JPH07150349A

JPH07150349A - 粉体攪拌器

Info

Publication number: JPH07150349A
Application number: JP32332193A
Authority: JP
Inventors: Shigeo Ito; 茂生伊藤; Sadahisa Yonezawa; 禎久米沢; Hitoshi Toki; 均土岐
Original assignee: Futaba Corp
Current assignee: Futaba Corp
Priority date: 1993-11-30
Filing date: 1993-11-30
Publication date: 1995-06-13

Abstract

(57)【要約】【目的】イオン注入装置やイオンビーム蒸着装置に使
用される粉体攪袢器において、粉体の攪袢性を向上さ
せ、かつプラスの電荷に帯電しにくい構成の粉体攪袢器
を提供することを目的とする。【構成】粉体攪袢器１１は、基台１２と、粉体を収納
する容器１３と、基台１２に対し容器１３を支持する支
持体１５と、支持体１５に配設された振動発生部として
の一対の圧電素子１４，１４から構成されている。そし
て圧電素子１４，１４に電圧を印加して、容器を振動さ
せることにより粉体を攪袢させるものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本願発明は、イオンビーム蒸着装
置やイオン注入装置に使用される粉体攪拌器に係わり、
特に攪拌性の高い粉体攪拌器に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】図５は、従来のイオン注入装置の概略図
を示したものである。図中１は真空容器で、別途形成さ
れた真空ポンプによって内部を高真空状態に保持できる
構成である。また前記真空容器は、図示しないイオン化
室に接続されている。

【０００３】さらに真空容器１内には、底面に円錐状の
テーパ部を有する円筒形の金属性の容器２ならびに複数
枚のプロペラ３が形成され、前記容器２とプロペラ３お
よび前記真空容器１の外部に配設された駆動部４とで、
粉体攪拌器が構成されている。また容器２を接地するこ
とにより、容器２内の粉体Ａのプラス電荷を逃がす構成
である。そして駆動部４によって、前記容器２ならびに
プロペラ３を互いに逆方向に回転させることにより、容
器２内の粉体Ａを攪拌するものである。

【０００４】このほか真空容器１内部には、イオンのプ
ラスの電荷を中和するための中和用フィラメント５が配
設され、真空容器１内に電子が降り注ぐ構成である。ま
た真空容器１内には、注入イオン量を測定するファラデ
ーカップ６や、イオンビームをガイドするビームガイド
７等が配設されている。また前記真空容器１には、イオ
ン源に通ずる部分に偏向コイル８ならびにシャッタ９が
配設されている。

【０００５】そうして注入材料を図示しないイオン化室
でイオン化後、１０ｋＶから４００ｋＶで加速し、前記
容器２内の粉体Ａに射突させてイオン注入する。この時
イオンは１００ｋＶの加速電圧で約０．１ミクロンの深
さに侵入する程度である。

【０００６】なおイオン注入に際しては、イオンのプラ
スの電荷を中和するかリークさせる必要があり、うまく
プラスの電荷を逃がせないと粉体Ａ表面へのチャージに
よって、注入材料が容器２周辺に飛散してしまう。した
がって、粉体攪拌器には、攪拌性が良好なことが要求さ
れ、粉体攪拌器を含めた装置全体にはチャージ対策が施
されていることが望まれる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来のイオ
ン注入装置の粉体攪拌器は、容器２内のプロペラ３によ
って粉体Ａを攪拌する構成であるから、粉体Ａの量が多
くないと良好に攪拌できない。したがって、粉体Ａの量
が多い分、イオン注入が完了するまでに多くの時間が必
要となるという問題があった。

【０００８】また回転部を有する構成であるから、駆動
部分からゴミが侵入し、このゴミが悪影響をおよぼすと
いう問題があった。

【０００９】このほか、粉体Ａの量が多いので、中和用
の電子が粉体Ａ内部まで到達できない。特に粉体Ａの抵
抗値の高いものでは、プラスの電荷を中和できず、ま
た、容器２からもプラスの電荷を逃がせないので、粉体
Ａがプラスの電荷にチャージし、注入材料の多くが容器
２周辺に飛散してしまうという問題があった。

【００１０】さらに、プロペラ３と容器２の位置精度を
高くしないと、粉体Ａの粒子がプロペラ３と容器２の隙
間を通過したり、逆に隙間に挟まるなど良好な攪拌が行
えないという問題があった。

