JPH07131182A - Manufacture of printed-circuit board - Google Patents

Manufacture of printed-circuit board

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JPH07131182A
JPH07131182A JP5066118A JP6611893A JPH07131182A JP H07131182 A JPH07131182 A JP H07131182A JP 5066118 A JP5066118 A JP 5066118A JP 6611893 A JP6611893 A JP 6611893A JP H07131182 A JPH07131182 A JP H07131182A
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JP
Japan
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resin composition
resin
layer
copper
copper foil
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JP5066118A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoichi Haruta
要一 春田
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Toagosei Co Ltd
Original Assignee
Toagosei Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To perform continuously the formation of a copper foil by a heated roll and to contrive to improve the productivity of a printed-circuit board by a method wherein a first resin composition layer, which is soluble in an alkali aqueous solution and is small in fluidity at the time of heating and pressing by the heated roll, is formed on the roughened surface of the copper foil and a second resin composition layer, which is large in fluidity, is formed on this first layer. CONSTITUTION:A first resin composition layer 2, which is soluble in an alkali aqueous solution and is small in fluidity at the time of heating and pressing by a heated roll 16, is formed on the roughened surface of a copper foil 1 and a second resin composition layer 3, which is soluble in the alkali aqueous solution and is large in fluidity at the time of heating and pressing by the roll 16, is formed on this layer 2. The side of the resin of this copper-clad insulating sheet 4 is laminated on one surface or both surfaces of a double-sided or multilayer printed-wiring board by the roll 16. Then, an etching resist is formed on the surface copper foil 1 of the laminated sheet 4, a selective etching is performed, the exposed resin composition layers are dissolved with the alkali aqueous solution and an electromagnetic wave shielding layer is made to form.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は高密度実装に適したプリ
ント回路板の量産性の高い製造方法に関するものであ
る。特に物理特性、電気特性等の優れた電磁波シールド
層を有する多層プリント回路板およびメタルコアプリン
ト回路板を容易に製造する方法を提供するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a printed circuit board suitable for high-density mounting with high productivity. In particular, the present invention provides a method for easily manufacturing a multilayer printed circuit board and a metal core printed circuit board having an electromagnetic wave shield layer having excellent physical properties and electrical properties.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子機器の小型化、多機能化に伴って、
現在プリント回路板はより高密度化の方向に進んでい
る。例えば、導体回路の細線化、高多層化、スルーバイ
アホール(以下「スルーホール」と称することもあ
る。)、ブラインドバイアホ−ル、バリ−ドバイアホ−
ル等のインタ−スティシャルバイアホ−ルを含むバイア
ホ−ルの小径化、多層化、薄型化、小型チップ部品の表
面実装による高密度実装等がある。
2. Description of the Related Art As electronic equipment becomes smaller and more multifunctional,
At present, printed circuit boards are becoming more dense. For example, thinning of conductor circuits, increase in number of layers, through via holes (hereinafter also referred to as "through holes"), blind via holes, burr via holes.
There are small-diameter, multi-layer, and thin via holes including interstitial via holes such as tools, and high-density mounting by surface mounting of small chip parts.

【0003】従来のブラインドバイアホールを有する多
層プリント回路板の製造方法を説明するために、各工程
の概略断面を図1から図7に示す。図1に示すように、
エッチング法で銅配線パターン6を予め形成した内層用
パネル7を複数枚用意し、外層用の銅はく1と内層用パ
ネル7の間および内層用パネル同士の間に例えばエポキ
シガラスプリプレグ5を1ないしは2枚重ねてレイアッ
プし、160〜180℃の温度で60〜120分間、プ
レス圧15〜50kg/cm2 で熱プレスすることによ
り、図2に示す内層配線パターンとバリードバイアホー
ル22を有する銅張積層板パネルが得られる。精度が要
求される場合は真空熱プレスを使用することもある。
In order to explain a conventional method for manufacturing a multilayer printed circuit board having a blind via hole, schematic sectional views of respective steps are shown in FIGS. 1 to 7. As shown in Figure 1,
A plurality of inner layer panels 7 having copper wiring patterns 6 pre-formed by an etching method are prepared. For example, an epoxy glass prepreg 5 is provided between the outer layer copper foil 1 and the inner layer panels 7 and between the inner layer panels. Or two layers are laid up and heat-pressed at a temperature of 160 to 180 ° C. for 60 to 120 minutes at a pressing pressure of 15 to 50 kg / cm 2 to form the inner layer wiring pattern and the balled via hole 22 shown in FIG. A copper clad laminate panel having is obtained. A vacuum hot press may be used when precision is required.

【0004】次に、所定の位置にドリルマシンで順次穴
加工を施し、従来のスルーホール8を設けると図3のよ
うになる。引き続きブラインドバイアホール用穴20お
よび23をドリル加工で形成すると図4のようになる。
Next, when a conventional through hole 8 is provided by sequentially drilling holes at predetermined positions with a drill machine, the result is as shown in FIG. Subsequently, the blind via hole holes 20 and 23 are formed by drilling, as shown in FIG.

