JPH07166377A - Gas controller - Google Patents
Gas controllerInfo
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- JPH07166377A JPH07166377A JP18214994A JP18214994A JPH07166377A JP H07166377 A JPH07166377 A JP H07166377A JP 18214994 A JP18214994 A JP 18214994A JP 18214994 A JP18214994 A JP 18214994A JP H07166377 A JPH07166377 A JP H07166377A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は真空装置にガスを導入す
る場合の制御方法に関し、特にガス導入の自動制御およ
びガス導入量を安定にさせるための装置構成に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a control method for introducing gas into a vacuum device, and more particularly to an automatic control of gas introduction and a device configuration for stabilizing the gas introduction amount.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来の真空装置にガスを導入する方法
は、ガス流量を制御するためのガス流量コントローラ
（マスフローコントローラ）あるいは可変ニードルバル
ブを直接、あるいはストップバルブを介在させて真空槽
に接続させる方法であったので、ガスを流入させる時点
においては真空槽内のガス圧力が必ず連続的に変化し、
ガス圧力が変動する時間が長いという欠点があった。2. Description of the Related Art A conventional method for introducing a gas into a vacuum apparatus is to connect a gas flow rate controller (mass flow controller) or a variable needle valve for controlling the gas flow rate to a vacuum chamber directly or via a stop valve. Since it was a method, the gas pressure in the vacuum chamber always changes continuously at the time of introducing gas,
It has a drawback that the gas pressure changes for a long time.
【０００３】さらに実例を挙げて説明すると図１ａの従
来の装置構成においては真空槽１に直接マスフローコン
トローラあるいは可変ニードルバルブなどで構成される
可変バルブ２が接続されており、真空槽１にガスを流入
させない場合には可変バルブは零点に設定しておく。真
空槽１にガスを流入させる場合には可変バルブ２を手動
あるいは自動操作によって所定のガス流量（あるいは所
定のガス圧力）に達するまで、開かなければならない。
この操作中に真空槽１のガス圧力は連続的に上昇し、安
定なガス圧力に達するのに時間がかかる。自動操作の場
合には特に所定のガス流量（あるいはガス圧力）より一
度オーバな値に達し、再び可変バルブを閉じる操作の繰
返しを行うことが多いので、安定なガス流量（あるいは
ガス圧力）に達するまでの時間が長くなる。前記図１ｂ
は可変バルブ２が零点にあっても完全にガスの流れを停
止できない場合とか、急激にガス流を停止させる場合
に、真空層１と可変バルブ２の間にストップバルブ３を
介在させた装置構成であるが、ガスを流入し始める場合
にはａの場合と同じく、ガス流量（あるいはガス圧力）
が安定するまで時間がかかる。また可変バルブ２が完全
に閉状態にできず、長時間放置されている場合には、ス
トップバルブ３と可変バルプ２の配管部分４にガスが溜
まるため、ストップバルブ３を閉状態から開状態に切り
替えた瞬間に、上記配管部４に溜まっていた圧力の高い
ガス真空槽１に流入する不都合な現象が起こる。To explain further by way of example, in the conventional apparatus configuration of FIG. 1a, a variable valve 2 constituted by a mass flow controller or a variable needle valve is directly connected to the vacuum chamber 1, and the vacuum chamber 1 is supplied with gas. The variable valve is set to the zero point when it does not flow. When the gas is introduced into the vacuum chamber 1, the variable valve 2 must be opened manually or automatically until a predetermined gas flow rate (or a predetermined gas pressure) is reached.
During this operation, the gas pressure in the vacuum chamber 1 continuously rises, and it takes time to reach a stable gas pressure. In the case of automatic operation, an excessive value is reached once more than the prescribed gas flow rate (or gas pressure) and the variable valve is closed again in many cases, so a stable gas flow rate (or gas pressure) is reached. Time to get longer. Figure 1b above
Is a device configuration in which a stop valve 3 is interposed between the vacuum layer 1 and the variable valve 2 when the gas flow cannot be completely stopped even when the variable valve 2 is at the zero point or when the gas flow is suddenly stopped. However, when gas begins to flow in, the gas flow rate (or gas pressure) is the same as in the case of a.
