JPH0714834B2 - Method for forming titania thin film - Google Patents

Method for forming titania thin film

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JPH0714834B2
JPH0714834B2 JP62263610A JP26361087A JPH0714834B2 JP H0714834 B2 JPH0714834 B2 JP H0714834B2 JP 62263610 A JP62263610 A JP 62263610A JP 26361087 A JP26361087 A JP 26361087A JP H0714834 B2 JPH0714834 B2 JP H0714834B2
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thin film
titania
titanium
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glass plate
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義洋 松岡
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、基体上に、保護膜、誘電膜、電気絶縁膜、
高光屈折率膜等として作用するチタニア薄膜を形成する
方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial field of application] The present invention provides a protective film, a dielectric film, an electric insulating film,
The present invention relates to a method for forming a titania thin film that acts as a high-refractive index film or the like.

[従来の技術] 基体上にチタニア薄膜を形成する方法は、いろいろあ
る。たとえば、特開昭59−26966号公報には、いわゆる
ゾル・ゲル法と呼ばれる方法が記載されている。この方
法は、チタニアの微粒子を分散相とし、水を分散媒とす
るゾルを調製する工程と、水の存在下に上記ゾルに熱可
塑性バインダーを添加してそれらの混合物を調製する工
程と、基体上に上記混合物の薄膜を形成する工程と、上
記薄膜を乾燥し、ゾルをゲル化させる工程と、ゲル化薄
膜を焼成し、チタニア薄膜に変換する工程と、を含むも
のである。ところが、この方法は、ゾルを、いわゆる出
発原料とするから、チタニアの微粒子が沈降しやすく、
得られるチタニア薄膜にひび割れや厚みむらなどができ
やすいという問題がある。
[Prior Art] There are various methods for forming a titania thin film on a substrate. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-26966 describes a so-called sol-gel method. This method comprises a step of preparing a sol having fine particles of titania as a dispersed phase and water as a dispersion medium, a step of adding a thermoplastic binder to the sol in the presence of water to prepare a mixture thereof, and a substrate. It includes a step of forming a thin film of the above mixture, a step of drying the thin film to gel the sol, and a step of firing the gelled thin film to convert it into a titania thin film. However, since this method uses sol as a so-called starting material, fine particles of titania tend to settle,
There is a problem that the obtained titania thin film is likely to be cracked or have uneven thickness.

[発明が解決しようとする問題点] この発明の目的は、従来の方法の上述した問題点を解決
し、ひび割れや厚みむらの少ない、均質なチタニア薄膜
を得る方法を提供するにある。
[Problems to be Solved by the Invention] An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the conventional method and to provide a method for obtaining a uniform titania thin film with few cracks and uneven thickness.

[問題点を解決するための手段] 上述した目的を達成するために、この発明においては、 (イ) 下記A群から選ばれた1種のチタニウムアルコ
キシドと、下記B群から選ばれた1種の加水分解抑制剤
と、下記C群から選ばれた1種の溶媒とを少なくとも含
む混合物を調製する工程と、 A群:チタニウムメトキシド チタニウムエトキシド チタニウムプロポキシド チタニウムブトキシド B群:モノエタノールアミン ジエタノールアミン トリエタノールアミン C群:メタノール エタノール プロパノール ブタノール (ロ) 基体上に上記混合物の薄膜を形成する工程と、 (ハ) 上記薄膜を乾燥し、ゲル化せしめる工程と、 (ニ) ゲル化薄膜を焼成し、チタニア薄膜に変換する
工程と、 を含むチタニア薄膜の形成方法が提供される。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above-mentioned object, in the present invention, (a) one kind of titanium alkoxide selected from the following group A and one kind selected from the following group B: And a step of preparing a mixture containing at least one solvent selected from the following Group C: Group A: titanium methoxide titanium ethoxide titanium ethoxide titanium propoxide titanium butoxide Group B: monoethanolamine diethanolamine Triethanolamine Group C: methanol ethanol propanol butanol (b) a step of forming a thin film of the above mixture on a substrate, (c) a step of drying and gelling the above thin film, and (d) baking the gelled thin film And a method of forming a titania thin film, which comprises:

以下、この発明を各工程別にさらに詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in more detail for each step.

混合物の調製工程: この発明においては、まず、下記A群から選ばれた1種
のチタニウムアルコキシドと、下記B群から選ばれた1
種の加水分解抑制剤と、下記C群から選ばれた1種の溶
媒との混合物を調製する。加水分解抑制剤は、焼成に至
るまでの各工程で、加水分解による、チタニアの、微粒
子状の水酸化物等が析出するのを防止するものである。
なお、A、B、C各群から2種以上を選択、使用するこ
とも可能ではあるけれども、そうしても得られるチタニ
ア薄膜にほとんど優位差はなく、コスト上昇の不都合の
ほうがよほど大きい。
Preparation Step of Mixture: In the present invention, first, one titanium alkoxide selected from the following group A and 1 selected from the following group B are used.
A mixture of one hydrolysis inhibitor and one solvent selected from Group C below is prepared. The hydrolysis inhibitor prevents the precipitation of fine particulate hydroxides of titania due to hydrolysis in each step up to firing.
Although it is possible to select and use two or more kinds from each of the A, B, and C groups, there is almost no difference in the titania thin film obtained in this way, and the disadvantage of cost increase is even greater.

A群:チタニウムメトキシド チタニウムエトキシド チタニウムプロポキシド チタニウムブトキシド B群:モノエタノールアミン ジエタノールアミン トリエタノールアミン C群:メタノール エタノール プロパノール ブタノール 上記A群のプロポキシドは、1−プロポキシド、2−プ
ロポキシドのいずれであってもよい。また、ブトキシド
は、1−ブトキシド、2−ブトキシド、イソブトキシ
ド、t−ブトキシドのいずれであってもよい。
Group A: Titanium methoxide Titanium ethoxide Titanium propoxide Titanium butoxide Group B: monoethanolamine diethanolamine triethanolamine Group C: methanol ethanol propanol butanol The propoxide of group A above is either 1-propoxide or 2-propoxide. May be The butoxide may be any of 1-butoxide, 2-butoxide, isobutoxide and t-butoxide.

また、上記C群のプロパノールは、1−プロパノール、
2−プロパノールのいずれであってもよい。ブタノール
は、1−ブタノール、2−ブタノール、イソブタノー
ル、t−ブタノールのいずれであってもよい。
In addition, the propanol of group C is 1-propanol,
It may be any of 2-propanol. The butanol may be 1-butanol, 2-butanol, isobutanol or t-butanol.

チタニウムアルコキシド、加水分解抑制剤および溶媒の
混合割合は、それらの種類等によって多少異なるもの
の、チタニウムアルコキシドをmモル、加水分解抑制剤
をnモル、溶媒をpリットルとしたとき、式、 0.1≦n/m≦10 0.01≦m/p≦1 を満足するように選定するのが好ましい。n/m<0.1で
は、加水分解を十分に抑制できない場合がある。また、
n/m>10では、混合物の粘度が高くなり、その取り扱い
が難しくなることがある。さらに、m/p<0.01では、溶
媒が多すぎて実用的でない。さらにまた、m/p>1で
は、チタニウムアルコキシドが溶け残ることがある。好
ましいのは、 0.5≦n/m≦3 0.05≦m/p≦0.5 の範囲である。
The mixing ratio of the titanium alkoxide, the hydrolysis inhibitor and the solvent is slightly different depending on the kind thereof, but when the titanium alkoxide is mmol, the hydrolysis inhibitor is nmol and the solvent is p liter, the formula: 0.1 ≦ n / m ≦ 10 0.01 ≦ m / p ≦ 1 is preferably selected. When n / m <0.1, hydrolysis may not be sufficiently suppressed. Also,
When n / m> 10, the viscosity of the mixture becomes high, which may make the handling difficult. Furthermore, when m / p <0.01, too much solvent is not practical. Furthermore, when m / p> 1, the titanium alkoxide may remain undissolved. The preferable range is 0.5≤n / m≤3 0.05≤m / p≤0.5.