【0005】以下、従来の無電解銅めっき、電解銅めっ
きを施し、めっきスルーホール24を形成すると図5の
ようになり、エッチングレジスト12を形成した(図
6)後、続いてエッチングし、最終的にはエッチングレ
ジストの膜はぎを行うと図7のようになり、バリードバ
イアホールおよびブラインドバイアホールを有する多層
プリント回路板が得られる。
[0005] Hereinafter, the conventional electroless copper plating and electrolytic copper plating are performed to form the plated through holes 24, as shown in Fig. 5. After forming the etching resist 12 (Fig. 6), the subsequent etching is performed, and the final Specifically, when the film of the etching resist is stripped, the result is as shown in FIG. 7, and a multilayer printed circuit board having a lead via hole and a blind via hole is obtained.

【0006】従来の多層プリント回路板の製造方法で
は、一般的には上述のように熱プレスまたは真空熱プレ
ス等を使用するため、熱プレスの準備として内層用パネ
ル、0.05〜0.2mm厚のプリプレグ1〜2枚と銅
はく、離型フィルムおよび鏡面プレス板等をレイアップ
し、それを熱プレスまたは真空熱プレスで熱圧着し、そ
の後取り出して解体する作業等が必要である。この製造
方法は通常バッチ生産であり、工数が大きく煩雑であ
る。バッチ作業を自動化すると生産性が上がるが、この
ための装置は高額となり、更に大量に熱圧着できる大型
の熱プレスを必要とする等の問題があった。また、薄型
多層プリント回路板を製造するためには薄いプリプレグ
を必要とするが、そのために使用するガラス繊維はより
細かいものを織布されたものであり、その製造には高度
な技術と高価な高精度製造装置を必要とするため、プリ
プレグ材料コストがアップするという問題があった。
In the conventional method for manufacturing a multilayer printed circuit board, a hot press, a vacuum hot press or the like is generally used as described above, so that the inner layer panel, 0.05 to 0.2 mm, is prepared in preparation for the hot press. It is necessary to lay up one or two thick prepregs, a copper foil, a release film, a mirror surface press plate, and the like, thermocompress them with a hot press or a vacuum heat press, and then take them out and dismantle them. This manufacturing method is usually batch production, and the number of steps is large and complicated. Although the automation of batch work improves productivity, the apparatus for this purpose is expensive and there is a problem that a large-sized heat press capable of thermocompression bonding in large quantities is required. In addition, a thin prepreg is required to manufacture a thin multilayer printed circuit board, but the glass fiber used for that purpose is a finer woven material, and its manufacturing requires high technology and high cost. Since a high-precision manufacturing apparatus is required, there is a problem that the cost of prepreg material increases.

【0007】更に、上述のようにドリルでブラインドバ
イアホールを形成するには、通常のスルーホールのよう
にパネルを複数枚重ねて空けることはできず、一穴づつ
空ける必要があり、このため穴加工に非常に時間を要
し、生産効率が悪いという欠点があった。また、ドリル
穴加工においてはドリル先端の深さを制御するために、
ドリル穿孔方向、一般的にはZ軸方向の移動距離と内層
用パネル表面の銅配線パターンの深さを合致させる必要
がある。しかしながら前述のとおり0.1〜0.5mm
程度の小径を空けるドリルは芯ぶれが大きく、また銅配
線パターンのZ軸方向の位置のばらつき等があり、精度
よくコントロールすることは難しく、ドリル加工が浅い
と下部の銅配線パターンまで達せず、後工程のめっきで
接続されずにブラインドバイアホール不良の原因とな
り、逆にドリル加工が深すぎると更にその下の銅配線パ
ターンと接触し、ショート不良となっていた。
Further, in order to form a blind via hole with a drill as described above, it is not possible to stack a plurality of panels like a normal through hole and it is necessary to drill one hole at a time. It takes a very long time to process, and the production efficiency is poor. In addition, in order to control the depth of the drill tip during drilling,
It is necessary to match the movement distance in the drilling direction, generally the Z-axis direction, with the depth of the copper wiring pattern on the inner layer panel surface. However, as described above, 0.1 to 0.5 mm
A drill with a small diameter has a large runout, and there are variations in the position of the copper wiring pattern in the Z-axis direction, so it is difficult to control accurately, and if the drilling is shallow, it will not be possible to reach the lower copper wiring pattern, If the drilling process is too deep, the copper wiring pattern will come into contact with the underlying copper wiring pattern, resulting in a short circuit defect.

【0008】一方、プリント回路板の電磁波の影響を防
止するため、従来のプリント配線板の表面上に絶縁層
(層間絶縁層)、銅ペ−ストをスクリ−ン印刷法により
塗布したシールド層およびオーバコートを形成した電磁
波シールドプリント配線板が開発されている(羽生等:
ナショナル テクニカル レポート(National Technic
al Report )35巻、4号、76−82頁、1989
年)。
On the other hand, in order to prevent the influence of electromagnetic waves on the printed circuit board, an insulating layer (interlayer insulating layer) on the surface of a conventional printed wiring board, a shield layer in which a copper paste is applied by a screen printing method, and An electromagnetic shield printed wiring board with an overcoat has been developed (Hanyu et al .:
National Technical Report
al Report) 35, No. 4, pages 76-82, 1989.
Year).

