JPH07153069A - 磁気ディスク - Google Patents
磁気ディスクInfo
- Publication number
- JPH07153069A JPH07153069A JP32607693A JP32607693A JPH07153069A JP H07153069 A JPH07153069 A JP H07153069A JP 32607693 A JP32607693 A JP 32607693A JP 32607693 A JP32607693 A JP 32607693A JP H07153069 A JPH07153069 A JP H07153069A
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- JP
- Japan
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- rigid substrate
- magnetic
- magnetic disk
- magnetic film
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- Moving Of The Head To Find And Align With The Track (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 磁気ディスクにおいて、凹凸形状が形成され
ることでプリフォーマットされたモールド剛性基板１を
用いるとともに、そのディスク面上の任意の周における
回転軸方向のうねりの振幅Ａと該周の長さρの２乗の比
Ａ／ρ2 ，任意の点における曲率半径，凸部の最大表面
粗度，固有振動周波数を規制する。 【効果】 トラッキング信号の位置精度，生産効率の向
上が図れるとともに、浮上量を０．１μｍ程度に設定し
たヘッドスライダを、ディスク面と衝突させることなく
安定に浮上走行させることが可能になる。したがって、
磁気ディスクのさらなる高密度記録化に貢献することに
なる。
ることでプリフォーマットされたモールド剛性基板１を
用いるとともに、そのディスク面上の任意の周における
回転軸方向のうねりの振幅Ａと該周の長さρの２乗の比
Ａ／ρ2 ，任意の点における曲率半径，凸部の最大表面
粗度，固有振動周波数を規制する。 【効果】 トラッキング信号の位置精度，生産効率の向
上が図れるとともに、浮上量を０．１μｍ程度に設定し
たヘッドスライダを、ディスク面と衝突させることなく
安定に浮上走行させることが可能になる。したがって、
磁気ディスクのさらなる高密度記録化に貢献することに
なる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、リジッド型の磁気ディ
スクに関し、特に剛性基板としてモールド剛性基板を用
いる磁気ディスクに関する。
スクに関し、特に剛性基板としてモールド剛性基板を用
いる磁気ディスクに関する。
【０００２】
【従来の技術】例えばコンピュータ等の記憶媒体として
は、ランダムアクセスが可能な円板状の磁気ディスクが
広く用いられており、なかでも応答性に優れること等か
ら、基板にガラス板、セラミックス板、あるいは表面に
Ｎｉ−Ｐメッキ，アルマイト処理が施されたＡｌ合金板
等の剛性基板を用いたリジッド型磁気ディスクが使用さ
れるようになっている。
は、ランダムアクセスが可能な円板状の磁気ディスクが
広く用いられており、なかでも応答性に優れること等か
ら、基板にガラス板、セラミックス板、あるいは表面に
Ｎｉ−Ｐメッキ，アルマイト処理が施されたＡｌ合金板
等の剛性基板を用いたリジッド型磁気ディスクが使用さ
れるようになっている。
【０００３】この磁気ディスクでは、磁気ヘッドとの接
触による摩耗損傷を避けるとともに高密度記録，高速シ
ーク動作を可能にするために、磁気ヘッドがスライダー
に埋め込まれてなるヘッドスライダを用い、情報の記録
再生時に磁気ヘッドを高速回転する磁気ディスク表面よ
り、空気流の膜にのって微小間隙をもって浮上走行させ
るのが通常である。
触による摩耗損傷を避けるとともに高密度記録，高速シ
ーク動作を可能にするために、磁気ヘッドがスライダー
に埋め込まれてなるヘッドスライダを用い、情報の記録
再生時に磁気ヘッドを高速回転する磁気ディスク表面よ
り、空気流の膜にのって微小間隙をもって浮上走行させ
るのが通常である。
【０００４】この浮上走行の方式には、現在のところ大
きく分けてコンタクト・スタート・ストップ方式（ＣＳ
Ｓ方式）とノン・コンタクト・スタート・ストップ方式
（ＮＣＳＳ方式）の２種類の方式が採用されている。Ｃ
ＳＳ方式では、起動停止時にはヘッドスライダを磁気デ
ィスク表面に接触させておく。ヘッドスライダは起動時
のディスク回転開始により始めは磁気ディスク上を摺動
し、磁気ディスクが十分な回転速度に達したときに浮上
する。一方、ＮＣＳＳ方式では、ヘッドスライダを支持
しているアームの先端部を、傾斜面をもった台（ラン
プ）に載せ、この傾斜面に沿って徐々に摺動させること
で、高速回転している磁気ディスク上にヘッドスライダ
を降ろし、浮上走行させる。これら両方式とも停止時に
は起動時の逆の過程を経る。
きく分けてコンタクト・スタート・ストップ方式（ＣＳ
Ｓ方式）とノン・コンタクト・スタート・ストップ方式
（ＮＣＳＳ方式）の２種類の方式が採用されている。Ｃ
ＳＳ方式では、起動停止時にはヘッドスライダを磁気デ
ィスク表面に接触させておく。ヘッドスライダは起動時
のディスク回転開始により始めは磁気ディスク上を摺動
し、磁気ディスクが十分な回転速度に達したときに浮上
する。一方、ＮＣＳＳ方式では、ヘッドスライダを支持
しているアームの先端部を、傾斜面をもった台（ラン
プ）に載せ、この傾斜面に沿って徐々に摺動させること
で、高速回転している磁気ディスク上にヘッドスライダ
