JPH04288244A - Thermal head - Google Patents

Thermal head

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Publication number
JPH04288244A
JPH04288244A JP5230891A JP5230891A JPH04288244A JP H04288244 A JPH04288244 A JP H04288244A JP 5230891 A JP5230891 A JP 5230891A JP 5230891 A JP5230891 A JP 5230891A JP H04288244 A JPH04288244 A JP H04288244A
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JP
Japan
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thermal head
substrate
heating resistor
glaze layer
layer
Prior art date
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Application number
JP5230891A
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Japanese (ja)
Inventor
Kyoji Shirakawa
白川 享志
Toshiya Endo
俊哉 遠藤
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Alps Alpine Co Ltd
Original Assignee
Alps Electric Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH04288244A publication Critical patent/JPH04288244A/en
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Abstract

PURPOSE:To provide a thermal head which can perform excellent quality printing by enabling a strike property of a heating element on a platen to be extremely raised even when a thermal response property is raised by thinning a thickness of a glazed layer, and can make life for printing long. CONSTITUTION:A glazed layer 2 is formed on a surface of a substrate 1, and a plurality of heating elements 3 according to a number of dots are arranged on an upper surface of the glazed layer 2. In a thermal head composed by continuously connecting electrodes 4, 5 to be connected to those respective heating elements, said substrate 1 is formed with silicone. Beside, a protruding part 9 is formed to the substrate 1, and said glazed layer 2 is formed on a crest surface of the protruding part 9.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明はサーマルヘッドに係り、
特に、薄く形成され熱応答性を向上させたグレーズ層を
用いた場合であっても、発熱抵抗体とプラテンとの当り
性を向上させることを可能としたサーマルヘッドに関す
る。
[Industrial Application Field] The present invention relates to a thermal head.
In particular, the present invention relates to a thermal head that makes it possible to improve the contact between the heating resistor and the platen even when using a glaze layer that is formed thinly and has improved thermal responsiveness.

【0002】0002

【従来の技術】サーマルプリンタに搭載されるサーマル
ヘッドは、例えば、複数個の発熱抵抗体を同一基板上に
直線的に配列し、所望の印字情報にしたがってこの発熱
抵抗体を通電加熱させて、感熱記録紙に発色記録させる
か、あるいは、インクリボンを介して普通紙に転写記録
するために用いられている。
2. Description of the Related Art A thermal head mounted on a thermal printer has, for example, a plurality of heating resistors arranged linearly on the same substrate, and the heating resistors are heated by energization according to desired printing information. It is used for color recording on thermal recording paper or for transfer recording on plain paper via an ink ribbon.

【0003】図2は従来のサーマルヘッドを示したもの
で、アルミナ等のセラミックからなる絶縁性基板1上に
は、蓄熱層として機能するガラス等からなるグレーズ層
2が形成されており、このグレーズ層2は、その発熱抵
抗体形成予定領域における上面の断面形状が円弧状に形
成されている。このグレーズ層2の上面には、Ta2 
N等からなる発熱抵抗体3が蒸着、スパッタリング等に
より被着された後、エッチングされて、ドットの数に応
じて複数個直線状に整列して形成されており、この発熱
抵抗体3上の一側には、各発熱抵抗体3に接続される共
通電極4が形成されている。また、前記各発熱抵抗体3
の他側には、各発熱抵抗体3に独立して通電を行なう個
別電極5がそれぞれ接続されており、前記共通電極4お
よび個別電極5は、例えば、アルミニウム、銅あるいは
金等からなり、蒸着、スパッタリング等により被着され
た後、エッチングにより所望形状のパターンに形成され
ている。
FIG. 2 shows a conventional thermal head, in which a glaze layer 2 made of glass or the like that functions as a heat storage layer is formed on an insulating substrate 1 made of ceramic such as alumina. The cross-sectional shape of the upper surface of the layer 2 in the area where the heating resistor is to be formed is formed into an arc shape. On the upper surface of this glaze layer 2, Ta2
A heating resistor 3 made of N or the like is deposited by vapor deposition, sputtering, etc., and then etched to form a plurality of dots arranged in a straight line according to the number of dots. A common electrode 4 connected to each heating resistor 3 is formed on one side. In addition, each heating resistor 3
On the other side, individual electrodes 5 are connected to each heating resistor 3 to supply current independently, and the common electrode 4 and the individual electrodes 5 are made of, for example, aluminum, copper, or gold, and are made of vapor-deposited material. After being deposited by sputtering or the like, it is formed into a desired pattern by etching.