混合操作は、A群のチタニウムアルコキシドと、B群の
加水分解抑制剤と、C群の溶媒とを同時に混合してもよ
く、また、B群の加水分解抑制剤とC群の溶媒との混合
物にA群のチタニウムアルコキシドを加えて混合するよ
うにしてもよい。このとき、混合操作が完了するまで
は、A群のチタニウムアルコキシドを極力湿気に晒さな
いようにするのが好ましく、乾燥窒素等で置換したグラ
ブボックス内などで行うのが好ましい。しかしながら、
それ以後の操作は大気中で行うことができる。なお、B
群の加水分解抑制剤とC群の溶媒は、モレキュラーシー
ブズ等であらかじめ脱水処理しておくのが好ましい。
In the mixing operation, the titanium alkoxide of group A, the hydrolysis inhibitor of group B, and the solvent of group C may be mixed simultaneously, or a mixture of the hydrolysis inhibitor of group B and the solvent of group C may be mixed. The titanium alkoxide of Group A may be added to and mixed with. At this time, it is preferable that the titanium alkoxide of the group A is not exposed to moisture as much as possible until the mixing operation is completed, and it is preferable that the titanium alkoxide of the group A is replaced with dry nitrogen or the like in a glove box. However,
Subsequent operations can be performed in the atmosphere. In addition, B
It is preferable that the hydrolysis inhibitor of the group and the solvent of the group C are dehydrated in advance with molecular sieves or the like.

得られた混合物は、透明またはほとんど透明で、A群の
チタニウムアルコキシドに含まれる不純物の種類と量に
よって、橙色、黄色等を呈する。
The obtained mixture is transparent or almost transparent, and exhibits orange, yellow, or the like depending on the type and amount of impurities contained in the titanium alkoxide of Group A.

混合物の薄膜形成工程: この発明においては、次に、耐熱性基体上に上記混合物
の薄膜を形成する。
Thin Film Forming Process of Mixture: In the present invention, next, a thin film of the above mixture is formed on the heat resistant substrate.

基体は、後述する焼成温度に耐えるものであればよく、
材料的には、ニッケル、コバルト、クロム、チタン等の
金属またはこれらの金属を主成分とする合金や、炭素、
ケイ素などの無機物や、アルミナ、シリカ、ジルコニ
ア、チタニア、窒化硼素、窒化ケイ素、炭化ケイ素、炭
化硼素等のセラミックスや、ガラスなどであればよい。
形状は、繊維状、フィルム状、板状、バルク状など、い
ずれであってもよい。これらの基体は、その表面を洗浄
して油分等を除去しておいたり、研磨して表面を平滑に
しておいてもよい。
The substrate may be one that can withstand the firing temperature described below,
Materials include metals such as nickel, cobalt, chromium, and titanium, or alloys containing these metals as main components, carbon,
Inorganic substances such as silicon, ceramics such as alumina, silica, zirconia, titania, boron nitride, silicon nitride, silicon carbide and boron carbide, and glass may be used.
The shape may be any of fibrous shape, film shape, plate shape, bulk shape and the like. The surface of each of these substrates may be washed to remove oil or the like, or may be ground to smooth the surface.

薄膜の形成は、刷毛、ローラー等による塗布や、スプレ
ーによる塗布や、混合物に基体を浸漬して引き上げるデ
ィップコート法などによることができる。なかでも、デ
ィップコート法によるのが最も好ましい。
The thin film can be formed by coating with a brush, a roller or the like, coating with a spray, or dip coating in which the substrate is dipped in the mixture and pulled up. Among them, the dip coating method is most preferable.

基体上に形成した薄膜は、触れると濡れ、また基体を傾
けると流動する。
The thin film formed on the substrate wets when touched and flows when the substrate is tilted.

乾燥、ゲル化工程: この発明においては、次に、基体上に形成した混合物の
薄膜を乾燥し、C群の溶媒を飛散させてA群のチタニウ
ムアルコキシドとB群の加水分解抑制剤とからなるゲル
化薄膜とする。
Drying and gelling step: In the present invention, next, the thin film of the mixture formed on the substrate is dried to scatter the solvent of group C to form the titanium alkoxide of group A and the hydrolysis inhibitor of group B. Use a gelled thin film.

この工程は、常温で行ってもよく、また、50〜80℃程度
の恒温で行ってもよい。さらに、1%以下の湿度に制御
されたグラブボックス内で行ってもよい。ゲル化薄膜
は、基体を傾けても流動することはないが、指で押すと
指紋がつく。わずかに黄色味を帯びていることが多い。
This step may be performed at room temperature, or may be performed at a constant temperature of about 50 to 80 ° C. Further, it may be carried out in a glove box whose humidity is controlled to 1% or less. The gelled thin film does not flow even if the substrate is tilted, but it gives a fingerprint when pressed with a finger. Often slightly yellowish.

焼成工程: この発明においては、次に、上記ゲル化薄膜を基体ごと
焼成し、チタニア薄膜に変換する。この焼成は、たとえ
ば次のようにして行う。
Firing step: In the present invention, the gelled thin film is then fired together with the substrate to convert it into a titania thin film. This firing is performed as follows, for example.

すなわち、ゲル化薄膜を基体ごと炉に入れ、1〜10℃/
分、好ましくは5〜8℃/分の速度で400〜1500℃、好
ましくは600〜800℃まで昇温し、その温度に数十分から
数時間保持した後、1〜10℃/分、好ましくは5〜8℃
/分の速度で室温まで冷却することによって行う。昇温
や降温の速度があまり大きいと、得られるチタニア薄膜
にひび割れ等ができることがある。また、焼成温度は、
ゲル化薄膜がチタニア薄膜に変換される温度で、それは
上述したように400〜1500℃、好ましくは600〜800℃で
ある。
That is, the gelled thin film together with the substrate is put in a furnace and
Minutes, preferably 5 to 8 ° C / min, 400 to 1500 ° C, preferably 600 to 800 ° C, and held at that temperature for several tens of minutes to several hours, then 1 to 10 ° C / min, preferably Is 5-8 ° C
By cooling to room temperature at a rate of / min. If the rate of temperature increase or decrease is too high, the resulting titania thin film may be cracked. The firing temperature is
The temperature at which the gelled film transforms into a titania film, which is 400-1500 ° C, preferably 600-800 ° C, as described above.

次に、実施例に基いてこの発明をさらに詳細に説明す
る。
Next, the present invention will be described in more detail based on examples.

実施例1 乾燥窒素を流しているグラブボックス内で、スターラー
を用いて、0.01モルのチタニウムメトキシドと、0.01モ
ルのモノエタノールアミンと、0.1リットルのメタノー
ルとを1時間混合し、混合物を調製した。
Example 1 0.01 mol of titanium methoxide, 0.01 mol of monoethanolamine, and 0.1 liter of methanol were mixed for 1 hour in a glove box flowing dry nitrogen with a stirrer to prepare a mixture. .

一方、長さ40mm、幅10mm、厚み0.5mmの石英ガラス板
を、トリクレン、アセトン、エタノール、純水を順次用
いてそれぞれ3分づつ超音波洗浄し、最後に高純度乾燥
窒素を吹き付けて乾燥した。
On the other hand, a quartz glass plate having a length of 40 mm, a width of 10 mm and a thickness of 0.5 mm was ultrasonically cleaned with trichlene, acetone, ethanol and pure water for 3 minutes each, and finally dried by blowing high purity dry nitrogen. .

次に、上記混合物に上記石英ガラス板を浸漬し、1分
後、垂直に10cm/分の速度で引き上げ、石英ガラス板上
に混合物の薄膜を形成した。
Next, the quartz glass plate was immersed in the mixture, and after 1 minute, it was vertically pulled up at a rate of 10 cm / min to form a thin film of the mixture on the quartz glass plate.

次に、上記薄膜を50℃の恒温炉中で1時間乾燥し、ゲル
化させた。
Next, the above thin film was dried in a constant temperature oven at 50 ° C. for 1 hour to gel.