【0009】しかしながら、この方法では電磁波シール
ド層としての銅ペーストをスクリーン印刷で数十μmの
厚さにプリントして形成させるため、パターン形成の精
度が低く、また銅ペーストと伝送回路パターンの間隙が
大きいため、その間隙からノイズが漏れ、電磁波シール
ド効果が不十分になるという欠点があった。また、電磁
波シールド層のアンダーコート用絶縁レジストをスクリ
ーン印刷で形成させる際、下地の導体回路の端面部分が
スクリーンとの死角となり、この部分でレジストがかす
れを起こし易く、導体回路を完全に絶縁レジストで被覆
することは困難であった。
However, in this method, since the copper paste as the electromagnetic wave shield layer is formed by screen printing to a thickness of several tens of μm, the pattern forming accuracy is low and the gap between the copper paste and the transmission circuit pattern is small. Since it is large, there is a drawback that noise leaks from the gap and the electromagnetic wave shielding effect becomes insufficient. Also, when forming the undercoat insulation resist of the electromagnetic wave shield layer by screen printing, the end face part of the underlying conductor circuit becomes a blind spot with the screen, and the resist is liable to fade at this part, and the conductor circuit is completely insulated. It was difficult to coat with.

【0010】上記の問題点を解決するためのプリント回
路板の電磁波遮蔽対策として、特開昭54−11967
3号公報および特開昭63−33898号公報には、金
属導体パターンを形成した両面銅張積層板、金属はくお
よびプリプレグを熱プレスで積層して、ほぼ表面の全面
に金属はくを残して、電磁波シールド層とするプリント
回路板またはその製造方法の開示がある。この方法では
表面が平滑な銅はく等の金属はくになるから、比較的精
度の高いホト法のエッチングレジストの形成および金属
はくのエッチングが容易である。しかしこの方法では銅
はく、プリプレグおよび内層の両面銅張積層板を積層す
るのに、熱プレスを2〜3時間もかける必要があり、か
つバッチ生産であるので量産性が悪く、また、内層用の
パネルのグラウンド層と表面金属はくとを電気的に接続
するのに、1穴づつ空けるドリル加工等も必要となり工
数がかかり製造コストが高くなるという欠点があった。
As a countermeasure against electromagnetic waves of a printed circuit board for solving the above problems, Japanese Patent Laid-Open No. 54-11967 has been proposed.
No. 3 and Japanese Unexamined Patent Publication No. 63-33898, a double-sided copper clad laminate having a metal conductor pattern, a metal foil and a prepreg are laminated by hot pressing to leave a metal foil on almost the entire surface. Then, there is disclosed a printed circuit board which is an electromagnetic wave shield layer or a manufacturing method thereof. By this method, a metal foil such as a copper foil having a smooth surface is formed, and therefore it is easy to form an etching resist and a metal foil with a relatively high precision by a photo method. However, this method requires hot pressing for 2-3 hours to laminate the copper foil, the prepreg and the double-sided copper clad laminate of the inner layer, and since it is batch production, mass productivity is poor, and the inner layer In order to electrically connect the ground layer and the surface metal foil of the panel for electric use, it is necessary to perform drilling for forming one hole at a time, which requires a lot of man-hours and a high manufacturing cost.

