JPH07145481A - Substrate and holding method of substrate holder - Google Patents
Substrate and holding method of substrate holderInfo
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- JPH07145481A JPH07145481A JP29167693A JP29167693A JPH07145481A JP H07145481 A JPH07145481 A JP H07145481A JP 29167693 A JP29167693 A JP 29167693A JP 29167693 A JP29167693 A JP 29167693A JP H07145481 A JPH07145481 A JP H07145481A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は基板および基板ホルダー
の保持方法、特には薄膜形成に用いられるスパッタ装置
または蒸着装置の成膜室内部の基板および基板ホルダー
の固定方法を改良した基板および基板ホルダーの保持方
法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of holding a substrate and a substrate holder, and more particularly to a substrate and a substrate holder which are improved in a method of fixing the substrate and the substrate holder in a film forming chamber of a sputtering apparatus or a vapor deposition apparatus used for thin film formation. The present invention relates to a method of holding.
【０００２】[0002]
【従来の技術】スパッタまたは蒸着装置を用いてプラス
チック基板またはガラス基板に薄膜を形成したのち、こ
れを装置の外に取り出す方法としては、パレットごと基
板を取り出す方法が一般的に行なわれている。これは例
えば従来の方法では図７に示されている、成膜室18ａ〜
ｄ、基板取付部19ａ〜ｄ、レール20、ゲート21からなる
成膜装置22と車輪部23とからなるパレット24に、図８で
示されている外マスク用磁石26と内マスク用磁石27を設
けたパレットの基板取付部28を用いて、ここに図９及び
10で示されている基板29と外マスク30、内マスク31を有
するマスク材32とを取り付けたものが用いられており、
これは車輪部23などの搬送装置によって、成膜装置内に
搬送し、ゲートを閉じて真空引き、成膜を行なうという
構造とされている。2. Description of the Related Art As a method for forming a thin film on a plastic substrate or a glass substrate by using a sputtering or vapor deposition apparatus and taking it out of the apparatus, a method of taking out the substrate together with a pallet is generally used. For example, in the conventional method, this is shown in FIG.
The outer mask magnet 26 and the inner mask magnet 27 shown in FIG. 8 are provided on a pallet 24 including a film forming apparatus 22 including the substrate mounting portions 19a to 19d, the rail 20, and the gate 21 and the wheel portion 23. Using the board mounting portion 28 of the pallet provided here, FIG.
A substrate 29 and an outer mask 30 shown by 10 and a mask material 32 having an inner mask 31 are used.
This has a structure in which a transfer device such as the wheel portion 23 transfers the film into the film forming device, closes the gate, and evacuates the film to perform film formation.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような従
来のような構造では、図11に示したように外マスク用磁
石26と内マスク用磁石27を取りつけたパレットの基板取
付部28に基板29を重ね、これに外マスク30と内マスク31
を取りつけた成膜装置を用いてスパッタまた蒸着が行な
われ、これによってパレット24の成膜室18ａ〜ｄに薄膜
が形成されるのであるが、この薄膜を回収するためには
パレット全体を成膜装置内から取り出す必要があるため
に、この装置が複雑で高価なものとなるし、パレットを
取り出すとこれに水分が付着するために次回のスパッ
タ、蒸着のために脱ガスすべくこれを真空排気すると、
この真空排気に長い時間が必要になるという問題点もあ
る。However, in such a conventional structure, as shown in FIG. 11, the substrate is attached to the substrate attaching portion 28 of the pallet to which the outer mask magnet 26 and the inner mask magnet 27 are attached. 29 overlaid, and the outer mask 30 and inner mask 31 on this
Sputtering or vapor deposition is performed by using the film forming apparatus equipped with the above, and thereby thin films are formed in the film forming chambers 18a to 18d of the pallet 24. In order to recover this thin film, the entire pallet is formed into a film. Since it needs to be taken out from the equipment, this equipment becomes complicated and expensive, and when the pallet is taken out, moisture adheres to it, so this is evacuated to degas for the next sputtering and vapor deposition. Then,
There is also a problem in that this evacuation requires a long time.
