JPH07167075A - 回転式圧縮機における容量可変機構 - Google Patents
回転式圧縮機における容量可変機構Info
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- JPH07167075A JPH07167075A JP31861193A JP31861193A JPH07167075A JP H07167075 A JPH07167075 A JP H07167075A JP 31861193 A JP31861193 A JP 31861193A JP 31861193 A JP31861193 A JP 31861193A JP H07167075 A JPH07167075 A JP H07167075A
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- chamber
- bypass
- pressure
- diaphragm
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-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04C—ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; ROTARY-PISTON, OR OSCILLATING-PISTON, POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
- F04C28/00—Control of, monitoring of, or safety arrangements for, pumps or pumping installations specially adapted for elastic fluids
- F04C28/10—Control of, monitoring of, or safety arrangements for, pumps or pumping installations specially adapted for elastic fluids characterised by changing the positions of the inlet or outlet openings with respect to the working chamber
- F04C28/16—Control of, monitoring of, or safety arrangements for, pumps or pumping installations specially adapted for elastic fluids characterised by changing the positions of the inlet or outlet openings with respect to the working chamber using lift valves
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- General Engineering & Computer Science (AREA)
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- Applications Or Details Of Rotary Compressors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】回転式圧縮機における容量可変機構の構成を簡
素化する。 【構成】固定スクロール部材１のスクロール基板１ａ内
にはバイパス室２０が形成されており、バイパス室２０
内にはダイヤフラム２１が収容されている。ダイヤフラ
ム２１はバイパス室２０を制御圧室２０ａとバイパス通
路２０ｂとに区画する。ダイヤフラム２１の弾性体内に
は剛性平板２１ａがインサートされている。吐出室３ａ
には制御圧室３０ａの圧力を制御する圧力レギュレータ
２３が収容されている。スクロール基板１ａにはバイパ
ス入口１ｅ1 ，１ｅ2 ，１ｆ1 ，１ｆ2 及び戻り口１ｄ
がバイパス室２０に接続するように形成されている。
素化する。 【構成】固定スクロール部材１のスクロール基板１ａ内
にはバイパス室２０が形成されており、バイパス室２０
内にはダイヤフラム２１が収容されている。ダイヤフラ
ム２１はバイパス室２０を制御圧室２０ａとバイパス通
路２０ｂとに区画する。ダイヤフラム２１の弾性体内に
は剛性平板２１ａがインサートされている。吐出室３ａ
には制御圧室３０ａの圧力を制御する圧力レギュレータ
２３が収容されている。スクロール基板１ａにはバイパ
ス入口１ｅ1 ，１ｅ2 ，１ｆ1 ，１ｆ2 及び戻り口１ｄ
がバイパス室２０に接続するように形成されている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、自転不能に公転する可
動スクロール部材の渦巻壁と固定スクロール部材の渦巻
壁との間に可動スクロール部材の公転に基づいて容積減
少する密閉空間を分割形成するスクロール型圧縮機、あ
るいはシリンダ内に回転可能に収容されたロータの周面
とシリンダ内周面との間に複数枚のベーンによって容積
減少する密閉空間を分割形成するベーン圧縮機といった
回転式圧縮機における容量可変機構に関するものであ
る。
動スクロール部材の渦巻壁と固定スクロール部材の渦巻
壁との間に可動スクロール部材の公転に基づいて容積減
少する密閉空間を分割形成するスクロール型圧縮機、あ
るいはシリンダ内に回転可能に収容されたロータの周面
とシリンダ内周面との間に複数枚のベーンによって容積
減少する密閉空間を分割形成するベーン圧縮機といった
回転式圧縮機における容量可変機構に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】回転式圧縮機における容量可変機構の従
来例が特開昭６４−１０６９９０号公報、特開平２−４
９９９４号公報に開示されている。
来例が特開昭６４−１０６９９０号公報、特開平２−４
９９９４号公報に開示されている。
【０００３】特開昭６４−１０６９９０号公報の従来例
では、可動スクロール部材の渦巻壁と固定スクロール部
材の渦巻壁との間に分割形成される密閉空間の容積減少
途上領域にバイパス孔を開口形成し、このバイパス孔を
アンローダピストンによって開閉して容量制御を行なう
ようになっている。アンローダピストンがバイパス孔を
開放している状態では前記容積減少途上領域にある密閉
空間が吸入圧領域に連通し、アンローダピストンがバイ
パス孔を閉鎖している状態では前記容積減少途上領域と
