JPH07153884A - Resin molded integrated semiconductor device and manufacture of the same and manufacturing apparatus - Google Patents

Resin molded integrated semiconductor device and manufacture of the same and manufacturing apparatus

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JPH07153884A
JPH07153884A JP5298657A JP29865793A JPH07153884A JP H07153884 A JPH07153884 A JP H07153884A JP 5298657 A JP5298657 A JP 5298657A JP 29865793 A JP29865793 A JP 29865793A JP H07153884 A JPH07153884 A JP H07153884A
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Japan
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lead frame
semiconductor device
cutting
solder
integrated semiconductor
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Application number
JP5298657A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigeyuki Sakurai
茂行 桜井
Naoki Mitsuyanagi
直毅 三柳
Nobuhiko Tada
信彦 多田
Yoshiaki Shimomura
義昭 下村
Shinya Okumura
信也 奥村
Yoshiya Nagano
義也 長野
Nobuyuki Kimura
信行 木村
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Hitachi Construction Machinery Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Construction Machinery Co Ltd
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Publication date
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  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)

Abstract

PURPOSE:To control generation of dross at the time of cutting a lead frame with a laser beam by cutting a dam bar of the solder-plated lead frame with a laser beam after the resin molding. CONSTITUTION:When a metal material of lead frame 2 is solder-plated and a dam bar 3 is cut by the laser beam 9, an alloy 5 of solder and lead frame metal formed between the solder which is once fused and diffuses to the lower surface due to the influence of gravity and the lead frame metal is deposited as a layer at the lower surface of the lead frame 2. In this case, since the alloy 5 of solder and lead frame metal is very wettable with respect to the lead frame 2, it does not drop as the liquid to the lower side, extends in the lateral direction as the layer and fuses strongly to the lead frame 2. Therefore, formation of dross 4 which has been generated at the time of cutting the dam bar and/or lead frame external circumference with a laser beam can be controlled.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は樹脂モールドした集積化
半導体装置とその製造方法、並びにその製造装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resin-molded integrated semiconductor device, its manufacturing method, and its manufacturing apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、集積化半導体装置の実装技術の進
展はめざましく、高密度実装が各種製品で行われてい
る。基板への実装は、いわゆるリードフレームと呼ばれ
る外部配線用のリードが平行して一定間隔毎に複数本外
部に突出したシステム上に、各種工程を経て集積化され
た半導体ICチップ搭載し、外部への金属端子(リー
ド)に配線するものである。パッケージ化された集積化
半導体装置は、回路保護のために樹脂モールドされる。
この時、モールド用金型のキャビティに注入された液体
樹脂は、キャビティに充満すると外へ流れて、外部配線
用の金属リード間の隙間、いわゆるダムへ溜まる。
2. Description of the Related Art In recent years, the progress of packaging technology for integrated semiconductor devices has been remarkable, and high-density packaging has been carried out in various products. For mounting on a substrate, a semiconductor IC chip integrated through various steps is mounted on a system in which a plurality of leads for external wiring, which are so-called lead frames, are projected in parallel at a constant interval to the outside, and are mounted to the outside. The metal terminals (leads) are to be wired. The packaged integrated semiconductor device is resin-molded for circuit protection.
At this time, the liquid resin injected into the cavity of the molding die flows outward when the cavity is filled, and collects in a gap between metal leads for external wiring, that is, a so-called dam.

【0003】図3は、QFP型と呼ばれるファインフレ
ームの構造概略を示す上面図である。図の7が樹脂でモ
ールドされた半導体装置であり、図の11がダムであ
る。流動性の高い樹脂がさらに外側へ流れないように、
各金属リードを直角につないでダムバー3が設けられて
いる。ダムバーは、タイバーとも呼ばれる。ダムバー3
は、樹脂がアウターリード6側へ流出しないようにする
役割と共に、加工途中におけるリードフレームの機械的
強度を補強する役割を果たす。モールド樹脂が固化した
後はダムバー3は不要となるため、切断除去されて、各
金属リードは電気的に独立する。
FIG. 3 is a top view showing a schematic structure of a fine frame called QFP type. 7 is a semiconductor device molded with resin, and 11 is a dam. To prevent the highly fluid resin from flowing further outward,
A dam bar 3 is provided by connecting the metal leads at right angles. Dam bars are also called tie bars. Dam bar 3
Serves to prevent the resin from flowing out to the outer lead 6 side, and also serves to reinforce the mechanical strength of the lead frame during processing. After the molding resin is solidified, the dam bar 3 is no longer necessary, and is cut and removed, so that the metal leads are electrically independent.