【０００４】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明はこのような不
利、問題点を解決した基板および基板ホルダーの保持方
法に関するものであり、これはスパッタ装置または蒸着
装置において、成膜室内部に基板および基板ホルダーを
搬送するためのパレットを具備し、該パレットと該基板
ホルダーの固定に該パレット中に埋め込まれた磁石を使
用し、かつ該基板ホルダーと該基板を固定するマスクの
固定に該基板ホルダー中に埋め込まれた磁石を使用する
ことを特徴とするものである。The present invention relates to a method of holding a substrate and a substrate holder which solves the above disadvantages and problems, and it relates to a method for holding a substrate inside a film forming chamber in a sputtering apparatus or vapor deposition apparatus. A pallet for transporting a substrate holder is provided, a magnet embedded in the pallet is used for fixing the pallet and the substrate holder, and the substrate holder is used for fixing the substrate holder and a mask for fixing the substrate. It is characterized by using a magnet embedded therein.
【０００５】すなわち、本発明者らは従来公知の基板お
よび基板ホルダーの保持方法における上記したような不
利を解決する方法について種々検討した結果、これにつ
いては成膜室内部に基板と基板ホルダーを搬送するため
のパレットを従来法と同様に設置するが、このパレット
と基板ホルダーに磁石を埋め込み、このパレットに埋め
込んだ磁石でこのパレットと基板ホルダーを固定し、基
板ホルダーに埋め込んだ磁石でこの基板ホルダーと基板
を固定するマスクとを固定すると、成膜が終了した基板
の取り出しを基板を含む基板ホルダーを基板ホルダー取
付部から取り出すだけでよく、パレットを成膜装置本体
から取り出す必要がなくなるということを見出し、これ
によれば装置が簡単で安価なものとなり、パレットを成
膜装置から取り出す必要もないので、これに水が付着す
ることがなくなり、したがって脱ガスのための真空排気
が短時間ですむようになるということを確認して本発明
を完成させた。以下にこれをさらに詳述する。That is, the inventors of the present invention have made various studies on methods for solving the above-mentioned disadvantages in the conventionally known methods for holding a substrate and a substrate holder, and as a result, the substrate and the substrate holder are transferred into the film forming chamber. The pallet is installed in the same way as in the conventional method, but magnets are embedded in this pallet and the substrate holder, the pallet and the substrate holder are fixed by the magnet embedded in this pallet, and this substrate holder is embedded by the magnet embedded in the substrate holder. By fixing the substrate and the mask for fixing the substrate, it is only necessary to take out the substrate holder including the substrate from the substrate holder mounting portion to take out the substrate after the film formation, and it is not necessary to take out the pallet from the film forming apparatus main body. Headline, which makes the device simpler and cheaper, and removes the pallet from the deposition system There is no need to this prevents the water from adhering, thus confirmed to complete the present invention that evacuation for degassing becomes less time. This will be described in more detail below.
【０００６】[0006]
【作用】本発明は基板および基板ホルダーの保持方法に
関するもので、これは前記したようにスパッタ装置また
は蒸着装置において、成膜室内部に基板および基板ホル
ダーを搬送するためのパレットを具備し、該パレットと
該基板ホルダーの固定に該パレット中に埋め込まれた磁
石を使用し、かつ該基板ホルダーと該基板を固定するマ
スクの固定に該基板ホルダー中に埋め込まれた磁石を使
用することを特徴とするものであるが、これによれば基
板ホルダーがパレットに磁石で取り付けられており、基
板ホルダーには基板とマスクが磁石で固定されているの
で、成膜された基板の取り出しは基板ホルダーをパレッ
トから取り外してこの基板ホルダーだけを取り出し、つ
いでこの基板ホルダーから基板を取り出せばよく、パレ
ットを装置から取り出す必要がなくなるので、この装置
が簡単で安価なものとなり、パレットに水の付着するお
それもないので再使用のときの真空排気が短時間ですむ
という有利性が与えられる。The present invention relates to a method for holding a substrate and a substrate holder, which is, as described above, provided with a pallet for carrying the substrate and the substrate holder in the film forming chamber in the sputtering apparatus or vapor deposition apparatus, A magnet embedded in the pallet is used for fixing the pallet and the substrate holder, and a magnet embedded in the substrate holder is used for fixing the mask for fixing the substrate holder and the substrate. However, according to this, the substrate holder is attached to the pallet with a magnet, and the substrate and the mask are fixed to the substrate holder with a magnet. Remove the board holder, remove only the board holder, and then remove the board from the board holder. The need to issue is eliminated, the device becomes as simple and inexpensive, advantage that since there is no risk of adhesion of water evacuation when reuse is less time is given to the pallet.