【0004】さらに、これら発熱抵抗体3、共通電極4
および個別電極5の表面には、前記発熱抵抗体3および
各電極4,5を保護するほぼ7〜10μmの膜厚の保護
層6が形成されており、この保護層6は、前記各電極4
,5の端子部以外のすべての表面を被覆するようになさ
れている。また、前記保護層6は、発熱抵抗体3を酸化
による劣化から保護するSiO2 等からなるほぼ2μ
mの膜厚の耐酸化層7と、前記耐酸化層7の上面に積層
されインクリボン等の接触による摩耗から発熱抵抗体3
および各電極4,5を保護するTa2 O5 等からな
るほぼ5〜8μmの膜厚の耐摩耗層8とから構成されて
おり、この保護層6の耐酸化層7および耐摩耗層8は、
スパッタリング等の手段により順次形成され、その後、
最終工程において前記絶縁性基板1を分割して所望のサ
ーマルヘッドチップを得るようになっている。
Furthermore, these heating resistors 3 and common electrodes 4
A protective layer 6 having a thickness of approximately 7 to 10 μm is formed on the surface of the individual electrode 5 to protect the heating resistor 3 and each electrode 4, 5.
, 5 except for the terminal portions thereof. The protective layer 6 is made of approximately 2μ of SiO2 or the like and protects the heating resistor 3 from deterioration due to oxidation.
An oxidation-resistant layer 7 with a film thickness of
and a wear-resistant layer 8 of about 5 to 8 μm thick made of Ta2O5 or the like that protects each electrode 4, 5.The oxidation-resistant layer 7 and the wear-resistant layer 8 of this protective layer 6 are
are sequentially formed by means such as sputtering, and then
In the final step, the insulating substrate 1 is divided to obtain desired thermal head chips.

【0005】前記従来のサーマルヘッドにおいては、こ
のサーマルヘッドをインクリボンを介してプラテン部分
に搬送される所定の用紙に圧接させた状態で、所定の印
字信号に基づいて選択された発熱抵抗体3の個別電極5
に通電を行ない、所望の発熱抵抗体3を発熱させること
により、この発熱抵抗体3部分に送られるインクリボン
のインクを溶融して用紙に転写し、用紙上に所望の印字
を行なうようにしている。また、感熱記録紙に対しては
、インクリボンを介さずサーマルヘッドを直接圧接させ
た状態で、所望の印字を行なうことができる。
In the conventional thermal head, the heating resistor 3 is selected based on a predetermined print signal while the thermal head is in pressure contact with a predetermined sheet of paper that is conveyed to the platen portion via an ink ribbon. individual electrode 5
By applying electricity to generate heat in the desired heating resistor 3, the ink of the ink ribbon sent to the heating resistor 3 is melted and transferred onto the paper, and desired printing is performed on the paper. There is. Furthermore, desired printing can be performed on thermal recording paper with the thermal head directly pressed against it without using an ink ribbon.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、前記従来のサ
ーマルヘッドにおいては、グレーズ層2を円弧状に形成
し、その頂部に発熱抵抗体3を配設することにより、プ
ラテンに対する発熱抵抗体3の当り性を高めるようにし
ているものであるが、近年、サーマルヘッドによる印字
速度の高速化が要望されており、このような高速化に伴
って、熱応答速度を高めるため、グレーズ層2の厚さ寸
法を小さく形成して蓄熱量を低減させることが行なわれ
ており、このグレーズ層2の厚さ寸法は、40μmから
30μmさらには20μmへと年々薄く形成されるよう
になってきている。このようにグレーズ層2の厚さ寸法
が薄くなるにしたがって、発熱抵抗体3とプラテンとの
当り性が低下してしまい、その結果、発熱抵抗体3をプ
ラテンに対して集中的に圧接させることが困難で、発熱
抵抗体3の熱伝達も十分でないため、良好な印字品質を
得ることができないという問題があった。
[Problems to be Solved by the Invention] However, in the conventional thermal head, the glaze layer 2 is formed in an arc shape, and the heat generating resistor 3 is disposed on the top of the glaze layer 2, so that the heat generating resistor 3 is not easily attached to the platen. However, in recent years, there has been a demand for higher printing speeds using thermal heads, and with this increase in speed, the thickness of the glaze layer 2 has been increased in order to increase the thermal response speed. The thickness of the glaze layer 2 has been reduced year by year to reduce the amount of heat stored, and the thickness of the glaze layer 2 has been reduced year by year from 40 μm to 30 μm and further to 20 μm. In this way, as the thickness of the glaze layer 2 becomes thinner, the contact between the heat generating resistor 3 and the platen decreases, and as a result, the heat generating resistor 3 is forced into intensive pressure contact with the platen. There was a problem in that good printing quality could not be obtained because the heat transfer through the heating resistor 3 was not sufficient.