【0004】ダムバー3を除去する方法として、従来例
えば特開昭63−31128号に記載されたようなプレ
ス打抜き法や特開平3−294077号に記載されたよ
うなレーザビーム切断法が実用化されている。
As a method for removing the dam bar 3, a press punching method as described in JP-A-63-31128 and a laser beam cutting method as described in JP-A-3-294077 have been put into practical use. ing.

【0005】ダムバー3の除去には、通常ダム11に流
入固化した樹脂の削除が伴う。固化した樹脂を放置する
と、後工程でリードが損傷したり、付着した金属細片が
落下してトラブルの原因になるためである。
Removal of the dam bar 3 usually involves removal of the resin that has flowed into the dam 11 and solidified. This is because if the solidified resin is left unattended, the leads may be damaged in the subsequent process, or the adhered metal strips may fall, causing troubles.

【0006】近年高い実装密度を持つリードフレームで
は、アウターリード6のピッチ幅が非常に狭くなり、ま
た、アウターリード6幅自身も狭くなっている。特に、
リードピッチ幅0.5mm以下のファインリードフレー
ムが多用される傾向にある。また、樹脂モールパッケー
ジから2方向にリードを突出させたタイプに比べて、一
層高密度実装が可能なタイプ、即ち、パッケージから4
方向にリードが突出したQFP(quadrate f
lat package)型フレームが使用されること
も多い。
In a lead frame having a high packaging density in recent years, the pitch width of the outer leads 6 has become very narrow, and the width of the outer leads 6 itself has become narrow. In particular,
Fine lead frames with a lead pitch width of 0.5 mm or less are often used. Also, compared to the type in which the leads are projected in two directions from the resin molding package, a type that enables higher density mounting, that is, 4 types from the package.
QFP (quadrate f) with leads protruding in the direction
A lat package type frame is often used.

【0007】このような微細、複雑な構造を有する樹脂
モールド集積化半導体装置の上記したリード部の処理に
は、プレス打抜き法ではなく、レーザ切断法が用いられ
るのが常である。
For the treatment of the above-mentioned lead portion of the resin mold integrated semiconductor device having such a fine and complicated structure, the laser cutting method is usually used instead of the press punching method.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ダムバー3や外周リー
ドフレーム(図3の点線で囲む領域A)を切断処理する
場合、前記プレス打抜き法によれば後工程へ持ち越され
るトラブルは少ない。しかし、前記したように高密度実
装した樹脂モールド半導体装置には、精度の問題から適
用できない。
When the dam bar 3 and the outer peripheral lead frame (region A surrounded by the dotted line in FIG. 3) are cut, the press punching method causes less trouble to be carried over to the subsequent process. However, it cannot be applied to the resin-molded semiconductor device mounted with high density as described above because of the problem of accuracy.

【0009】レーザビームを用いた切断法は、レンズ系
で高密度に絞り込んだレーザビームを照射して金属及び
樹脂を溶断するものである。このため、切断個所の金属
は局部的に溶解後リードフレーム下面に再固化する。リ
ードフレームを構成する金属材料は、一般には42アロ
イ(鉄/ニッケル合金)や銅合金が用いられている。
The cutting method using a laser beam is to irradiate a laser beam focused with a lens system at a high density to melt and cut metal and resin. For this reason, the metal at the cut point is locally melted and then solidified again on the lower surface of the lead frame. A 42 alloy (iron / nickel alloy) or a copper alloy is generally used as the metal material forming the lead frame.

【0010】これら金属は、レーザビームで局部溶解後
再固化すると、通常図5(B)に断面を模写的に示した
ように、ドロス4が形成される。ドロス4は、図示した
ように一般にリードフレームとの接触面積が小さく、且
つもろい性質を持った酸化物であり、このため後工程で
ある搬送や次ステップの製造工程において、はく離、脱
落する可能性が高い。脱落したドロス4は、搬送過程で
可動部分に挟まって故障を引き起こしたり、半導体装置
裏面に再付着して加工の位置決め時にトラブルを起こし
たり、或はプリント基板のリード間を短絡して回路誤動
作やショート事故を引き起こす原因となる。
When these metals are locally melted by a laser beam and then re-solidified, a dross 4 is usually formed as shown in the cross section of FIG. 5 (B). As shown in the figure, the dross 4 is an oxide that generally has a small contact area with the lead frame and is fragile, so that there is a possibility that it may peel off or fall off during the subsequent transportation process or the next manufacturing process. Is high. The dropped dross 4 is caught in a movable part during the transportation process and causes a failure, or is reattached to the back surface of the semiconductor device to cause a trouble during positioning of processing, or a short circuit occurs between leads of a printed circuit board to cause a circuit malfunction. It may cause a short accident.