【０００７】本発明の基板および基板ホルダーの保持方
法は、成膜室内部にパレットを設け、このパレットにパ
レット中に埋め込まれた磁石で基板ホルダーを固定し、
この基板ホルダーにはこの基板ホルダーに埋め込まれた
磁石で基板を固定してなるものであるが、これは図１〜
図６に示したものとされる。図１は本発明の基板および
基板ホルダーの保持方法における成膜装置本体５の斜視
図を示したものであるが、このものは１ａ、１ｂ、１ｃ
からなる成膜室１と、２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄからなる
基板ホルダー取付部２、基板ホルダー取り出し位置３、
回転軸４とからなるパレット６を有するものとされてい
る。According to the method for holding a substrate and a substrate holder of the present invention, a pallet is provided inside the film forming chamber, and the substrate holder is fixed to the pallet by a magnet embedded in the pallet.
The substrate holder is made by fixing the substrate with a magnet embedded in the substrate holder.
As shown in FIG. FIG. 1 shows a perspective view of a film forming apparatus main body 5 in the method for holding a substrate and a substrate holder according to the present invention, which is 1a, 1b, 1c.
A film forming chamber 1 consisting of, a substrate holder mounting portion 2 consisting of 2a, 2b, 2c and 2d, a substrate holder take-out position 3,
It has a pallet 6 composed of a rotating shaft 4.
【０００８】図２はパレット６の平面図を示したもので
あるが、これには後記する基板ホルダー13を固定するた
めの磁石８ａ、８ｂ、８ｃ、８ｄ、８ｅ、８ｆ、８ｇ、
８ｈが埋め込まれており、これらの磁石８ａ〜８ｈによ
る磁石の磁場は図中に磁石の領域９で示されており、こ
のものには図１に示した基板ホルダー取付部２ａ〜２ｃ
によってこの基体ホルダー取付部10に基板ホルダー13が
取りつけられる。FIG. 2 shows a plan view of the pallet 6, in which magnets 8a, 8b, 8c, 8d, 8e, 8f, 8g for fixing a substrate holder 13 described later are provided.
8h is embedded, and the magnetic field of the magnet by these magnets 8a to 8h is shown in the area 9 of the magnet in the figure, which includes the substrate holder mounting portions 2a to 2c shown in FIG.
Thus, the substrate holder 13 is attached to the base holder attaching portion 10.
【０００９】また、図３は基板ホルダー13の平面図で、
これにはその外側に基板および基板ホルダーの保持方法
に使用される外マスクを固定するための磁石11が複数個
埋め込まれており、その中心部には基板および基板ホル
ダーの保持方法に使用される内マスクを固定するための
磁石12が複数個埋め込まれていて、この磁石11、磁石12
による磁石の領域は磁石11によるものが領域14ａとし
て、また磁石12によるものが領域14ｂとして示されてい
るが、前記した磁石８とこの磁石11、12とは磁気的な干
渉を起さないように配置される。FIG. 3 is a plan view of the substrate holder 13,
A plurality of magnets 11 for fixing an outer mask used for a method of holding a substrate and a substrate holder are embedded on the outside thereof, and a magnet for holding a substrate and a substrate holder is used in a central portion of the magnet 11. A plurality of magnets 12 for fixing the inner mask are embedded.