吸入圧領域との連通が遮断される。
では、可動スクロール部材の渦巻壁と固定スクロール部
材の渦巻壁との間に分割形成される密閉空間の容積減少
途上領域にバイパス孔を開口形成し、このバイパス孔を
アンローダピストンによって開閉して容量制御を行なう
ようになっている。アンローダピストンがバイパス孔を
開放している状態では前記容積減少途上領域にある密閉
空間が吸入圧領域に連通し、アンローダピストンがバイ
パス孔を閉鎖している状態では前記容積減少途上領域と
吸入圧領域との連通が遮断される。
【０００４】特開平２−４９９９４号公報の従来例で
は、可動スクロール部材の渦巻壁と固定スクロール部材
の渦巻壁との間に分割形成される密閉空間の容積減少途
上領域にバイパス孔を開口形成し、このバイパス孔と吸
入圧領域とを接続するピストン孔内のピストンのスライ
ド変位によってバイパス孔を開閉するようになってい
る。ピストン内にはバイハス通路が形成されており、バ
イパス通路の入口がピストンの周面に開口形成されてい
る。バイパス通路の入口がバイパス孔に対向すると容積
減少途上領域にある密閉空間が吸入圧領域に連通し、バ
イパス通路の入口がバイパス孔に対向しない状態では容
積減少途上領域にある密閉空間と吸入圧領域との連通が
遮断される。
は、可動スクロール部材の渦巻壁と固定スクロール部材
の渦巻壁との間に分割形成される密閉空間の容積減少途
上領域にバイパス孔を開口形成し、このバイパス孔と吸
入圧領域とを接続するピストン孔内のピストンのスライ
ド変位によってバイパス孔を開閉するようになってい
る。ピストン内にはバイハス通路が形成されており、バ
イパス通路の入口がピストンの周面に開口形成されてい
る。バイパス通路の入口がバイパス孔に対向すると容積
減少途上領域にある密閉空間が吸入圧領域に連通し、バ
イパス通路の入口がバイパス孔に対向しない状態では容
積減少途上領域にある密閉空間と吸入圧領域との連通が
遮断される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】スクロール型圧縮機で
は１８０°回転対称位置に同一容量かつ同一圧力の密閉
空間が対称に存在し、圧力が１８０°回転対称位置でバ
ランスしている。このような圧力バランスを保つため、
特開昭６４−１０６９９０号公報及び特開平２−４９９
９４号公報の従来例では、バイパス通路を２系統として
前記バイパス孔を１８０°回転対称位置に形成し、各バ
イパス孔を開閉するために一対のアンローダピストンが
使用される。このようなアンローダピストンの複数個使
用は構成の複雑化をもたらすと共に、コスト的に不利で
ある。
は１８０°回転対称位置に同一容量かつ同一圧力の密閉
空間が対称に存在し、圧力が１８０°回転対称位置でバ
ランスしている。このような圧力バランスを保つため、
特開昭６４−１０６９９０号公報及び特開平２−４９９
９４号公報の従来例では、バイパス通路を２系統として
前記バイパス孔を１８０°回転対称位置に形成し、各バ
イパス孔を開閉するために一対のアンローダピストンが
使用される。このようなアンローダピストンの複数個使
用は構成の複雑化をもたらすと共に、コスト的に不利で
ある。
【０００６】又、ピストンスライド方式ではピストンの
前後圧力を制御してピストンをスライドさせるが、ピス
トン周面での圧力洩れが許されないため、ピストン径、
ピストン孔径、円周面度、周面粗度に高い加工精度が要
求される。
前後圧力を制御してピストンをスライドさせるが、ピス
トン周面での圧力洩れが許されないため、ピストン径、
ピストン孔径、円周面度、周面粗度に高い加工精度が要
求される。
【０００７】本発明は、構成の簡素化及びコストの有利
性をもたらしつつシール性向上のための高精度加工を不
要とする回転式圧縮機における容量可変機構を提供する
ことを目的とする。
性をもたらしつつシール性向上のための高精度加工を不
要とする回転式圧縮機における容量可変機構を提供する
ことを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】そのために本発明では、
容積減少途上にある密閉空間の容積減少途上領域にバイ
パス入口を開口形成すると共に、吸入圧領域とバイパス
入口とをバイパス室で接続し、バイパス室に受圧変位体
を収容してバイパス室をバイパス通路と制御圧室とに区
画し、制御圧室の圧力切換によってバイパス入口を受圧
変位体で開閉切換するようにした。
容積減少途上にある密閉空間の容積減少途上領域にバイ
パス入口を開口形成すると共に、吸入圧領域とバイパス
入口とをバイパス室で接続し、バイパス室に受圧変位体
を収容してバイパス室をバイパス通路と制御圧室とに区
画し、制御圧室の圧力切換によってバイパス入口を受圧
変位体で開閉切換するようにした。
【０００９】
【作用】制御圧室の圧力は圧力導入及び制御圧室からの
放圧により切り換えられる。圧力導入状態では受圧変位
体がバイパス入口を閉鎖する位置に配置され、放圧状態
では受圧変位体がバイパス入口を開放する位置に配置さ
れる。
放圧により切り換えられる。圧力導入状態では受圧変位
体がバイパス入口を閉鎖する位置に配置され、放圧状態
では受圧変位体がバイパス入口を開放する位置に配置さ
れる。
【００１０】弾性体製の受圧変位体でバイパス孔を閉鎖
した場合のシール性は高く、シール性を考慮した高精度
加工が不要となる。弾性体製の受圧変位体内に剛性平板
をインサートした構成、あるいは弾性体製の受圧変位体
の制御圧室側の受圧面上に剛性平板を取り付けた構成で
は、バイパス入口が受圧変位体によって閉鎖されたとき
のバイパス入口に作用する密閉空間内の圧力に対して剛
性平板に作用する全背圧が対抗する。
した場合のシール性は高く、シール性を考慮した高精度
加工が不要となる。弾性体製の受圧変位体内に剛性平板
をインサートした構成、あるいは弾性体製の受圧変位体
の制御圧室側の受圧面上に剛性平板を取り付けた構成で
は、バイパス入口が受圧変位体によって閉鎖されたとき
のバイパス入口に作用する密閉空間内の圧力に対して剛
性平板に作用する全背圧が対抗する。
【００１１】
【実施例】以下、本発明をスクロール型圧縮機に具体化
した一実施例を図１〜図４に基づいて説明する。
した一実施例を図１〜図４に基づいて説明する。
【００１２】図１に示すように、ハウジングを兼ねるア
ルミニウム合金製の固定スクロール部材１にはアルミニ
ウム合金製のフロントハウジング２及びリヤハウジング
３が接合固定されている。４，５はハウジング内を気密
保持するためのシールリングである。フロントハウジン
グ２内には回転軸６がベアリング７を介して回転可能に
支持されている。８はシャフトシールである。
ルミニウム合金製の固定スクロール部材１にはアルミニ
ウム合金製のフロントハウジング２及びリヤハウジング