【0011】本発明の目的は、リードフレームのレーザ
ビーム切断時におけるドロスの発生を抑制した半導体装
置及びその製造方法、並びに製造装置を提供することで
ある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor device, a method of manufacturing the same, and a manufacturing apparatus in which the generation of dross when the laser beam of the lead frame is cut is suppressed.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明では、半田メッキ処理後にダムバーのレーザ
切断加工が行われてなる樹脂モールド集積化半導体装置
を開示する。更に本発明では、半田メッキ処理後にダム
バーのレーザ切断加工及び外周リードフレームのレーザ
切断加工が行われてなる樹脂モールド集積化半導体装置
を開示する。
In order to achieve the above object, the present invention discloses a resin mold integrated semiconductor device in which a dam bar is laser-cut after a solder plating process. Further, the present invention discloses a resin mold integrated semiconductor device in which a dam bar is laser-cut and a peripheral lead frame is laser-cut after solder plating.

【0013】更に本発明は、上記レーザ切断加工では、
切断と同時に切断後のアウターリード下面に半田とリー
ドフレーム構成金属との合金層が形成されるものとした
樹脂モールド集積化半導体装置を開示する。
Further, in the present invention, in the above laser cutting process,
Disclosed is a resin-mold integrated semiconductor device in which an alloy layer of solder and lead frame constituent metal is formed on the lower surface of the outer lead after cutting simultaneously with cutting.

【0014】更に本発明は、樹脂モールドした集積化半
導体装置のリードフレームへ半田メッキ処理する第1の
工程と、半田メッキ処理したリードフレームのダムバー
をレーザビーム切断する第2の工程とを含む樹脂モール
ド集積化半導体装置の製造方法を開示する。
Further, the present invention includes a resin including a first step of subjecting a lead frame of a resin-molded integrated semiconductor device to a solder plating treatment and a second step of cutting a dam bar of the lead frame subjected to the solder plating treatment with a laser beam. A method for manufacturing a mold integrated semiconductor device is disclosed.

【0015】更に本発明は、更に半田メッキ処理した外
周リードフレームをレーザビームで切断する第3の工程
を含む樹脂モールド集積化半導体装置の製造方法を開示
する。
Further, the present invention discloses a method of manufacturing a resin mold integrated semiconductor device including a third step of cutting a solder-plated outer peripheral lead frame with a laser beam.

【0016】更に本発明は、半田メッキ処理を行うメッ
キ加工装置と、この半田メッキ処理したリードフレーム
のダムバーをレーザビームにより切断をするダムバー加
工装置とを備えた樹脂モールド集積化半導体装置の製造
装置を開示する。
Further, the present invention is an apparatus for manufacturing a resin mold integrated semiconductor device, which comprises a plating processing device for performing a solder plating process and a dam bar processing device for cutting the dam bar of the lead frame subjected to the solder plating process with a laser beam. Is disclosed.

【0017】[0017]

【作用】錫/亜鉛合金である半田は低融点であると同時
に、リードフレーム構成金属の表面で融解すると、その
表面と薄い合金組成を形成して濡れがよくなり、広い面
積で接触して強固な接着作用を示す性質がある。従っ
て、半田メッキ処理したリードフレームをレーザビーム
で溶断すると、切断個所の半田が再溶融してリードフレ
ーム金属と反応し、生成した合金が切断個所下面で再固
溶する。この固溶体は、前記したようにリードフレーム
金属と非常に濡れがよいため、強い接着力を示して振動
等によってもはく離することはない。
[Function] Tin / zinc alloy solder has a low melting point, and at the same time, when it melts on the surface of the lead frame constituent metal, it forms a thin alloy composition with the surface to improve the wetting, and makes a strong contact with a large area. It has the property of exhibiting various adhesive effects. Therefore, when the lead frame subjected to the solder plating treatment is blown by the laser beam, the solder at the cut portion is remelted and reacts with the lead frame metal, and the produced alloy is re-dissolved on the lower surface of the cut portion. Since this solid solution has very good wettability with the lead frame metal as described above, it exhibits a strong adhesive force and is not separated even by vibration or the like.