In the area of the magnet by the magnet 11, the area by the magnet 11 is shown as the area 14a, and the area by the magnet 12 is shown by the area 14b. However, the above-mentioned magnet 8 and the magnets 11 and 12 do not cause magnetic interference. Is located in.
【００１０】なお、図４はここに使用される基板15の平
面図であり、これは通常ガラスまたはポリカーボネー
ト、アクリルなどのプラスチックで作られたものとされ
るが、これには薄膜製造時に成膜をしない部分を得るた
めに図５で示されるマスク17が設けられるが図５はこの
マスクの平面図を示したもので、これは外マスク16ａと
内マスク16ｂとからなるものとされる。FIG. 4 is a plan view of the substrate 15 used here, which is usually made of glass or plastic such as polycarbonate or acrylic. A mask 17 shown in FIG. 5 is provided in order to obtain a portion which does not have a mask. FIG. 5 shows a plan view of this mask, which is composed of an outer mask 16a and an inner mask 16b.
【００１１】本発明の基板および基板ホルダーの保持方
法はこの成膜室内に上記したパレット６に基板ホルダー
13を磁石８ａ〜８ｈで固着し、ついでこれに基板15とマ
スク17を磁石11、12で取りつけることによって作られる
が、このものは図６に示したようなものとなる。図６は
本発明の基板および基板ホルダーの保持方法の基板取付
けを示す縦断面図であるが、これは磁石８を埋め込んだ
パレット６の上に磁石11、12を埋め込んだ基板ホルダー
13を磁石８で固定し、ついでこの上に基板15を重ね、さ
らにこの上に外マスク16ａ、内マスク16ｂを有するマス
ク17を重ね、これを磁石11、12で固定したものである。The method of holding the substrate and the substrate holder according to the present invention is based on the above-mentioned pallet 6 in the film forming chamber.
It is made by fixing 13 with magnets 8a to 8h, and then attaching the substrate 15 and the mask 17 to them with magnets 11 and 12, which is as shown in FIG. FIG. 6 is a vertical cross-sectional view showing substrate mounting according to a method of holding a substrate and a substrate holder of the present invention. This is a substrate holder in which magnets 11 and 12 are embedded on a pallet 6 in which a magnet 8 is embedded.
13 is fixed by a magnet 8, then a substrate 15 is superposed on this, a mask 17 having an outer mask 16a and an inner mask 16b is further superposed on this, and these are fixed by magnets 11 and 12.
【００１２】この基板および基板ホルダーの保持方法を
用いてスパッタ法または蒸着法で基板に薄膜を形成させ
ると、薄膜形成後に基板を取り出すときに、パレットを
装置から取り出す必要がなく、パレットから基板ホルダ
ーを磁石から取り外して基板ホルダーだけを取り出せば
よく、基板ホルダーを取り出したのち基板を取り出せば
よいので、この基板の取り出しが容易になるし、この装
置も簡単で安価なものとなり、さらにはパレットを取り
出さないのでパレットに水分が付着することもないの
で、再使用時の真空排気を短時間とすることができると
いう有利性が与えられる。When a thin film is formed on the substrate by the sputtering method or the vapor deposition method using this method for holding the substrate and the substrate holder, it is not necessary to take out the pallet from the device when taking out the substrate after forming the thin film, and the substrate holder is removed from the pallet. You can remove the board from the magnet and take out the board holder only, and then take out the board holder and then take out the board.This makes the board easy to take out, and the device is simple and inexpensive. Since water is not taken out from the pallet since it is not taken out, there is an advantage that vacuum evacuation at the time of reuse can be shortened.