次に、ゲル化薄膜を石英ガラス板ごと電気炉に入れ、6
℃/分の速度で700℃まで昇温し、その温度に1時間保
持した後、6℃/分の速度で室温まで降温し、石英ガラ
ス上に、透明で、わずかに灰色がかったチタニア薄膜を
得た。
Next, the gelled thin film together with the quartz glass plate was placed in an electric furnace, and
After raising the temperature to 700 ° C at a rate of ° C / min, holding it at that temperature for 1 hour, and then lowering it to room temperature at a rate of 6 ° C / min, a transparent, slightly grayish titania thin film was formed on the quartz glass. Obtained.

得られたチタニア薄膜を、光学顕微鏡を用いて600倍で
観察したところ、ひび割れ等は全く認められなかった。
また、X線回折法を用いて分析したところ、2θ=25゜
の位置にチタニアのピークが認められ、チタニアに変換
されていることが確認された。
When the obtained titania thin film was observed with an optical microscope at 600 times, no cracks or the like were observed.
Further, when analyzed by X-ray diffractometry, a titania peak was observed at a position of 2θ = 25 °, and it was confirmed that the titania had been converted to titania.

実施例2 チタニウムメトキシドに代えてチタニウムエトキシドを
用いたほかは実施例1と全く同様にして、チタニア薄膜
を得た。
Example 2 A titania thin film was obtained in the same manner as in Example 1 except that titanium ethoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例1で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film is also the same as that obtained in Example 1.
It was extremely homogeneous.

実施例3 チタニウムメトキシドに代えてチタニウム2−プロポキ
シドを用いたほかは実施例1と全く同様にして、チタニ
ア薄膜を得た。
Example 3 A titania thin film was obtained in exactly the same manner as in Example 1 except that titanium 2-propoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例1で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film is also the same as that obtained in Example 1.
It was extremely homogeneous.

実施例4 チタニウムメトキシドに代えてチタニウム1−ブトキシ
ドを用いたほかは実施例1と全く同様にして、チタニア
薄膜を得た。
Example 4 A titania thin film was obtained in exactly the same manner as in Example 1 except that titanium 1-butoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例1で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film is also the same as that obtained in Example 1.
It was extremely homogeneous.

実施例5 乾燥窒素を流しているグラブボックス内で、スターラー
を用いて、0.01モルのチタニウムメトキシドと、0.01モ
ルのジエタノールアミンと、0.1リットルのメタノール
とを1時間混合し、混合物を調製した。
Example 5 0.01 mol of titanium methoxide, 0.01 mol of diethanolamine, and 0.1 liter of methanol were mixed with a stirrer for 1 hour in a glove box flowing dry nitrogen to prepare a mixture.

一方、長さ40mm、幅10mm、厚み0.5mmの石英ガラス板
を、トリクレン、アセトン、エタノール、純水を順次用
いてそれぞれ3分づつ超音波洗浄し、最後に高純度乾燥
窒素を吹き付けて乾燥した。
On the other hand, a quartz glass plate having a length of 40 mm, a width of 10 mm and a thickness of 0.5 mm was ultrasonically cleaned with trichlene, acetone, ethanol and pure water for 3 minutes each, and finally dried by blowing high purity dry nitrogen. .

次に、上記混合物に上記石英ガラス板を浸漬し、1分
後、垂直に10cm/分の速度で引き上げ、石英ガラス板上
に混合物の薄膜を形成した。
Next, the quartz glass plate was immersed in the mixture, and after 1 minute, it was vertically pulled up at a rate of 10 cm / min to form a thin film of the mixture on the quartz glass plate.

次に、上記薄膜を50℃の恒温炉中で1時間乾燥し、ゲル
化させた。
Next, the above thin film was dried in a constant temperature oven at 50 ° C. for 1 hour to gel.

次に、ゲル化薄膜を石英ガラス板ごとに電気炉に入れ、
6℃/分の速度で700℃まで昇温し、その温度に1時間
保持した後、6℃/分の速度で室温まで降温し、石英ガ
ラス上に、透明で、わずかに灰色がかったチタニア薄膜
を得た。
Next, the gelled thin film is placed in an electric furnace for each quartz glass plate,
The temperature was raised to 700 ° C at a rate of 6 ° C / min, held at that temperature for 1 hour, and then lowered to room temperature at a rate of 6 ° C / min, and a transparent, slightly grayish titania thin film was formed on the quartz glass. Got

得られたチタニア薄膜を、光学顕微鏡を用いて600倍で
観察したところ、ひび割れ等は全く認められなかった。
また、X線回折法を用いて分析したところ、2θ=25゜
の位置にチタニアのピークが認められ、チタニアに変換
されていることが確認された。
When the obtained titania thin film was observed with an optical microscope at 600 times, no cracks or the like were observed.
Further, when analyzed by X-ray diffractometry, a titania peak was observed at a position of 2θ = 25 °, and it was confirmed that the titania had been converted to titania.

実施例6 チタニウムメトキシドに代えてチタニウムエトキシドを
用いたほかは実施例5と全く同様にして、チタニア薄膜
を得た。
Example 6 A titania thin film was obtained in exactly the same manner as in Example 5 except that titanium ethoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例5で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film is also the same as that obtained in Example 5.
It was extremely homogeneous.

実施例7 チタニウムメトキシドに代えてチタニウム2−プロポキ
シドを用いたほかは実施例5と全く同様にして、チタニ
ア薄膜を得た。
Example 7 A titania thin film was obtained in the same manner as in Example 5 except that titanium 2-propoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例5で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film is also the same as that obtained in Example 5.
It was extremely homogeneous.

実施例8 チタニウムメトキシドに代えてチタニウム1−ブトキシ
ドを用いたほかは実施例5と全く同様にして、チタニア
薄膜を得た。
Example 8 A titania thin film was obtained in the same manner as in Example 5 except that titanium 1-butoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例5で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film is also the same as that obtained in Example 5.
It was extremely homogeneous.

実施例9 乾燥窒素を流しているグラブボックス内で、スターラー
を用いて、0.01モルのチタニウムメトキシドと、0.01モ
ルのトリエタノールアミンと、0.1リットルのメタノー
ルとを1時間混合し、混合物を調製した。
Example 9 Using a stirrer, 0.01 mol of titanium methoxide, 0.01 mol of triethanolamine, and 0.1 liter of methanol were mixed for 1 hour in a glove box flowing dry nitrogen to prepare a mixture. .

一方、長さ40mm、幅10mm、厚み0.5mmの石英ガラス板
を、トリクレン、アセトン、エタノール、純水を順次用
いてそれぞれ3分づつ超音波洗浄し、最後に高純度乾燥
窒素を吹き付けて乾燥した。
On the other hand, a quartz glass plate having a length of 40 mm, a width of 10 mm and a thickness of 0.5 mm was ultrasonically cleaned with trichlene, acetone, ethanol and pure water for 3 minutes each, and finally dried by blowing high purity dry nitrogen. .

次に、上記混合物に上記石英ガラス板を浸漬し、1分
後、垂直に10cm/分の速度で引き上げ、石英ガラス板上
に混合物の薄膜を形成した。
Next, the quartz glass plate was immersed in the mixture, and after 1 minute, it was vertically pulled up at a rate of 10 cm / min to form a thin film of the mixture on the quartz glass plate.

次に、上記薄膜を50℃の恒温炉中で1時間乾燥し、ゲル
化させた。
Next, the above thin film was dried in a constant temperature oven at 50 ° C. for 1 hour to gel.

次に、ゲル化薄膜を石英ガラス板ごと電気炉に入れ、6
℃/分の速度で700℃まで昇温し、その温度に1時間保
持した後、6℃/分の速度で室温まで降温し、石英ガラ
ス板上に、透明で、わずかに灰色がかったチタニア薄膜
を得た。
Next, the gelled thin film together with the quartz glass plate was placed in an electric furnace, and
The temperature was raised to 700 ° C at a rate of ℃ / min, held at that temperature for 1 hour, and then lowered to room temperature at a rate of 6 ° C / min, and a transparent, slightly grayish titania thin film was formed on the quartz glass plate. Got

得られたチタニア薄膜を、光学顕微鏡を用いて600倍で
観察したところ、ひび割れ等は全く認められなかった。
また、X線回折法を用いて分析したところ、2θ=25゜
の位置にチタニアのピークが認められ、チタニアに変換
されていることが確認された。
When the obtained titania thin film was observed with an optical microscope at 600 times, no cracks or the like were observed.
Further, when analyzed by X-ray diffractometry, a titania peak was observed at a position of 2θ = 25 °, and it was confirmed that the titania had been converted to titania.