【００１１】同様にイオンビーム蒸着装置でも、上述の
粉体攪拌器を使用する場合、攪拌性が良くないので均一
に蒸着できず、また粉体が抵抗値の高いものであれば、
チャージの問題が生じる。

【００１２】本発明は上述した問題に鑑みてなされたも
のであり、イオン注入装置やイオンビーム蒸着に使用さ
れる粉体攪拌器において、粉体の攪拌性が良く、粉体が
プラスの電荷にチャージしにくい構成の粉体攪拌器を提
供することを目的とする。

【課題を解決するための手段】

【００１３】イオン注入装置やイオンビーム蒸着装置に
使用される粉体攪拌器において、粉体を収納する容器
と、容器を振動させる振動発生部を有することを特徴と
するものである。

【００１４】さらに詳しくは、真空中でイオン化または
一部イオン化した添加物を粉体に注入するイオン注入装
置や、真空中でイオン化または一部イオン化した添加物
を粉体表面に均一にコートするイオンビーム蒸着装置に
使用される粉体攪拌器において、前記粉体攪拌器は、基
台と、粉体を収納する容器と、前記基台に対し前記容器
を支持する弾性変形可能な一または複数の支持体と、前
記基台もしくは支持体に配設され、前記支持体を振動さ
せる振動発生部を有し、振動発生部の振動によって前記
容器を振動させて粉体を攪袢することを特徴とするもの
である。

【００１５】

【作用】粉体が収納される容器に振動を与えることによ
り、少ない量でも粉体の攪袢が容易に行える。また、攪
袢性がよいので中和用の電子が効率よく粉体に到達し、
粉体のチャージを抑えることができる。

【００１６】

【実施例】以下図面を用いて本発明を詳細に説明する。
図１は、本発明の粉体攪拌器の一実施例を示したもの
で、イオン注入装置に装着した概略図である。なお、図
５に示す従来のイオン注入装置と、イオン注入装置の基
本的な構成は等しいので、同一箇所には同一符号を付し
て説明を省略する。

【００１７】図中１１は本発明の粉体攪拌器の一実施例
を示したものである。この粉体攪拌器１１は、真空容器
１の底部に載置される基台１２と、粉体Ａの収納される
円筒形の容器１３と、振動発生部としての圧電素子１
４，１４ならびに支持体１５と、上板１６とから構成さ
れている。

【００１８】さらに詳述すると、前記基台には垂直方向
に延在した支持部１２ａを有し、この支持部１２ａに、
１または数個の支持体１５が前記基台１２とほぼ平行に
配設されている。さらに前記支持体１５の他端には、前
記上板１６から下方に延在した連結部１６ａが取り付け
られ、前記上板１６上の容器１３を前記基台１２に対し
支承する構成である。また前記支持体１５は金属板等で
構成され、圧電素子１４の振動に伴って弾性変形可能な
部材で構成されている。

【００１９】そして圧電素子１４は、チタン酸バリウ
ム、チタン酸鉛あるいはジルコン酸鉛を主成分とするセ
ラミックス等を使用し、各支持体１５を挟んで対向して
一対配設されている。この圧電素子１４，１４に極性の
異なる電圧を交互に印加することによって圧電素子１
４，１４を伸縮させる。圧電素子１４，１４の伸縮によ
って支持体１５も振動し、容器１３自体も上下方向に振
動する。

【００２０】さらに圧電素子１４，１４に印加される電
圧の極性によって電圧の印加時間を変化させる場合、則
ち極端には圧電素子１４，１４を一方向にしか変化させ
ないような場合、前記容器１３は、前記圧電素子１４，
１４または前記支持体１５の弾性変形による復帰力が作
用する関係から、前記圧電素子１４，１４をゆっくり変
形させ、前記圧電素子１４，１４または支持体１５の弾
性を利用してすばやく逆方向に復帰させることができ
る。そのため前記圧電素子１４，１４に印加される電圧
の極性を変えれば、前記容器１３の上下方向の振動速度
が変化し、粉体Ａは前記容器１３内で弾かれるように転
動する。