【0011】一方、放熱対策用プリント回路板として
は、予め貫通穴を空けた表面粗化した金属パネルに0.
05〜0.2mm厚の樹脂含浸繊維シート例えばガラス
布エポキシ樹脂プリプレグと銅はくを重ねて、熱プレス
により一体成形し、穴内に樹脂を充填した後、上記の穴
位置に貫通穴を設けてスルーホールめっきを施し、表面
銅はくに選択エッチングによりパターン形成することに
よりメタルコアプリント回路板を製造する方法が知られ
ている。しかしながらこの方法では、前述の従来のプリ
ント回路板の製造方法と同様、熱プレスによるバッチ生
産となり、連続生産が困難で製造コストが高くつくとい
う欠点があった。
On the other hand, as a printed circuit board for heat dissipation, a surface-roughened metal panel in which through holes are previously formed is used.
A resin-impregnated fiber sheet having a thickness of 05 to 0.2 mm, for example, glass cloth epoxy resin prepreg and copper foil are overlaid and integrally molded by hot pressing, and after filling the resin in the hole, a through hole is provided at the hole position. A method of manufacturing a metal core printed circuit board by performing through-hole plating and patterning a surface copper foil by selective etching is known. However, this method has the drawback that batch production by hot pressing is difficult, and continuous production is difficult and the manufacturing cost is high, as in the conventional printed circuit board manufacturing method described above.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】上記のように、物理特
性および電気特性に優れ、品質が安定し、しかも量産性
に優れた電磁波シールド層を有するプリント回路板およ
びメタルコアプリント回路板の製造方法は現在のところ
提供されていないのである。
As described above, a method of manufacturing a printed circuit board and a metal core printed circuit board having an electromagnetic wave shield layer which is excellent in physical properties and electrical properties, has stable quality, and is excellent in mass productivity is provided. It is not currently provided.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明は、アルカリ水溶
液に可溶で熱ロールによる加熱加圧時の流動性が小さい
第1の樹脂組成物の層を銅はくの粗面化面に形成し、該
層の上にアルカリ水溶液に可溶で熱ロールによる加熱加
圧時の流動性が大きい第2の樹脂組成物の層を形成して
なる銅張絶縁シートの樹脂側を、両面または多層のプリ
ント配線板(以下「内層用パネル」と称する。)の片面
または両面に熱ロールでラミネートする工程;ラミネー
トした上記銅張絶縁シートの表面銅はくにエッチングレ
ジストを形成し、前記内層用パネルのグラウンド部分の
上部に位置する表面銅はくをエッチングで除去する工
程;露出した樹脂組成物の層をアルカリ水溶液で溶解し
て、前記内層用パネルの導体回路パターンを露出させる
工程;樹脂組成物を硬化させる工程;前記内層用パネル
の露出した導体回路パターンと表面銅はくとを導電物質
により電気的に導通させ電磁波シールド層を形成させる
工程よりなるプリント回路板の製造方法である。
According to the present invention, a layer of a first resin composition which is soluble in an alkaline aqueous solution and has low fluidity when heated and pressed by a hot roll is formed on a roughened surface of a copper foil. Then, the resin side of the copper clad insulating sheet formed by forming a layer of the second resin composition which is soluble in an alkaline aqueous solution and has a large fluidity at the time of heating and pressurizing with a hot roll on the layer Laminating one side or both sides of the printed wiring board (hereinafter referred to as "inner layer panel") with a heat roll; forming an etching resist on the surface copper foil of the laminated copper-clad insulating sheet, A step of removing the surface copper foil located above the ground part by etching; a step of dissolving the exposed resin composition layer with an alkaline aqueous solution to expose the conductor circuit pattern of the inner layer panel; It is exposed conductor circuit pattern and the surface copper white rabbit consisting electrically conductive is not a step of forming the electromagnetic shielding layer by a conductive material printed circuit board manufacturing method of the inner panel; reduction is to process.

【0014】本発明によると電磁波シールド層の銅はく
の形成が熱ロールで連続的に行えるため、従来のように
バッチ生産である熱プレスでラミネートする方法に比較
して生産性が著しく向上する。またラミネートした銅は
く表面は平滑であるため、選択エッチングする際にレジ
ストの形成も容易で高密度なパターン形成が可能とな
る。そして、グラウンド層との電気的接続も銀ペース
ト、銅ペースト、はんだペースト等の導電ペースト、は
んだのような溶融金属、めっき金属等の導電物質を必要
な部分のみに形成して容易に電磁波シールド層を形成す
ることができる。
According to the present invention, since the copper foil of the electromagnetic wave shielding layer can be continuously formed by the hot roll, the productivity is remarkably improved as compared with the conventional method of laminating by hot press which is batch production. . Further, since the surface of the laminated copper foil is smooth, the resist can be easily formed during the selective etching, and a high-density pattern can be formed. Also, the electrical connection with the ground layer is made easy by forming a conductive material such as a silver paste, a copper paste, a conductive paste such as a solder paste, a molten metal such as solder, or a plated metal only in a necessary portion. Can be formed.

【0015】本発明の電磁波シールド層を有するプリン
ト回路板の製造方法において用いる、内層用パネルとし
ては、片面、両面のプリント配線板、多層プリント配線
板のいずれも使用できる。しかも、該プリント配線板に
めっきスルーホールまたは非めっきスルーホールがあっ
ても、該スルーホールを樹脂組成物で充填し、その上の
銅はくに外層の導体回路パターンを容易に形成すること
ができるのでパターン設計の自由度が著しく向上するこ
とになる。更に、内層用パネルに予め、プリント抵抗等
プリント電子部品を形成しておいても良い。また、任意
の形状のスルーホールまたはブラインドホールを設けて
おき、その中に小型チップ部品を装着した状態で、銅張
絶縁シートをラミネートして上記チップ部品を樹脂で埋
め込んだ後、表面銅はくをエッチングし、その下の樹脂
組成物をアルカリ水溶液で溶解することにより前記チッ
プ部品の端子部分を露出させた後、表面導体回路パター
ンと導電物質で電気的に導通させることもできる。
As the inner layer panel used in the method for producing a printed circuit board having an electromagnetic wave shielding layer according to the present invention, either one-sided or double-sided printed wiring board or a multilayer printed wiring board can be used. Moreover, even if the printed wiring board has plated through holes or non-plated through holes, the through holes can be filled with the resin composition, and the conductor circuit pattern of the outer layer can be easily formed on the copper foil thereon. Therefore, the degree of freedom in pattern design is significantly improved. Furthermore, a printed electronic component such as a printed resistor may be formed in advance on the inner layer panel. Also, through holes or blind holes of any shape are provided, small chip parts are mounted in the holes, and after laminating a copper clad insulating sheet and embedding the above chip parts with resin, surface copper foil Can be etched, and the resin composition thereunder can be dissolved in an alkaline aqueous solution to expose the terminal portion of the chip component, and then the surface conductor circuit pattern can be electrically connected with a conductive material.