実施例10 チタニウムメトキシドに代えてチタニウムエトキシドを
用いたほかは実施例9と全く同様にして、チタニア薄膜
を得た。
Example 10 A titania thin film was obtained in exactly the same manner as in Example 9 except that titanium ethoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例9で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film is also the same as that obtained in Example 9.
It was extremely homogeneous.

実施例11 チタニウムメトキシドに代えてチタニウム2−プロポキ
シドを用いたほかは実施例9と全く同様にして、チタニ
ア薄膜を得た。
Example 11 A titania thin film was obtained in the same manner as in Example 9 except that titanium 2-propoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例9で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film is also the same as that obtained in Example 9.
It was extremely homogeneous.

実施例12 チタニウムメトキシドに代えてチタニウム1−ブトキシ
ドを用いたほかは実施例9と全く同様にして、チタニア
薄膜を得た。
Example 12 A titania thin film was obtained in exactly the same manner as in Example 9 except that titanium 1-butoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例9で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film is also the same as that obtained in Example 9.
It was extremely homogeneous.

実施例13 乾燥窒素を流しているグラブボックス内で、スターラー
を用いて、0.01モルのチタニウムメトキシドと、0.01モ
ルのモノエタノールアミンと、0.1リットルのエタノー
ルとを1時間混合し、混合物を調製した。
Example 13 Using a stirrer, 0.01 mol of titanium methoxide, 0.01 mol of monoethanolamine, and 0.1 liter of ethanol were mixed for 1 hour in a glove box flowing dry nitrogen to prepare a mixture. .

一方、長さ40mm、幅10mm、厚み0.5mmの石英ガラス板
を、トリクレン、アセトン、エタノール、純水を順次用
いてそれぞれ3分づつ超音波洗浄し、最後に高純度乾燥
窒素を吹き付けて乾燥した。
On the other hand, a quartz glass plate having a length of 40 mm, a width of 10 mm and a thickness of 0.5 mm was ultrasonically cleaned with trichlene, acetone, ethanol and pure water for 3 minutes each, and finally dried by blowing high purity dry nitrogen. .

次に、上記混合物に石英ガラス板を浸漬し、1分後、垂
直に10cm/分の速度で引き上げ、石英ガラス板上に混合
物の薄膜を形成した。
Next, a quartz glass plate was immersed in the above mixture, and after 1 minute, it was vertically pulled up at a rate of 10 cm / min to form a thin film of the mixture on the quartz glass plate.

次に、上記薄膜を50℃の恒温炉中で1時間乾燥し、ゲル
化させた。
Next, the above thin film was dried in a constant temperature oven at 50 ° C. for 1 hour to gel.

次に、ゲル化薄膜を石英ガラス板ごと電気炉に入れ、6
℃/分の速度で700℃まで昇温し、その温度に1時間保
持した後、6℃/分の速度で室温まで降温し、石英ガラ
ス上に、透明で、わずかに灰色がかったチタニア薄膜を
得た。
Next, the gelled thin film together with the quartz glass plate was placed in an electric furnace, and
After raising the temperature to 700 ° C at a rate of ° C / min, holding it at that temperature for 1 hour, and then lowering it to room temperature at a rate of 6 ° C / min, a transparent, slightly grayish titania thin film was formed on the quartz glass. Obtained.

得られたチタニア薄膜を、光学顕微鏡を用いて600倍で
観察したところ、ひび割れ等は全く認められなかった。
また、X線回折法を用いて分析したところ、2θ=25゜
の位置にチタニアのピークが認められ、チタニアに変換
されていることが確認された。
When the obtained titania thin film was observed with an optical microscope at 600 times, no cracks or the like were observed.
Further, when analyzed by X-ray diffractometry, a titania peak was observed at a position of 2θ = 25 °, and it was confirmed that the titania had been converted to titania.

実施例14 チタニウムメトキシドに代えてチタニウムエトキシドを
用いたほかは実施例13と全く同様にして、チタニア薄膜
を得た。
Example 14 A titania thin film was obtained in exactly the same manner as in Example 13 except that titanium ethoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例13で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film also, similar to that obtained in Example 13,
It was extremely homogeneous.

実施例15 チタニウムメトキシドに代えてチタニウム2−プロポキ
シドを用いたほかは実施例13と全く同様にして、チタニ
ア薄膜を得た。
Example 15 A titania thin film was obtained in the same manner as in Example 13 except that titanium 2-propoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例13で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film also, similar to that obtained in Example 13,
It was extremely homogeneous.

実施例16 チタニウムメトキシドに代えてチタニウム1−ブトキシ
ドを用いたほかは実施例13と全く同様にして、チタニア
薄膜を得た。
Example 16 A titania thin film was obtained in exactly the same manner as in Example 13 except that titanium 1-butoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例13で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film also, similar to that obtained in Example 13,
It was extremely homogeneous.

実施例17 乾燥窒素を流しているグラブボックス内で、スターラー
を用いて、0.01モルのチタニウムメトキシドと、0.01モ
ルのジエタノールアミンと、0.1リットルのエタノール
とを1時間混合し、混合物を調製した。
Example 17 Using a stirrer, 0.01 mol of titanium methoxide, 0.01 mol of diethanolamine, and 0.1 liter of ethanol were mixed for 1 hour in a glove box flowing dry nitrogen to prepare a mixture.

一方、長さ40mm、幅10mm、厚み0.5mmの石英ガラス板
を、トリクレン、アセトン、エタノール、純水を順次用
いてそれぞれ3分づつ超音波洗浄し、最後に高純度乾燥
窒素を吹き付けて乾燥した。
On the other hand, a quartz glass plate having a length of 40 mm, a width of 10 mm and a thickness of 0.5 mm was ultrasonically cleaned with trichlene, acetone, ethanol and pure water for 3 minutes each, and finally dried by blowing high purity dry nitrogen. .

次に、上記混合物に石英ガラス板を浸漬し、1分後、垂
直に10cm/分の速度で引き上げ、石英ガラス板上に混合
物の薄膜を形成した。
Next, a quartz glass plate was immersed in the above mixture, and after 1 minute, it was vertically pulled up at a rate of 10 cm / min to form a thin film of the mixture on the quartz glass plate.

次に、上記薄膜を50℃の恒温炉中で1時間乾燥し、ゲル
化させた。
Next, the above thin film was dried in a constant temperature oven at 50 ° C. for 1 hour to gel.

次に、ゲル化薄膜を石英ガラス板ごとに電気炉に入れ、
6℃/分の速度で700℃まで昇温し、その温度に1時間
保持した後、6℃/分の速度で室温まで降温し、石英ガ
ラス板上に、透明で、わずかに灰色がかったチタニア薄
膜を得た。
Next, the gelled thin film is placed in an electric furnace for each quartz glass plate,
The temperature was raised to 700 ° C at a rate of 6 ° C / min, held at that temperature for 1 hour, then lowered to room temperature at a rate of 6 ° C / min, and a transparent, slightly grayish titania was formed on the quartz glass plate. A thin film was obtained.

得られたチタニア薄膜を、光学顕微鏡を用いて600倍で
観察したところ、ひび割れ等は全く認められなかった。
また、X線回折法を用いて分析したところ、2θ=25゜
の位置にチタニアのピークが認められ、チタニアに変換
されていることが確認された。
When the obtained titania thin film was observed with an optical microscope at 600 times, no cracks or the like were observed.
Further, when analyzed by X-ray diffractometry, a titania peak was observed at a position of 2θ = 25 °, and it was confirmed that the titania had been converted to titania.