【0018】[0018]

【実施例】以下実施例に基づいて、本発明をより詳しく
述べる。図1は、実施例による樹脂モールド集積化半導
体装置の製造プロセス例を示すブロック図である。プロ
セスF1は、リードフレーム用金属の素材準備である。
銅合金や鉄/ニッケル合金のプレートが用いられるのが
普通である。プロセスF2は、前記素材表面の化学エッ
チングによる清浄化とプレス加工である。このプロセス
によって例えば図3のようなリードフレーム2のパター
ンが切り出される。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail based on the following examples. FIG. 1 is a block diagram showing an example of a manufacturing process of a resin mold integrated semiconductor device according to an embodiment. Process F1 is the preparation of a metal material for a lead frame.
Copper alloy and iron / nickel alloy plates are commonly used. Process F2 is cleaning and pressing by chemical etching of the material surface. By this process, for example, the pattern of the lead frame 2 as shown in FIG. 3 is cut out.

【0019】プロセスF3は、各種工程を経てIC化さ
れたSi半導体チップの搭載である。いわゆるダイボン
ディングでリードフレーム所定位置に実装する。そして
プロセスF4でワイヤーボンディングを行い、チップ/
リード間を接合する。しかる後、プロセスF5で実装し
た半導体チップ及び配線を保護するための樹脂モールド
が行われる。この時、樹脂金型のキャビティ部からオー
バーフローした流動性樹脂は、各リード間に設けられた
ダム11に溜まって固化する。ダムバー3が樹脂のアウ
ターリード6側への拡がりを防止する。このようにして
得られた樹脂モールド半導体装置7の上面図を、図3に
示した。図の半導体装置は、いわゆるQFP(quad
rate flat package)型フレームに実
装されている。この種のフレームは高密度集積回路実装
用で、リード間隔が0.5mm以下のファインリードフ
レームとなっている。なお、図3の2がプロセスF2で
切り出されたリードフレームパターンを示す。後工程で
リードフレームを切断して取り出すための位置出し孔1
がリードフレームの両側に設けられている。
Process F3 is the mounting of a Si semiconductor chip which has been integrated into an IC through various steps. The lead frame is mounted at a predetermined position by so-called die bonding. Then, wire bonding is performed in process F4, and the chip /
Join between leads. Thereafter, resin molding is performed to protect the semiconductor chip and wiring mounted in the process F5. At this time, the fluid resin overflowing from the cavity of the resin mold is collected and solidified in the dam 11 provided between the leads. The dam bar 3 prevents the resin from spreading to the outer lead 6 side. A top view of the resin-molded semiconductor device 7 thus obtained is shown in FIG. The semiconductor device shown in the figure is a so-called QFP (quad).
It is mounted on a rate flat package type frame. This type of frame is for mounting high-density integrated circuits and is a fine lead frame with a lead interval of 0.5 mm or less. In addition, 2 of FIG. 3 shows the lead frame pattern cut out in the process F2. Positioning hole 1 for cutting and taking out the lead frame in a later process
Are provided on both sides of the lead frame.

【0020】次に、プロセスF6でリードフレーム金属
材料に半田メッキ処理が行われる。この処理は通常電解
メッキ工程により行われ、錫/亜鉛合金が層状にリード
フレーム金属上に被覆される。樹脂モールドされている
半導体装置にメッキが及ばないのは、自明である。
Next, in process F6, the lead frame metal material is subjected to solder plating. This treatment is usually performed by an electroplating process in which the tin / zinc alloy is layered onto the leadframe metal. It is obvious that the resin-molded semiconductor device cannot be plated.

【0021】そしてプロセスF7でレーザビーム9によ
るダムバー3の切断が行われ、各リードは互いに外周部
(図3の点線より外側の領域)以外では接触していない
状態になる。このプロセスが行われた後の状態を示す斜
視図が、図4である。ダムバー3の切断された個所のリ
ードフレーム下面に、一旦溶融後重力の影響で下面にま
わり込んだ半田成分とリードフレーム金属間に形成され
る半田/リードフレーム金属間合金5が層状に固着して
いる状況が示されている。そのB−B断面図を拡大して
示したのが、図5(A)である半田/リードフレーム金
属間合金5はリードフレーム2に対して非常に濡れがよ
いため、下方へ液滴状になって垂れずに横方向に層状に
拡がって強固にリードフレーム2に固溶するのが特徴で
ある。
Then, in process F7, the dam bar 3 is cut by the laser beam 9, and the leads are not in contact with each other except in the outer peripheral portion (the area outside the dotted line in FIG. 3). FIG. 4 is a perspective view showing a state after this process is performed. On the lower surface of the lead frame where the dam bar 3 is cut, the solder / lead frame intermetallic alloy 5 formed between the solder component and the lead frame metal, which has once melted and then wraps around the lower surface under the influence of gravity, is fixed in layers. The situation is shown. The BB cross-sectional view is shown in an enlarged manner. Since the solder / lead frame intermetallic alloy 5 shown in FIG. It is characterized in that it does not sag and spreads laterally in layers to form a solid solution with the lead frame 2.