【0016】また、本発明は、熱ロールによる加熱加圧
時の流動性が小さい第1の樹脂組成物の層を銅はくの粗
面化面に形成し、該層の上に熱ロールによる加熱加圧時
の流動性が大きい第2の樹脂組成物の層を形成してなる
銅張絶縁シートの樹脂側を、予め貫通穴を形成した金属
パネルの両面に熱ロールでラミネートし、金属パネルの
該穴中に樹脂を充填した積層パネルを作成する工程;樹
脂組成物を硬化させる工程;前記積層パネルの樹脂の充
填した穴にそれよりも小さい径の貫通穴をドリル加工等
で形成する工程;両表面の銅はくを電気的に導電物質に
より接続する工程;選択エッチングにより表面銅はくに
導体回路パターンを形成する工程からなるメタルコアプ
リント回路板の製造方法である。
Further, according to the present invention, a layer of the first resin composition having a low fluidity when heated and pressed by a hot roll is formed on the roughened surface of the copper foil, and the layer is heated by the hot roll. The resin side of the copper-clad insulating sheet formed by forming the layer of the second resin composition having a large fluidity at the time of heating and pressurizing is laminated on both sides of a metal panel in which through holes are formed in advance with a heat roll, and the metal panel is formed. A step of forming a laminated panel in which a resin is filled in the hole; a step of curing the resin composition; a step of forming a through hole having a smaller diameter than that in the resin filled hole of the laminated panel by drilling or the like A method of manufacturing a metal core printed circuit board, which comprises a step of electrically connecting the copper foils on both surfaces with a conductive material; and a step of forming a conductor circuit pattern on the surface copper foils by selective etching.

【0017】上述のメタルコアプリント回路板の製造方
法によれば、表面銅はくを銅張絶縁シートとして、熱ロ
ールで連続的にラミネートを行うことができるため、従
来のようにバッチ生産で熱プレスでラミネートする方法
に比較して生産性が著しく向上する。
According to the above-described method of manufacturing a metal core printed circuit board, since the surface copper foil can be used as a copper-clad insulating sheet and can be continuously laminated with a hot roll, the conventional hot pressing can be performed in batch production. The productivity is remarkably improved as compared with the method of laminating in.

【0018】また、本発明は、アルカリ水溶液に可溶で
熱ロールによる加熱加圧時の流動性が小さい第1の樹脂
組成物の層を銅はくの粗面化面に形成し、該層の上にア
ルカリ水溶液に可溶で熱ロールによる加熱加圧時の流動
性が大きい第2の樹脂組成物の層を形成してなる銅張絶
縁シートの樹脂側を、予め貫通穴を形成した金属パネル
の両面に熱ロールでラミネートし、金属パネルの該穴中
に樹脂を充填した積層パネルを作成する工程;表面銅は
くにエッチングレジストを形成し、エッチングにより金
属パネルを露出させる位置の銅はくを除去し、露出した
樹脂組成物の層をアルカリ水溶液で溶解除去し、金属パ
ネルを露出させる工程;樹脂組成物を硬化させる工程;
上記積層パネルの樹脂の充填した穴にそれよりも小さい
径の貫通穴を形成する工程;両表面の銅はくを導電物質
により電気的に接続する工程;半導体部品を金属パネル
に直接ダイボンディングする工程からなるメタルコアプ
リント回路板の製造方法である。
Further, according to the present invention, a layer of the first resin composition which is soluble in an alkaline aqueous solution and has a low fluidity when heated and pressed by a hot roll is formed on the roughened surface of the copper foil, and the layer is formed. The resin side of the copper-clad insulating sheet having a second resin composition layer which is soluble in an alkaline aqueous solution and has high fluidity when heated and pressed by a hot roll is formed on the resin side with a through hole formed in advance. A process of laminating both sides of the panel with hot rolls to create a laminated panel in which the holes in the metal panel are filled with resin; an etching resist is formed on the surface copper foil, and the copper foil at the position where the metal panel is exposed by etching And removing the exposed layer of the resin composition with an aqueous alkaline solution to expose the metal panel; curing the resin composition;
A step of forming a through hole having a diameter smaller than that of the resin-filled hole of the laminated panel; a step of electrically connecting copper foils on both surfaces with a conductive material; a semiconductor component is directly die-bonded to a metal panel. It is a method of manufacturing a metal core printed circuit board comprising steps.