実施例18 チタニウムメトキシドに代えてチタニウムエトキシドを
用いたほかは実施例17と全く同様にして、チタニア薄膜
を得た。
Example 18 A titania thin film was obtained in exactly the same manner as in Example 17, except that titanium ethoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例17で得られたものと同様、
極めて均質であった。
Also this titania thin film, similar to that obtained in Example 17,
It was extremely homogeneous.

実施例19 チタニウムメトキシドに代えてチタニウム2−プロポキ
シドを用いたほかは実施例17と全く同様にして、チタニ
ア薄膜を得た。
Example 19 A titania thin film was obtained in exactly the same manner as in Example 17, except that titanium 2-propoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例17で得られたものと同様、
極めて均質であった。
Also this titania thin film, similar to that obtained in Example 17,
It was extremely homogeneous.

実施例20 チタニウムメトキシドに代えてチタニウム1−ブトキシ
ドを用いたほかは実施例17と全く同様にして、チタニア
薄膜を得た。
Example 20 A titania thin film was obtained in exactly the same manner as in Example 17, except that titanium 1-butoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例17で得られたものと同様、
極めて均質であった。
Also this titania thin film, similar to that obtained in Example 17,
It was extremely homogeneous.

実施例21 乾燥窒素を流しているグラブボックス内で、スターラー
を用いて、0.01モルのチタニウムメトキシドと、0.01モ
ルのトリエタノールアミンと、0.1リットルのエタノー
ルとを1時間混合し、混合物を調製した。
Example 21 Using a stirrer, 0.01 mol of titanium methoxide, 0.01 mol of triethanolamine, and 0.1 liter of ethanol were mixed for 1 hour in a glove box flowing dry nitrogen to prepare a mixture. .

一方、長さ40mm、幅10mm、厚み0.5mmの石英ガラス板
を、トリクレン、アセトン、エタノール、純水を順次用
いてそれぞれ3分づつ超音波洗浄し、最後に高純度乾燥
窒素を吹き付けて乾燥した。
On the other hand, a quartz glass plate having a length of 40 mm, a width of 10 mm and a thickness of 0.5 mm was ultrasonically cleaned with trichlene, acetone, ethanol and pure water for 3 minutes each, and finally dried by blowing high purity dry nitrogen. .

次に、上記混合物に上記石英ガラス板を浸漬し、1分
後、垂直に10cm/分の速度で引き上げ、石英ガラス板上
に混合物の薄膜を形成した。
Next, the quartz glass plate was immersed in the mixture, and after 1 minute, it was vertically pulled up at a rate of 10 cm / min to form a thin film of the mixture on the quartz glass plate.

次に、上記薄膜を50℃の恒温炉中で1時間乾燥し、ゲル
化させた。
Next, the above thin film was dried in a constant temperature oven at 50 ° C. for 1 hour to gel.

次に、ゲル化薄膜を石英ガラス板ごと電気炉に入れ、6
℃/分の速度で700℃まで昇温し、その温度に1時間保
持した後、6℃/分の速度で室温まで降温し、石英ガラ
ス板上に、透明で、わずかに灰色がかったチタニア薄膜
を得た。
Next, the gelled thin film together with the quartz glass plate was placed in an electric furnace, and
The temperature was raised to 700 ° C at a rate of ℃ / min, held at that temperature for 1 hour, and then lowered to room temperature at a rate of 6 ° C / min, and a transparent, slightly grayish titania thin film was formed on the quartz glass plate. Got

得られたチタニア薄膜を、光学顕微鏡を用いて600倍で
観察したところ、ひび割れ等は全く認められなかった。
また、X線回折法を用いて分析したところ、2θ=25゜
の位置にチタニアのピークが認められ、チタニアに変換
されていることが確認された。
When the obtained titania thin film was observed with an optical microscope at 600 times, no cracks or the like were observed.
Further, when analyzed by X-ray diffractometry, a titania peak was observed at a position of 2θ = 25 °, and it was confirmed that the titania had been converted to titania.

実施例22 チタニウムメトキシドに代えてチタニウムエトキシドを
用いたほかは実施例21と全く同様にして、チタニア薄膜
を得た。
Example 22 A titania thin film was obtained in exactly the same manner as in Example 21 except that titanium ethoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例21で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film also, similar to that obtained in Example 21,
It was extremely homogeneous.

実施例23 チタニウムメトキシドに代えてチタニウム2−プロポキ
シドを用いたほかは実施例21と全く同様にして、チタニ
ア薄膜を得た。
Example 23 A titania thin film was obtained in exactly the same manner as in Example 21 except that titanium 2-propoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例21で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film also, similar to that obtained in Example 21,
It was extremely homogeneous.

実施例24 チタニウムメトキシドに代えてチタニウム1−ブトキシ
ドを用いたほかは実施例21と全く同様にして、チタニア
薄膜を得た。
Example 24 A titania thin film was obtained in exactly the same manner as in Example 21 except that titanium 1-butoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例21で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film also, similar to that obtained in Example 21,
It was extremely homogeneous.

実施例25 乾燥窒素を流しているグラブボックス内で、スターラー
を用いて、0.01モルのチタニウムメトキシドと、0.01モ
ルのモノエタノールアミンと、0.1リットルの2−プロ
パノールとを1時間混合し、混合物を調製した。
Example 25 Using a stirrer, 0.01 mol of titanium methoxide, 0.01 mol of monoethanolamine and 0.1 liter of 2-propanol were mixed for 1 hour in a glove box flushing with dry nitrogen, and the mixture was stirred. Prepared.

一方、長さ40mm、幅10mm、厚み0.5mmの石英ガラス板
を、トリクレン、アセトン、エタノール、純水を順次用
いてそれぞれ3分づつ超音波洗浄し、最後に高純度乾燥
窒素を吹き付けて乾燥した。
On the other hand, a quartz glass plate having a length of 40 mm, a width of 10 mm and a thickness of 0.5 mm was ultrasonically cleaned with trichlene, acetone, ethanol and pure water for 3 minutes each, and finally dried by blowing high purity dry nitrogen. .

次に、上記混合物に上記石英ガラス板を浸漬し、1分
後、垂直に10cm/分の速度で引き上げ、石英ガラス板上
に混合物の薄膜を形成した。
Next, the quartz glass plate was immersed in the mixture, and after 1 minute, it was vertically pulled up at a rate of 10 cm / min to form a thin film of the mixture on the quartz glass plate.

次に、上記薄膜を50℃の恒温炉中で1時間乾燥し、ゲル
化させた。
Next, the above thin film was dried in a constant temperature oven at 50 ° C. for 1 hour to gel.

次に、ゲル化薄膜を石英ガラス板ごと電気炉に入れ、6
℃/分の速度で700℃まで昇温し、その温度に1時間保
持した後、6℃/分の速度で室温まで降温し、石英ガラ
ス板上に、透明で、わずかに灰色がかったチタニア薄膜
を得た。
Next, the gelled thin film together with the quartz glass plate was placed in an electric furnace, and
The temperature was raised to 700 ° C at a rate of ℃ / min, held at that temperature for 1 hour, and then lowered to room temperature at a rate of 6 ° C / min. Got

得られたチタニア薄膜を、光学顕微鏡を用いて600倍で
観察したところ、ひび割れ等は全く認められなかった。
また、X線回折法を用いて分析したところ、2θ=25゜
の位置にチタニアのピークが認められ、チタニアに変換
されていることが確認された。
When the obtained titania thin film was observed with an optical microscope at 600 times, no cracks or the like were observed.
Further, when analyzed by X-ray diffractometry, a titania peak was observed at a position of 2θ = 25 °, and it was confirmed that the titania had been converted to titania.

実施例26 チタニウムメトキシドに代えてチタニウムエトキシドを
用いたほかは実施例25と全く同様にして、チタニア薄膜
を得た。
Example 26 A titania thin film was obtained in exactly the same manner as in Example 25 except that titanium ethoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例25で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film is also similar to that obtained in Example 25.
It was extremely homogeneous.