を降ろし、浮上走行させる。これら両方式とも停止時に
は起動時の逆の過程を経る。
【０００５】ここで、いずれの方式を採用した場合で
も、磁気ディスクの反りや回転に際するうねりが大きか
ったり、磁気ディスク表面が余り粗れていると、浮上走
行するヘッドスライダがディスク面に衝突し、互いが破
壊されるといったトラブルが発生する。特に、最近で
は、高密度記録化が進行し、その場合にも十分な再生出
力を得るべくヘッド浮上量を０．１μｍ程度にまで低減
させることが要求されているが、そうしたときには上記
トラブルの発生する可能性はさらに高くなる。
も、磁気ディスクの反りや回転に際するうねりが大きか
ったり、磁気ディスク表面が余り粗れていると、浮上走
行するヘッドスライダがディスク面に衝突し、互いが破
壊されるといったトラブルが発生する。特に、最近で
は、高密度記録化が進行し、その場合にも十分な再生出
力を得るべくヘッド浮上量を０．１μｍ程度にまで低減
させることが要求されているが、そうしたときには上記
トラブルの発生する可能性はさらに高くなる。
【０００６】このため、磁気ディスクでは、基板に、切
断，研磨等の機械加工を施して平坦度，表面粗度を向上
させ、ヘッドスライダの衝突を回避するようにしてい
る。
断，研磨等の機械加工を施して平坦度，表面粗度を向上
させ、ヘッドスライダの衝突を回避するようにしてい
る。
【０００７】ところで、このような磁気ディスクにおい
て、情報信号は、同心円状に形成された多数の記録トラ
ック上を磁気ヘッドを浮上走行させることで記録，再生
される。このとき磁気ヘッドを所定の記録トラック位置
に正確に移動させ、そのトラック上をずれることなく高
精度に走行させるには、ディスク面にトラック位置の目
印となるトラッキング信号を予め書き込んでおく必要が
ある。
て、情報信号は、同心円状に形成された多数の記録トラ
ック上を磁気ヘッドを浮上走行させることで記録，再生
される。このとき磁気ヘッドを所定の記録トラック位置
に正確に移動させ、そのトラック上をずれることなく高
精度に走行させるには、ディスク面にトラック位置の目
印となるトラッキング信号を予め書き込んでおく必要が
ある。
【０００８】このようなトラッキング信号の書き込み
は、従来、磁気ヘッドが搭載されたサーボライタを用
い、磁気ディスク１枚ずつにトラッキング信号パターン
に対応させて磁性層を磁化反転させることで行われてい
る。
は、従来、磁気ヘッドが搭載されたサーボライタを用
い、磁気ディスク１枚ずつにトラッキング信号パターン
に対応させて磁性層を磁化反転させることで行われてい
る。
【０００９】しかし、サーボライタを用いてトラッキン
グ信号を書き込む場合、一括処理が困難であり、生産効
率の向上に不利である。また、最近のトラック幅をより
狭小化して高密度記録化を図るといった要請に応えるに
は、サーボライタ機構部自体の精度をさらに向上させて
トラッキング信号の位置精度を高める必要がある。しか
し、機構部精度の向上は技術的，価格的な面で限界があ
る。
グ信号を書き込む場合、一括処理が困難であり、生産効
率の向上に不利である。また、最近のトラック幅をより
狭小化して高密度記録化を図るといった要請に応えるに
は、サーボライタ機構部自体の精度をさらに向上させて
トラッキング信号の位置精度を高める必要がある。しか
し、機構部精度の向上は技術的，価格的な面で限界があ
る。
【００１０】そこで、磁性層に所定のトラッキング信号
パターンに対応したマスクを形成し、マスクが形成され
た以外の部分にエッチング処理あるいは非磁性化処理を
施すことでトラッキング信号を書き込むようにした磁気
ディスクが提案されている。
パターンに対応したマスクを形成し、マスクが形成され
た以外の部分にエッチング処理あるいは非磁性化処理を
施すことでトラッキング信号を書き込むようにした磁気
ディスクが提案されている。
【００１１】このようにエッチング処理，非磁性化処理
によってトラッキング信号を書き込む場合、複数ディス
クに対する一括処理が可能になり、トラッキング信号の
位置精度も向上する。しかし、通常の磁気ディスクの製
造工程以外に、さらにマスク形成工程，エッチング処理
工程（あるいは非磁性化処理工程）の少なくとも２工程
を組み込まなければならない。このため、製造工程が煩
雑化し、やはり磁気ディスクの低価格化は難しい。
によってトラッキング信号を書き込む場合、複数ディス
クに対する一括処理が可能になり、トラッキング信号の
位置精度も向上する。しかし、通常の磁気ディスクの製
造工程以外に、さらにマスク形成工程，エッチング処理
工程（あるいは非磁性化処理工程）の少なくとも２工程
を組み込まなければならない。このため、製造工程が煩
雑化し、やはり磁気ディスクの低価格化は難しい。
【００１２】そこで、さらにモールド剛性基板に直接凹
凸を形成することでトラッキング信号を書き込むように
した磁気ディスクが提案されている。
凸を形成することでトラッキング信号を書き込むように
した磁気ディスクが提案されている。
【００１３】この磁気ディスクでは、基板材料にプラス
チックを用い、これをモールド技術によって基板形状に
成形するようにし、その際の金型にトラッキング信号に
対応した凹凸パターンを予め形成しておけば良い。した
がって、通常の磁気ディスクの製造工程の他に別工程を
組み込まなくて済み、位置精度の高いトラッキング信号
が製造コストを増大させることなく書き込めることにな
る。
チックを用い、これをモールド技術によって基板形状に
成形するようにし、その際の金型にトラッキング信号に
対応した凹凸パターンを予め形成しておけば良い。した
がって、通常の磁気ディスクの製造工程の他に別工程を
組み込まなくて済み、位置精度の高いトラッキング信号
が製造コストを増大させることなく書き込めることにな
る。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、モールド技