【0019】上記メタルコアプリント回路板は、放熱用
半導体部品を放熱媒体である金属パネルに直付けするこ
とができ、放熱効果の高い実装が可能となる。更に、本
発明によれば、前述の銅張絶縁シートのラミネート、表
面銅はくの選択エッチングを繰り返した後、不要な樹脂
をアルカリ溶解し、導電物質により層間の電気的導通を
図れば、メタルコア多層プリント回路板の製造も容易で
ある。そして金属パネル上にラミネートした銅張絶縁シ
ートの選択エッチングおよびアルカリ溶解を適当に組み
合わせて、金属パネルを露出させて、金属パネルへ直接
電子部品を実装することも可能となるし、外層の導電パ
ターンと金属パネルを電気的に接続してグラウンド回路
とすることもできる。
In the above metal core printed circuit board, the heat radiating semiconductor component can be directly attached to the metal panel as the heat radiating medium, and mounting with a high heat radiating effect can be realized. Furthermore, according to the present invention, after repeating the above-mentioned lamination of the copper clad insulating sheet and selective etching of the surface copper foil, the unnecessary resin is alkali-dissolved, and electrical conduction between the layers is achieved by the conductive material. Multilayer printed circuit boards are also easy to manufacture. It is also possible to expose the metal panel and mount electronic parts directly on the metal panel by appropriately combining selective etching and alkali dissolution of the copper clad insulating sheet laminated on the metal panel, and to conduct the conductive pattern of the outer layer. And a metal panel can be electrically connected to form a ground circuit.

【0020】本発明のメタルコアプリント回路板の製造
において金属パネルとしては、アルミニウム、鉄、珪素
鋼板、真ちゅう、りん青銅等からなるパネルが使用でき
る。これらは樹脂との接着性およびはんだ耐熱性を上げ
るために機械的に表面を粗化しておくことが好ましい。
また、予め貫通穴のみならず、めくら穴を設けておき、
該穴に電子部品を挿入した金属パネルを使用し、前述の
銅張絶縁シートをラミネートおよびエッチング・アルカ
リ溶解を組み合わせて電子部品を内蔵したプリント回路
板の製造も可能である。
In the manufacture of the metal core printed circuit board of the present invention, a panel made of aluminum, iron, a silicon steel plate, brass, phosphor bronze or the like can be used as the metal panel. It is preferable that the surface of these is mechanically roughened in order to improve the adhesiveness with the resin and the solder heat resistance.
In addition, not only through holes but blind holes are provided in advance.
It is also possible to manufacture a printed circuit board having a built-in electronic component by using a metal panel having an electronic component inserted in the hole and combining the above-mentioned copper clad insulating sheet with laminating and etching / alkali dissolution.

【0021】本発明において銅張絶縁シートの樹脂組成
物の加熱時の流動性が大きいとは、表面に導体回路パタ
ーンを有する積層板等に、銅張絶縁シートを重ね、熱ロ
ールにより加熱加圧して全体を積層する工程、即ち概ね
60〜100℃でエアー圧1〜5kg/cm2 の範囲に
おいて、樹脂組成物が溶融して積層板等の導体回路パタ
ーン内に容易に流れ出し、パターンの凹部を埋めること
ができることを指す。
In the present invention, the fact that the resin composition of the copper-clad insulating sheet has high fluidity when heated means that the copper-clad insulating sheet is laminated on a laminated plate having a conductor circuit pattern on its surface and heated and pressed by a heat roll. In the step of laminating the whole, that is, in the range of about 60 to 100 ° C. and an air pressure of 1 to 5 kg / cm 2 , the resin composition melts and easily flows into a conductor circuit pattern such as a laminated board to form a concave portion of the pattern. It means that it can be filled.

【0022】上記銅張絶縁シートの第1の樹脂組成物の
層の厚さは好ましくは30〜70μmであり、より好ま
しくは40〜60μmである。第1の樹脂組成物の層は
得られるプリント回路板の導体間の層間絶縁層とするた
め、厚さが薄いと絶縁抵抗、耐電圧等の電気特性および
はんだ耐熱性、引きはがし強さ等の物理特性が得られ
ず、厚すぎると銅張絶縁シート作成時の樹脂組成物の塗
布工程において溶剤を除去することが困難となり、樹脂
中にピンホール、気泡等が発生し易くなり、耐湿時の層
間絶縁性を阻害する場合がある。また絶縁層が厚くなる
と材料コストが高くなると共に塗布乾燥に時間を要する
ことになり生産性も悪くなる。
The thickness of the layer of the first resin composition of the copper-clad insulating sheet is preferably 30 to 70 μm, more preferably 40 to 60 μm. Since the layer of the first resin composition is an interlayer insulating layer between the conductors of the printed circuit board to be obtained, if the thickness is thin, the electrical characteristics such as insulation resistance, withstand voltage, solder heat resistance, peeling strength, etc. If the physical properties cannot be obtained and it is too thick, it becomes difficult to remove the solvent in the coating process of the resin composition at the time of producing the copper-clad insulating sheet, and pinholes, bubbles, etc. easily occur in the resin and Interlayer insulation may be hindered. Further, if the insulating layer is thick, the material cost becomes high, and it takes a long time to coat and dry the coating, resulting in poor productivity.