【0022】一方、従来は、図2(B)に示すようにレ
ーザビーム9によるダムバー3の切断プロセス後に半田
メッキプロセスを行っていた。これは、図2(A)で示
す本発明の実施例と逆である。この結果、従来例によれ
ば、図5(B)に示すように、レーザビーム9によるリ
ードフレーム2の局部的溶解は、リードフレーム2の下
面にドロス4の形成を惹起することがしばしばあった。
これは、同一材料による液滴のため、重力の影響が強く
作用してリードフレーム2との固着部面積が小さくなる
ためである。ドロス4は、固着部面積が小さいために、
その固着部が固化する過程で酸化されてもろく、機械的
振動や圧迫によって崩壊して金属ゴミとなりトラブル発
生の原因となる。
On the other hand, conventionally, as shown in FIG. 2B, the solder plating process is performed after the cutting process of the dam bar 3 by the laser beam 9. This is the opposite of the embodiment of the present invention shown in FIG. As a result, according to the conventional example, as shown in FIG. 5B, the local melting of the lead frame 2 by the laser beam 9 often caused the formation of the dross 4 on the lower surface of the lead frame 2. .
This is because the droplets made of the same material are strongly affected by gravity and the area of the fixed portion with the lead frame 2 is reduced. The dross 4 has a small fixed part area,
It is fragile even if it is oxidized in the process of solidification of the fixed portion, and it is broken by mechanical vibration or pressure to become metal dust, which causes troubles.

【0023】図1では、プロセスF7でダムバー3を切
断後、プロセスF8で外周リードフレームの切断を行
い、半導体装置をリードフレームプレートから切り離
す。例えば、図3の点線で示すAの個所から切断すれば
よい。この切断は、プレス加工で行うことができる。な
お、ダムバー3の切断及び外周リードフレームの切断時
には、図3で示した位置出し孔1を利用してプレートの
詳細な位置決めが行われる。
In FIG. 1, after cutting the dam bar 3 in process F7, the outer peripheral lead frame is cut in process F8 to separate the semiconductor device from the lead frame plate. For example, cutting may be performed from a portion A indicated by a dotted line in FIG. This cutting can be performed by pressing. When the dam bar 3 is cut and the outer peripheral lead frame is cut, the positioning holes 1 shown in FIG. 3 are used to perform detailed positioning of the plate.

【0024】プロセスF8の外周リードフレーム切断
は、プロセスF7のダムバー3切断同様、レーザビーム
9を用いて行うこともできる。この状況を、図6に示し
た。図示したように集光レンズ8で細く絞られたレーザ
ビーム9によるリードフレーム2切断時の熱によって、
半田とリードフレーム金属間の合金融液が生成し、これ
がリードフレーム下面にまわり込んで表面張力で下面に
溜まる。しかし、この合金融液は、リードフレーム金属
成分を含むリードフレーム金属とは異種金属であるた
め、リードフレーム金属と非常に濡れがよく、横方向に
拡がって大面積で固着する。図のC−C断面は図5
(A)の如くなり、後工程ではく離脱落を起こす心配の
ない半田/リードフレーム金属間合金5がリードフレー
ム2下面に形成される。
The cutting of the outer peripheral lead frame in the process F8 can be performed by using the laser beam 9 as in the cutting of the dam bar 3 in the process F7. This situation is shown in FIG. As shown, due to the heat generated when the lead frame 2 is cut by the laser beam 9 that is narrowed down by the condenser lens 8,
A synergistic liquid between the solder and the metal of the lead frame is generated, which wraps around the lower surface of the lead frame and accumulates on the lower surface due to surface tension. However, since this synthetic financial liquid is a metal different from the lead frame metal containing the lead frame metal component, it is very wettable with the lead frame metal and spreads laterally to be fixed in a large area. The cross section C-C of FIG.
As shown in (A), the solder / lead frame intermetallic alloy 5 is formed on the lower surface of the lead frame 2 without any fear of separation and drop in the later process.

【0025】レーザビーム9による切断を利用する場合
は、プロセスF6の半田メッキ後に前記説明のようにダ
ムバー3の切断後外周リードフレームの切断を行って
も、逆に外周リードフレームのレーザビーム切断後ダム
バー3のレーザビーム切断を行ってもよい。
When the cutting with the laser beam 9 is used, even if the outer peripheral lead frame is cut after the dam bar 3 is cut as described above after the solder plating in the process F6, the laser beam is not cut after the outer lead frame is cut. Laser beam cutting of the dam bar 3 may be performed.