術によって成形されたモールド基板は、成形条件によっ
て平坦度や表面粗度が変動し易く、アルミニウム等の剛
性基板に比べて反りやうねり，表面粗度が問題となる。
術によって成形されたモールド基板は、成形条件によっ
て平坦度や表面粗度が変動し易く、アルミニウム等の剛
性基板に比べて反りやうねり，表面粗度が問題となる。
【００１５】このモールド基板を用いて、ヘッド浮上量
を０．１μｍ以下にまで低減させるには、まず、その反
りや回転に際するうねり，表面粗度を規制することが必
要であるが、現在のところでは、これら形状パラメータ
の低いヘッド浮上量に対応した適正な規制範囲は見い出
されいないのが実情である。
を０．１μｍ以下にまで低減させるには、まず、その反
りや回転に際するうねり，表面粗度を規制することが必
要であるが、現在のところでは、これら形状パラメータ
の低いヘッド浮上量に対応した適正な規制範囲は見い出
されいないのが実情である。
【００１６】そこで、本発明はこのような従来の実情に
鑑みて提案されたものであり、トラッキング信号の位置
精度が高く、生産効率に優れるとともに、ヘッド浮上量
が０．１μｍ程度に設定されたヘッドスライダが、ディ
スク面と衝突することなく安定に浮上走行し得る磁気デ
ィスクを提供することを目的とする。
鑑みて提案されたものであり、トラッキング信号の位置
精度が高く、生産効率に優れるとともに、ヘッド浮上量
が０．１μｍ程度に設定されたヘッドスライダが、ディ
スク面と衝突することなく安定に浮上走行し得る磁気デ
ィスクを提供することを目的とする。
【００１７】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明の磁気ディスクは、モールド剛性基板上に
磁性膜が形成されてなり、上記モールド剛性基板はサー
ボマークが凹凸形状として形成されることでプリフォー
ムされ、上記磁性膜は前記モールド剛性基板の凹部に対
応した領域と凸部に対応した領域とが互いに逆向きの磁
化方向となるように磁化されてなる磁気ディスクであっ
て、ディスク面上の任意の周における回転軸方向のうね
りの振幅をＡ，該周の長さをρとしたときに、Ａ／ρ2
が０．０２４以下であることを特徴とするものである。
めに、本発明の磁気ディスクは、モールド剛性基板上に
磁性膜が形成されてなり、上記モールド剛性基板はサー
ボマークが凹凸形状として形成されることでプリフォー
ムされ、上記磁性膜は前記モールド剛性基板の凹部に対
応した領域と凸部に対応した領域とが互いに逆向きの磁
化方向となるように磁化されてなる磁気ディスクであっ
て、ディスク面上の任意の周における回転軸方向のうね
りの振幅をＡ，該周の長さをρとしたときに、Ａ／ρ2
が０．０２４以下であることを特徴とするものである。
【００１８】また、モールド剛性基板上に磁性膜が形成
されてなり、上記モールド剛性基板はサーボマークが凹
凸形状として形成されることでプリフォームされ、上記
磁性膜は前記モールド剛性基板の凹部に対応した領域と
凸部に対応した領域とが互いに逆向きの磁化方向となる
ように磁化されてなる磁気ディスクであって、ディスク
面上の任意の点における曲率半径が１．７ｍ以上である
ことを特徴とするものである。
されてなり、上記モールド剛性基板はサーボマークが凹
凸形状として形成されることでプリフォームされ、上記
磁性膜は前記モールド剛性基板の凹部に対応した領域と
凸部に対応した領域とが互いに逆向きの磁化方向となる
ように磁化されてなる磁気ディスクであって、ディスク
面上の任意の点における曲率半径が１．７ｍ以上である
ことを特徴とするものである。
【００１９】さらに、モールド剛性基板上に磁性膜が形
成されてなり、上記モールド剛性基板はサーボマークが
凹凸形状として形成されることでプリフォームされ、上
記磁性膜は前記モールド剛性基板の凹部に対応した領域
と凸部に対応した領域とが互いに逆向きの磁化方向とな
るように磁化されてなる磁気ディスクであって、ディス
ク面の凸部の最大表面粗度が１００ｎｍ以下であること
を特徴とするものである。
成されてなり、上記モールド剛性基板はサーボマークが
凹凸形状として形成されることでプリフォームされ、上
記磁性膜は前記モールド剛性基板の凹部に対応した領域
と凸部に対応した領域とが互いに逆向きの磁化方向とな
るように磁化されてなる磁気ディスクであって、ディス
ク面の凸部の最大表面粗度が１００ｎｍ以下であること
を特徴とするものである。
【００２０】さらに、モールド剛性基板上に磁性膜が形
成されてなり、上記モールド剛性基板はサーボマークが
凹凸形状として形成されることでプリフォームされ、上
記磁性膜は前記モールド剛性基板の凹部に対応した領域
と凸部に対応した領域とが互いに逆向きの磁化方向とな
るように磁化されてなる磁気ディスクであって、その共
振周波数が６０Ｈｚ以上であることを特徴とするもので
ある。
成されてなり、上記モールド剛性基板はサーボマークが
凹凸形状として形成されることでプリフォームされ、上
記磁性膜は前記モールド剛性基板の凹部に対応した領域
と凸部に対応した領域とが互いに逆向きの磁化方向とな
るように磁化されてなる磁気ディスクであって、その共
振周波数が６０Ｈｚ以上であることを特徴とするもので
ある。
【００２１】さらに、モールド剛性基板は、データトラ
ック部が凸形状、ガードバンド部が凹形状となるように
プリフォームされていることを特徴とするものである。
ック部が凸形状、ガードバンド部が凹形状となるように
プリフォームされていることを特徴とするものである。
【００２２】
【作用】磁気ディスクにおいて、サーボマークが凹凸形
状として予めプリフォーマットされたモールド剛性基板
を用いると、製造に際してサーボマークを書き込むため
の工程を別工程として組み込む必要がなく、製造工程数
を増大させることなく位置精度の高いサーボマークが得
られる。
状として予めプリフォーマットされたモールド剛性基板