【００１３】[0013]
【実施例】つぎに本発明の実施例、比較例をあげる。 実施例、比較例 ポリカーボネートからなる基板上に順次 Si3N4、TbFeC
o、Si3N4 、Alを積層した四層の薄膜を形成させるべ
く、図１に示したパレットに図３に示した基板ホルダ
ー、図４に示した基板および図５に示したマスク板を重
ね、磁石８、11、12でこれらを固定して図６に示した基
板および基板ホルダーの保持方法を用いた。EXAMPLES Next, examples and comparative examples of the present invention will be described. Examples and Comparative Examples Si 3 N 4 , TbFeC were sequentially formed on a substrate made of polycarbonate.
The substrate holder shown in FIG. 3, the substrate shown in FIG. 4 and the mask plate shown in FIG. 5 are placed on the pallet shown in FIG. 1 to form a four-layer thin film in which o, Si 3 N 4 and Al are laminated. After stacking and fixing them with magnets 8, 11 and 12, the method of holding the substrate and the substrate holder shown in FIG. 6 was used.
【００１４】ついで、この装置を使用し、真空度５mTor
r 、室温でスパッタ法により基板上に厚さ 1,500Åの四
層の薄膜を形成させたのち、基板ホルダーをパレットか
ら取り外してこれを装置外に取り出し、この基板ホルダ
ーから基板を取り外して薄膜を形成した基板を取得した
が、この場合は操作が簡単で、再使用時もパレットが取
り出されていないので、これに基板ホルダー、基板、マ
スクを取りつけたのち、直ちに真空排気すればよく、こ
の真空排気も 1.5時間という短時間ですますことができ
た。Then, using this device, the degree of vacuum is 5 mTor
After forming a 1,500Å four-layer thin film on the substrate by sputtering at room temperature, remove the substrate holder from the pallet, take it out of the equipment, and remove the substrate from this substrate holder to form a thin film. However, in this case, the pallet has not been taken out even when it is reused, so the substrate holder, the substrate, and the mask can be attached to it, and then the pump can be evacuated immediately. I was able to finish it in a short time of 1.5 hours.
【００１５】また、比較のために図７に示したパレット
に図８に示した基板ホルダー、図９に示した基板、図10
に示したマスク板を重ね、磁石26、27で基板ホルダーを
パレットに固定し、上記と同様に処理して基板上に薄膜
を形成させたが、この場合には基板の取り出しにパレッ
トを装置から引き出す必要があり、パレット引出し後に
基板ホルダーを取り外し、ついで基板を取り出す必要が
あることから、操作が難しく、また再使用のためにパレ
ットを装着後、真空排気するのに４時間という長時間が
必要であった。For comparison, the pallet shown in FIG. 7 has the substrate holder shown in FIG. 8, the substrate shown in FIG. 9 and the substrate shown in FIG.
The mask plate shown in Figure 2 was stacked, the substrate holder was fixed to the pallet with magnets 26 and 27, and the same process as above was performed to form a thin film on the substrate.In this case, the pallet was taken out of the device to take out the substrate. It is necessary to pull it out, it is necessary to remove the substrate holder after pulling out the pallet, and then take out the substrate, which makes the operation difficult, and it takes a long time of 4 hours to evacuate after mounting the pallet for reuse. Met.