【0007】そのため、従来から、高速印字を行なう場
合は、サーマルヘッドの印加電力を高めるとともに、プ
ラテンに対する圧接力を高める必要があり、サーマルヘ
ッドの印字寿命の著しい低下を招いてしまうという問題
を有している。
[0007] Conventionally, therefore, when performing high-speed printing, it has been necessary to increase the applied power to the thermal head and the pressure force against the platen, which has caused the problem of significantly shortening the printing life of the thermal head. are doing.

【0008】本発明はこれらの点に鑑みてなされたもの
であり、グレーズ層の厚さ寸法を薄く形成して熱応答性
を高めた場合でも、発熱抵抗体とプラテンとの当り性を
著しく高めることができ、印字品質の良好な印字を行な
うことができるとともに、印字寿命の長期化を図ること
のできるサーマルヘッドを提供することを目的とするも
のである。
The present invention has been made in view of these points, and even when the thickness of the glaze layer is made thin to improve thermal response, the contact between the heating resistor and the platen can be significantly improved. It is an object of the present invention to provide a thermal head which is capable of printing with good print quality and which can extend the printing life.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
本発明に係るサーマルヘッドは、基板の表面にグレーズ
層を形成し、このグレーズ層の上面にドットの数に応じ
た複数の発熱抵抗体を配設し、これら各発熱抵抗体に接
続される電極を連設してなるサーマルヘッドにおいて、
前記基板をシリコンにより形成するとともに、この基板
に突部を形成し、この突部の頂面に前記グレーズ層を形
成したことを特徴とするものである。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, a thermal head according to the present invention includes a glaze layer formed on the surface of a substrate, and a plurality of heating resistors corresponding to the number of dots on the upper surface of the glaze layer. In the thermal head, which has a series of electrodes connected to each of these heating resistors,
The invention is characterized in that the substrate is made of silicon, a protrusion is formed on the substrate, and the glaze layer is formed on the top surface of the protrusion.

【0010】0010

【作用】本発明によれば、基板に形成された突部により
、グレーズ層の厚さ寸法を薄く形成した場合でも、発熱
抵抗体とプラテンとの当り性を著しく高めることができ
、その結果、発熱抵抗体がプラテンに対して高い圧接力
で圧接されることになり、しかも、発熱抵抗体の発熱熱
量を用紙に良好に伝達することができ、高速印字に対応
して高品位の印字を行なうことができ、しかも、サーマ
ルヘッドの長寿命化を図ることができる。また、基板の
形成材料をシリコンとしているので、耐熱性の高いグレ
ーズ材料を使用することができ、サーマルヘッドの耐熱
限界を著しく向上させることができ、さらに、品質の安
定した極めて良好なグレーズ層を得ることができるもの
である。
[Function] According to the present invention, even when the thickness of the glaze layer is formed to be thin, the contact between the heating resistor and the platen can be significantly improved by the protrusions formed on the substrate. The heating resistor is pressed against the platen with a high contact force, and the amount of heat generated by the heating resistor can be transferred well to the paper, making it possible to perform high-quality printing in response to high-speed printing. Moreover, the life of the thermal head can be extended. In addition, since the substrate is made of silicon, it is possible to use a glaze material with high heat resistance, which significantly improves the heat resistance limit of the thermal head. It is something that can be obtained.

【0011】[0011]

【実施例】以下、本発明の実施例を図1を参照して説明
する。
[Embodiment] An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG.