【0026】しかし、半田メッキ処理のプロセスF6の
前に外周リードフレームのレーザビーム切断を行うなら
ば、図5(B)同様外周リードフレームの切断部には不
安定形状のドロス4が形成され、後工程でトラブルの原
因となる。従って、半田メッキ前にレーザビーム9によ
るダムバー3及び/又は外周リードフレームの切断を行
うことは、本発明の範ちゅう外である。
However, if the laser beam cutting of the outer peripheral lead frame is performed before the solder plating process F6, an unstable dross 4 is formed at the cut portion of the outer peripheral lead frame, as in FIG. 5B. It causes trouble in the later process. Therefore, cutting the dam bar 3 and / or the outer peripheral lead frame by the laser beam 9 before the solder plating is outside the scope of the present invention.

【0027】再び、図1に戻る。プロセスF8の外周リ
ードフレーム切断後は、プロセスF9でアウターリード
6の曲げ整形を行い、そのままプリント基板に実装でき
る形にする。さらに、プロセスF10で形式、品番、製
造工場、メーカー名などの文字、記号を製品の側面又は
裏面、表面にマーキングする。近年は、レーザマーキン
グが多用されている。そして、プロセスF11で検査し
て梱包することにより製品化が完成する。
Returning again to FIG. After the outer peripheral lead frame is cut in the process F8, the outer lead 6 is bent and shaped in the process F9 so that it can be mounted on the printed circuit board as it is. Further, in process F10, characters, symbols such as a model, a product number, a manufacturing factory, and a manufacturer's name are marked on the side surface, the back surface, or the front surface of the product. In recent years, laser marking has been widely used. Then, the product is completed by inspecting and packing in the process F11.

【0028】本発明の別の実施例では、前記したように
図1のプロセスでF8をレーザビーム9による切断にす
ることもできるし、F7とF8を入れ替えることもでき
る。また、プロセスF8の外周リードフレーム切断をプ
レス加工で行うものとすれば、F8を半田メッキ処理の
プロセスF6の前に挿入することも可能である。このよ
うにすれば、リードフレーム2の不要個所に半田メッキ
する必要がなく、半田原料の節約となる。
In another embodiment of the present invention, as described above, F8 can be cut by the laser beam 9 in the process of FIG. 1, or F7 and F8 can be interchanged. If the outer peripheral lead frame of the process F8 is cut by press working, it is possible to insert F8 before the process F6 of the solder plating process. By doing so, it is not necessary to perform solder plating on unnecessary portions of the lead frame 2, and the solder raw material can be saved.

【0029】本発明の主要な製造プロセスである図1の
F6〜F8については、図7に示したシステムによって
制御することが可能である。樹脂モールドされた半導体
装置を搭載したリードフレーム2は、図7の左方から右
方へ搬送される。搬送過程では、各半製品の作業速度及
び搬送状態を検知して搬送速度や搬送形態を制御するの
が、搬送制御装置20である。また、プロセスF6の半
田メッキ処理を行うメッキ加工装置21、プロセスF7
のダムバー3のレーザビーム切断を行うダムバー加工装
置22、プロセスF8の外周リードフレーム切断を行
う、例えばレーザビーム又はプレス切断機から成る外周
リードフレーム加工装置23をシーケンスコントロール
し、さらに搬送制御装置20の動作も併せて制御できる
管理装置24が備えられている。
The main manufacturing process of the present invention, F6 to F8 in FIG. 1, can be controlled by the system shown in FIG. The lead frame 2 on which the resin-molded semiconductor device is mounted is transported from the left side to the right side in FIG. In the transportation process, the transportation control device 20 detects the working speed and the transportation state of each semi-finished product and controls the transportation speed and the transportation mode. Further, the plating processing device 21 for performing the solder plating process of the process F6, the process F7
Sequence control of the dam bar processing device 22 that cuts the laser beam of the dam bar 3 and the outer circumference lead frame processing device 23 that performs the outer circumference lead frame cutting of the process F8, for example, a laser beam or a press cutting machine. A management device 24 that can also control the operation is provided.

【0030】図7に示した実施例によって、図1でプロ
セスを示した本発明の主要部の実施が可能になる。
The embodiment shown in FIG. 7 enables implementation of the main part of the invention whose process is shown in FIG.