実施例27 チタニウムメトキシドに代えてチタニウム2−プロポキ
シドを用いたほかは実施例25と全く同様にして、チタニ
ア薄膜を得た。
Example 27 A titania thin film was obtained in exactly the same manner as in Example 25 except that titanium 2-propoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例25で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film is also similar to that obtained in Example 25.
It was extremely homogeneous.

実施例28 チタニウムメトキシドに代えてチタニウム1−ブトキシ
ドを用いたほかは実施例25と全く同様にして、チタニア
薄膜を得た。
Example 28 A titania thin film was obtained in the same manner as in Example 25 except that titanium 1-butoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例25で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film is also similar to that obtained in Example 25.
It was extremely homogeneous.

実施例29 乾燥窒素を流しているグラブボックス内で、スターラー
を用いて、0.01モルのチタニウムメトキシドと、0.01モ
ルのジエタノールアミンと、0.1リットルの2−プロパ
ノールとを1時間混合し、混合物を調製した。
Example 29 A mixture was prepared by mixing 0.01 mol of titanium methoxide, 0.01 mol of diethanolamine, and 0.1 liter of 2-propanol for 1 hour using a stirrer in a glove box flushing with dry nitrogen. .

一方、長さ40mm、幅10mm、厚み0.5mmの石英ガラス板
を、トリクレン、アセトン、エタノール、純水を順次用
いてそれぞれ3分づつ超音波洗浄し、最後に高純度乾燥
窒素を吹き付けて乾燥した。
On the other hand, a quartz glass plate having a length of 40 mm, a width of 10 mm, and a thickness of 0.5 mm was ultrasonically cleaned for 3 minutes each using trichlene, acetone, ethanol, and pure water, and finally dried by spraying high-purity dry nitrogen. .

次に、上記混合物に上記石英ガラス板を浸漬し、1分
後、垂直に10cm/分の速度で引き上げ、石英ガラス板上
に混合物の薄膜を形成した。
Next, the quartz glass plate was immersed in the mixture, and after 1 minute, it was vertically pulled up at a rate of 10 cm / min to form a thin film of the mixture on the quartz glass plate.

次に、上記薄膜を50℃の恒温炉中で1時間乾燥し、ゲル
化させた。
Next, the above thin film was dried in a constant temperature oven at 50 ° C. for 1 hour to gel.

次に、ゲル化薄膜を石英ガラス板ごとに電気炉に入れ、
6℃/分の速度で700℃まで昇温し、その温度に1時間
保持した後、6℃/分の速度で室温まで降温し、石英ガ
ラス上に、透明で、わずかに灰色がかったチタニア薄膜
を得た。
Next, the gelled thin film is placed in an electric furnace for each quartz glass plate,
The temperature was raised to 700 ° C at a rate of 6 ° C / min, held at that temperature for 1 hour, and then lowered to room temperature at a rate of 6 ° C / min, and a transparent, slightly grayish titania thin film was formed on the quartz glass. Got

得られたチタニア薄膜を、光学顕微鏡を用いて600倍で
観察したところ、ひび割れ等は全く認められなかった。
また、X線回折法を用いて分析したところ、2θ=25゜
の位置にチタニアのピークが認められ、チタニアに変換
されていることが確認された。
When the obtained titania thin film was observed with an optical microscope at 600 times, no cracks or the like were found.
Further, when analyzed by X-ray diffractometry, a titania peak was observed at a position of 2θ = 25 °, and it was confirmed that the titania had been converted to titania.

実施例30 チタニウムメトキシドに代えてチタニウムエトキシドを
用いたほかは実施例29と全く同様にして、チタニア薄膜
を得た。
Example 30 A titania thin film was obtained in exactly the same manner as in Example 29 except that titanium ethoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例29で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film is also similar to that obtained in Example 29.
It was extremely homogeneous.

実施例31 チタニウムメトキシドに代えてチタニウム2−プロポキ
シドを用いたほかは実施例29と全く同様にして、チタニ
ア薄膜を得た。
Example 31 A titania thin film was obtained in exactly the same manner as in Example 29 except that titanium 2-propoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例29で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film is also similar to that obtained in Example 29.
It was extremely homogeneous.

実施例32 チタニウムメトキシドに代えてチタニウム1−ブトキシ
ドを用いたほかは実施例29と全く同様にして、チタニア
薄膜を得た。
Example 32 A titania thin film was obtained in the same manner as in Example 29 except that titanium 1-butoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例29で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film is also similar to that obtained in Example 29.
It was extremely homogeneous.

実施例33 乾燥窒素を流しているグラブボックス内で、スターラー
を用いて、0.01モルのチタニウムメトキシドと、0.01モ
ルのトリエタノールアミンと、0.1リットルの2−プロ
パノールとを1時間混合し、混合物を調製した。
Example 33 Using a stirrer, 0.01 mol of titanium methoxide, 0.01 mol of triethanolamine, and 0.1 liter of 2-propanol were mixed for 1 hour in a glove box flowing dry nitrogen, and the mixture was stirred. Prepared.

一方、長さ40mm、幅10mm、厚み0.5mmの石英ガラス板
を、トリクレン、アセトン、エタノール、純水を順次用
いてそれぞれ3分づつ超音波洗浄し、最後に高純度乾燥
窒素を吹き付けて乾燥した。
On the other hand, a quartz glass plate having a length of 40 mm, a width of 10 mm and a thickness of 0.5 mm was ultrasonically cleaned with trichlene, acetone, ethanol and pure water for 3 minutes each, and finally dried by blowing high purity dry nitrogen. .

次に、上記混合物に上記石英ガラス板を浸漬し、1分
後、垂直に10cm/分の速度で引き上げ、石英ガラス板上
に混合物の薄膜を形成した。
Next, the quartz glass plate was immersed in the mixture, and after 1 minute, it was vertically pulled up at a rate of 10 cm / min to form a thin film of the mixture on the quartz glass plate.

次に、上記薄膜を50℃の恒温炉中で1時間乾燥し、ゲル
化させた。
Next, the above thin film was dried in a constant temperature oven at 50 ° C. for 1 hour to gel.

次に、ゲル化薄膜を石英ガラス板ごとに電気炉に入れ、
6℃/分の速度で700℃まで昇温し、その温度に1時間
保持した後、6℃/分の速度で室温まで降温し、石英ガ
ラス板上に、透明で、わずかに灰色がかったチタニア薄
膜を得た。
Next, the gelled thin film is placed in an electric furnace for each quartz glass plate,
The temperature was raised to 700 ° C at a rate of 6 ° C / min, held at that temperature for 1 hour, then lowered to room temperature at a rate of 6 ° C / min, and a transparent, slightly grayish titania was formed on the quartz glass plate. A thin film was obtained.

得られたチタニア薄膜を、光学顕微鏡を用いて600倍で
観察したところ、ひび割れ等は全く認められなかった。
また、X線回折法を用いて分析したところ、2θ=25゜
の位置にチタニアのピークが認められ、チタニアに変換
されていることが確認された。
When the obtained titania thin film was observed with an optical microscope at 600 times, no cracks or the like were observed.
Further, when analyzed by X-ray diffractometry, a titania peak was observed at a position of 2θ = 25 °, and it was confirmed that the titania had been converted to titania.

実施例34 チタニウムメトキシドに代えてチタニウムエトキシドを
用いたほかは実施例33と全く同様にして、チタニア薄膜
を得た。
Example 34 A titania thin film was obtained in exactly the same manner as in Example 33 except that titanium ethoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例33で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film is also the same as that obtained in Example 33.
It was extremely homogeneous.

実施例35 チタニウムメトキシドに代えてチタニウム2−プロポキ
シドを用いたほかは実施例33と全く同様にして、チタニ
ア薄膜を得た。
Example 35 A titania thin film was obtained in exactly the same manner as in Example 33 except that titanium 2-propoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例33で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film is also the same as that obtained in Example 33.
It was extremely homogeneous.