を用いると、製造に際してサーボマークを書き込むため
の工程を別工程として組み込む必要がなく、製造工程数
を増大させることなく位置精度の高いサーボマークが得
られる。
【００２３】このようなモールド剛性基板を用いる磁気
ディスクにおいて、ディスク面上の任意の周における回
転軸方向のうねりの振幅Ａと周の長さρの２乗の比Ａ／
ρ2を０．０２４以下に、任意の点における曲率半径を
１．７ｍ以下に、共振周波数を６０Ｈｚ以上に、そして
表面粗度を１００ｎｍ以下に規制すると、ヘッド浮上量
を０．１μｍ以下と低く設定した場合でも、ヘッドスラ
イダがディスク面に衝突することなく安定に浮上走行す
るようになる。
ディスクにおいて、ディスク面上の任意の周における回
転軸方向のうねりの振幅Ａと周の長さρの２乗の比Ａ／
ρ2を０．０２４以下に、任意の点における曲率半径を
１．７ｍ以下に、共振周波数を６０Ｈｚ以上に、そして
表面粗度を１００ｎｍ以下に規制すると、ヘッド浮上量
を０．１μｍ以下と低く設定した場合でも、ヘッドスラ
イダがディスク面に衝突することなく安定に浮上走行す
るようになる。
【００２４】
【実施例】本発明の好適な実施例について図面を参照し
ながら説明する。
ながら説明する。
【００２５】本実施例の磁気ディスクの全体平面図を図
１に、要部拡大平面図を図２に、半径方向に切断した要
部拡大断面図を図３に、円周方向に切断した要部拡大断
面図を図４に示す。
１に、要部拡大平面図を図２に、半径方向に切断した要
部拡大断面図を図３に、円周方向に切断した要部拡大断
面図を図４に示す。
【００２６】本実施例の磁気ディスクは、図３，図４に
示すように、剛性基板１上に磁性膜２が形成されてなっ
ている。
示すように、剛性基板１上に磁性膜２が形成されてなっ
ている。
【００２７】上記剛性基板１は、モールド技術によって
円板状に成形され、磁性膜２が形成された側の面にはサ
ーボマークが凹凸形状としてプリフォーマットされてい
る。
円板状に成形され、磁性膜２が形成された側の面にはサ
ーボマークが凹凸形状としてプリフォーマットされてい
る。
【００２８】このようなサーボマークがプリフォーマッ
トされた剛性基板１を用いる磁気ディスクでは、製造に
際してサーボマークを書き込むための工程を別工程とし
て組み込む必要がなく、磁性膜にサーボライタによって
サーボマークを書き込むタイプの磁気記録媒体，磁性膜
をエッチング処理あるいは非磁性化処理することによっ
てサーボマークを書き込むタイプの磁気記録媒体に比べ
て位置精度の高いサーボマークが低コストで得られるこ
とになる。
トされた剛性基板１を用いる磁気ディスクでは、製造に
際してサーボマークを書き込むための工程を別工程とし
て組み込む必要がなく、磁性膜にサーボライタによって
サーボマークを書き込むタイプの磁気記録媒体，磁性膜
をエッチング処理あるいは非磁性化処理することによっ
てサーボマークを書き込むタイプの磁気記録媒体に比べ
て位置精度の高いサーボマークが低コストで得られるこ
とになる。
【００２９】なお、基板１上に形成するサーボマーク
は、図１，図２に示すようにサンプルドサーボ情報等の
サーボ信号３ａや情報信号記録領域となるトラック部３
ｂ，隣合うトラック部同志を分断するガードバンド部３
ｃ等、通常、磁気ディスクにおいて書き込まれるサーボ
マークである。ここではトラック部３ｂは凸形状として
形成され、これに対してガードバンド部３ｃは凹形状と
して形成されている。
は、図１，図２に示すようにサンプルドサーボ情報等の
サーボ信号３ａや情報信号記録領域となるトラック部３
ｂ，隣合うトラック部同志を分断するガードバンド部３
ｃ等、通常、磁気ディスクにおいて書き込まれるサーボ
マークである。ここではトラック部３ｂは凸形状として
形成され、これに対してガードバンド部３ｃは凹形状と
して形成されている。
【００３０】この剛性基板１の材料としては、ポリエー
テルポリイミド，ポリカーボネート，ポリサルホン，ポ
リエーテルサルホン，ポリアセタール，ポリフェニレン
サルファイド等が挙げられる。
テルポリイミド，ポリカーボネート，ポリサルホン，ポ
リエーテルサルホン，ポリアセタール，ポリフェニレン
サルファイド等が挙げられる。
【００３１】このような凹凸形状が形成された剛性基板
１上には磁性膜２が形成されている。上記磁性膜２は、
剛性基板１の凹部に対応した領域と凸部に対応した領域
とが互いに逆向きの磁化方向となるように磁化されてお
り、これにより凹凸形状でプリフォーマットされたサー
ボマークが磁気信号として検出できるようになってい
る。
１上には磁性膜２が形成されている。上記磁性膜２は、
剛性基板１の凹部に対応した領域と凸部に対応した領域
とが互いに逆向きの磁化方向となるように磁化されてお
り、これにより凹凸形状でプリフォーマットされたサー
ボマークが磁気信号として検出できるようになってい
る。
【００３２】上記磁性膜２に用いる磁性材料としては、
従来から公知のものが使用でき、例えばＣｏ，Ｃｏ−Ｃ
ｒ合金，Ｃｏ−Ｎｉ合金，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ合金，Ｃｏ
−Ｎｉオキサイド等が挙げられる。
従来から公知のものが使用でき、例えばＣｏ，Ｃｏ−Ｃ
ｒ合金，Ｃｏ−Ｎｉ合金，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ合金，Ｃｏ
−Ｎｉオキサイド等が挙げられる。
【００３３】そして、特にこの磁気ディスクでは、浮上
量が０．１μｍ以下に設定されたヘッドスライダを衝突
することなく安定に浮上走行させるために、ディスク面
上の任意の周における回転軸方向のうねりの振幅Ａと該
周の長さρの２乗の比Ａ／ρ2 が０．０２４以下に、任
意の点における曲率半径が１．７ｍ以下に、共振周波数
が６０Ｈｚ以上に、そして表面粗度が１００ｎｍ以下に
規制されている。
量が０．１μｍ以下に設定されたヘッドスライダを衝突