Takes time to stabilize. Further, when the variable valve 2 cannot be completely closed and is left for a long time, gas is accumulated in the stop valve 3 and the pipe portion 4 of the variable valve 2, so that the stop valve 3 is changed from the closed state to the open state. At the moment of switching, an inconvenient phenomenon of flowing into the gas vacuum chamber 1 having a high pressure accumulated in the pipe portion 4 occurs.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は真空槽
にガスを供給する装置において、ガス流量あるいはガス
圧力を制御するための簡単な装置構成により、より簡便
で、ガス流量およびガス圧力をより短時間で安定化する
装置構成を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a device for supplying gas to a vacuum chamber with a simple device configuration for controlling the gas flow rate or gas pressure, which makes the gas flow rate and gas pressure more convenient. It is to provide a device configuration that stabilizes in a shorter time.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、減圧可
能な容器内に前記容器外からガス供給手段を介してガス
を間欠的に供給するためのガス制御装置において、前記
ガスの供給源から前記容器に至るガス供給手段の経路の
途中には前記ガス供給手段を通過するガスの流量を所定
値に保持するための第一の手段を有する可変バルブと、
前記ガスを前記容器内へ供給可能とするモードとその供
給を停止するモードとの切り換えを可能とするための第
二の手段を有する第一のバルブとが設けられ、かつ、前
記第一のバルブは前記可変バルブに対して前記ガスの流
れの方向の下流側に配置され、前記ガス供給手段の前記
ガスの通過経路中の前記可変バルブが設けられた部位と
前記第一のバルブが設けられた部位との間の区間には前
記可変バルブの側から供給される前記ガスを前記ガス供
給手段の前記ガスの通過経路の途中から分岐させて系外
へ強制的に排出させるためのガス排出手段が接続され、
前記ガス排出手段の前記ガスの排出経路の途中には前記
ガスを前記系外へ排出可能とするモードとその排出を停
止するモードとの切り換えを可能とするための第三の手
段を有する第二のバルブが設けられ、前記ガス供給手段
を通過する前記ガスの流量が前記所定値に保持されるよ
うに前記可変バルブを調整し、かつ、前記ガスを前記系
外へ排出可能とするモードに前記第二のバルブを保持
し、かつ、前記ガスを前記容器内へ供給することを停止
するモードに前記第一のバルブを保持する第一の動作モ
ードから、前記可変バルブの状態を前記第一の動作モー
ドと同じ状態に保持し、かつ、前記ガスの前記系外への
排出を停止するモードに前記第二のバルブを保持し、か
つ、前記ガスを前記容器内へ供給可能とするモードに前
記第一のバルブを保持する第二の動作モードへ切り換え
ることが可能に構成されていることを特徴とするガス制
御装置にある。The gist of the present invention is a gas control device for intermittently supplying a gas into a depressurizable container from the outside of the container via a gas supply means. A variable valve having a first means for holding the flow rate of the gas passing through the gas supply means at a predetermined value in the middle of the path of the gas supply means from the container to the container;
A first valve having a second means for enabling switching between a mode in which the gas can be supplied into the container and a mode in which the supply is stopped is provided, and the first valve Is arranged on the downstream side of the variable valve in the flow direction of the gas, and the portion where the variable valve is provided in the gas passage of the gas supply means and the first valve are provided. Gas discharge means for branching the gas supplied from the variable valve side from the middle of the gas passage of the gas supply means and forcibly discharging it to the outside of the system is provided in the section between the parts. Connected,
Secondly, in the middle of the gas discharge path of the gas discharge means, there is provided a third means for enabling switching between a mode in which the gas can be discharged to the outside of the system and a mode in which the discharge is stopped. The valve is provided, the variable valve is adjusted so that the flow rate of the gas passing through the gas supply means is maintained at the predetermined value, and the gas is allowed to be discharged to the outside of the system. The state of the variable valve is changed from the first operation mode in which the second valve is held and the first valve is held in a mode in which the supply of the gas into the container is stopped to the first operation mode. The second valve is held in the same mode as the operation mode, and the second valve is held in a mode in which the discharge of the gas to the outside of the system is stopped, and the gas can be supplied into the container. Keep the first valve It is in the gas control device according to claim which is to switch to the second operation mode is configured to be.
【０００６】[0006]
【作用】本発明は上記構成になるので、例えばドライエ
ッチング装置の自動化において、排気操作およびエッチ
ング操作の自動化は比較的に安易に達成された。ガス流
量あるいはガス圧力制御において自動化が困難であった
ことに基づいて、従来より優れたガス供給方式が容易と
なった。また、自動化とともにガス流量あるいはガス圧
力の調整時間の短縮、およびガス流量およびガス圧力の
安定性や、再現性に極めて効を奏するようになった。Since the present invention has the above-described structure, the automation of the exhaust operation and the etching operation can be achieved relatively easily, for example, in the automation of the dry etching apparatus. Based on the difficulty in automation of gas flow rate or gas pressure control, a gas supply system superior to conventional ones has become easier. Further, along with automation, the adjustment time of the gas flow rate or gas pressure has been shortened, and the stability and reproducibility of the gas flow rate and gas pressure have become extremely effective.