実施例36 チタニウムメトキシドに代えてチタニウム1−ブトキシ
ドを用いたほかは実施例33と全く同様にして、チタニア
薄膜を得た。
Example 36 A titania thin film was obtained in exactly the same manner as in Example 33 except that titanium 1-butoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例33で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film is also the same as that obtained in Example 33.
It was extremely homogeneous.

実施例37 乾燥窒素を流しているグラブボックス内で、スターラー
を用いて、0.01モルのチタニウムメトキシドと、0.01モ
ルのモノエタノールアミンと、0.1リットルの1−ブタ
ノールとを1時間混合し、混合物を調製した。
Example 37 Using a stirrer, 0.01 mol of titanium methoxide, 0.01 mol of monoethanolamine, and 0.1 liter of 1-butanol were mixed for 1 hour in a glove box under a dry nitrogen flow, and the mixture was stirred. Prepared.

一方、長さ40mm、幅10mm、厚み0.5mmの石英ガラス板
を、トリクレン、アセトン、エタノール、純水を順次用
いてそれぞれ3分づつ超音波洗浄し、最後に高純度乾燥
窒素を吹き付けて乾燥した。
On the other hand, a quartz glass plate having a length of 40 mm, a width of 10 mm and a thickness of 0.5 mm was ultrasonically cleaned with trichlene, acetone, ethanol and pure water for 3 minutes each, and finally dried by blowing high purity dry nitrogen. .

次に、上記混合物に上記石英ガラス板を浸漬し、1分
後、垂直に10cm/分の速度で引き上げ、石英ガラス板上
に混合物の薄膜を形成した。
Next, the quartz glass plate was immersed in the mixture, and after 1 minute, it was vertically pulled up at a rate of 10 cm / min to form a thin film of the mixture on the quartz glass plate.

次に、上記薄膜を50℃の恒温炉中で1時間乾燥し、ゲル
化させた。
Next, the above thin film was dried in a constant temperature oven at 50 ° C. for 1 hour to gel.

次に、ゲル化薄膜を石英ガラス板ごとに電気炉に入れ、
6℃/分の速度で700℃まで昇温し、その温度に1時間
保持した後、6℃/分の速度で室温まで降温し、石英ガ
ラス板上に、透明で、わずかに灰色がかったチタニア薄
膜を得た。
Next, the gelled thin film is placed in an electric furnace for each quartz glass plate,
The temperature was raised to 700 ° C at a rate of 6 ° C / min, held at that temperature for 1 hour, then lowered to room temperature at a rate of 6 ° C / min, and a transparent, slightly grayish titania was formed on the quartz glass plate. A thin film was obtained.

得られたチタニア薄膜を、光学顕微鏡を用いて600倍で
観察したところ、ひび割れ等は全く認められなかった。
また、X線回折法を用いて分析したところ、2θ=25゜
の位置にチタニアのピークが認められ、チタニアに変換
されていることが確認された。
When the obtained titania thin film was observed with an optical microscope at 600 times, no cracks or the like were observed.
Further, when analyzed by X-ray diffractometry, a titania peak was observed at a position of 2θ = 25 °, and it was confirmed that the titania had been converted to titania.

実施例38 チタニウムメトキシドに代えてチタニウムエトキシドを
用いたほかは実施例37と全く同様にして、チタニア薄膜
を得た。
Example 38 A titania thin film was obtained in the same manner as in Example 37 except that titanium ethoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例37で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film is also the same as that obtained in Example 37.
It was extremely homogeneous.

実施例39 チタニウムメトキシドに代えてチタニウム2−プロポキ
シドを用いたほかは実施例37と全く同様にして、チタニ
ア薄膜を得た。
Example 39 A titania thin film was obtained in exactly the same manner as in Example 37 except that titanium 2-propoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例37で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film is also the same as that obtained in Example 37.
It was extremely homogeneous.

実施例40 チタニウムメトキシドに代えてチタニウム1−ブトキシ
ドを用いたほかは実施例37と全く同様にして、チタニア
薄膜を得た。
Example 40 A titania thin film was obtained in the same manner as in Example 37 except that titanium 1-butoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例37で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film is also the same as that obtained in Example 37.
It was extremely homogeneous.

実施例41 乾燥窒素を流しているグラブボックス内で、スターラー
を用いて、0.01モルのチタニウムメトキシドと、0.01モ
ルのジエタノールアミンと、0.1リットルの1−ブタノ
ールとを1時間混合し、混合物を調製した。
Example 41 A mixture was prepared by mixing 0.01 mol of titanium methoxide, 0.01 mol of diethanolamine and 0.1 liter of 1-butanol for 1 hour using a stirrer in a glove box flowing dry nitrogen. .

一方、長さ40mm、幅10mm、厚み0.5mmの石英ガラス板
を、トリクレン、アセトン、エタノール、純水を順次用
いてそれぞれ3分づつ超音波洗浄し、最後に高純度乾燥
窒素を吹き付けて乾燥した。
On the other hand, a quartz glass plate having a length of 40 mm, a width of 10 mm and a thickness of 0.5 mm was ultrasonically cleaned with trichlene, acetone, ethanol and pure water for 3 minutes each, and finally dried by blowing high purity dry nitrogen. .

次に、上記混合物に上記石英ガラス板を浸漬し、1分
後、垂直に10cm/分の速度で引き上げ、石英ガラス板上
に混合物の薄膜を形成した。
Next, the quartz glass plate was immersed in the mixture, and after 1 minute, it was vertically pulled up at a rate of 10 cm / min to form a thin film of the mixture on the quartz glass plate.

次に、上記薄膜を50℃の恒温炉中で1時間乾燥し、ゲル
化させた。
Next, the above thin film was dried in a constant temperature oven at 50 ° C. for 1 hour to gel.

次に、ゲル化薄膜を石英ガラス板ごと電気炉に入れ、6
℃/分の速度で700℃まで昇温し、その温度に1時間保
持した後、6℃/分の速度で室温まで降温し、石英ガラ
ス板上に、透明で、わずかに灰色がかったチタニア薄膜
を得た。
Next, the gelled thin film together with the quartz glass plate was placed in an electric furnace, and
The temperature was raised to 700 ° C at a rate of ℃ / min, held at that temperature for 1 hour, and then lowered to room temperature at a rate of 6 ° C / min, and a transparent, slightly grayish titania thin film was formed on the quartz glass plate. Got

得られたチタニア薄膜を、光学顕微鏡を用いて600倍で
観察したところ、ひび割れ等は全く認められなかった。
また、X線回折法を用いて分析したところ、2θ=25゜
の位置にチタニアのピークが認められ、チタニアに変換
されていることが確認された。
When the obtained titania thin film was observed with an optical microscope at 600 times, no cracks or the like were observed.
Further, when analyzed by X-ray diffractometry, a titania peak was observed at a position of 2θ = 25 °, and it was confirmed that the titania had been converted to titania.

実施例42 チタニウムメトキシドに代えてチタニウムエトキシドを
用いたほかは実施例41と全く同様にして、チタニア薄膜
を得た。
Example 42 A titania thin film was obtained in exactly the same manner as in Example 41 except that titanium ethoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例41で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film is also the same as that obtained in Example 41.
It was extremely homogeneous.

実施例43 チタニウムメトキシドに代えてチタニウム2−プロポキ
シドを用いたほかは実施例41と全く同様にして、チタニ
ア薄膜を得た。
Example 43 A titania thin film was obtained in exactly the same manner as in Example 41 except that titanium 2-propoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例41で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film is also the same as that obtained in Example 41.
It was extremely homogeneous.

実施例44 チタニウムメトキシドに代えてチタニウム1−ブトキシ
ドを用いたほかは実施例41と全く同様にして、チタニア
薄膜を得た。
Example 44 A titania thin film was obtained in exactly the same manner as in Example 41 except that titanium 1-butoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例41で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film is also the same as that obtained in Example 41.
It was extremely homogeneous.

実施例45 乾燥窒素を流しているグラブボックス内で、スターラー
を用いて、0.01モルのチタニウムメトキシドと、0.01モ
ルのトリエタノールアミンと、0.1リットルの1−ブタ
ノールとを1時間混合し、混合物を調製した。
Example 45 Using a stirrer, 0.01 mol of titanium methoxide, 0.01 mol of triethanolamine, and 0.1 liter of 1-butanol were mixed for 1 hour in a glove box flowing dry nitrogen, and the mixture was stirred. Prepared.