【0031】[0031]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、ダ
ムバー及び/又は外周リードフレームのレーザビーム切
断時に従来発生していたドロスの形成を抑えることが可
能になった。製品化プロセスの中でドロスとなる液滴を
安定な合金固溶体に変換できるので、コストアップにつ
ながることもなく、後工程におけるドロスはく離に起因
するトラブルを防ぎ、製品歩留まりの向上に資すること
ができると考えられる。
As described above, according to the present invention, it is possible to suppress the formation of dross which has been conventionally generated at the time of cutting the dam bar and / or the outer peripheral lead frame with the laser beam. Since droplets that become dross can be converted into a stable alloy solid solution during the commercialization process, it does not lead to cost increase and can prevent troubles due to dross delamination in the subsequent process and contribute to the improvement of product yield. it is conceivable that.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例による製造プロセスを示すブロック図で
ある。
FIG. 1 is a block diagram showing a manufacturing process according to an embodiment.

【図2】半田メッキ/ダムバー切断プロセスの実施例と
従来例比較図である。
FIG. 2 is a comparison diagram of an example of a solder plating / dam bar cutting process and a conventional example.

【図3】QFP型樹脂モールド集積化半導体装置の上面
図(リードフレーム切断前)を示す。
FIG. 3 shows a top view (before cutting the lead frame) of a QFP type resin mold integrated semiconductor device.

【図4】実施例によるダムバー切断の実施例を示す斜視
図である。
FIG. 4 is a perspective view showing an example of dam bar cutting according to an example.

【図5】レーザビームの切断されたりリードフレーム断
面の実施例と従来例を比較する図である。
FIG. 5 is a diagram comparing an example of a laser beam cut or a lead frame cross section with a conventional example.

【図6】実施例による外周リードフレームのレーザビー
ム切断状態を示す斜視図である。
FIG. 6 is a perspective view showing a laser beam cutting state of an outer peripheral lead frame according to an example.

【図7】実施例によるプロセス制御システムを示すブロ
ック図(図1のプロセスF6〜F8対応)である。
FIG. 7 is a block diagram showing a process control system according to an embodiment (corresponding to processes F6 to F8 in FIG. 1).

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 位置出し孔 2 リードフレーム 3 ダムバー 4 ドロス 5 半田/リードフレーム金属間合金 6 アウターリード 7 樹脂モールド半導体装置 8 集光レンズ 9 レーザビーム 11 ダム A 外周リードフレーム(レーザ切断部) 1 Positioning Hole 2 Lead Frame 3 Dam Bar 4 Dross 5 Solder / Lead Frame Metal Alloy 6 Outer Lead 7 Resin Molded Semiconductor Device 8 Condenser Lens 9 Laser Beam 11 Dam A Outer Lead Frame (Laser Cutting Section)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 下村 義昭 茨城県土浦市神立町650番地 日立建機株 式会社土浦工場内 (72)発明者 奥村 信也 茨城県土浦市神立町650番地 日立建機株 式会社土浦工場内 (72)発明者 長野 義也 茨城県土浦市神立町650番地 日立建機株 式会社土浦工場内 (72)発明者 木村 信行 茨城県土浦市神立町650番地 日立建機株 式会社土浦工場内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Yoshiaki Shimomura 650 Kazutachi-cho, Tsuchiura-shi, Ibaraki Hitachi Construction Machinery Co., Ltd. Tsuchiura factory (72) Inventor Shinya Okumura 650 Kintate-cho, Tsuchiura-shi, Ibaraki Hitachi Construction Machinery Co., Ltd. Ceremony Company Tsuchiura Plant (72) Inventor Yoshiya Nagano 650 Kintatecho, Tsuchiura City, Ibaraki Prefecture Hitachi Construction Machinery Co., Ltd.Formula Company Tsuchiura Plant (72) Inventor Nobuyuki Kimura 650 Kintatecho, Tsuchiura City, Ibaraki Hitachi Construction Machinery Co., Ltd. Tsuchiura factory