【０００７】[0007]
【実施例】図２は本発明の参考例を示す図である。真空
装置にガスを供給する場合に、中間排気配管系５を設け
た構成を示す。真空槽１はあらかじめ排気ポンプ系６に
よってバルブ７を経て排気されている。供給ガスはボン
ベまたは液体源などを用いたガス源８から源圧弁９を経
てマスフローコントローラあるいはニードルバルブなど
の可変バルブ２に接続している。ただしガス源の圧力が
低い場合には減圧弁９を必ずしも必要としない。可変バ
ルブ２から真空槽１の間には少なくとも１つのバルブ３
があり、並列して他の排気ポンプ系５との間にも少なく
とも１つのバルブ１０がある。排気ポンプ系５と６はい
ずれも可変バルブ２によって、流れるガス流量を十分排
気できるだけの能力をもつ必要がある。実際にガスを真
空槽に供給する場合には一度所定のガス流量あるいはガ
ス圧力を測定するために、バルブ１０を閉じバルブ３を
開として排気ポンプ系６にガスを流し流量調整を行って
おくのがよい。可変バルブは所定のガス流量に適した調
整位置に固定しておく。真空槽１にガスを供給する必要
のない場合にはバルブ３を閉じバルブ１０を開とし、可
変バルブ２とバルブ３および１０の間の配管部４にガス
が溜らないように排気ポンプ系５を流しておき、真空槽
にガス供給する場合にバルブ１０を閉、バルブ３を開と
する。バルブ１０とバルブ３の開閉のタイミングはバル
ブの動作機構によって差があるのであらかじめ時定数の
調整をしておくのがよい。FIG. 2 is a diagram showing a reference example of the present invention. A structure in which an intermediate exhaust pipe system 5 is provided when a gas is supplied to the vacuum device is shown. The vacuum chamber 1 is evacuated in advance by the exhaust pump system 6 through the valve 7. The supply gas is connected to a variable valve 2 such as a mass flow controller or a needle valve from a gas source 8 using a cylinder or a liquid source and a source pressure valve 9. However, when the pressure of the gas source is low, the pressure reducing valve 9 is not always necessary. At least one valve 3 is provided between the variable valve 2 and the vacuum chamber 1.
There is also at least one valve 10 in parallel with the other exhaust pump system 5. Both the exhaust pump systems 5 and 6 need to have the ability to sufficiently exhaust the flow rate of the flowing gas by the variable valve 2. When the gas is actually supplied to the vacuum chamber, the valve 10 is closed and the valve 3 is opened to flow the gas through the exhaust pump system 6 to adjust the flow rate in order to measure the predetermined gas flow rate or gas pressure. Is good. The variable valve is fixed at an adjustment position suitable for a given gas flow rate. When it is not necessary to supply the gas to the vacuum chamber 1, the valve 3 is closed and the valve 10 is opened, and the exhaust pump system 5 is installed so that the gas is not accumulated in the pipe portion 4 between the variable valve 2 and the valves 3 and 10. When the gas is supplied, the valve 10 is closed and the valve 3 is opened when gas is supplied to the vacuum chamber. Since there is a difference in the opening / closing timing of the valve 10 and the valve 3 depending on the operation mechanism of the valve, it is preferable to adjust the time constant in advance.
【０００８】図２に示したガス供給の装置構成と前記図
１に示した従来装置構成によるガス圧力の時間変化曲線
を図３に示す。図３ａは通常用いられているスパッタ装
置あるいは反応性スパッタエッチング装置で、真空槽が
約６０ｌの容積の装置にＡｒ，Ｏ2，Ｈ2，ＣＦ4，ＳＦ6
などのガス種をマスフローコントローラを用いて流した
場合のガス圧力の時間変化を示す。ほぼ安定なガス圧力
に達するまでの時間はガス種に限らず約２分であった。
図２に示したのガス配管の装置構成では図３ｂのごとく
約１０数秒で安定なガス圧力に到達した。FIG. 3 shows a time-dependent curve of gas pressure in the gas supply apparatus shown in FIG. 2 and the conventional apparatus shown in FIG. FIG. 3a shows a commonly used sputter apparatus or reactive sputter etching apparatus. Ar, O 2 , H 2 , CF 4 , SF 6 is used in a vacuum chamber having a volume of about 60 l.