【0023】上記銅張絶縁シートの第2の樹組成物の層
の厚さは、積層する導体回路パターンを有する内層用パ
ネルの表面に形成された導体層の厚さおよび面積によっ
て最適値を決定すべきであるが、本発明者等の実験経験
から10〜70μmでほぼ殆どの積層板の導体回路パタ
ーンに対応できることが分かった。一般的に銅はくを導
体回路パターンとする場合、18μm、35μm、70
μm等の厚さのものが使用されるが、18μmの場合は
第2の樹脂組成物の層の厚さは約10〜20μm、35
μm銅はくの場合は約20〜40μm、70μmの場合
は約50〜70μmあれば、導体回路パターン間に樹脂
をほぼ完全に埋めることができ、また、0.1〜0.6
mmφのバイアホールを完全に埋めるように樹脂を流入
させることができる。
The optimum thickness of the second resin composition layer of the copper clad insulating sheet is determined by the thickness and area of the conductor layer formed on the surface of the inner layer panel having the conductor circuit pattern to be laminated. Although it should be noted, it was found from the experimental experience of the present inventors that 10 to 70 μm can be applied to almost any conductor circuit pattern of a laminated plate. Generally, when copper foil is used as a conductor circuit pattern, 18 μm, 35 μm, 70
The thickness of the second resin composition is about 10 to 20 μm, and the thickness of the second resin composition layer is about 35 μm.
If the copper foil is about 20 to 40 μm, and the 70 μm is about 50 to 70 μm, the resin can be almost completely filled between the conductor circuit patterns, and the thickness is 0.1 to 0.6.
The resin can be flown in so as to completely fill the mmφ via hole.

【0024】また金属パネルや導体回路パターンが積層
板の基板中に埋め込まれた表面がフラットになっている
平滑回路にラミネートする場合でも熱ロール時に気泡を
巻き込まないようにするためには、最低でも10μmの
厚さを設けた方が好ましい。バリードバイアホール形成
のために積層板のスルーホールを樹脂で完全に埋めるに
は、穴の総容積分の樹脂組成物を余分に樹脂層に塗布し
ておく必要がある。
Further, even when laminating a metal panel or a conductor circuit pattern on a smooth circuit having a flat surface embedded in a substrate of a laminated plate, at least in order to prevent air bubbles from being entrained during the heat roll, It is preferable to provide a thickness of 10 μm. In order to completely fill the through holes of the laminated plate with resin for forming the balled via holes, it is necessary to additionally apply the resin composition for the total volume of the holes to the resin layer.

【0025】本発明で使用する銅張絶縁シートの第1お
よび第2の樹脂組成物の層は、好ましくはアルカリ水溶
液に可溶なベースレジン(以下単に「ベースレジン」と
称する。)からなり、その種類および目的に応じて、接
着性補強剤(架橋剤)、活性エネルギー線硬化反応開始
剤、活性エネルギー線硬化反応促進剤および硬化剤から
選ばれる必要な成分を配合して得られる。更に着色顔
料、耐湿顔料、消泡剤、レベリング剤、チクソ性付与
剤、重合禁止剤または沈降防止剤等を適宜添加しても良
い。
The layers of the first and second resin compositions of the copper-clad insulating sheet used in the present invention are preferably composed of a base resin soluble in an alkaline aqueous solution (hereinafter simply referred to as "base resin"), Depending on its type and purpose, it can be obtained by blending necessary components selected from an adhesive reinforcing agent (crosslinking agent), an active energy ray curing reaction initiator, an active energy ray curing reaction accelerator and a curing agent. Further, a coloring pigment, a moisture resistant pigment, a defoaming agent, a leveling agent, a thixotropy imparting agent, a polymerization inhibitor or an anti-settling agent may be appropriately added.

【0026】ベースレジンとしては、カルボキシル基、
フェノール性水酸基等のアルカリ溶解性の基を含有する
感光性のない樹脂、或いはカルボキシル基またはフェノ
ール性水酸基等のアルカリ溶解性の基と、アクリロイル
基またはメタクリロイル基(以下「(メタ)アクリロイ
ル基」と称する。)、内部オレフィン、アジド基、ケイ
ヒ酸エステル残基等の光重合或いは光二量化する感光性
基とを含有する感光性のある樹脂が使用できる。
As the base resin, a carboxyl group,
Non-photosensitive resin containing an alkali-soluble group such as a phenolic hydroxyl group, or an alkali-soluble group such as a carboxyl group or a phenolic hydroxyl group, and an acryloyl group or a methacryloyl group (hereinafter referred to as "(meth) acryloyl group" ), An internal olefin, an azide group, a cinnamic acid ester residue and the like, and a photosensitive resin containing a photopolymerizable or photodimerizable photosensitive group.