【００１６】[0016]
【発明の効果】本発明は基板および基板ホルダーの保持
方法に関するものであり、これは前記したようにスパッ
タ装置または蒸着装置において、成膜室内部に基板およ
び基板ホルダーを搬送するためのパレットを具備し、該
パレットと該基板ホルダーの固定に該パレット中に埋め
込まれた磁石を使用し、かつ該基板ホルダーと該基板を
固定するマスクの固定に該基板ホルダー中に埋め込まれ
た磁石を使用することを特徴とするものであるが、これ
によれば薄膜成形後の基板の取り出しは基板ホルダーを
パレットから取り外して基板ホルダーだけを取り出せば
よく、したがってパレットを成膜装置から取り出す過程
がなくなるので、装置の構造も簡略化することができる
し、安価なものとすることができ、さらには基板を基板
ホルダーごと成膜装置本体から外せるために、パレット
を大気にさらすことなく、パレットに水分が付着するこ
とが極めて少なくなるので、脱ガスのための真空引きの
時間の短縮が可能となるという有利性が与えられる。The present invention relates to a method for holding a substrate and a substrate holder, which has a pallet for transporting the substrate and the substrate holder inside the film forming chamber in the sputtering apparatus or vapor deposition apparatus as described above. A magnet embedded in the pallet for fixing the pallet and the substrate holder, and a magnet embedded in the substrate holder for fixing the mask for fixing the substrate holder and the substrate. According to this, according to this, the substrate can be taken out after the thin film is formed by removing the substrate holder from the pallet and taking out only the substrate holder. Therefore, the process of taking out the pallet from the film forming apparatus is eliminated. The structure of can be simplified and can be inexpensive, and the substrate can be formed together with the substrate holder. To Hazuseru from Okimoto body, without exposing the pallet to the atmosphere, since it is extremely small moisture adheres to the pallet, advantage of shortening the time of vacuuming for degassing is possible it is given.
【図１】本発明の基板および基板ホルダーの保持方法に
おけるパレット部の斜視図を示したものである。FIG. 1 is a perspective view of a pallet portion in a method of holding a substrate and a substrate holder according to the present invention.
【図２】本発明の基板および基板ホルダーの保持方法に
おけるパレットの基板ホルダー取付部の平面図を示した
ものである。FIG. 2 is a plan view of a substrate holder mounting portion of a pallet in the substrate and substrate holder holding method of the present invention.
【図３】本発明の基板および基板ホルダーの保持方法の
基板ホルダーの平面図を示したものである。FIG. 3 is a plan view of a substrate holder according to a method of holding a substrate and a substrate holder of the present invention.
【図４】本発明の基板および基板ホルダーの保持方法の
基板の平面図を示したものである。FIG. 4 is a plan view of a substrate according to a method of holding a substrate and a substrate holder of the present invention.
【図５】本発明の基板および基板ホルダーの保持方法の
マスク板の平面図を示したものである。FIG. 5 is a plan view of a mask plate of a method of holding a substrate and a substrate holder according to the present invention.
【図６】本発明の基板および基板ホルダーの保持方法の
縦断面図を示したものである。FIG. 6 is a vertical sectional view showing a method for holding a substrate and a substrate holder according to the present invention.
【図７】比較例としての基板および基板ホルダーの保持
方法のパレットの斜視図を示したものである。FIG. 7 is a perspective view of a pallet for holding a substrate and a substrate holder as a comparative example.
【図８】比較例としての基板および基板ホルダーの保持
方法におけるパレットの基板ホルダー取付部の平面図を
示したものである。FIG. 8 is a plan view of a substrate holder mounting portion of a pallet in a method of holding a substrate and a substrate holder as a comparative example.
【図９】比較例としての基板および基板ホルダーの保持
方法の基板の平面図を示したものである。FIG. 9 is a plan view of a substrate and a substrate according to a holding method of a substrate holder as a comparative example.
【図１０】比較例としての基板および基板ホルダーの保
持方法のマスク板の平面図を示したものである。FIG. 10 is a plan view of a mask plate in a method of holding a substrate and a substrate holder as a comparative example.
【図１１】比較例としての基板および基板ホルダーの保
持方法の縦断面図を示したものである。FIG. 11 is a vertical sectional view showing a method of holding a substrate and a substrate holder as a comparative example.