３が接合固定されている。４，５はハウジング内を気密
保持するためのシールリングである。フロントハウジン
グ２内には回転軸６がベアリング７を介して回転可能に
支持されている。８はシャフトシールである。
【００１３】回転軸６の端部には駆動突起６ａが一体形
成されている。駆動突起６ａにはブッシュ１０が支持さ
れており、ブッシュ１０にはバランスウェイト９が一体
形成されている。ブッシュ１０には可動スクロール部材
１１が固定スクロール部材１と対向接合するようにベア
リング１２を介して回転可能に支持されている。ブッシ
ュ１０の中心軸線は回転軸６の中心軸線に対して偏心し
ており、両スクロール部材１，１１のスクロール基板１
ａ，１１ａ及び渦巻壁１ｂ，１１ｂが密閉空間Ｓを形成
する。可動スクロール部材１１は回転軸６の回転に伴っ
て公転し、密閉空間Ｓが渦巻壁１ｂ，１１ｂの内終端部
間に向けて収束してゆく。バランスウェイト９は可動ス
クロール部材１１の公転運動に伴う遠心力を相殺する。
成されている。駆動突起６ａにはブッシュ１０が支持さ
れており、ブッシュ１０にはバランスウェイト９が一体
形成されている。ブッシュ１０には可動スクロール部材
１１が固定スクロール部材１と対向接合するようにベア
リング１２を介して回転可能に支持されている。ブッシ
ュ１０の中心軸線は回転軸６の中心軸線に対して偏心し
ており、両スクロール部材１，１１のスクロール基板１
ａ，１１ａ及び渦巻壁１ｂ，１１ｂが密閉空間Ｓを形成
する。可動スクロール部材１１は回転軸６の回転に伴っ
て公転し、密閉空間Ｓが渦巻壁１ｂ，１１ｂの内終端部
間に向けて収束してゆく。バランスウェイト９は可動ス
クロール部材１１の公転運動に伴う遠心力を相殺する。
【００１４】可動スクロール部材１１のスクロール基板
１１ａとフロントハウジング２の受圧壁２ａと間にはア
ルミニウム合金製の旋回リング１３及び摩耗防止用の鉄
製のプレート１４が介在されている。旋回リング１３の
両面には複数の受圧突部１３ａ，１３ｂが周方向に配列
形成されている。受圧突部１３ａと受圧突部１３ｂとは
背向して配置されている。受圧突部１３ａはプレート１
４に接し、受圧突部１３ｂは可動スクロール１１のスク
ロール基板１１ａの背面に接する。受圧突部１３ｂに接
するスクロール基板１１ａの背面には摩耗防止用のニッ
ケル−ボロンメッキが施されている。
１１ａとフロントハウジング２の受圧壁２ａと間にはア
ルミニウム合金製の旋回リング１３及び摩耗防止用の鉄
製のプレート１４が介在されている。旋回リング１３の
両面には複数の受圧突部１３ａ，１３ｂが周方向に配列
形成されている。受圧突部１３ａと受圧突部１３ｂとは
背向して配置されている。受圧突部１３ａはプレート１
４に接し、受圧突部１３ｂは可動スクロール１１のスク
ロール基板１１ａの背面に接する。受圧突部１３ｂに接
するスクロール基板１１ａの背面には摩耗防止用のニッ
ケル−ボロンメッキが施されている。
【００１５】背向する受圧突部１３ａ，１３ｂの複数対
（３対以上）には円柱形状の鉄製の自転阻止ピン１５が
回転可能に貫通支持されている。自転阻止ピン１５は旋
回リング１３の周方向に等間隔に配列されており、自転
阻止ピン１５の両端は受圧突部１３ａ，１３ｂの先端面
から突出している。
（３対以上）には円柱形状の鉄製の自転阻止ピン１５が
回転可能に貫通支持されている。自転阻止ピン１５は旋
回リング１３の周方向に等間隔に配列されており、自転
阻止ピン１５の両端は受圧突部１３ａ，１３ｂの先端面
から突出している。
【００１６】受圧壁２ａには自転阻止ピン１５と同数の
自転阻止孔２ｂが周方向に配列されている。スクロール
基板１１ａには自転阻止ピン１５と同数の自転阻止孔１
１ｃが周方向に配列されている。自転阻止孔２ｂ，１１
ｃはいずれも等間隔角度位置に配置されている。自転阻
止孔２ｂ，１１ｃには摩耗防止用の銅製のスリーブ１
６，１７が嵌入固定されている。自転阻止孔２ｂ，１１
ｃには自転阻止ピン１５の端部が自転阻止孔２ｂ，１１
ｃの底面から離間するように挿入されている。
自転阻止孔２ｂが周方向に配列されている。スクロール
基板１１ａには自転阻止ピン１５と同数の自転阻止孔１
１ｃが周方向に配列されている。自転阻止孔２ｂ，１１
ｃはいずれも等間隔角度位置に配置されている。自転阻
止孔２ｂ，１１ｃには摩耗防止用の銅製のスリーブ１
６，１７が嵌入固定されている。自転阻止孔２ｂ，１１
ｃには自転阻止ピン１５の端部が自転阻止孔２ｂ，１１
ｃの底面から離間するように挿入されている。
【００１７】回転軸６の回転に伴って可動スクロール部
材１１が回転軸６の回りを公転し、ハウジング上の図示
しない入口から吸入室Ｋ1 ，Ｋ2 へ導入された冷媒ガス
が両スクロール部材１，１１間の密閉空間Ｓ1 ，Ｓ2 へ
流入する。密閉空間Ｓ0 ，Ｓ 1 ，Ｓ2 は可動スクロール
部材１１の公転に伴って容積減少しつつ両スクロール
１，１１の渦巻壁１ｂ，１１ｂの内終端部間に向けて収
束して行く。密閉空間Ｓ 0 の容積減少によって圧縮され
た冷媒ガスはスクロール基板１ａ上の吐出ポート１ｃか
ら吐出弁１８を押し退けてリヤハウジング３内の吐出室
３ａへ吐出される。吐出弁１８の開度はリテーナ１９に
よって規制される。可動スクロール１１のスクロール基
板１１ａに作用する密閉空間Ｓ0 ，Ｓ1 ，Ｓ2 内の圧縮
反力は受圧突部１３ａ，１３ｂ及びプレート１４を介し
て受圧壁２ａで受け止められる。
材１１が回転軸６の回りを公転し、ハウジング上の図示
しない入口から吸入室Ｋ1 ，Ｋ2 へ導入された冷媒ガス
が両スクロール部材１，１１間の密閉空間Ｓ1 ，Ｓ2 へ
流入する。密閉空間Ｓ0 ，Ｓ 1 ，Ｓ2 は可動スクロール
部材１１の公転に伴って容積減少しつつ両スクロール
１，１１の渦巻壁１ｂ，１１ｂの内終端部間に向けて収
束して行く。密閉空間Ｓ 0 の容積減少によって圧縮され
た冷媒ガスはスクロール基板１ａ上の吐出ポート１ｃか
ら吐出弁１８を押し退けてリヤハウジング３内の吐出室
３ａへ吐出される。吐出弁１８の開度はリテーナ１９に
よって規制される。可動スクロール１１のスクロール基
板１１ａに作用する密閉空間Ｓ0 ，Ｓ1 ，Ｓ2 内の圧縮
反力は受圧突部１３ａ，１３ｂ及びプレート１４を介し
て受圧壁２ａで受け止められる。
【００１８】可動スクロール部材１１の公転に伴い、自
転阻止ピン１５がスリーブ１６，１７の内周面間に挟み
こまれながら転動し、旋回リング１３は公転中心側から
可動スクロール１１の公転位置側へ付勢される。スリー
ブ１６，１７の内径をＤ、自転阻止ピン１５の径をｄと
した場合、（Ｄ−ｄ）はブッシュ１０の公転半径ｒに等
しい。従って、スリーブ１６，１７の内径Ｄ、自転阻止
ピン１５の径ｄ、ブッシュ１０の公転半径（即ち、可動
スクロール部材１１の公転半径）ｒの間にはＤ＝ｄ＋ｒ