することなく安定に浮上走行させるために、ディスク面
上の任意の周における回転軸方向のうねりの振幅Ａと該
周の長さρの２乗の比Ａ／ρ2 が０．０２４以下に、任
意の点における曲率半径が１．７ｍ以下に、共振周波数
が６０Ｈｚ以上に、そして表面粗度が１００ｎｍ以下に
規制されている。
【００３４】まず、上記Ａ／ρ2 の範囲は、磁気ディス
クのディスク面のうねりを、浮上量０．１μｍに設定さ
れたヘッドスライダが追従して浮上走行できる程度に小
さくするという観点から設定したものである。
クのディスク面のうねりを、浮上量０．１μｍに設定さ
れたヘッドスライダが追従して浮上走行できる程度に小
さくするという観点から設定したものである。
【００３５】すなわち、回転している磁気ディスクのう
ねりに対する，浮上走行しているヘッドスライダの追従
特性Δｈ／Ａ（Δｈ：浮上すきまの変動量，Ａ：磁気デ
ィスクの回転軸方向の振幅）は、数１で表されることが
日本機械学会論文集（Ｃ編）５１巻４６９号２２９１頁
等において報告されている。
ねりに対する，浮上走行しているヘッドスライダの追従
特性Δｈ／Ａ（Δｈ：浮上すきまの変動量，Ａ：磁気デ
ィスクの回転軸方向の振幅）は、数１で表されることが
日本機械学会論文集（Ｃ編）５１巻４６９号２２９１頁
等において報告されている。
【００３６】
【数１】
【００３７】このとき、スライダー長さＬがディスク面
のうねり波長λよりも十分に小さい（Ｌ＜＜λ）と仮定
すると、上記数１（１）は数２のように近似的に表さ
れ、
のうねり波長λよりも十分に小さい（Ｌ＜＜λ）と仮定
すると、上記数１（１）は数２のように近似的に表さ
れ、
【００３８】
【数２】
【００３９】この数２は、数３のように変換される。
【００４０】
【数３】
【００４１】数３中、ｃは定数であり、実験及び計算機
によるシミュレーションによって１．３と求められる。
数３のｃに１．３を代入した結果を数４に示す。
によるシミュレーションによって１．３と求められる。
数３のｃに１．３を代入した結果を数４に示す。
【００４２】
【数４】
【００４３】ここで、設定浮上量０．１μｍのヘッドス
ライダを、ディスク面に衝突させないためには、浮上変
化量Δｈは少なくとも０．１μｍ以下である必要があ
る。また、一般的に汎用されているヘッドスライダ（７
０％マイクロスライダ）の長さＬは１．８ｍｍである。
そこで、数４のΔｈに０．１μｍを、Ｌに１．８ｍｍを
それぞれ代入すると、Ａ／λ2 は０．０２４と算出され
る。すなわち、浮上変化量Δｈが０．１μｍ以下に抑え
られるのは、このＡ／λ2 が０．０２４以下のときであ
る。
ライダを、ディスク面に衝突させないためには、浮上変
化量Δｈは少なくとも０．１μｍ以下である必要があ
る。また、一般的に汎用されているヘッドスライダ（７
０％マイクロスライダ）の長さＬは１．８ｍｍである。
そこで、数４のΔｈに０．１μｍを、Ｌに１．８ｍｍを
それぞれ代入すると、Ａ／λ2 は０．０２４と算出され
る。すなわち、浮上変化量Δｈが０．１μｍ以下に抑え
られるのは、このＡ／λ2 が０．０２４以下のときであ
る。
【００４４】このとき、ディスク面の任意の周上におけ
るうねりの波長λはその周の長さρを越えることがな
く、常にλ≦ρの関係が成り立つ。したがって、Ａ／λ
2 はＡ／ρ2 と置き換えることができる。つまり、剛性
モールド基板のＡ／ρ2 が０．０２４以下である場合
に、浮上変化量Δｈが０．１μｍ以下に抑えられ、設定
浮上量０．１μｍのヘッドスライダがディスク面上を衝
突することなく浮上走行できることになる。
るうねりの波長λはその周の長さρを越えることがな
く、常にλ≦ρの関係が成り立つ。したがって、Ａ／λ
2 はＡ／ρ2 と置き換えることができる。つまり、剛性
モールド基板のＡ／ρ2 が０．０２４以下である場合
に、浮上変化量Δｈが０．１μｍ以下に抑えられ、設定
浮上量０．１μｍのヘッドスライダがディスク面上を衝
突することなく浮上走行できることになる。
【００４５】本発明では、さらに、ディスク面上の任意
の点における曲率半径を１．７ｍ以上に規制する。この
曲率半径は、基板の反りを、スライダを磁気ヘッド部分
が０．１μｍの浮上量となるように浮上走行させたとき
に、磁気ヘッド部分以外の部分がモールド剛性基板に衝
突しない程度に小さくするという観点から設定したもの
である。
の点における曲率半径を１．７ｍ以上に規制する。この
曲率半径は、基板の反りを、スライダを磁気ヘッド部分
が０．１μｍの浮上量となるように浮上走行させたとき
に、磁気ヘッド部分以外の部分がモールド剛性基板に衝
突しない程度に小さくするという観点から設定したもの
である。
【００４６】すなわち、図５に反りを有するディスク面
２１上をヘッドスライダ２２が浮上走行している様子を
模式的に示す。このように反りを有するディスク面２１
上をヘッドスライダ２２が浮上走行する場合、スライダ
２１のディスク対向面とディスク面の間隔は、スライダ
２１のディスク対向面内で差異があり、スライダのディ
スク対向面の中央線近傍から外端部近傍に向かってディ
スク面からの間隔は小さくなる。
２１上をヘッドスライダ２２が浮上走行している様子を
模式的に示す。このように反りを有するディスク面２１
上をヘッドスライダ２２が浮上走行する場合、スライダ
２１のディスク対向面とディスク面の間隔は、スライダ
２１のディスク対向面内で差異があり、スライダのディ
スク対向面の中央線近傍から外端部近傍に向かってディ
スク面からの間隔は小さくなる。
【００４７】たとえば、図５に示すように、ディスク対
向面に走行方向に沿って２本のレール２３が形成され、
この２本のレールの走行方向側の端面中央部に磁気ヘッ
ド２４が埋め込まれたヘッドスライダ（２レールテーパ
フラット型スライダ）では、レールのディスク対向面と
ディスク面の間隔は、レール中央線近傍とレール外端部
近傍で数５で表されるΔｄだけ差がある。数５中、ｂは