【００２１】もちろん前記圧電素子１４，１４の電気的
な特性や圧電素子１４，１４あるいは支持体１５の曲げ
特性にも関係し、変形・復帰速度が逆転することも有り
得る。さらに前記圧電素子１４，１４に印加する電圧や
周波数を変更することにより振動の状態が種々変化す
る。なお、前記圧電素子１４，１４に印加する電圧は０
Ｖから２５０Ｖ程度で、入力周波数は６０Ｈｚから３０
０Ｈｚの範囲で使用できる構成とした。

【００２２】次に図２を用いて容器１３の形状について
説明する。図２（ａ）は容器１３の平面図であり、図２
（ｂ）は容器１３のＢ−Ｂ線断面図である。前記容器１
３は、ステンレス等の金属材料からなり断面略コ字形の
皿状の容器である。そして前記容器１３の中央部には、
前記上板１６に取り付けるための取付穴１３ａを有する
構成である。そして容器１３は接地されて一定電位に保
持された構成である。

【００２３】以上のような構成であるから、実施例に示
した粉体攪拌器は、圧電素子１４と支持体１５の作用に
よって、上下方向に振動させながら、振動させる方向で
振動の速度を変化させることができる。次にイオン注入
の具体的な例を挙げて、前記実施例に示した粉体攪拌器
と従来の粉体攪拌器を比較する。なお実施例に示した粉
体攪拌器は、上下方向の移動速度が異なり、上方に動く
速度が速くなるような振動とした。

【００２４】ここではＡｌ₂Ｏ₃（１０２ｇ／ｍｏｌ）の
粉体に、Ｚｎをイオン注入する例を示す。また容器の直
径はいずれも１００ｍｍとし、動作条件として、従来の
粉体攪拌器は回転数が６０ｒｐｍ、前記実施例の粉体攪
拌器１１は圧電素子１４への入力周波数が１５０Ｈｚ、
入力電圧が１００Ｖの場合を示したものである。なお注
入条件は、加速電圧１００ＫｅＶ、電流１００マイクロ
Ａ、照射面積は直径１００ｍｍとした。

【００２５】（１）粉体の量と粉体のチャージアップの
関係についてＡｌ₂Ｏ₃が２ｇから２０ｇの範囲で、Ｚｎを５×１０^-4
ａｔｍ／ｍｏｌ注入する場合、電子ビームの照射領域が
ほぼ容器の径と等しいとすると、イオン注入に必要な時
間は約２．５から約２５時間必要である。

【００２６】前実施例で示した粉体攪拌器１１では、上
述の粉体量の範囲で粉体がチャージアップして飛散する
ことなくイオン注入が行えた。これに対し従来の粉体攪
拌器は、粉体の量が２ｇから５ｇと少ない場合はチャー
ジアップによる粉体の飛散はそれほど問題ないが、容器
の底面やプロペラの一部が露出し、正しいイオン注入量
を測定することができなっかった。また粉体６ｇから１
５ｇでは、容器の底面やプロペラの露出は防げたが、６
ｇでは２時間後に、１５ｇでは１．５時間後に粉体の２
０％から５０％が飛散した。

【００２７】以上のことから前記実施例に示した粉体攪
拌器１１は、Ａｌ₂Ｏ₃のように抵抗値の高い粉体でも、
チャージアップによる粉体の飛散もなく、良好な結果が
得られた。

【００２８】（２）イオン注入の均一性について従来の粉体攪拌器と前記実施例の粉体攪拌器１１で、Ａ
ｌ₂Ｏ₃の粉体１０ｇにＺｎをイオン注入する例を示す。
なお粉体のサンプリング位置は、前記実施例の粉体攪拌
器１１では、図２に示す容器１３のａ，ｂ，ｃの位置
（両端部と中央部）とした。また従来の粉体攪拌器で
も、同様の位置とした。さらに従来の粉体攪拌器はプロ
ペラと容器底面の間の位置（以下ｄという）で各１ｇづ
つサンプリングした。なお、Ｚｎの注入量は粉体を特定
の酸で溶かし、原子吸光光度法により定量した。