の関係が設定されている。この関係によって可動スクロ
ール１１の公転半径がｒに規定される。旋回リング１３
は可動スクロール１１の公転半径ｒの１／２の半径で公
転する。
転阻止ピン１５がスリーブ１６，１７の内周面間に挟み
こまれながら転動し、旋回リング１３は公転中心側から
可動スクロール１１の公転位置側へ付勢される。スリー
ブ１６，１７の内径をＤ、自転阻止ピン１５の径をｄと
した場合、（Ｄ−ｄ）はブッシュ１０の公転半径ｒに等
しい。従って、スリーブ１６，１７の内径Ｄ、自転阻止
ピン１５の径ｄ、ブッシュ１０の公転半径（即ち、可動
スクロール部材１１の公転半径）ｒの間にはＤ＝ｄ＋ｒ
の関係が設定されている。この関係によって可動スクロ
ール１１の公転半径がｒに規定される。旋回リング１３
は可動スクロール１１の公転半径ｒの１／２の半径で公
転する。
【００１９】旋回リング１３は自転しようとする。しか
し、３本以上の自転阻止ピン１５が受圧壁２ａ側に固定
配置されたスリーブ１６の内周面に接しているため、旋
回リング１３が自転することはない。
し、３本以上の自転阻止ピン１５が受圧壁２ａ側に固定
配置されたスリーブ１６の内周面に接しているため、旋
回リング１３が自転することはない。
【００２０】可動スクロール部材１１はブッシュ１０の
中心軸線の周りで自転しようとする。しかし、スクロー
ル基板１１ａ側のスリーブ１７の内周面が自転しない旋
回リング１３上の３本以上の自転阻止ピン１５に接して
いるため、可動スクロール部材１１がブッシュ１０の中
心軸線の周りに自転することはない。
中心軸線の周りで自転しようとする。しかし、スクロー
ル基板１１ａ側のスリーブ１７の内周面が自転しない旋
回リング１３上の３本以上の自転阻止ピン１５に接して
いるため、可動スクロール部材１１がブッシュ１０の中
心軸線の周りに自転することはない。
【００２１】図１及び図２に示すように固定スクロール
部材１のスクロール基板１ａ内には半円形状のバイパス
室２０が形成されており、バイパス室２０内には受圧変
位体となるダイヤフラム２１が収容されている。バイパ
ス室２０はダイヤフラム２１の縁部を介してスクロール
基板１ａに接合されるプレート２２により蓋をされてい
る。ダイヤフラム２１はバイパス室２０を制御圧室２０
ａとバイパス通路２０ｂとに区画する。ダイヤフラム２
１はゴム等の弾性体と、弾性体内にインサートされた剛
性平板２１ａとからなる。
部材１のスクロール基板１ａ内には半円形状のバイパス
室２０が形成されており、バイパス室２０内には受圧変
位体となるダイヤフラム２１が収容されている。バイパ
ス室２０はダイヤフラム２１の縁部を介してスクロール
基板１ａに接合されるプレート２２により蓋をされてい
る。ダイヤフラム２１はバイパス室２０を制御圧室２０
ａとバイパス通路２０ｂとに区画する。ダイヤフラム２
１はゴム等の弾性体と、弾性体内にインサートされた剛
性平板２１ａとからなる。
【００２２】吐出室３ａ内には圧力レギュレータ２３が
収容されている。圧力レギュレータ２３は、吐出室３ａ
内の吐出冷媒ガスをプレート２２上の制御ポート２２ａ
から制御圧室２０ａに供給するＯＮ状態と、制御圧室２
０ａ内の圧力を制御ポート２２ａからバイパス通路２０
ｂへ放圧するＯＦＦ状態とに切換制御される。
収容されている。圧力レギュレータ２３は、吐出室３ａ
内の吐出冷媒ガスをプレート２２上の制御ポート２２ａ
から制御圧室２０ａに供給するＯＮ状態と、制御圧室２
０ａ内の圧力を制御ポート２２ａからバイパス通路２０
ｂへ放圧するＯＦＦ状態とに切換制御される。
【００２３】図２及び図３に示すようにスクロール基板
１ａの吸入室Ｋ1 側の端面下部には戻り口１ｄがバイパ
ス室２０に連通するように形成されている。戻り口１ｄ
は固定スクロール部材１の外周側の吸入室Ｋ1 とバイパ
ス室２０とを連通する。
１ａの吸入室Ｋ1 側の端面下部には戻り口１ｄがバイパ
ス室２０に連通するように形成されている。戻り口１ｄ
は固定スクロール部材１の外周側の吸入室Ｋ1 とバイパ
ス室２０とを連通する。
【００２４】図１及び図３に示すように容積減少途上領
域にある密閉空間Ｓ1 ，Ｓ2 側のスクロール基板１ａの
端面にはバイパス入口１ｅ1 ，１ｅ2 ，１ｆ1 ，１ｆ2
がバイパス室２０に連通するように形成されている。
域にある密閉空間Ｓ1 ，Ｓ2 側のスクロール基板１ａの
端面にはバイパス入口１ｅ1 ，１ｅ2 ，１ｆ1 ，１ｆ2
がバイパス室２０に連通するように形成されている。
【００２５】圧力レギュレータ２３がＯＮ状態にあると
きにはダイヤフラム２１が図１に示す位置に弾性変位す
る。ダイヤフラム２１が図１に示す位置に弾性変位した
状態ではバイパス入口１ｅ1 ，１ｅ2 ，１ｆ1 ，１ｆ2
がダイヤフラム２１によって閉鎖され、密閉空間Ｓ1 ，
Ｓ2 とバイパス通路２０ｂとの連通が遮断される。従っ
て、圧縮機は１００％容量の吐出作用を行なう。
きにはダイヤフラム２１が図１に示す位置に弾性変位す
る。ダイヤフラム２１が図１に示す位置に弾性変位した
状態ではバイパス入口１ｅ1 ，１ｅ2 ，１ｆ1 ，１ｆ2
がダイヤフラム２１によって閉鎖され、密閉空間Ｓ1 ，
Ｓ2 とバイパス通路２０ｂとの連通が遮断される。従っ
て、圧縮機は１００％容量の吐出作用を行なう。
【００２６】圧力レギュレータ２３がＯＦＦ状態にある
ときにはダイヤフラム２１が図４に示す位置に弾性変位
する。ダイヤフラム２１が図４に示す位置に弾性変位し
た状態ではバイパス入口１ｅ1 ，１ｅ2 ，１ｆ1 ，１ｆ
2 がダイヤフラム２１の閉鎖作用から解放され、密閉空
間Ｓ1 ，Ｓ2 とバイパス通路２０ｂとがバイパス入口１
ｅ1 ，１ｅ2 ，１ｆ1 ，１ｆ2 を介して連通する。従っ
て、バイパス入口１ｅ 1 ，１ｅ2 ，１ｆ1 ，１ｆ2 に接
続する密閉空間Ｓ1 ，Ｓ2 内の冷媒ガスがバイパス通路
２０ｂ及び戻り口１ｄを介して吸入室Ｋ1 に還流し、圧
縮機は１００％容量に満たない吐出作用を行なう。
ときにはダイヤフラム２１が図４に示す位置に弾性変位
する。ダイヤフラム２１が図４に示す位置に弾性変位し
た状態ではバイパス入口１ｅ1 ，１ｅ2 ，１ｆ1 ，１ｆ
2 がダイヤフラム２１の閉鎖作用から解放され、密閉空
間Ｓ1 ，Ｓ2 とバイパス通路２０ｂとがバイパス入口１
ｅ1 ，１ｅ2 ，１ｆ1 ，１ｆ2 を介して連通する。従っ
て、バイパス入口１ｅ 1 ，１ｅ2 ，１ｆ1 ，１ｆ2 に接
続する密閉空間Ｓ1 ，Ｓ2 内の冷媒ガスがバイパス通路
２０ｂ及び戻り口１ｄを介して吸入室Ｋ1 に還流し、圧
縮機は１００％容量に満たない吐出作用を行なう。
【００２７】従来のピストンのスライド切換による可変
容量制御ではバイパス入口の理想的な設置位置の追求の
ために一対のピストンが用いられ、構成が複雑になると
共に、コスト的にも不利となる。スクロール基板１ａに