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半田メッキ処理後にダムバーのレーザ切
断加工が行われてなる樹脂モールド集積化半導体装置。
1. A resin mold integrated semiconductor device obtained by laser cutting a dam bar after solder plating.
【請求項2】 半田メッキ処理後にダムバーのレーザ切
断加工及び外周リードフレームのレーザ切断加工が行わ
れてなる樹脂モールド集積化半導体装置。
2. A resin mold integrated semiconductor device in which a dam bar is laser-cut and a peripheral lead frame is laser-cut after a solder plating process.
【請求項3】 上記レーザ切断加工では、切断と同時に
切断後のアウターリード下面に半田とリードフレーム構
成金属との合金層が形成されるものとした請求項1又は
2に記載の樹脂モールド集積化半導体装置。
3. The resin mold integration according to claim 1, wherein in the laser cutting process, an alloy layer of solder and lead frame constituent metal is formed on the lower surface of the outer lead after cutting simultaneously with cutting. Semiconductor device.
【請求項4】前記樹脂モールド集積化半導体装置が、四
辺からアウターリードがピッチ幅0.5mm以下で複数
本突出しているQFP型ファインリードフレーム上に形
成された半導体装置である請求項1又は2記載の樹脂モ
ールド集積化半導体装置。
4. The semiconductor device integrated with a resin mold is a semiconductor device formed on a QFP type fine lead frame having a plurality of outer leads protruding from four sides with a pitch width of 0.5 mm or less. The resin mold integrated semiconductor device described.
【請求項5】 樹脂モールドした集積化半導体装置のリ
ードフレームへ半田メッキ処理する第1の工程と、半田
メッキ処理したリードフレームのダムバーをレーザビー
ム切断する第2の工程とを含む樹脂モールド集積化半導
体装置の製造方法。
5. A resin mold integration including a first step of subjecting a lead frame of a resin-molded integrated semiconductor device to a solder plating treatment and a second step of cutting a dam bar of the lead frame subjected to the solder plating treatment with a laser beam. Manufacturing method of semiconductor device.
【請求項6】 更に半田メッキ処理した外周リードフレ
ームをレーザビームで切断する第3の工程を含む請求項
5記載の樹脂モールド集積化半導体装置の製造方法。
6. The method of manufacturing a resin-mold integrated semiconductor device according to claim 5, further comprising a third step of cutting the solder-plated outer peripheral lead frame with a laser beam.
【請求項7】 上記レーザ切断加工では、切断と同時に
切断後のアウターリード下面に半田とリードフレーム構
成金属との合金層を形成するような加工とする請求項5
又は6の樹脂モールド集積化半導体装置の製造方法。
7. The laser cutting process is a process for forming an alloy layer of solder and lead frame constituent metal on the lower surface of the outer lead after cutting simultaneously with the cutting.
Alternatively, the method for manufacturing a resin mold integrated semiconductor device according to 6).
【請求項8】 前記樹脂モールド集積化半導体装置が、
四辺からアウターリードがピッチ幅0.5mm以下で複
数個突出しているQFP型ファインリードフレーム上に
形成された半導体装置である請求項5記載の樹脂モール
ド集積化半導体装置の製造方法。
8. The resin mold integrated semiconductor device comprises:
6. The method of manufacturing a resin-mold integrated semiconductor device according to claim 5, wherein the semiconductor device is formed on a QFP type fine lead frame having a plurality of outer leads protruding from four sides with a pitch width of 0.5 mm or less.
【請求項9】 前記樹脂モールド集積化半導体装置が、
QFP型ファインリードフレーム上に形成されている請
求項5記載の樹脂モールド集積化半導体装置の製造方
法。
9. The resin mold integrated semiconductor device comprises:
The method for manufacturing a resin mold integrated semiconductor device according to claim 5, which is formed on a QFP type fine lead frame.
【請求項10】 半田メッキ処理を行うメッキ加工装置
と、この半田メッキ処理したリードフレームのダムバー
をレーザビームにより切断をするダムバー加工装置とを
備えた樹脂モールド集積化半導体装置の製造装置。
10. An apparatus for manufacturing a resin mold integrated semiconductor device, comprising: a plating processing device for performing a solder plating process; and a dam bar processing device for cutting the dam bar of the lead frame subjected to the solder plating process with a laser beam.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20170156211A1 (en) * 2015-11-30 2017-06-01 Cree Fayetteville, Inc. Method and Device for a High Temperature Vacuum-Safe Solder Stop Utilizing Laser Processing of Solderable Surfaces for an Electronic Module Assembly

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20170156211A1 (en) * 2015-11-30 2017-06-01 Cree Fayetteville, Inc. Method and Device for a High Temperature Vacuum-Safe Solder Stop Utilizing Laser Processing of Solderable Surfaces for an Electronic Module Assembly
US10076800B2 (en) * 2015-11-30 2018-09-18 Cree Fayetteville, Inc. Method and device for a high temperature vacuum-safe solder stop utilizing laser processing of solderable surfaces for an electronic module assembly
US11135669B2 (en) 2015-11-30 2021-10-05 Cree, Inc. Method and device for a high temperature vacuum-safe solder resist utilizing laser ablation of solderable surfaces for an electronic module assembly

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