【００２９】まずＺｎの目標イオン注入量が５×１０^-5
ａｔｍ／ｍｏｌ（注入時間１．３時間）の場合、従来の
粉体攪拌器では、容器のサンプリング位置ａ，ｂ，ｃ，
ｄでは以下のようになる。ａでは５．４×１０^-5ａｔｍ／ｍｏｌｂでは６．６×１０^-5ａｔｍ／ｍｏｌｃでは４．０×１０^-5ａｔｍ／ｍｏｌｄでは１．０×１０^-5ａｔｍ／ｍｏｌとなる。以上のことから目標値に対し注入量のばらつきが大き
く、特にプロペラと容器の間で攪拌性が悪いのが判る。

【００３０】これに対し前実施例に示した粉体攪拌器１
１では、同じ条件で以下のようになる。ａでは４．９×１０^-5ａｔｍ／ｍｏｌｂでは４．５×１０^-5ａｔｍ／ｍｏｌｃでは５．４×１０^-5ａｔｍ／ｍｏｌとなる。以上のように従来の粉体攪拌器と比べて攪拌性が良いの
が判る。また前記実施例に示した本願の粉体攪拌器は、
容器の上を粉体が跳ねるように転がるので厚み方向で攪
拌性は変わらないと考えられる。

【００３１】次にイオン注入の量を１０倍にした例で比
較を示す。上記粉体に注入するＺｎの目標注入量が５×
１０^-4ａｔｍ／ｍｏｌ（注入時間１３時間）イオン注入
する場合、従来の粉体攪拌器では、容器のサンプリング
位置がａ，ｂ，ｃ，ｄでは以下のようになる。ａでは飛
散により容器面が露出し、粉体のサンプリングができな
かった。ｂでは１．０×１０^-4ａｔｍ／ｍｏｌｃでは飛散により容器面が露出し、粉体のサンプリング
ができなかった。ｄでは０．５×１０^-4ａｔｍ／ｍｏｌとなる。注入時間が長くなると、Ａｌ₂Ｏ₃など抵抗値の高いもの
はチャージアップのため粉体が飛散しており、また目標
のイオン注入量には到底及ばない。

【００３２】これに対し前実施例に示した粉体攪拌器１
１では、同じ条件で以下のようになる。ａでは５．０×１０^-4ａｔｍ／ｍｏｌｂでは５．１×１０^-4ａｔｍ／ｍｏｌｃでは４．８×１０^-4ａｔｍ／ｍｏｌとなる。以上のように従来の粉体攪拌器と比べて攪拌性が良く、
均一にイオン注入されていることが判る。また前記実施
例に示した本願の粉体攪拌器は、容器の上を粉体が跳ね
るように転がるので厚み方向で攪拌性は変わらないと考
えられる。

【００３３】

【他の実施例】また図３は、イオン注入装置に適用した
本願発明の粉体攪拌器の他の実施例を示したものであ
る。なおイオン注入装置の基本的な構成は、従来のイオ
ン注入装置と等しいので、同一箇所には同一符号を付し
て説明を省略する。図中２１は本願発明の粉体攪拌器の
他の実施例を示したもので、基台２２と圧電素子２４，
２４が両面に取り付けられた一または数個の支持体２５
と、容器２８とこの容器２８を支持する保持体２６，２
７とから構成されている。

【００３４】さらに詳述すると、前記基台２２は、鋭角
状に曲折された支持部２２ａを有し、この支持部２２ａ
に前記支持体２５の一端が取り付けられている。また、
前記保持体２６も鋭角状に曲折された支持部２６ａを有
し、前記支持体２５の他端が取り付けられている。そし
て前記保持体２６の上面は、前記基台２２の底面とほぼ
平行な平面になっている。なお前記支持体２６は、金属
板等、前記圧電素子２４，２４の振動にともなって弾性
変形する材料によって構成されている。

【００３５】また前記保持体２６には、ボルト等で着脱
自在に保持体２７が固定されており、この保持体２７に
粉体を収納する容器２８が取り付けられた構成である。
さらに圧電素子２４，２４は、前記実施例と同様な材料
で形成され、極性の異なる電圧を印加することにより伸
縮し、これに伴って前記支持体２６も斜め方向に振動す
ることになる。

【００３６】なお、前記実施例と同様に、圧電素子２
４，２４に印加する電圧の印加時間を極性に応じて変化
させることにより、前記圧電素子２４，２４や支持体２
５の弾性変形による復帰力の影響を受けて、振動方向で
振動する速度を返ることができる。そうすることによ
り、前記容器２８の斜め方向に上下する振動速度が変化
し、粉体Ａは前記容器２８内で弾かれるように転動す
る。