The time change of the gas pressure when the gas species such as is flowed using the mass flow controller is shown. The time required to reach a substantially stable gas pressure was about 2 minutes regardless of the type of gas.
With the apparatus configuration of the gas piping shown in FIG. 2, a stable gas pressure was reached in about 10 seconds as shown in FIG. 3b.
【０００９】図３ｂの場合に比べて図３ａの場合の方が
ガス圧力が定常値に到達するまでにより多くの時間を有
する理由は次の通りである。即ち、例えば、図１ｂの構
成の場合、可変バルブ２を所定のガス流量を流せるよう
にその弁を所定の状態に保持するように制御しても、そ
の弁を閉状態から所定の開状態へ移行させることとなる
ので、ガスが定常流になるまでには所定の時間を必要と
する。また、配管部分４に溜っていた圧力の高いガスが
真空槽１内へ急激に流入するので、真空槽１内のガス圧
力が一時的に定常値に比べて高い圧力となり、同様にガ
ス圧力が定常値で安定するまでの時間を長引かせる原因
となる。The reason why the gas pressure in FIG. 3a has more time to reach the steady value than that in FIG. 3b is as follows. That is, for example, in the case of the configuration of FIG. 1b, even if the variable valve 2 is controlled to be held in a predetermined state so as to allow a predetermined gas flow rate, the valve is changed from the closed state to the predetermined open state. Since the gas is transferred, it takes a predetermined time for the gas to reach a steady flow. Further, since the high pressure gas accumulated in the pipe portion 4 suddenly flows into the vacuum chamber 1, the gas pressure in the vacuum chamber 1 temporarily becomes higher than the steady value, and the gas pressure becomes This will prolong the time until it stabilizes at a steady value.
【００１０】これに対して、図２の構成の場合には、所
定の流量を保持できるように可変バルブ２を所定の状態
に保持し、ストップバルブ３を閉じ、かつ、バルブ１０
を開の状態に保持することによりガス源８から配管部４
を介して排気ポンプ系５の方向へ定常状態のガスを流し
ておく。次に、バルブ１０を閉とし、ストップバルブ３
を開くことにより、ガスは真空槽１へ供給されることに
なる。この切り換え動作前にガスは配管部４を定常状態
で流れているので、この切り換えに伴う真空槽１内の圧
力の安定に要する時間は図１ｂの構成の場合に比べて短
くてすむ。可変バルブ２を閉から開の状態に変化させる
ことに伴うガス圧力の安定に要する時間は実質的に考慮
する必要がないからである。同様に、この構成の場合に
は配管部分４にガスが溜ることは実質的に無いというこ
とができるので、ガスが溜ることに伴うガス圧力の安定
に要する時間も実質的に必要でないということができる
からである。この点からも、真空槽１内の圧力が定常値
に到達する時間を短縮することができる。On the other hand, in the case of the configuration of FIG. 2, the variable valve 2 is held in a predetermined state so that the predetermined flow rate can be maintained, the stop valve 3 is closed, and the valve 10
The gas source 8 to the pipe portion 4 by holding the open state.
A gas in a steady state is allowed to flow in the direction of the exhaust pump system 5 via. Next, the valve 10 is closed and the stop valve 3
By opening, the gas is supplied to the vacuum chamber 1. Since the gas is flowing in the steady state in the pipe portion 4 before this switching operation, the time required for stabilizing the pressure in the vacuum chamber 1 accompanying this switching can be shorter than in the case of the configuration of FIG. 1b. This is because it is substantially unnecessary to consider the time required to stabilize the gas pressure when the variable valve 2 is changed from the closed state to the open state. Similarly, in the case of this configuration, it can be said that the gas does not substantially accumulate in the pipe portion 4, so that the time required for stabilizing the gas pressure accompanying the accumulation of the gas is substantially unnecessary. Because you can. From this point as well, the time required for the pressure in the vacuum chamber 1 to reach a steady value can be shortened.
【００１１】また従来方式では各ガス導入時毎に調整が
必要であり、再現性の良い値に設定するための熟練を要
すが、本発明ではストップバルブの開閉だけであるの
で、再現性に優れていた。Further, in the conventional method, adjustment is required every time each gas is introduced, and skill is required to set the value with good reproducibility. However, in the present invention, since only the stop valve is opened and closed, reproducibility is improved. Was excellent.