対するダイヤフラム２１の接合領域がスクロール基板１
ａの略半分をカバーする本実施例では、バイパス入口１
ｅ1 ，１ｅ2 ，１ｆ1 ，１ｆ2 の設置位置及び個数の設
定自由度が極めて高い。従って、単一のダイヤフラム２
１によって所望の可変容量制御ができ、構成が簡素化す
ると共に、コスト的にも有利になる。
容量制御ではバイパス入口の理想的な設置位置の追求の
ために一対のピストンが用いられ、構成が複雑になると
共に、コスト的にも不利となる。スクロール基板１ａに
対するダイヤフラム２１の接合領域がスクロール基板１
ａの略半分をカバーする本実施例では、バイパス入口１
ｅ1 ，１ｅ2 ，１ｆ1 ，１ｆ2 の設置位置及び個数の設
定自由度が極めて高い。従って、単一のダイヤフラム２
１によって所望の可変容量制御ができ、構成が簡素化す
ると共に、コスト的にも有利になる。
【００２８】従来のピストンスライド方式ではピストン
の前後圧力を制御してピストンをスライドさせるが、ピ
ストン周面での圧力洩れが許されないため、ピストン
径、ピストン孔径、円周面度、周面粗度に高い加工精度
が要求される。しかし、本実施例では圧力レギュレータ
２３のＯＮ状態ではダイヤフラム２１の弾性体部がスク
ロール基板１ａに接合してバイパス入口１ｅ1 ，１
ｅ2 ，１ｆ1 ，１ｆ2 を閉鎖するが、弾性変形するダイ
ヤフラム２１の弾性体部のシール性は高い。従って、シ
ール性を高めるための特別な高精度加工は不要である。
の前後圧力を制御してピストンをスライドさせるが、ピ
ストン周面での圧力洩れが許されないため、ピストン
径、ピストン孔径、円周面度、周面粗度に高い加工精度
が要求される。しかし、本実施例では圧力レギュレータ
２３のＯＮ状態ではダイヤフラム２１の弾性体部がスク
ロール基板１ａに接合してバイパス入口１ｅ1 ，１
ｅ2 ，１ｆ1 ，１ｆ2 を閉鎖するが、弾性変形するダイ
ヤフラム２１の弾性体部のシール性は高い。従って、シ
ール性を高めるための特別な高精度加工は不要である。
【００２９】本実施例ではダイヤフラム２１の弾性体内
に剛性平板２１ａがインサートされており、バイパス通
路２０ｂ側から剛性平板２１ａの１点に作用する荷重に
対しては制御圧室２０ａ側から剛性平板２１ａ全体に作
用する圧力が対抗する。従って、バイパス入口１ｅ1 ，
１ｅ2 ，１ｆ1 ，１ｆ2 側からの圧力によってダイヤフ
ラム２１がバイパス入口１ｅ1 ，１ｅ2 ，１ｆ1 ，１ｆ
2 を閉鎖する位置から浮き上がることはなく、高いシー
ル性が得られる。
に剛性平板２１ａがインサートされており、バイパス通
路２０ｂ側から剛性平板２１ａの１点に作用する荷重に
対しては制御圧室２０ａ側から剛性平板２１ａ全体に作
用する圧力が対抗する。従って、バイパス入口１ｅ1 ，
１ｅ2 ，１ｆ1 ，１ｆ2 側からの圧力によってダイヤフ
ラム２１がバイパス入口１ｅ1 ，１ｅ2 ，１ｆ1 ，１ｆ
2 を閉鎖する位置から浮き上がることはなく、高いシー
ル性が得られる。
【００３０】又、圧縮機の起動時には液圧縮が生じるこ
とがある。しかし、起動時には吐出圧が高くなっていな
いので、圧力レギュレータ２３がＯＮ状態にあっても制
御圧室２０ａ内の圧力は低い。従って、液圧縮時の高圧
の液冷媒はバイパス入口１ｅ 1 ，１ｅ2 ，１ｆ1 ，１ｆ
2 からダイヤフラム２１を押し退けてバイパス通路２０
ｂへ流出できる。従って、起動時に液圧縮が行われるよ
うな場合にも、液冷媒がバイパス入口１ｅ1 ，１ｅ2 ，
１ｆ1 ，１ｆ2 から逃げ、異常高圧に起因する異常音、
渦巻壁の折損、焼き付き、吐出弁の破損、電磁クラッチ
の摩擦面の滑りが防止される。
とがある。しかし、起動時には吐出圧が高くなっていな
いので、圧力レギュレータ２３がＯＮ状態にあっても制
御圧室２０ａ内の圧力は低い。従って、液圧縮時の高圧
の液冷媒はバイパス入口１ｅ 1 ，１ｅ2 ，１ｆ1 ，１ｆ
2 からダイヤフラム２１を押し退けてバイパス通路２０
ｂへ流出できる。従って、起動時に液圧縮が行われるよ
うな場合にも、液冷媒がバイパス入口１ｅ1 ，１ｅ2 ，
１ｆ1 ，１ｆ2 から逃げ、異常高圧に起因する異常音、
渦巻壁の折損、焼き付き、吐出弁の破損、電磁クラッチ
の摩擦面の滑りが防止される。
【００３１】本発明は勿論前記実施例にのみ限定される
ものではなく、例えば図５に示すようにダイヤフラム２
１の制御圧室２０ａ側の受圧面上に剛性平板２１ａを止
着してもよい。このような取り付け構成においても前記
実施例と同様の高いシール性が得られる。
ものではなく、例えば図５に示すようにダイヤフラム２
１の制御圧室２０ａ側の受圧面上に剛性平板２１ａを止
着してもよい。このような取り付け構成においても前記
実施例と同様の高いシール性が得られる。
【００３２】図６に示すようにダイヤフラム２１のバイ
パス入口１ｅ1 ，１ｅ2 ，１ｆ1 ，１ｆ2 に対向する部
位を他部位よりも突出したシール突部２１ｂを形成した
実施例も可能である。このようにすれば制御圧室２０ａ
側で剛性平板２１ａに作用する全圧力がシール突部２１
ｂ上に集中し、バイパス入口１ｅ1 ，１ｅ2 ，１ｆ1，
１ｆ2 閉鎖時のシール性が一層高くなる。
パス入口１ｅ1 ，１ｅ2 ，１ｆ1 ，１ｆ2 に対向する部
位を他部位よりも突出したシール突部２１ｂを形成した
実施例も可能である。このようにすれば制御圧室２０ａ
側で剛性平板２１ａに作用する全圧力がシール突部２１
ｂ上に集中し、バイパス入口１ｅ1 ，１ｅ2 ，１ｆ1，
１ｆ2 閉鎖時のシール性が一層高くなる。
【００３３】又、図７に示すように吐出ポート１ｃ付近
を除くスクロール基板１ａの略全面に接合するダイヤフ
ラム２４を用いることもできる。スクロール基板１ａに
接合する範囲が広ければバイパス入口の設置位置及び個
数の自由度が一層高くなり、理想的な容量可変制御の追
求が容易になる。
を除くスクロール基板１ａの略全面に接合するダイヤフ
ラム２４を用いることもできる。スクロール基板１ａに
接合する範囲が広ければバイパス入口の設置位置及び個
数の自由度が一層高くなり、理想的な容量可変制御の追
求が容易になる。
【００３４】さらに、図８に示すような受圧変位体２５
によってバイパス室２０を制御圧室２０ａとバイパス通
路２０ｂとに区画する実施例も可能である。受圧変位体
２５は、剛性平板２５ａと、ベローズ２５ｂと、剛性平
板２５上に止着された弾性体２５ｃとからなる。弾性体
２５ｃはバイパス入口１ｅ1 ，１ｅ2 ，１ｆ1 ，１ｆ 2
に対向している。圧力レギュレータ２３がＯＮ状態のと
きに弾性体２５ｃがバイパス入口１ｅ1 ，１ｅ2 ，１ｆ
1 ，１ｆ2 を閉鎖する。この実施例では図６の実施例と
同様の作用効果が得られる。
によってバイパス室２０を制御圧室２０ａとバイパス通
路２０ｂとに区画する実施例も可能である。受圧変位体