【0012】図1は本発明に係るサーマルヘッドの一実
施例を示したもので、単結晶シリコンからなる基板1の
上面には、断面形状ほぼ台形状を有し高さが約30μm
の突部9が形成されており、この突部9は、例えば、前
記シリコン基板1上にフォトレジストマスクを形成した
後、フォトリソ技術によりシリコンをエッチングして形
成されるものである。この場合に、前記基板材料のシリ
コンは、加工性が極めて良好であるため、前記突部9を
容易に形成することができる。
FIG. 1 shows an embodiment of the thermal head according to the present invention, in which the upper surface of a substrate 1 made of single crystal silicon has a substantially trapezoidal cross-sectional shape and a height of approximately 30 μm.
A protrusion 9 is formed, and the protrusion 9 is formed, for example, by forming a photoresist mask on the silicon substrate 1 and then etching the silicon by photolithography. In this case, since silicon, which is the substrate material, has extremely good workability, the protrusion 9 can be easily formed.

【0013】また、前記基板1の突部9の頂面には、ガ
ラスからなるグレーズペーストを塗布、焼成することに
より、厚さ約20μmのグレーズ層2が形成されており
、このグレーズ層2の頂部は、フォトリソ技術により断
面形状ほぼ台形状に形成されている。また、前記基板1
の表面は、前記グレーズ層2の焼成工程により、SiO
2 の酸化膜が形成されて絶縁性を有することになり、
さらに、前記基板1およびグレーズ層2の上面側には、
スパッタリングあるいはCVD等の手段により、耐エッ
チング性を有する絶縁層10が形成されている。
Furthermore, a glaze layer 2 with a thickness of about 20 μm is formed on the top surface of the protrusion 9 of the substrate 1 by applying a glaze paste made of glass and baking it. The top portion is formed into a substantially trapezoidal cross-sectional shape by photolithography. Further, the substrate 1
The surface of the glaze layer 2 is SiO
2 oxide film is formed and has insulating properties,
Further, on the upper surface side of the substrate 1 and the glaze layer 2,
An etching-resistant insulating layer 10 is formed by sputtering, CVD, or the like.

【0014】また、前記絶縁層10の上面には、Ta2
 NあるいはTa−SiO2 等からなる発熱抵抗体3
およびこの発熱抵抗体3の上面側に形成されアルミニウ
ム等からなる共通電極4および個別電極5がそれぞれス
パッタリング等の手段により形成されており、このスパ
ッタリングの後、フォトリソ技術により前記発熱抵抗体
3、共通電極4および個別電極5をそれぞれエッチング
することにより、前記グレーズ層2の頂面にドットの数
に応じた複数の発熱抵抗体3が形成されるとともに、こ
の発熱抵抗体3にそれぞれ接続される所定のパターンの
共通電極4および個別電極5が形成されるようになされ
ている。
Further, on the upper surface of the insulating layer 10, Ta2
Heat generating resistor 3 made of N or Ta-SiO2, etc.
A common electrode 4 and an individual electrode 5 made of aluminum or the like are formed on the upper surface of the heating resistor 3 by means such as sputtering, and after this sputtering, the heating resistor 3 and the common electrode 5 are formed by photolithography. By etching the electrodes 4 and the individual electrodes 5, a plurality of heat generating resistors 3 corresponding to the number of dots are formed on the top surface of the glaze layer 2, and predetermined heat generating resistors 3 are respectively connected to the heat generating resistors 3. The common electrode 4 and the individual electrodes 5 are formed in such a pattern as shown in FIG.

【0015】さらに、これら発熱抵抗体3および各電極
4,5の表面には、高硬度で薄膜形成が容易なサイアロ
ン等からなる保護層6が約5μmの膜厚に被覆形成され
ている。
Furthermore, the surfaces of the heating resistor 3 and each of the electrodes 4 and 5 are coated with a protective layer 6 having a thickness of about 5 μm and made of sialon or the like which has high hardness and can be easily formed into a thin film.

【0016】次に、本実施例の作用について説明する。Next, the operation of this embodiment will be explained.