【００１２】本実験で得られた特性は他の容積値を有す
る各種真空装置に応用できるのはもちろんであるが、真
空槽の容積および本排気ポンプ系の排気速度に応じて、
中間排気ポンプ系の排気速度もできるだけ同一にするの
が望ましい。The characteristics obtained in this experiment can be applied to various vacuum devices having other volume values, but depending on the volume of the vacuum chamber and the exhaust speed of the exhaust pump system,
It is desirable to make the exhaust speed of the intermediate exhaust pump system as uniform as possible.
【００１３】図４は本発明の実施例を示す図である。同
図はガス配管を清浄にするための可変バルブ２のバイパ
スバルブ１１を設けた装置構成であり、ガス源から可変
バルブ２までの配管部分の不要ガスを排気清浄化すると
きに、処理時間が短縮できる。この場合には可変バルブ
２の調整位置は固定のままでよい。バルブ１２はガス源
のガスを供給するときに閉状態にしておき、直接可変バ
ルブ２に圧力がかからないために有効であるのと同時
に、長時間真空槽１にガス供給をしないときに、バルブ
１２を閉にしてガスを止めるために有効である。FIG. 4 is a diagram showing an embodiment of the present invention. The figure shows an apparatus configuration in which a bypass valve 11 of the variable valve 2 for cleaning the gas pipe is provided, and when the unnecessary gas in the pipe portion from the gas source to the variable valve 2 is exhausted and cleaned, the processing time is reduced. Can be shortened. In this case, the adjustment position of the variable valve 2 may remain fixed. The valve 12 is effective when the gas from the gas source is supplied in the closed state, because pressure is not directly applied to the variable valve 2, and at the same time, when the gas is not supplied to the vacuum chamber 1 for a long time, the valve 12 It is effective for closing the gas and stopping the gas.
【００１４】図５は本発明の他の実施例を示す図であ
る。同図はガスが高価であるとか、ポンプを劣化させる
種類の場合に有効なガス配管の装置構成である。ガス源
１３が高価なガスあるいは塩素系ガスや酸化性ガスのよ
うにポンプを劣化させるガス源の場合には、排気ポンプ
系５に流すガスは、できるだけ不活性で低価なガスに切
り替えるのがよい。ガス源１４は上記目的の切り替えガ
ス源で、通常Ｎ2、Ａｒガスを用いるのがよい。排気ポ
ンプ系５に流す時間が短かい場合には、ガスを切の替え
ないでもよいが、排気ポンプ系５には、ポンプ保護のた
め活性ガスのトラップ１５，１６を設けるのがよい。ト
ラップ１５，６１は１つでもよいが、ガスが多量の場合
には両者を交互に使用し、一方が使われている間に、他
方をＮ2ガスなどのパージラインを設けて清浄化してお
くのが効率的である。FIG. 5 is a diagram showing another embodiment of the present invention. The figure shows a device configuration of a gas pipe which is effective when the gas is expensive or the pump is deteriorated. When the gas source 13 is an expensive gas or a gas source that deteriorates the pump, such as a chlorine-based gas or an oxidizing gas, the gas flowing through the exhaust pump system 5 should be switched to a gas that is as inert and low-value as possible. Good. The gas source 14 is a switching gas source for the above purpose, and normally N 2 or Ar gas is preferably used. When the time for flowing into the exhaust pump system 5 is short, the gas may not be switched off, but the exhaust pump system 5 is preferably provided with traps 15 and 16 of active gas for protecting the pump. The number of traps 15 and 61 may be one, but when a large amount of gas is used, both are used alternately, and while one is used, the other is cleaned by providing a purge line for N 2 gas or the like. Is efficient.
【００１５】[0015]
【発明の効果】本発明によれば、真空装置内にガスを供
給しなければならない装置において、ガス圧力調整の時
間を約１／１０に短縮でき、再現性や安定性にも優れ、
操作法も簡便になるので、特に自動化装置化する場合に
効果がある。もちろん手動装置の場合にもストップバル
ブの開閉操作のみでよいので、操作が簡略化され、性能
および効率が向上する。According to the present invention, in a device that must supply gas into a vacuum device, the time for adjusting gas pressure can be shortened to about 1/10, and reproducibility and stability are excellent.
Since the operation method is simple, it is particularly effective when it is automated. Of course, even in the case of a manual device, it is only necessary to open and close the stop valve, so the operation is simplified and the performance and efficiency are improved.