【００３７】もちろん前記圧電素子２４，２４の電気的
な特性や圧電素子２４，２４あるいは支持体２６の曲げ
特性にも関係し、変形・復帰速度が逆転することも有り
得る。さらに前記圧電素子２４，２４に印加する電圧や
周波数を変更することにより振動の状態が種々変化す
る。なお、前実施例と同様に、前記圧電素子２４，２４
に印加する電圧は０Ｖから２５０Ｖ程度で、入力周波数
は６０Ｈｚから３００Ｈｚの範囲で使用できる構成とし
た。

【００３８】次に図４を用いて容器２８の形状について
説明する。図２（ａ）は容器２８の平面図であり、図２
（ｂ）は容器２８のＣ−Ｃ線断面図である。前記容器２
８は、ステンレス等の金属材料からなり、ほぼ長方形の
形状で、長手方向断面は中央部が深くなった鍋底形状で
ある。そして前記容器２８の長手方向端部には、前記保
持体２７に取り付けるための取付穴２８ａを有する構成
である。そして容器２８は接地されて一定電位に保持さ
れた構成である。

【００３９】以上のような構成であるから、実施例に示
した粉体攪拌器２１は、圧電素子２４と支持体２５の作
用によって、斜め方向の上下に振動させて粉体Ａを攪袢
することができる。なお容器２８は中央部が深くなった
形状であるから、容器２８の傾斜面２８ｂ，２８ｃのう
ち、振動方向と直交する傾斜面２８ｂに位置する粉体Ａ
が、容器の振動の影響を傾斜面２８ｃに位置する粉体Ａ
より大きく受け、矢印Ｄに示すように粉体Ａが攪袢され
る。

【００４０】そして前実施例と同様に、圧電素子２４，
２４に印加する電圧を変化させることにより、振動する
方向で振動の速度を変化させることができ、容器２８を
押し上げる方向に移動させる速度を復帰させる速度より
速くすれば、粉体Ａをはね上げる力が大きくなりより効
果的である。なお前記容器２８をイオン注入装置に適用
すれば、狭い領域に粉体Ａが集まるので、イオンビーム
を絞り込むことができ、より少ない量でもイオン注入の
効率を上げることができる。但し、イオンビーム蒸着装
置では、図２に示す容器形状のように蒸着面積が広く、
粉体Ａの厚みが薄くなるような容器形状の方が効率がよ
い。

【００４１】次にイオン注入の具体的な例を挙げて、図
３に示した粉体攪拌器と従来の粉体攪拌器を比較する。
ここで、イオン注入される粉体はＡｌ₂Ｏ₃、注入元素は
Ｚｎといずれも前記実施例に示したものと等しいが、容
器２８の外形は３０ｍｍ×５０ｍｍ（粉体Ａの領域は３
０ｍｍ×２０ｍｍ）、また注入条件としては、加速電圧
が１００ＫｅＶ、加速電流は１００マイクロＡ、照射面
積は直径４０ｍｍとした。なお、粉体Ａの領域は照射面
積の約半分であるから、前記実施例に比べて同じ量だけ
粉体Ａにイオン注入するのに約２倍の時間が必要とな
る。

【００４２】粉体ＡにＺｎを目標注入量５×１０^-5ａｔ
ｍ／ｍｏｌ（注入時間２．７時間）イオン注入する場
合、図４（ａ）において容器２８の上端位置をａ、中央
部をｂ、下端位置をｃとすると、ａでは５．１×１０^-5ａｔｍ／ｍｏｌｂでは４．８×１０^-5ａｔｍ／ｍｏｌｃでは５．３×１０^-5ａｔｍ／ｍｏｌとなる。以上のように従来の粉体攪拌器と比べて攪拌性が良いの
が判る。また前記実施例に示した本願の粉体攪拌器は、
矢印Ｄに示すように、容器２８の上を粉体Ａが跳ねるよ
うに転がるので厚み方向の攪拌性は良好と考えられる。