２５は、剛性平板２５ａと、ベローズ２５ｂと、剛性平
板２５上に止着された弾性体２５ｃとからなる。弾性体
２５ｃはバイパス入口１ｅ1 ，１ｅ2 ，１ｆ1 ，１ｆ 2
に対向している。圧力レギュレータ２３がＯＮ状態のと
きに弾性体２５ｃがバイパス入口１ｅ1 ，１ｅ2 ，１ｆ
1 ，１ｆ2 を閉鎖する。この実施例では図６の実施例と
同様の作用効果が得られる。
【００３５】さらに本発明は図９及び図１０に示すよう
にベーン圧縮機にも適用できる。前後一対のハウジング
２６，２７内に収容固定されたシリンダ２８の前後両端
にはサイドプレート２９，３０が密着接合されている。
第１０図に示すようにシリンダ２８内の略楕円柱状の室
内には円柱状のロータ３１が回転可能に支持されてい
る。ロータ３１の周面には複数の溝３２が半径方向に形
成されており、各溝３２にはベーン３３が前後両サイド
プレート２９，３０に密接して略半径方向へ摺動可能に
嵌入支持されている。
にベーン圧縮機にも適用できる。前後一対のハウジング
２６，２７内に収容固定されたシリンダ２８の前後両端
にはサイドプレート２９，３０が密着接合されている。
第１０図に示すようにシリンダ２８内の略楕円柱状の室
内には円柱状のロータ３１が回転可能に支持されてい
る。ロータ３１の周面には複数の溝３２が半径方向に形
成されており、各溝３２にはベーン３３が前後両サイド
プレート２９，３０に密接して略半径方向へ摺動可能に
嵌入支持されている。
【００３６】図９に示すようにリヤハウジング２７とリ
ヤサイドプレート３０との間にはオイル分離室３４が形
成されており、オイル分離室３４の下部にはオイルが貯
留されるようになっている。オイルプール部には溝３２
がリヤサイドプレート３０内の供給通路３０ａを介して
連通しており、貯留オイルが溝３２の底部へ供給される
ようになっている。これにより各ベーン３３はロータ３
１の回転に伴う遠心力及び溝３２の底部の油圧によりシ
リンダ２８の略楕円形状の内周面に当接可能であり、シ
リンダ室が複数枚のベーン３２により複数の密閉空間Ｓ
ａ，Ｓｂに区画形成される。
ヤサイドプレート３０との間にはオイル分離室３４が形
成されており、オイル分離室３４の下部にはオイルが貯
留されるようになっている。オイルプール部には溝３２
がリヤサイドプレート３０内の供給通路３０ａを介して
連通しており、貯留オイルが溝３２の底部へ供給される
ようになっている。これにより各ベーン３３はロータ３
１の回転に伴う遠心力及び溝３２の底部の油圧によりシ
リンダ２８の略楕円形状の内周面に当接可能であり、シ
リンダ室が複数枚のベーン３２により複数の密閉空間Ｓ
ａ，Ｓｂに区画形成される。
【００３７】図９及び図１０に示すようにシリンダ２８
上の吸入通路３５，３６が吸入口３７，３８を介してシ
リンダ室に連通しており、吐出室２８ａ，２８ｂが吐出
口３９，４０を介してシリンダ室に連通している。吐出
口３９，４０は吐出弁４１，４２により開放可能に閉塞
されており、両吐出室２８ａ，２８ｂはリヤサイドプレ
ート３０に貫設された吐出通路３０ｂ，３０ｃを介して
オイル分離室３４に接続している。従って、フロントハ
ウジング２６とフロントサイドプレート２９との間の吸
入室２６ａへ導入された冷媒ガスはフロントサイドプレ
ート２９上の吸入通路２９ａ，２９ｂ及び吸入通路３
５，３６を介してシリンダ室へ導入され、次いで吐出口
３９，４０から吐出弁４１，４２を押し退けて吐出室２
８ａ，２８ｂへ吐出された冷媒ガスが吐出通路３０ｂ，
３０ｃを介してオイル分離室３４へ吐出される。
上の吸入通路３５，３６が吸入口３７，３８を介してシ
リンダ室に連通しており、吐出室２８ａ，２８ｂが吐出
口３９，４０を介してシリンダ室に連通している。吐出
口３９，４０は吐出弁４１，４２により開放可能に閉塞
されており、両吐出室２８ａ，２８ｂはリヤサイドプレ
ート３０に貫設された吐出通路３０ｂ，３０ｃを介して
オイル分離室３４に接続している。従って、フロントハ
ウジング２６とフロントサイドプレート２９との間の吸
入室２６ａへ導入された冷媒ガスはフロントサイドプレ
ート２９上の吸入通路２９ａ，２９ｂ及び吸入通路３
５，３６を介してシリンダ室へ導入され、次いで吐出口
３９，４０から吐出弁４１，４２を押し退けて吐出室２
８ａ，２８ｂへ吐出された冷媒ガスが吐出通路３０ｂ，
３０ｃを介してオイル分離室３４へ吐出される。
【００３８】図９に示すようにリヤサイドプレート３０
内にはバイパス室４３が形成されており、バイパス室４
３にはダイヤフラム４４が収容されている。バイパス室
４３はプレート４５により蓋をされている。ダイヤフラ
ム４４はバイパス室４３を制御圧室４３ａとバイパス通
路４３ｂとに区画する。ダイヤフラム４４はゴム等の弾
性体と、弾性体内にインサートされた剛性平板４４ａと
からなる。
内にはバイパス室４３が形成されており、バイパス室４
３にはダイヤフラム４４が収容されている。バイパス室
４３はプレート４５により蓋をされている。ダイヤフラ
ム４４はバイパス室４３を制御圧室４３ａとバイパス通
路４３ｂとに区画する。ダイヤフラム４４はゴム等の弾
性体と、弾性体内にインサートされた剛性平板４４ａと
からなる。
【００３９】オイル分離室３４内には圧力レギュレータ
４７が収容されている。圧力レギュレータ４７は、オイ
ル分離室３４内の吐出冷媒ガスをプレート４５上の制御
ポート４５ａから制御圧室４３ａに供給するＯＮ状態
と、制御圧室４３ａ内の圧力を制御ポート４５ａからバ
イパス通路４３ｂへ放圧するＯＦＦ状態とに切換制御さ
れる。
４７が収容されている。圧力レギュレータ４７は、オイ
ル分離室３４内の吐出冷媒ガスをプレート４５上の制御
ポート４５ａから制御圧室４３ａに供給するＯＮ状態
と、制御圧室４３ａ内の圧力を制御ポート４５ａからバ
イパス通路４３ｂへ放圧するＯＦＦ状態とに切換制御さ
れる。
【００４０】バイパス通路４４ａは戻り通路４６を介し
て吸入室２６ａに連通している。図１０に示すようにリ
ヤサイドプレート３０には一対のバイパス入口３０
ｄ1 ，３０ｄ2 が密閉空間Ｓａ，Ｓｂの容積減少途上領
域とバイパス室４３とを接続するように形成されてい
る。圧力レギュレータ４７がＯＮ状態のときには図９に
示すようにバイパス入口３０ｄ1 ，３０ｄ2 がダイヤフ
ラム４４により閉鎖され、密閉空間Ｓａ，Ｓｂとバイパ
ス通路４４ａとの連通が遮断される。この状態では圧縮
機は１００％に満たない容量の吐出作用を行なう。
て吸入室２６ａに連通している。図１０に示すようにリ
ヤサイドプレート３０には一対のバイパス入口３０
ｄ1 ，３０ｄ2 が密閉空間Ｓａ，Ｓｂの容積減少途上領
域とバイパス室４３とを接続するように形成されてい
る。圧力レギュレータ４７がＯＮ状態のときには図９に
示すようにバイパス入口３０ｄ1 ，３０ｄ2 がダイヤフ