【図１】従来のガスの供給系の装置構成図。FIG. 1 is a device configuration diagram of a conventional gas supply system.
【図２】本発明の参考例であるガス供給系の装置構成
図。FIG. 2 is a device configuration diagram of a gas supply system that is a reference example of the present invention.
【図３】本発明の参考例によるガス圧力の時間変動特性
図。FIG. 3 is a time variation characteristic diagram of gas pressure according to a reference example of the present invention.
【図４】本発明の実施例であるガス供給系の装置構成
図。FIG. 4 is a device configuration diagram of a gas supply system that is an embodiment of the present invention.
【図５】本発明の実施例であるガス供給系の装置構成
図。FIG. 5 is a device configuration diagram of a gas supply system that is an embodiment of the present invention.
１…真空槽、２…可変バルブ（ニードルバルブ、マスフ
ローコントローラなど）、３…ストップバルブ、４…ガ
ス配管の一部、５…中間排気ポンプ系、６…真空槽用主
排気ポンプ系、７…ストップバルブ、８…ガス源、９〜
１２…ストップバルブ、１３〜１４…ガス源、１５〜１
６…トラップ。DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Vacuum tank, 2 ... Variable valve (needle valve, mass flow controller, etc.), 3 ... Stop valve, 4 ... Part of gas piping, 5 ... Intermediate exhaust pump system, 6 ... Main exhaust pump system for vacuum tank, 7 ... Stop valve, 8 ... Gas source, 9-
12 ... Stop valve, 13-14 ... Gas source, 15-1
6 ... Trap.
─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成６年９月２日[Submission date] September 2, 1994
【手続補正１】[Procedure Amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】０００３[Name of item to be corrected] 0003
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【０００３】さらに実例を挙げて説明すると図１ａの従
来の装置構成においては真空槽１に直接マスフローコン
トローラあるいは可変ニードルバルブなどで構成される
可変バルブ２が接続されており、真空槽１にガスを流入
させない場合には可変バルブは零点に設定しておく。真
空槽１にガスを流入させる場合には可変バルブ２を手動
あるいは自動操作によって所定のガス流量（あるいは所
定のガス圧力）に達するまで、開かなければならない。
この操作中に真空槽１のガス圧力は連続的に上昇し、安
定なガス圧力に達するのに時間がかかる。自動操作の場
合には特に所定のガス流量（あるいはガス圧力）より一
度オーバな値に達し、再び可変バルブを閉じる操作の繰
返しを行うことが多いので、安定なガス流量（あるいは
ガス圧力）に達するまでの時間が長くなる。前記図１ｂ
は可変バルブ２が零点にあっても完全にガスの流れを停
止できない場合とか、急激にガス流を停止させる場合
に、真空槽１と可変バルブ２の間にストップバルブ３を
介在させた装置構成であるが、ガスを流入し始める場合
にはａの場合と同じく、ガス流量（あるいはガス圧力）
が安定するまで時間がかかる。また可変バルブ２が完全
に閉状態にできず、長時間放置されている場合には、ス
トップバルブ３と可変バルブ２の配管部分４にガスが溜
まるため、ストップバルブ３を閉状態から開状態に切り
替えた瞬間に、上記配管部４に溜まっていた圧力の高い
ガスが真空槽１に流入する不都合な現象が起こる。ま
た、特開昭５７−２９５７７号公報にはガス自動流量調
節器とガス導入バルブ（ストップバルブ）との間にガス
を供給経路から分岐させて系外に排出する手段を設ける
ことにつき開示されている。しかし、同公報には、ガス
供給源から供給されるガスをガスの通過経路の可変バル
ブの上流側から分岐させてガス排出手段へ導くためのバ
イパス経路を設けることについては開示されていない。To explain further by way of example, in the conventional apparatus configuration of FIG. 1a, a variable valve 2 constituted by a mass flow controller or a variable needle valve is directly connected to the vacuum chamber 1, and the vacuum chamber 1 is supplied with gas. The variable valve is set to the zero point when it does not flow. When the gas is introduced into the vacuum chamber 1, the variable valve 2 must be opened manually or automatically until a predetermined gas flow rate (or a predetermined gas pressure) is reached.
During this operation, the gas pressure in the vacuum chamber 1 continuously rises, and it takes time to reach a stable gas pressure. In the case of automatic operation, an excessive value is reached once more than the prescribed gas flow rate (or gas pressure) and the variable valve is closed again in many cases, so a stable gas flow rate (or gas pressure) is reached. Time to get longer. Figure 1b above
Is a device configuration in which a stop valve 3 is interposed between the vacuum chamber 1 and the variable valve 2 when the gas flow cannot be completely stopped even when the variable valve 2 is at the zero point or when the gas flow is suddenly stopped. However, when gas begins to flow in, the gas flow rate (or gas pressure) is the same as in the case of a.