レールの幅、ｗは２本のレールの間隔である。
向面に走行方向に沿って２本のレール２３が形成され、
この２本のレールの走行方向側の端面中央部に磁気ヘッ
ド２４が埋め込まれたヘッドスライダ（２レールテーパ
フラット型スライダ）では、レールのディスク対向面と
ディスク面の間隔は、レール中央線近傍とレール外端部
近傍で数５で表されるΔｄだけ差がある。数５中、ｂは
レールの幅、ｗは２本のレールの間隔である。
【００４８】
【数５】
【００４９】このディスク面との間隔差Δｄは、このよ
うにスライダが浮上している直下のディスク面２１の曲
率Ｒの関数として表される。
うにスライダが浮上している直下のディスク面２１の曲
率Ｒの関数として表される。
【００５０】ここで、スライダ２２を、レール２３の一
端面中央部に位置する磁気ヘッド部分２４の浮上量が
０．１μｍなるように浮上走行させたときに、レール２
３の外端部がディスク面２１に衝突しないためには、Δ
ｄが０．１μｍ以下である必要がある。そこで、数５の
Δｄに０．１を、ｂ，ｗにそれぞれ一般的に汎用されて
いるヘッドスライダの値，すなわちｗに１．７４ｍｍ、
レール幅ｂに０．３６ｍｍを代入すると、Ｒは１．７ｍ
と求められる。
端面中央部に位置する磁気ヘッド部分２４の浮上量が
０．１μｍなるように浮上走行させたときに、レール２
３の外端部がディスク面２１に衝突しないためには、Δ
ｄが０．１μｍ以下である必要がある。そこで、数５の
Δｄに０．１を、ｂ，ｗにそれぞれ一般的に汎用されて
いるヘッドスライダの値，すなわちｗに１．７４ｍｍ、
レール幅ｂに０．３６ｍｍを代入すると、Ｒは１．７ｍ
と求められる。
【００５１】つまり、モールド剛性基板の任意の点にお
ける曲率半径が１．７ｍ以上である場合に、浮上量０．
１μｍのヘッドスライダがいずれの部分もディスク面に
衝突させることなく浮上走行し得ることになる。
ける曲率半径が１．７ｍ以上である場合に、浮上量０．
１μｍのヘッドスライダがいずれの部分もディスク面に
衝突させることなく浮上走行し得ることになる。
【００５２】また、さらに、設定浮上量０．１μｍのヘ
ッドスライダをディスク面に衝突させないために、モー
ルド剛性基板の特に浮上走行するヘッドスライダに最も
近接することになる凸部の最大表面粗度が、０．１μｍ
（１００ｎｍ）以下であることが必要である。
ッドスライダをディスク面に衝突させないために、モー
ルド剛性基板の特に浮上走行するヘッドスライダに最も
近接することになる凸部の最大表面粗度が、０．１μｍ
（１００ｎｍ）以下であることが必要である。
【００５３】このように、本実施例では、磁気ディスク
の形状パラメータを規制するが、さらに磁気ディスクと
記録再生装置内の振動成分とが共振して磁気ディスクが
励振するといった現象を防止するために磁気ディスクの
固有振動数が６０Ｈｚ以上に規制されている。
の形状パラメータを規制するが、さらに磁気ディスクと
記録再生装置内の振動成分とが共振して磁気ディスクが
励振するといった現象を防止するために磁気ディスクの
固有振動数が６０Ｈｚ以上に規制されている。
【００５４】記録再生装置内での磁気ディスクの共振
は、その固有振動数が、記録再生装置内で最も周波数の
低い振動成分の周波数以上であれば防止される。記録再
生装置内で最も周波数の低い振動成分はスピンドルの回
転であり、一般的にはその回転数は３６００ｒｐｍ〜５
４００ｒｐｍ程度，周波数は６０Ｈｚ〜９０Ｈｚであ
る。上記固有振動数範囲６０Ｈｚ以上とは、このスピン
ドル軸と共振しない周波数として設定したものである。
は、その固有振動数が、記録再生装置内で最も周波数の
低い振動成分の周波数以上であれば防止される。記録再
生装置内で最も周波数の低い振動成分はスピンドルの回
転であり、一般的にはその回転数は３６００ｒｐｍ〜５
４００ｒｐｍ程度，周波数は６０Ｈｚ〜９０Ｈｚであ
る。上記固有振動数範囲６０Ｈｚ以上とは、このスピン
ドル軸と共振しない周波数として設定したものである。
【００５５】このように磁気ディスクの形状パラメータ
や固有振動数を規制することにより、浮上量０．１μｍ
以下に設定されたヘッドスライダがディスク面上を衝突
することなく安定に浮上走行するようになる。
や固有振動数を規制することにより、浮上量０．１μｍ
以下に設定されたヘッドスライダがディスク面上を衝突
することなく安定に浮上走行するようになる。
【００５６】なお、これら磁気ディスクの回転軸方向の
うねりの振幅Ａと周の長さρの２乗の比Ａ／ρ2 ，曲率
半径は、剛性基板をモールド成形する際の、樹脂の射出
速度，保持圧力，取り出し前の冷却時間等の条件を最適
化することにより、また凸部の表面粗度は、金型の表面
粗度を管理し，樹脂の射出温度を最適化することによっ
て所定範囲内に調整することができる。さらに固有振動
数は、剛性基板の板厚を、樹脂材料の剛性を考慮して選
択することにより所定範囲内に調整することができる。
うねりの振幅Ａと周の長さρの２乗の比Ａ／ρ2 ，曲率
半径は、剛性基板をモールド成形する際の、樹脂の射出
速度，保持圧力，取り出し前の冷却時間等の条件を最適
化することにより、また凸部の表面粗度は、金型の表面
粗度を管理し，樹脂の射出温度を最適化することによっ
て所定範囲内に調整することができる。さらに固有振動
数は、剛性基板の板厚を、樹脂材料の剛性を考慮して選
択することにより所定範囲内に調整することができる。
【００５７】また、以上の説明では、モールド剛性基板
上に磁性膜が形成されてなる基本的な構成の磁気ディス
クを例にしているが、磁気ディスクの構成はこれに限ら
ず、形状パラメータ，固有振動数が上記条件を満たして
いれば、剛性基板と磁性膜の間に下地膜を設けたり、磁
性膜上にカーボン等よりなる保護膜、さらにその上に潤
滑剤膜を形成するようにしても差し支えない。
上に磁性膜が形成されてなる基本的な構成の磁気ディス
クを例にしているが、磁気ディスクの構成はこれに限ら