ラム４４により閉鎖され、密閉空間Ｓａ，Ｓｂとバイパ
ス通路４４ａとの連通が遮断される。この状態では圧縮
機は１００％に満たない容量の吐出作用を行なう。
【００４１】圧力レギュレータ４７がＯＦＦ状態のとき
にはダイヤフラム４４がバイパス入口３０ｄ1 ，３０ｄ
2 を閉鎖する位置から離れ、密閉空間Ｓａ，Ｓｂとバイ
パス通路４４ａとが連通する。従って、密閉空間Ｓａ，
Ｓｂ内の冷媒ガスが吸入室２６ａに還流し、圧縮機は１
００％容量の吐出作用を行なう。
にはダイヤフラム４４がバイパス入口３０ｄ1 ，３０ｄ
2 を閉鎖する位置から離れ、密閉空間Ｓａ，Ｓｂとバイ
パス通路４４ａとが連通する。従って、密閉空間Ｓａ，
Ｓｂ内の冷媒ガスが吸入室２６ａに還流し、圧縮機は１
００％容量の吐出作用を行なう。
【００４２】
【発明の効果】以上詳述したように本発明は、バイパス
室に受圧変位体を収容してバイパス室をバイパス通路と
制御圧室とに区画し、制御圧室の圧力切換によってバイ
パス入口を受圧変位体で開閉切換するようにしたので、
構成の簡素化及びコストの有利性をもたらしつつシール
性向上のための高精度加工を不要とする優れた効果を奏
する。
室に受圧変位体を収容してバイパス室をバイパス通路と
制御圧室とに区画し、制御圧室の圧力切換によってバイ
パス入口を受圧変位体で開閉切換するようにしたので、
構成の簡素化及びコストの有利性をもたらしつつシール
性向上のための高精度加工を不要とする優れた効果を奏
する。
【図１】 本発明を具体化した一実施例の圧縮機全体の
側断面図である。
側断面図である。
【図２】 図１のＡ−Ａ線断面図である。
【図３】 図１のＢ−Ｂ線断面図である。
【図４】 小容量状態を示す側縦断面図である。
【図５】 ダイヤフラムの別例を示す要部断面図であ
る。
る。
【図６】 ダイヤフラムの別例を示す要部断面図であ
る。
る。
【図７】 ダイヤフラムの別例を示す要部断面図であ
る。
る。
【図８】 受圧変位体の別例を示す要部断面図である。
【図９】 別例を示す圧縮機全体の側断面図である。
【図１０】図９のＣ−Ｃ線断面図である。
１…固定スクロール部材 １ａ…スクロール基板、１ｅ
1 ，１ｅ2 ，１ｆ1 ，１ｆ2 …バイパス入口、２０…バ
イパス室、２０ａ…制御圧室、２０ｂ…バイパス通路、
２１…受圧変位体となるダイヤフラム、２１ａ…剛性平
板、Ｓ1 ，Ｓ2…密閉空間。
1 ，１ｅ2 ，１ｆ1 ，１ｆ2 …バイパス入口、２０…バ
イパス室、２０ａ…制御圧室、２０ｂ…バイパス通路、
２１…受圧変位体となるダイヤフラム、２１ａ…剛性平
板、Ｓ1 ，Ｓ2…密閉空間。
【手続補正書】
【提出日】平成６年８月２日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１３
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１３】回転軸６の端部には駆動突起６ａが一体形
成されている。駆動突起６ａにはブッシュ１０が支持さ
れており、ブッシュ１０にはバランスウェイト９が止着
されている。ブッシュ１０には可動スクロール部材１１
が固定スクロール部材１と対向接合するようにベアリン
グ１２を介して回転可能に支持されている。ブッシュ１
０の中心軸線は回転軸６の中心軸線に対して偏心してお
り、両スクロール部材１，１１のスクロール基板１ａ，
１１ａ及び渦巻壁１ｂ，１１ｂが密閉空間Ｓを形成す
る。可動スクロール部材１１は回転軸６の回転に伴って
公転し、密閉空間Ｓが渦巻壁１ｂ，１１ｂの内終端部間
に向けて収束してゆく。バランスウェイト９は可動スク
ロール部材１１の公転運動に伴う遠心力を相殺する。
成されている。駆動突起６ａにはブッシュ１０が支持さ
れており、ブッシュ１０にはバランスウェイト９が止着
されている。ブッシュ１０には可動スクロール部材１１
が固定スクロール部材１と対向接合するようにベアリン
グ１２を介して回転可能に支持されている。ブッシュ１
０の中心軸線は回転軸６の中心軸線に対して偏心してお
り、両スクロール部材１，１１のスクロール基板１ａ，
１１ａ及び渦巻壁１ｂ，１１ｂが密閉空間Ｓを形成す
る。可動スクロール部材１１は回転軸６の回転に伴って
公転し、密閉空間Ｓが渦巻壁１ｂ，１１ｂの内終端部間
に向けて収束してゆく。バランスウェイト９は可動スク
ロール部材１１の公転運動に伴う遠心力を相殺する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３６】図９に示すようにリヤハウジング２７とリ
ヤサイドプレート３０との間にはオイル分離室３４が形
成されており、オイル分離室３４の下部にはオイルが貯
留されるようになっている。オイルプール部には溝３２
がリヤサイドプレート３０内の供給通路３０ａを介して
連通しており、貯留オイルが溝３２の底部へ供給される
ようになっている。これにより各ベーン３３はロータ３
１の回転に伴う遠心力及び溝３２の底部の油圧によりシ
リンダ２８の略楕円形状の内周面に当接可能であり、シ
リンダ室が複数枚のベーン３３により複数の密閉空間Ｓ
ａ，Ｓｂに区画形成される。
ヤサイドプレート３０との間にはオイル分離室３４が形
成されており、オイル分離室３４の下部にはオイルが貯
留されるようになっている。オイルプール部には溝３２
がリヤサイドプレート３０内の供給通路３０ａを介して
連通しており、貯留オイルが溝３２の底部へ供給される
ようになっている。これにより各ベーン３３はロータ３
１の回転に伴う遠心力及び溝３２の底部の油圧によりシ
リンダ２８の略楕円形状の内周面に当接可能であり、シ
リンダ室が複数枚のベーン３３により複数の密閉空間Ｓ
ａ，Ｓｂに区画形成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３７
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３７】図９及び図１０に示すようにシリンダ２８
上の吸入通路３５，３６が吸入口３７，３８を介してシ
リンダ室に連通しており、吐出室２８ａ，２８ｂが吐出
口３９，４０を介してシリンダ室に連通している。吐出
口３９，４０は吐出弁４１，４２により開閉され、両吐
出室２８ａ，２８ｂはリヤサイドプレート３０に貫設さ
れた吐出通路３０ｂ，３０ｃを介してオイル分離室３４
に接続している。従って、フロントハウジング２６とフ
ロントサイドプレート２９との間の吸入室２６ａへ導入
された冷媒ガスはフロントサイドプレート２９上の吸入
通路２９ａ及び吸入通路３５，３６を介してシリンダ室
へ導入され、次いで吐出口３９，４０から吐出弁４１，
４２を押し退けて吐出室２８ａ，２８ｂへ吐出された冷
媒ガスが吐出通路３０ｂ，３０ｃを介してオイル分離室
３４へ吐出される。