【００４３】次にイオン注入の量を１０倍にした例で比
較を示す。上記粉体に注入するＺｎの目標注入量が５×
１０^-4ａｔｍ／ｍｏｌ（注入時間２７時間）イオン注入
する場合、ａでは５．１×１０^-4ａｔｍ／ｍｏｌｂでは５．０×１０^-4ａｔｍ／ｍｏｌｃでは４．８×１０^-4ａｔｍ／ｍｏｌとなる。以上のように従来の粉体攪拌器と比べて攪拌性が良く、
均一にイオン注入されていることが判る。またＺｎの注
入量が多くなっても、粉体Ａがチャージアップすること
もなく、目標どうりの注入量が得られる。

【００４４】なお前記実施例に示した粉体攪袢器は、振
動発生部として圧電素子を用いた例を示したが、例えば
電磁石の磁気吸着力や磁気反発力、あるいはこれらと板
ばね等の復帰力とを組み合わせて構成したり、超音波振
動子を利用するなど、容器に振動を与える構成であれば
どの様な構成でもよい。但し電磁石等の磁性体を使用す
る場合には、粉体にイオン注入したりイオンビーム蒸着
したりする添加物の軌道や、中和用の電子の軌道に悪影
響を及ぼさない構成にすることが望ましい。

【００４５】また、実施例では容器を支持する部材を、
支持体と上板あるいは保持板を組み合わせた例を示した
が、これらも広い意味では容器の支持体として含まれ、
振動発生部はこれら上板や保持板に設けてもよい。

【００４６】

【効果】以上のような構成であるから、本願発明の粉体
攪袢器をイオン注入装置やイオンビーム蒸着装置に適用
すれば、粉体の量が少なくても攪袢性が良好で、均一に
イオン注入やイオンビーム蒸着を行うことができる。ま
た攪袢性が良いので、抵抗値の高い粉体でも、中和用の
電子によってプラスの電荷を中和することができ、粉体
のチャージアップを抑えて粉体が飛散するのを防止する
ことができる。さらに駆動系に回転部を有しない構成で
あるから、潤滑油等、駆動部から生じるゴミの発生はな
い。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の粉体攪袢器をイオン注入装置に装着し
た状態を示した図。

【図２】本発明の粉体攪拌器の容器を示した平面図およ
び側断面図。

【図３】本発明の粉体攪拌器の他の例を示した図。

【図４】本発明の粉体撹拌器の容器の他の実施例を示し
た平面図および側断面図。

【図５】従来の粉体攪袢器をイオン注入装置に装着した
状態を示した図。

【符号の説明】

Ａ粉体１１粉体攪袢器１２基台１３容器１３ａ取付穴１４振動発生部としての圧電素子１５支持体１６上板２１粉体攪袢器２２基台２４圧電素子２５支持体２６保持体２７保持体２８容器

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】イオン注入装置やイオンビーム蒸着装置
に使用される粉体攪拌器において、粉体を収納する容器
と、容器を振動させる振動発生部を有することを特徴と
する粉体攪拌器。
【請求項２】真空中でイオン化または一部イオン化し
た添加物を粉体に注入するイオン注入装置や、真空中で
イオン化または一部イオン化した添加物を粉体表面に均
一にコートするイオンビーム蒸着装置に使用される粉体
攪拌器において、前記粉体攪拌器は、基台と、粉体を収
納する容器と、前記基台に対し前記容器を支持する一ま
たは複数の支持体と、前記基台もしくは支持体に配設さ
れ、前記支持体を振動させる振動発生部を有し、振動発
生部の振動によって前記容器を振動させて粉体を攪袢す
ることを特徴とする粉体攪拌器。
【請求項３】前記支持体は、前記基台に対しほぼ垂直
に配設され、前記容器を基台に対しほぼ水平に支持する
とともに、前記支持体のほぼ中央部に前記振動発生部が
配設されたことを特徴とする請求項２記載の粉体攪拌
器。
【請求項４】前記支持体は、前記基台に対し斜めに傾
斜して配設され、前記基台に対し前記容器をほぼ水平に
支持するとともに、そのほぼ中央部に前記振動発生部が
配設されたことを特徴とする請求項２記載の粉体攪拌
器。
【請求項５】前記容器は、少なくとも一方向において
断面形状が両端部より中央部分が深くなる湾曲した形状
を有することを特徴とする請求項１または２記載の粉体
攪拌器。