ず、形状パラメータ，固有振動数が上記条件を満たして
いれば、剛性基板と磁性膜の間に下地膜を設けたり、磁
性膜上にカーボン等よりなる保護膜、さらにその上に潤
滑剤膜を形成するようにしても差し支えない。
【００５８】次に、上記磁気ディスクを実際に作製し、
ヘッドスライダーの浮上走行の様子を観察した。
ヘッドスライダーの浮上走行の様子を観察した。
【００５９】まず、カーボネートをモールド成形するこ
とで剛性基板を作製した。なお、基板寸法は、外径６５
ｍｍ，内径２０ｍｍ，板厚１．２ｍｍであり、サーボマ
ークとなる凹部と凸部の段差は０．２μｍである。
とで剛性基板を作製した。なお、基板寸法は、外径６５
ｍｍ，内径２０ｍｍ，板厚１．２ｍｍであり、サーボマ
ークとなる凹部と凸部の段差は０．２μｍである。
【００６０】この剛性基板上に、スパッタ法によりＣｒ
下地膜，Ｃｏ合金磁性膜，カーボン保護膜を、合計膜厚
が０．２５μｍとなるように順次成膜し、さらに保護膜
上に潤滑剤を塗布することで磁気ディスクを作製した。
下地膜，Ｃｏ合金磁性膜，カーボン保護膜を、合計膜厚
が０．２５μｍとなるように順次成膜し、さらに保護膜
上に潤滑剤を塗布することで磁気ディスクを作製した。
【００６１】なお、回転軸方向のうねりの振幅Ａと周の
長さρの２乗の比Ａ／ρ2 ，曲率半径，凸部の表面粗度
は、剛性基板をモールド成形する際の条件を制御するこ
とで所定範囲内に調整した。さらに固有振動数は、剛性
基板の板厚を１．２ｍｍにすることによって、６０Ｈｚ
以上に調整した。
長さρの２乗の比Ａ／ρ2 ，曲率半径，凸部の表面粗度
は、剛性基板をモールド成形する際の条件を制御するこ
とで所定範囲内に調整した。さらに固有振動数は、剛性
基板の板厚を１．２ｍｍにすることによって、６０Ｈｚ
以上に調整した。
【００６２】以上のようにして作製された磁気ディスク
に対して、ディスク面の半径１５ｍｍから３１ｍｍの領
域上を、浮上量０．１μｍでスライダーを浮上走行させ
た。そして、ディスク面とスライダの衝突回数を、スラ
イダー上に搭載した電圧素子の出力電圧を観測すること
によって測定した。
に対して、ディスク面の半径１５ｍｍから３１ｍｍの領
域上を、浮上量０．１μｍでスライダーを浮上走行させ
た。そして、ディスク面とスライダの衝突回数を、スラ
イダー上に搭載した電圧素子の出力電圧を観測すること
によって測定した。
【００６３】その結果、スライダの衝突回数は０であ
り、このことから、磁気ディスクの形状パラメータや固
有振動周波数を規制することはスライダーの浮上走行特
性を改善する上で極めて有効であることが確認された。
り、このことから、磁気ディスクの形状パラメータや固
有振動周波数を規制することはスライダーの浮上走行特
性を改善する上で極めて有効であることが確認された。
【００６４】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の磁気ディスクは、凹凸形状が形成されることでプリ
フォーマットされたモールド剛性基板を用いるととも
に、その形状パラメータ，固有振動周波数を規制するの
で、トラッキング信号の位置精度，生産効率の向上が図
れるとともに、浮上量を０．１μｍ程度に設定したヘッ
ドスライダを、ディスク面と衝突させることなく安定に
浮上走行させることが可能である。したがって、磁気デ
ィスクのさらなる高密度記録化に貢献することになる。
明の磁気ディスクは、凹凸形状が形成されることでプリ
フォーマットされたモールド剛性基板を用いるととも
に、その形状パラメータ，固有振動周波数を規制するの
で、トラッキング信号の位置精度，生産効率の向上が図
れるとともに、浮上量を０．１μｍ程度に設定したヘッ
ドスライダを、ディスク面と衝突させることなく安定に
浮上走行させることが可能である。したがって、磁気デ
ィスクのさらなる高密度記録化に貢献することになる。
【図１】本発明を適用した磁気ディスクの一例を示す平
面図である。
面図である。
【図２】上記磁気ディスクの要部拡大平面図である。
【図３】上記磁気ディスクを半径方向に切断した要部拡
大平面図である。
大平面図である。
【図４】上記磁気ディスクを円周方向に切断した要部拡
大平面図である。
大平面図である。
【図５】反りを有するディスク面上をヘッドスライダが
浮上走行している様子を示す模式図である。
浮上走行している様子を示す模式図である。
１・・・剛性基板 ２・・・磁性膜 ３ａ・・・サーボ信号 ３ｂ・・・データトラック部 ３ｃ・・・ガードバンド部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河副 一重 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内
Claims (5)
- 【請求項１】 モールド剛性基板上に磁性膜が形成され
てなり、上記モールド剛性基板はサーボマークが凹凸形
状として形成されることでプリフォームされ、上記磁性
膜は前記モールド剛性基板の凹部に対応した領域と凸部
に対応した領域とが互いに逆向きの磁化方向となるよう
に磁化された磁気ディスクであって、 ディスク面上の任意の周における回転軸方向のうねりの
振幅をＡ，該周の長さをρとしたときに、Ａ／ρ2 が
０．０２４以下であることを特徴とする磁気ディスク。 - 【請求項２】 モールド剛性基板上に磁性膜が形成され
てなり、上記モールド剛性基板はサーボマークが凹凸形
状として形成されることでプリフォームされ、上記磁性
膜は前記モールド剛性基板の凹部に対応した領域と凸部
に対応した領域とが互いに逆向きの磁化方向となるよう
に磁化されてなる磁気ディスクであって、 ディスク面上の任意の点における曲率半径が１．７ｍ以
上であることを特徴とする磁気ディスク。 - 【請求項３】 モールド剛性基板上に磁性膜が形成され
てなり、上記モールド剛性基板はサーボマークが凹凸形