一方、長さ40mm、幅10mm、厚み0.5mmの石英ガラス板
を、トリクレン、アセトン、エタノール、純水を順次用
いてそれぞれ3分づつ超音波洗浄し、最後に高純度乾燥
窒素を吹き付けて乾燥した。
On the other hand, a quartz glass plate having a length of 40 mm, a width of 10 mm and a thickness of 0.5 mm was ultrasonically cleaned with trichlene, acetone, ethanol and pure water for 3 minutes each, and finally dried by blowing high purity dry nitrogen. .

次に、上記混合物に上記石英ガラス板を浸漬し、1分
後、垂直に10cm/分の速度で引き上げ、石英ガラス板上
に混合物の薄膜を形成した。
Next, the quartz glass plate was immersed in the mixture, and after 1 minute, it was vertically pulled up at a rate of 10 cm / min to form a thin film of the mixture on the quartz glass plate.

次に、上記薄膜を50℃の恒温炉中で1時間乾燥し、ゲル
化させた。
Next, the above thin film was dried in a constant temperature oven at 50 ° C. for 1 hour to gel.

次に、ゲル化薄膜を石英ガラス板ごとに電気炉に入れ、
6℃/分の速度で700℃まで昇温し、その温度に1時間
保持した後、6℃/分の速度で室温まで降温し、石英ガ
ラス板上に、透明で、わずかに灰色がかったチタニア薄
膜を得た。
Next, the gelled thin film is placed in an electric furnace for each quartz glass plate,
The temperature was raised to 700 ° C at a rate of 6 ° C / min, held at that temperature for 1 hour, then lowered to room temperature at a rate of 6 ° C / min, and a transparent, slightly grayish titania was formed on the quartz glass plate. A thin film was obtained.

得られたチタニア薄膜を、光学顕微鏡を用いて600倍で
観察したところ、ひび割れ等は全く認められなかった。
また、X線回折法を用いて分析したところ、2θ=25゜
の位置にチタニアのピークが認められ、チタニアに変換
されていることが確認された。
When the obtained titania thin film was observed with an optical microscope at 600 times, no cracks or the like were observed.
Further, when analyzed by X-ray diffractometry, a titania peak was observed at a position of 2θ = 25 °, and it was confirmed that the titania had been converted to titania.

実施例46 チタニウムメトキシドに代えてチタニウムエトキシドを
用いたほかは実施例45と全く同様にして、チタニア薄膜
を得た。
Example 46 A titania thin film was obtained in exactly the same manner as in Example 45 except that titanium ethoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例45で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film was also prepared in the same manner as that obtained in Example 45.
It was extremely homogeneous.

実施例47 チタニウムメトキシドに代えてチタニウム2−プロポキ
シドを用いたほかは実施例45と全く同様にして、チタニ
ア薄膜を得た。
Example 47 A titania thin film was obtained in exactly the same manner as in Example 45 except that titanium 2-propoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例45で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film was also prepared in the same manner as that obtained in Example 45.
It was extremely homogeneous.

実施例48 チタニウムメトキシドに代えてチタニウム1−ブトキシ
ドを用いたほかは実施例45と全く同様にして、チタニア
薄膜を得た。
Example 48 A titania thin film was obtained in the same manner as in Example 45 except that titanium 1-butoxide was used instead of titanium methoxide.

このチタニア薄膜も、実施例45で得られたものと同様、
極めて均質であった。
This titania thin film was also prepared in the same manner as that obtained in Example 45.
It was extremely homogeneous.

[発明の効果] この発明は、チタニウムアルコキシドと、加水分解抑制
剤と、溶媒とを含む混合物、すなわち液体を出発原料と
するものであり、上述した従来の方法のようなゾルを出
発原料とするものではなく、しかも、加水分解抑制剤の
使用によって、チタニウムアルコキシドが加水分解され
て、チタニウムの、微粒子状の水酸化物等が析出してく
るのを防止することができるから、得られるチタニア薄
膜にひび割れや厚みむらができにくい。しかも、チタニ
アの特長である耐熱性、耐食性、耐摩耗性、表面平滑
性、電気絶縁性、誘電性、高光屈折率性といった特性が
損われることもない。
[Effects of the Invention] The present invention uses a mixture containing titanium alkoxide, a hydrolysis inhibitor, and a solvent, that is, a liquid as a starting material, and uses a sol as in the above-described conventional method as a starting material. In addition, it is possible to prevent the titanium alkoxide from being hydrolyzed by the use of a hydrolysis inhibitor, and to prevent precipitation of fine-grained hydroxides of titanium, etc. Difficult to form cracks and uneven thickness. Moreover, the characteristics of titania such as heat resistance, corrosion resistance, wear resistance, surface smoothness, electrical insulation, dielectric properties, and high optical refractive index are not impaired.

この発明の方法は、上述した特長から、たとえば、IC回
路に電気絶縁性や誘電性を付与する目的でチタニア薄膜
を形成したり、電気絶縁性の薄板にチタニア薄膜を形成
してそれで積層型コンデンサーを構成したり、電気絶縁
性の薄板にチタニア薄膜を形成し、それを積層して、落
雷などの瞬間的な大電流を吸収する、いわゆるサージア
ブソーバーとして使用したり、種々の基体上にチタニア
薄膜を形成してそれを光導波路における高屈折率膜とし
て使用したり、レンズ、プリズム、その他の光学部品を
保護する目的でそれらの表面にチタニア薄膜を形成した
りするような場合に適用することができる。
The method of the present invention has the above-mentioned features, for example, a titania thin film is formed for the purpose of imparting electric insulation or dielectric properties to an IC circuit, or a titania thin film is formed on an electrically insulating thin plate to form a multilayer capacitor. Or to form a titania thin film on an electrically insulating thin plate and stack it to use as a so-called surge absorber that absorbs a momentary large current such as a lightning strike, or as a titania thin film on various substrates. Can be used as a high-refractive index film in an optical waveguide, or a titania thin film can be formed on the surface of a lens, prism, or other optical component for the purpose of protecting it. it can.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 丹羽 勝弘 愛知県名古屋市名東区朝日が丘120番地 審査官 中村 泰三 (56)参考文献 特開 昭58−167428(JP,A) 特開 昭55−141573(JP,A) 特公 昭61−44949(JP,B2) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Katsuhiro Niwa 120 Asahigaoka, Meito-ku, Nagoya, Aichi Examiner Taizo Nakamura (56) References JP-A-58-167428 (JP, A) JP-A-55-141573 ( JP, A) JP 61-44949 (JP, B2)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】(イ) 下記A群から選ばれた1種のチタ
ニウムアルコキシドと、下記B群から選ばれた1種の加
水分解抑制剤と、下記C群から選ばれた1種の溶媒とを
少なくとも含む混合物を調製する工程と、 A群:チタニウムメトキシド チタニウムエトキシド チタニウムプロポキシド チタニウムブトキシド B群:モノエタノールアミン ジエタノールアミン トリエタノールアミン C群:メタノール エタノール プロパノール ブタノール (ロ) 基体上に前記混合物の薄膜を形成する工程と、 (ハ) 前記薄膜を乾燥し、ゲル化せしめる工程と、 (ニ) ゲル化薄膜を焼成し、チタニア薄膜に変換する
工程と、 を含むチタニア薄膜の形成方法。
(A) One titanium alkoxide selected from the following Group A, one hydrolysis inhibitor selected from the following Group B, and one solvent selected from the following Group C: And a group A: titanium methoxide titanium ethoxide titanium propoxide titanium butoxide group B: monoethanolamine diethanolamine triethanolamine group C: methanol ethanol propanol butanol (b) of the mixture on a substrate. A method of forming a titania thin film, comprising: a step of forming a thin film; (c) a step of drying and gelling the thin film; and (d) a step of firing the gelled thin film to convert it into a titania thin film.
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