上の吸入通路３５，３６が吸入口３７，３８を介してシ
リンダ室に連通しており、吐出室２８ａ，２８ｂが吐出
口３９，４０を介してシリンダ室に連通している。吐出
口３９，４０は吐出弁４１，４２により開閉され、両吐
出室２８ａ，２８ｂはリヤサイドプレート３０に貫設さ
れた吐出通路３０ｂ，３０ｃを介してオイル分離室３４
に接続している。従って、フロントハウジング２６とフ
ロントサイドプレート２９との間の吸入室２６ａへ導入
された冷媒ガスはフロントサイドプレート２９上の吸入
通路２９ａ及び吸入通路３５，３６を介してシリンダ室
へ導入され、次いで吐出口３９，４０から吐出弁４１，
４２を押し退けて吐出室２８ａ，２８ｂへ吐出された冷
媒ガスが吐出通路３０ｂ，３０ｃを介してオイル分離室
３４へ吐出される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４０】バイパス通路４３ｂは戻り通路４６を介し
て吸入室２６ａに連通している。図１０に示すようにリ
ヤサイドプレート３０には一対のバイパス入口３０
ｄ1 ，３０ｄ2 が密閉空間Ｓａ，Ｓｂの容積減少途上領
域とバイパス室４３とを接続するように形成されてい
る。圧力レギュレータ４７がＯＮ状態のときにはバイパ
ス入口３０ｄ1 ，３０ｄ2 がダイヤフラム４４により閉
鎖され、密閉空間Ｓａ，Ｓｂとバイパス通路４３ｂとの
連通が遮断される。この状態では圧縮機は１００％容量
の吐出作用を行なう。
て吸入室２６ａに連通している。図１０に示すようにリ
ヤサイドプレート３０には一対のバイパス入口３０
ｄ1 ，３０ｄ2 が密閉空間Ｓａ，Ｓｂの容積減少途上領
域とバイパス室４３とを接続するように形成されてい
る。圧力レギュレータ４７がＯＮ状態のときにはバイパ
ス入口３０ｄ1 ，３０ｄ2 がダイヤフラム４４により閉
鎖され、密閉空間Ｓａ，Ｓｂとバイパス通路４３ｂとの
連通が遮断される。この状態では圧縮機は１００％容量
の吐出作用を行なう。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４１】圧力レギュレータ４７がＯＦＦ状態のとき
には図９に示すようにダイヤフラム４４がバイパス入口
３０ｄ1 ，３０ｄ2 を閉鎖する位置から離れ、密閉空間
Ｓａ，Ｓｂとバイパス通路４４ａとが連通する。従っ
て、密閉空間Ｓａ，Ｓｂ内の冷媒ガスが吸入室２６ａに
還流し、圧縮機は１００％に満たない容量の吐出作用を
行なう。
には図９に示すようにダイヤフラム４４がバイパス入口
３０ｄ1 ，３０ｄ2 を閉鎖する位置から離れ、密閉空間
Ｓａ，Ｓｂとバイパス通路４４ａとが連通する。従っ
て、密閉空間Ｓａ，Ｓｂ内の冷媒ガスが吸入室２６ａに
還流し、圧縮機は１００％に満たない容量の吐出作用を
行なう。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図９
【補正方法】変更
【補正内容】
【図９】
【手続補正７】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１０
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１０】
Claims (4)
- 【請求項１】周方向に移動して容積減少する密閉空間を
形成する回転式圧縮機において、 容積減少途上にある密閉空間の容積減少途上領域にバイ
パス入口を開口形成すると共に、吸入圧領域とバイパス
入口とをバイパス室で接続し、バイパス室に受圧変位体
を収容してバイパス室をバイパス通路と制御圧室とに区
画し、制御圧室の圧力切換によってバイパス入口を受圧
変位体で開閉切換するようにした回転式圧縮機における
容量可変機構。 - 【請求項２】受圧変位体は弾性体である請求項１に記載
の回転式圧縮機における容量可変機構。 - 【請求項３】受圧変位体は弾性体内に剛性平板をインサ
ートされている請求項２に記載の回転式圧縮機における
容量可変機構。 - 【請求項４】受圧変位体は弾性体の制御圧室側の受圧面
上に剛性平板を有する請求項２に記載の回転式圧縮機に
おける容量可変機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31861193A JPH07167075A (ja) | 1993-12-17 | 1993-12-17 | 回転式圧縮機における容量可変機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31861193A JPH07167075A (ja) | 1993-12-17 | 1993-12-17 | 回転式圧縮機における容量可変機構 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07167075A true JPH07167075A (ja) | 1995-07-04 |
Family
ID=18101074
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31861193A Pending JPH07167075A (ja) | 1993-12-17 | 1993-12-17 | 回転式圧縮機における容量可変機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07167075A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20190077525A (ko) * | 2016-11-17 | 2019-07-03 | 에머슨 클라이미트 테크놀로지스 (쑤저우) 코., 엘티디. | 스크롤 압축기 |
| US10578106B2 (en) | 2014-12-12 | 2020-03-03 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Compressor |
-
1993
- 1993-12-17 JP JP31861193A patent/JPH07167075A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10578106B2 (en) | 2014-12-12 | 2020-03-03 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Compressor |
| KR20190077525A (ko) * | 2016-11-17 | 2019-07-03 | 에머슨 클라이미트 테크놀로지스 (쑤저우) 코., 엘티디. | 스크롤 압축기 |
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