【0017】本実施例においては、前記サーマルヘッド
をインクリボンを介してプラテン部分に搬送される所定
の用紙に圧接させた状態で、所定の印字信号に基づいて
選択された発熱抵抗体3の個別電極5に通電を行ない、
所望の発熱抵抗体3を発熱させることにより、この発熱
抵抗体3部分に送られるインクリボンのインクを溶融し
て用紙に転写し、用紙上に所望の印字を行なうようにし
ている。また、感熱記録紙に対しては、インクリボンを
介さずサーマルヘッドを直接圧接させた状態で、所望の
印字を行なうことができる。
In this embodiment, with the thermal head in pressure contact with a predetermined sheet of paper conveyed to the platen portion via an ink ribbon, individual heating resistors 3 selected based on a predetermined print signal are printed. energize the electrode 5,
By generating heat in a desired heating resistor 3, the ink of the ink ribbon sent to the heating resistor 3 is melted and transferred onto the paper, thereby performing desired printing on the paper. Furthermore, desired printing can be performed on thermal recording paper with the thermal head directly pressed against it without using an ink ribbon.

【0018】このとき、本実施例においては、前記基板
1に突部9を形成しているので、熱応答速度を高めるた
めグレーズ層2の厚さ寸法を薄く形成した場合でも、グ
レーズ層2の頂面に形成された発熱抵抗体3とプラテン
との当り性を十分に確保することができる。
At this time, in this embodiment, since the protrusions 9 are formed on the substrate 1, even when the thickness of the glaze layer 2 is formed to be thin in order to increase the thermal response speed, the thickness of the glaze layer 2 is reduced. Sufficient contact between the heating resistor 3 formed on the top surface and the platen can be ensured.

【0019】したがって、本実施例においては、前記基
板1に形成された突部9により、グレーズ層2の厚さ寸
法を薄く形成した場合でも、発熱抵抗体3とプラテンと
の当り性を著しく高めることができ、その結果、発熱抵
抗体3がプラテンに対して高い圧接力で圧接されること
になり、しかも、発熱抵抗体3の発熱熱量を用紙に良好
に伝達することができるので、適正に高速印字に対応す
ることができ、高品位の印字を行なうことができる。さ
らに、サーマルヘッドの圧接力を高める必要がなく、し
かも、発熱抵抗体3への印加電力を高める必要がないの
で、サーマルヘッドの長寿命化を図ることができる。
Therefore, in this embodiment, the protrusions 9 formed on the substrate 1 significantly improve the contact between the heating resistor 3 and the platen even when the thickness of the glaze layer 2 is made thin. As a result, the heating resistor 3 is pressed against the platen with a high pressure contact force, and the amount of heat generated by the heating resistor 3 can be transferred to the paper properly. It can handle high-speed printing and can perform high-quality printing. Furthermore, since there is no need to increase the pressure contact force of the thermal head, and furthermore, there is no need to increase the power applied to the heating resistor 3, the life of the thermal head can be extended.

【0020】また、従来は、基板材料としてアルミナを
用いていたので、グレーズ材料としてガラス転移点で7
50℃以上の耐熱性を有する材料を使用することができ
なかったが、本実施例においては、基板1の形成材料を
シリコンとしているので、その熱膨張係数がアルミナの
1/2となり、SiO2 の成分を多くした耐熱性の高
いグレーズ材料を使用することができ、サーマルヘッド
の耐熱限界を著しく向上させることが可能となる。
[0020] Conventionally, alumina has been used as a substrate material, so as a glaze material, it has a glass transition point of 7.
Although it was not possible to use a material that has heat resistance of 50°C or higher, in this example, the material for forming the substrate 1 is silicon, so its thermal expansion coefficient is 1/2 that of alumina, and it is similar to that of SiO2. It is possible to use a highly heat-resistant glaze material with a large number of components, and it is possible to significantly improve the heat resistance limit of the thermal head.

