
た傾斜部を示す。
FIG. 12 is a second embodiment of the method for forming the thermal print head, showing an inclined portion formed by the cutting process of FIG. 11.

【図13】上記サーマルプリントヘッドの形成方法の第
二の実施例であり、図12の状態のプリント基板を再焼
成した状態を示す。
13 is a second embodiment of the method for forming the thermal print head, showing a state where the printed circuit board in the state of FIG. 12 has been re-fired.

【図14】従来の薄膜型サーマルプリントヘッドの平面
図である。
FIG. 14 is a plan view of a conventional thin film thermal printhead.

【図15】図14のXV−XV線に沿う断面図である。15 is a sectional view taken along line XV-XV in FIG.

【図16】図15において上方から見た大略斜視図であ
る。
16 is a schematic perspective view seen from above in FIG.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板表面に形成されたガラスグレーズ層
と、このガラスグレーズ層の表面に薄膜形成された抵抗
体層と、この抵抗体層上に形成された導体パターン層と
を備え、上記導体パターン層の形態により、上記抵抗体
層のうちの帯状領域を単位長さごとに個別発熱させる発
熱部として機能させるように構成された薄膜型サーマル
プリントヘッドであって、 上記ガラスグレーズ層は、十分な幅方向領域をもって形
成されるとともに、基板縁部近傍部位に、基板の縁に向
かうほど低位となる緩やかな傾斜表面またはラウンド表
面をもつように形成されており、 上記発熱部の幅方向一部または全部は、上記傾斜表面ま
たはラウンド表面上に位置させられていることを特徴と
する、薄膜型サーマルプリントヘッド。
1. A conductor comprising a glass glaze layer formed on the surface of a substrate, a resistor layer formed as a thin film on the surface of the glass glaze layer, and a conductor pattern layer formed on the resistor layer. A thin-film thermal print head configured to function as a heating portion for individually heating the strip-shaped region of the resistor layer for each unit length depending on the form of the pattern layer, wherein the glass glaze layer is sufficiently The heat generating portion is formed so as to have a gentle sloped surface or a rounded surface which becomes lower toward the edge of the board in the vicinity of the board edge. A thin-film thermal print head characterized in that all or all of them are located on the inclined surface or round surface.
【請求項2】 基板表面の縁部から十分な幅方向領域に
ガラスグレーズ層を形成し、 上記ガラスグレーズ層の所定部位に抵抗体層を薄膜形成
し、 上記抵抗体層上に所定の導体パターン層を形成して上記
抵抗体層のうちの帯状領域を単位長さごとに個別発熱さ
せることができる発熱部として形成することを含む薄膜
型サーマルプリントヘッドの製造方法であって、 上記ガラスグレーズ層は、ガラスペーストを用いた印刷
・焼成により、基板の縁部にいたるまで一定厚みに形成
するステップ、この一定厚みのガラスグレーズ層の基板
縁部近傍部位に傾斜部または階段部を加工形成するステ
ップ、この加工形成後、ガラスグレーズ層を再焼成する
ステップ、を経て形成することにより、基板縁部近傍部
位に、基板の縁に向かうほど低位となる緩やかな傾斜表
面またはラウンド表面が形成されるようになし、 上記ガラスグレーズ層の上記傾斜表面またはラウンド表
面上に上記発熱部の幅方向一部または全部を配置するこ
とを特徴とする、薄膜型サーマルプリントヘッドの製造
方法。
2. A glass glaze layer is formed in a sufficient width direction region from an edge portion of a substrate surface, a resistor layer is formed into a thin film at a predetermined portion of the glass glaze layer, and a predetermined conductor pattern is formed on the resistor layer. A method of manufacturing a thin-film thermal printhead, comprising forming a layer to form a strip-shaped region of the resistor layer as a heating unit capable of individually generating heat for each unit length, the glass glaze layer Is a step of forming a constant thickness down to the edge of the substrate by printing and firing using a glass paste, and a step of processing and forming an inclined portion or a step portion in the vicinity of the edge of the glass glaze layer of this constant thickness. After the processing, the glass glaze layer is re-fired, and the glass glaze layer is formed so as to be gradually lowered toward the edge of the substrate in the vicinity of the edge of the substrate. Thin-film thermal printing, characterized in that a wide inclined part or a round surface is formed, and a part or all of the heating portion in the width direction is arranged on the inclined surface or round surface of the glass glaze layer. Head manufacturing method.
【請求項3】 上記傾斜部または階段部を加工形成する
ステップは、回転砥石による切削により行う、請求項2
の方法。
3. The step of processing and forming the inclined portion or the step portion is performed by cutting with a rotary grindstone.
the method of.
【請求項4】 上記階段部を加工形成するステップは、
ブラスト法により行う、請求項2の方法。
4. The step of processing and forming the stepped portion comprises:
The method according to claim 2, which is performed by a blast method.
【請求項5】 請求項2、3または4の方法によって製
造された薄膜型サーマルプリントヘッド。
5. A thin film type thermal print head manufactured by the method according to claim 2, 3 or 4.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2010240876A (en) * 2009-04-01 2010-10-28 Toshiba Hokuto Electronics Corp Thermal print head and method for manufacturing the same
JP2020059223A (en) * 2018-10-11 2020-04-16 ローム株式会社 Thermal print head and manufacturing method thereof
JP2021011021A (en) * 2019-07-03 2021-02-04 ローム株式会社 Thermal print head and method for manufacturing the same

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