Takes time to stabilize. Further, when the variable valve 2 cannot be completely closed and is left for a long time, gas is accumulated in the stop valve 3 and the piping portion 4 of the variable valve 2, so that the stop valve 3 is changed from the closed state to the open state. the moment the switch was, disadvantageous phenomena high pressure which has accumulated in the pipe section 4 gas flows into the vacuum chamber 1 occurs. Well
In addition, Japanese Patent Laid-Open No. 57-29577 discloses a gas automatic flow rate adjustment.
Gas between the node and the gas introduction valve (stop valve)
A means for branching the product from the supply path and discharging it outside the system
This is disclosed. However, in this publication, gas
The gas supplied from the supply source is adjusted by a variable valve
For branching from the upstream side of the valve to the gas discharge means.
It does not disclose the provision of the Ypas route .
【手続補正２】[Procedure Amendment 2]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】０００４[Correction target item name] 0004
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、真空
槽にガスを供給する装置において、ガス供給経路の配管
部分のガス排気処理を短時間で行なうことができる装置
構成を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is to create a vacuum.
In the device that supplies gas to the tank, piping for the gas supply path
Device that can perform gas exhaust processing of part in a short time
To provide a configuration .
【手続補正３】[Procedure 3]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】０００５[Name of item to be corrected] 0005
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、減圧可
能な容器内に前記容器外からガス供給手段を介してガス
を供給するためのガス制御装置において、前記ガスの供
給源から前記容器に至るガス供給手段の経路の途中には
前記ガス供給手段を通過するガスの流量を所定値に保持
するための可変バルブと、前記ガスを前記容器内へ供給
可能とするモードとその供給を停止するモードとの切り
換えを可能とするための第一のバルブとが設けられ、か
つ、前記第一のバルブは前記可変バルブに対して前記ガ
スの流れの方向の下流側に配置され、前記可変バルブが
設けられた部位と前記第一のバルブが設けられた部位と
の間の区間には前記可変バルブの側から供給される前記
ガスを前記ガス供給手段の前記ガスの通過経路の途中か
ら分岐させて系外へ強制的に排出させるためのガス排出
手段が接続され、前記ガス排出手段の前記ガスの排出経
路の途中には前記ガスを前記系外へ排出可能とするモー
ドとその排出を停止するモードとの切り換えを可能とす
るための第二のバルブが設けられ、前記ガス供給源と前
記ガス排出手段との間には、前記ガス供給源から供給さ
れるガスを前記ガスの通過経路の前記可変バルブの上流
側から分岐させて前記ガス排出手段へ導くためのバイパ
ス経路が設けられていることを特徴とするガス制御装置
にある。Gist of the present invention SUMMARY OF THE INVENTION, in gas control apparatus for supplying a gas via a gas supply means from the outside of the container to the pressure can be reduced vessel, subjected to the gas
In the middle of the path of the gas supply means from the supply source to the container
Keeping the flow rate of gas passing through the gas supply means at a predetermined value
Variable valve for supplying and supplying the gas into the container
Switching between the mode that enables and the mode that stops the supply
Is provided with a first valve for enabling replacement.
The first valve is the gas valve with respect to the variable valve.
The variable valve is arranged on the downstream side in the flow direction of
A portion provided and a portion provided with the first valve
The section supplied between the variable valve side
Is the gas on the way of the gas passage of the gas supply means?
Gas for branching off and forcibly discharging out of the system
Means are connected to the gas discharging means for discharging the gas.
In the middle of the road, the gas that can discharge the gas to the outside of the system
Mode and the mode to stop the discharge
A second valve for
The gas discharge means is connected to the gas supply source.
Upstream of the variable valve in the passage of the gas
Viper for branching from the side and leading to the gas discharge means
Gas control device characterized in that a gas passage is provided.
In .
【手続補正４】[Procedure amendment 4]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】００１５[Name of item to be corrected] 0015
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【００１５】[0015]
【発明の効果】本発明によれば、真空装置内にガスを供
給する装置において、ガス供給経路の配管部分のガス排
気処理を短時間で行なうことができる。 According to the present invention, gas is supplied into the vacuum device.
In the device that supplies the gas,
Qi treatment can be performed in a short time .