状として形成されることでプリフォームされ、上記磁性
膜は前記モールド剛性基板の凹部に対応した領域と凸部
に対応した領域とが互いに逆向きの磁化方向となるよう
に磁化された磁気ディスクであって、 ディスク面の凸部の最大表面粗度が１００ｎｍ以下であ
ることを特徴とする磁気ディスク。 - 【請求項４】 モールド剛性基板上に磁性膜が形成され
てなり、上記モールド剛性基板はサーボマークが凹凸形
状として形成されることでプリフォームされ、上記磁性
膜は前記モールド剛性基板の凹部に対応した領域と凸部
に対応した領域とが互いに逆向きの磁化方向となるよう
に磁化された磁気ディスクであって、 その共振周波数が６０Ｈｚ以上であることを特徴とする
磁気ディスク。 - 【請求項５】 モールド剛性基板は、データトラック部
が凸形状、ガードバンド部が凹形状となるようにプリフ
ォームされていることを特徴とする請求項１，請求項
２，請求項３及び請求項４記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32607693A JPH07153069A (ja) | 1993-11-30 | 1993-11-30 | 磁気ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32607693A JPH07153069A (ja) | 1993-11-30 | 1993-11-30 | 磁気ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07153069A true JPH07153069A (ja) | 1995-06-16 |
Family
ID=18183847
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32607693A Pending JPH07153069A (ja) | 1993-11-30 | 1993-11-30 | 磁気ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07153069A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997050079A1 (fr) * | 1996-06-26 | 1997-12-31 | Sony Corporation | Appareil a disque magnetique, disque magnetique et cartouche a disque |
| WO1998008217A1 (fr) * | 1996-08-23 | 1998-02-26 | Sony Corporation | Moyen de support de disque et dispositif de disque |
| US6563673B2 (en) * | 2000-09-12 | 2003-05-13 | Seagate Technology Llc | Method and apparatus for minimizing slider fly heights over patterned media |
-
1993
- 1993-11-30 JP JP32607693A patent/JPH07153069A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997050079A1 (fr) * | 1996-06-26 | 1997-12-31 | Sony Corporation | Appareil a disque magnetique, disque magnetique et cartouche a disque |
| US6560070B2 (en) * | 1996-06-26 | 2003-05-06 | Sony Corporation | Disc cartridge memory device having a substrate with magnetized pit trains and a substrate with same coefficient of thermal expanison as hub |
| US6624976B2 (en) * | 1996-06-26 | 2003-09-23 | Sony Corporation | Magnetic disc cartridge having a substrate with magnetized pit trains and a substrate with same coefficient of thermal expansion as hub |
| WO1998008217A1 (fr) * | 1996-08-23 | 1998-02-26 | Sony Corporation | Moyen de support de disque et dispositif de disque |
| US6066380A (en) * | 1996-08-23 | 2000-05-23 | Sony Corporation | Disc medium substrate and disc device |
| KR100467996B1 (ko) * | 1996-08-23 | 2005-05-24 | 소니 가부시끼 가이샤 | 디스크매체용기판및디스크장치 |
| US6563673B2 (en) * | 2000-09-12 | 2003-05-13 | Seagate Technology Llc | Method and apparatus for minimizing slider fly heights over patterned media |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20030107 |