【0021】さらに、従来のアルミナ材料からなる基板
においては、アルミナ中の不純物が多いため、グレーズ
材料と反応して気泡や失透を生じやすく、薄膜のグレー
ズ層を安定して形成することができないという問題があ
ったが、シリコン基板1は、板厚の精度が高く平滑で不
純物が極めて少なく、しかも、グレーズ層2の主成分の
SiO2 との相性がよいため、グレーズ層2を薄く形
成した場合でも、グレーズの失透が発生せず、品質の安
定した極めて良好なグレーズ面を得ることができる。例
えば、グレーズ層2の幅が0.2mmであっても、直接
描画装置を用いることにより、直線性に優れたものを形
成することができ、より熱容量の小さいグレーズ層2を
得ることができる。また、シリコンは、アルミナよりも
熱伝導率が約5倍程度大きいので、放熱性にも優れ、高
速印字に極めて有効となる。
Furthermore, in conventional substrates made of alumina materials, since there are many impurities in the alumina, they tend to react with the glaze material and cause bubbles and devitrification, making it impossible to stably form a thin glaze layer. However, since the silicon substrate 1 has a high precision in thickness, is smooth, has extremely few impurities, and has good compatibility with SiO2, the main component of the glaze layer 2, when the glaze layer 2 is formed thinly. However, devitrification of the glaze does not occur, and an extremely good glazed surface with stable quality can be obtained. For example, even if the width of the glaze layer 2 is 0.2 mm, by using a direct drawing device, it is possible to form a layer with excellent linearity, and a glaze layer 2 with a smaller heat capacity can be obtained. Furthermore, since silicon has a thermal conductivity about five times higher than that of alumina, it has excellent heat dissipation properties and is extremely effective for high-speed printing.

【0022】なお、前記基板1の突部9は、例えば、ダ
イヤモンドブレードを用いて研削することにより形成す
るようにしてもよく、この場合、大きな段差を有する突
部9を形成する際の研削を能率的に行なうことができ、
特に、ラインヘッドのように長尺で発熱抵抗体が直線状
に並列配置されているものについては、駆動素子の発熱
抵抗体に対する相対的な高さを低く配置する場合に有効
である。
Note that the protrusion 9 of the substrate 1 may be formed by, for example, grinding using a diamond blade. In this case, the grinding when forming the protrusion 9 having a large step may be performed. can be done efficiently,
In particular, for a line head in which long heating resistors are arranged in parallel in a straight line, this is effective when the relative height of the drive element to the heating resistor is set low.

【0023】なお、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、必要に応じて種々変更することができるも
のである。
It should be noted that the present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, but can be modified in various ways as necessary.

【0024】[0024]

【発明の効果】以上述べたように本発明に係るサーマル
ヘッドは、基板に形成された突部により、グレーズ層の
厚さ寸法を薄く形成した場合でも、発熱抵抗体とプラテ
ンとの当り性を著しく高めることができ、高速印字に対
応して高品位の印字を行なうことができ、さらに、サー
マルヘッドの長寿命化を図ることができる。また、基板
の形成材料をシリコンとしているので、耐熱性の高いグ
レーズ材料を使用することができ、サーマルヘッドの耐
熱限界を著しく向上させることができ、さらに、品質の
安定した極めて良好なグレーズ層を形成することができ
る等の効果を奏する。
As described above, in the thermal head according to the present invention, even when the thickness of the glaze layer is made thin, the contact between the heating resistor and the platen can be improved by the protrusion formed on the substrate. In addition, it is possible to perform high-quality printing corresponding to high-speed printing, and furthermore, it is possible to extend the life of the thermal head. In addition, since the substrate is made of silicon, it is possible to use a glaze material with high heat resistance, which significantly improves the heat resistance limit of the thermal head. It has the advantage that it can be formed.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】本発明の一実施例を示す一部の縦断面図FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a portion showing an embodiment of the present invention.

【図2
】従来のサーマルヘッドを示す一部の縦断面図
[Figure 2
] Partial vertical cross-sectional view showing a conventional thermal head

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1  基板 2  グレーズ層 3  発熱抵抗体 4  共通電極 5  個別電極 6  保護層 9  突部 10  絶縁層 1 Board 2 Glaze layer 3 Heating resistor 4 Common electrode 5 Individual electrodes 6 Protective layer 9 Protrusion 10 Insulating layer

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  基板の表面にグレーズ層を形成し、こ
のグレーズ層の上面にドットの数に応じた複数の発熱抵
抗体を配設し、これら各発熱抵抗体に接続される電極を
連設してなるサーマルヘッドにおいて、前記基板をシリ
コンにより形成するとともに、この基板に突部を形成し
、この突部の頂面に前記グレーズ層を形成したことを特
徴とするサーマルヘッド。
Claim 1: A glaze layer is formed on the surface of a substrate, a plurality of heat generating resistors are arranged on the upper surface of this glaze layer according to the number of dots, and electrodes are connected to each of these heat generating resistors in series. 1. A thermal head characterized in that the substrate is made of silicon, a protrusion is formed on the substrate, and the glaze layer is formed on the top surface of the protrusion.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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