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 水谷 巽 東京都国分寺市東恋ケ窪１丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Tatsumi Mizutani 1-280, Higashi Koigokubo, Kokubunji, Tokyo Inside the Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd.
Claims (1)
給手段を介してガスを供給するためのガス制御装置にお
いて、 前記ガスの供給源から前記容器に至るガス供給手段の経
路の途中には前記ガス供給手段を通過するガスの流量を
所定値に保持するための可変バルブと、前記ガスを前記
容器内へ供給可能とするモードとその供給を停止するモ
ードとの切り換えを可能とするための第一のバルブとが
設けられ、かつ、前記第一のバルブは前記可変バルブに
対して前記ガスの流れの方向の下流側に配置され、 前記可変バルブが設けられた部位と前記第一のバルブが
設けられた部位との間の区間には前記可変バルブの側か
ら供給される前記ガスを前記ガス供給手段の前記ガスの
通過経路の途中から分岐させて系外へ強制的に排出させ
るためのガス排出手段が接続され、 前記ガス排出手段の前記ガスの排出経路の途中には前記
ガスを前記系外へ排出可能とするモードとその排出を停
止するモードとの切り換えを可能とするための第二のバ
ルブが設けられ、 前記ガス供給源と前記ガス排出手段との間には、前記ガ
ス供給源から供給されるガスを前記ガスの通過経路の前
記可変バルブの上流側から分岐させて前記ガス排出手段
へ導くためのバイパス経路が設けられていることを特徴
とするガス制御装置。1. A gas control device for supplying a gas into a depressurizable container from outside the container through a gas supply means, wherein the gas supply means is connected to the container in the middle of the path of the gas supply means. To enable switching between a variable valve for holding the flow rate of the gas passing through the gas supply means at a predetermined value, and a mode in which the gas can be supplied into the container and a mode in which the supply is stopped. And a first valve of the variable valve is disposed downstream of the variable valve in the flow direction of the gas. In order to forcibly discharge the gas supplied from the side of the variable valve from the middle of the passage of the gas of the gas supply means to the outside of the system in the section between the part where the valve is provided The gas A discharge means is connected, and a second mode for enabling switching between a mode in which the gas can be discharged to the outside of the system and a mode in which the discharge is stopped is provided in the middle of the gas discharge path of the gas discharge means. The valve is provided between the gas supply source and the gas discharge means, and the gas supplied from the gas supply source is branched from the upstream side of the variable valve in the passage of the gas to discharge the gas. A gas control device characterized in that a bypass path for leading to the means is provided.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18214994A JP2650105B2 (en) | 1994-08-03 | 1994-08-03 | Gas control device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18214994A JP2650105B2 (en) | 1994-08-03 | 1994-08-03 | Gas control device |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18905382A Division JPS5980777A (en) | 1982-10-29 | 1982-10-29 | Control device for gas |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07166377A true JPH07166377A (en) | 1995-06-27 |
| JP2650105B2 JP2650105B2 (en) | 1997-09-03 |
Family
ID=16113219
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18214994A Expired - Lifetime JP2650105B2 (en) | 1994-08-03 | 1994-08-03 | Gas control device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2650105B2 (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010205477A (en) * | 2009-03-02 | 2010-09-16 | Nissin Ion Equipment Co Ltd | Gas control device, method of controlling gas control device and ion implantation device using them |
| JP2015074812A (en) * | 2013-10-10 | 2015-04-20 | 株式会社アルバック | Film deposition apparatus, film deposition method, and manufacturing method of metal oxide thin film |
| JP2015156495A (en) * | 2015-03-16 | 2015-08-27 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | Plasma processing method and plasma processing device |
| WO2020218194A1 (en) * | 2019-04-24 | 2020-10-29 | 株式会社シンクロン | Method for forming metal compound film and reactive sputtering device |
-
1994
- 1994-08-03 JP JP18214994A patent/JP2650105B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010205477A (en) * | 2009-03-02 | 2010-09-16 | Nissin Ion Equipment Co Ltd | Gas control device, method of controlling gas control device and ion implantation device using them |
| JP2015074812A (en) * | 2013-10-10 | 2015-04-20 | 株式会社アルバック | Film deposition apparatus, film deposition method, and manufacturing method of metal oxide thin film |
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| WO2020218194A1 (en) * | 2019-04-24 | 2020-10-29 | 株式会社シンクロン | Method for forming metal compound film and reactive sputtering device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2650105B2 (en) | 1997-09-03 |
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