１ａ，１ｂ，１ｃ，18ａ，18ｂ，18ｃ，18ｄ…成膜室、 ２ａ，２ｂ，２ｃ，２ｄ，19ａ，19ｂ，19ｃ，19ｄ…基
板ホルダー取付部、 ３…基板ホルダー取り出し位置、 ４，25…回転中心軸、 ５，22…成膜装置本体、 ６，24…パレット、 ８ａ，８ｂ，８ｃ，８ｄ，８ｅ，８ｆ，８ｇ，８ｈ…パ
レットに取り付けられた磁石、 ９…磁石８ａ〜８ｈの磁石の領域、 10…パレットの基板ホルダー取付部、 11…基板ホルダーに取り付けられた磁石（外マスク
用）、 12…基板ホルダーに取り付けられた磁石（内マスク
用）、 13…基板ホルダー、 14ａ、14ｂ…磁石11、12の磁石の領域、 15，29…基板、 16ａ，30…外マスク、 16ｂ，31…内マスク、 17，32…マスク板、 20…レール、 23…車輪部、 26…外マスク用磁石、 27…内マスク用磁石、 28…パレットの基板取付部。1a, 1b, 1c, 18a, 18b, 18c, 18d ... Deposition chamber, 2a, 2b, 2c, 2d, 19a, 19b, 19c, 19d ... Substrate holder mounting part, 3 ... Substrate holder take-out position, 4, 25 ... Rotation center axis, 5,22 ... Film forming apparatus main body, 6,24 ... Pallet, 8a, 8b, 8c, 8d, 8e, 8f, 8g, 8h ... Magnets attached to the pallet, 9 ... Magnets 8a-8h Area, 10 ... Pallet substrate holder mounting portion, 11 ... Magnet attached to substrate holder (for outer mask), 12 ... Magnet attached to substrate holder (for inner mask), 13 ... Substrate holder, 14a, 14b ... Magnet areas of magnets 11 and 12, 15, 29 ... Substrate, 16a, 30 ... Outer mask, 16b, 31 ... Inner mask, 17, 32 ... Mask plate, 20 ... Rail, 23 ... Wheel portion, 26 ... Outer mask Magnets, 27 ... Mask magnets, 28 ... Pallet board mounting part.
Claims (4)
膜室内部に基板および基板ホルダーを搬送するためのパ
レットを具備し、該パレットと該基板ホルダーの固定に
該パレット中に埋め込まれた磁石を使用し、かつ該基板
ホルダーと該基板を固定するマスクの固定に該基板ホル
ダー中に埋め込まれた磁石を使用することを特徴とする
基板および基板ホルダーの保持方法。1. A sputtering apparatus or vapor deposition apparatus, comprising a pallet for carrying a substrate and a substrate holder inside a film forming chamber, and using a magnet embedded in the pallet to fix the pallet and the substrate holder. And a method of holding a substrate and a substrate holder, wherein a magnet embedded in the substrate holder is used for fixing the substrate holder and a mask for fixing the substrate.
で成膜室から取り出せるようにされている請求項１記載
の基板および基板ホルダーの保持方法。2. The method for holding a substrate and a substrate holder according to claim 1, wherein the substrate holder, the substrate, and the mask are integrally removed from the film forming chamber.
ーに埋め込まれた磁石とが磁気的な干渉を起こさないよ
うに配置されている請求項１記載の基板および基板ホル
ダーの保持方法。3. The method for holding a substrate and a substrate holder according to claim 1, wherein the magnet embedded in the pallet and the magnet embedded in the substrate holder are arranged so as not to cause magnetic interference.
部に基板ホルダー取り付け部を複数個設けてなる、請求
項１記載の基板および基板ホルダーの保持方法。4. The method for holding a substrate and a substrate holder according to claim 1, wherein the pallet has a circular shape, and a plurality of substrate holder mounting portions are provided on an outer peripheral portion of the pallet.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29167693A JPH07145481A (en) | 1993-11-22 | 1993-11-22 | Substrate and holding method of substrate holder |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29167693A JPH07145481A (en) | 1993-11-22 | 1993-11-22 | Substrate and holding method of substrate holder |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07145481A true JPH07145481A (en) | 1995-06-06 |
Family
ID=17771986
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP29167693A Pending JPH07145481A (en) | 1993-11-22 | 1993-11-22 | Substrate and holding method of substrate holder |
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