【0027】感光性のない樹脂としては、例えばアク
リル酸またはメタクリル酸(以下「(メタ)アクリル
酸」と称する。)、と(メタ)アクリル酸エステル、ス
チレン等のビニルモノマーとの共重合体、スチレンと
無水マレイン酸との共重合体にアルコールを付加したハ
ーフエステル(ATOCHEM社のSMA1440,S
MA17352,SMA2625,SMA3840やM
ONSANTO社のSCRIPSET540,SCRI
PSET550等)、スチレンとp−ヒドロキシフェ
ニルマレイミドとの共重合体、ポリビニルフェノール
(丸善石油化学(株)製マルカリンカーM,マルカリン
カーMB等)またはポリビニルフェノールとメチルメタ
クレート、ヒドロキシエチルメタクレート、スチレン、
フェニルマレイミド等との共重合体、ノボラック型フ
ェノール樹脂、ノボラック型クレゾール樹脂、アルコ
ール性水酸基含有ポリマーと酸無水物の開環付加物等が
使用できる。上記樹脂に多官能性モノマーを添加する
と、感光性を持たせることができる。
The non-photosensitive resin is, for example, a copolymer of acrylic acid or methacrylic acid (hereinafter referred to as "(meth) acrylic acid") and a vinyl monomer such as (meth) acrylic acid ester or styrene, Half ester obtained by adding alcohol to a copolymer of styrene and maleic anhydride (SMA1440, S manufactured by ATOCHEM)
MA17352, SMA2625, SMA3840 and M
ONSANTO SCRIPSET540, SCRI
PSET550, etc.), a copolymer of styrene and p-hydroxyphenylmaleimide, polyvinylphenol (Maruzen Petrochemical Co., Ltd. Marca Linker M, Marca Linker MB, etc.) or polyvinyl phenol and methylmethacrylate, hydroxyethylmethacrylate, styrene. ,
A copolymer with phenylmaleimide or the like, a novolac type phenol resin, a novolac type cresol resin, a ring-opening adduct of an alcoholic hydroxyl group-containing polymer and an acid anhydride, or the like can be used. Photosensitivity can be imparted by adding a polyfunctional monomer to the resin.

【0028】ベースレジンとしては、感光性を有する樹
脂が好ましく、中でもその感光性基の濃度が0.1〜1
0.0meq/gの範囲が好ましく、更に好ましくは
0.3〜8.0meq/g、特に好ましくは0.5〜
5.0meq/gである。感光性基の濃度が小さすぎる
と光硬化性が悪くなり、大きすぎると保存安定性が悪く
なる。
As the base resin, a resin having photosensitivity is preferable, and among them, the concentration of the photosensitive group is 0.1 to 1.
The range is preferably 0.0 meq / g, more preferably 0.3 to 8.0 meq / g, and particularly preferably 0.5 to.
It is 5.0 meq / g. If the concentration of the photosensitive group is too low, the photocurability will be poor, and if it is too high, the storage stability will be poor.

【0029】感光性を有する樹脂としては、例えばエ
ポキシアクリレートおよび/またはメタクリレート(以
下「アクリレートおよび/またはメタクリレート」を
「(メタ)アクリレート」と称する。)と酸無水物の開
環付加物、スチレンと無水マレイン酸との共重合体に
不飽和アルコールを付加したハーフエステル、(メ
タ)アクリル酸と(メタ)アクリル酸エステルまたはス
チレン等のビニルモノマーの共重合体、スチレンと無水
マレイン酸の共重合体にアルコールを付加したハーフエ
ステル、スチレンとp−ヒドロキシフェニルマレイミド
の共重合体、ポリビニルフェノールまたはその共重合
体、ノボラック型フェノール樹脂、ノボラック型クレゾ
ール樹脂、アルコール性水酸基含有ポリマーと酸無水物
の開環付加物等の各種ポリマーと、グリシジル(メタ)
アクリレート等のグリシジル基含有不飽和化合物との開
環付加物(以下「ポリマーとグリシジル基含有不飽和化
合物との開環付加物」と総称する。)、スチレンとp
−ヒドロキシフェニルマレイミドの共重合体、ポリビニ
ルフェノールまたはその共重合体、ノボラック型フェノ
ール樹脂、ノボラック型クレゾール樹脂等のフェノール
性水酸基含有ポリマー中の水酸基の一部に、(メタ)ア
クリル酸クロライド、ケイヒ酸クロライド等の感光性基
含有酸クロライドを縮合反応させたもの、アルコール
性水酸基含有ポリマーの水酸基の一部に、(メタ)アク
リル酸クロライド、ケイヒ酸クロライド等の感光性基含
有酸クロライドを縮合させ、残りの水酸基に酸無水物を
開環付加させたもの、アルコール性水酸基含有ポリマ
ーの水酸基の一部にイソシアネート基含有(メタ)アク
リレートを付加させ、残りの水酸基に酸無水物を開環付
加させたもの、スチレンとp−ヒドロキシフェニルマ
レイミドとの共重合体、ポリビニルフェノールまたはそ
の共重合体、ノボラック型フェノール樹脂、ノボラック
型クレゾール樹脂等のフェノール性水酸基含有ポリマー
中の水酸基の一部に、イソシアネート基含有(メタ)ア
クリレートを付加させたもの、エポキシ(メタ)アク
リレートの水酸基の一部に、イソシアネート基含有(メ
タ)アクリレートを付加させ、残りの水酸基の全部また
は一部に酸無水物を開環付加したもの等が挙げられる。
As the photosensitive resin, for example, epoxy acrylate and / or methacrylate (hereinafter “acrylate and / or methacrylate” is referred to as “(meth) acrylate”), a ring-opening adduct of an acid anhydride, and styrene. Half ester obtained by adding unsaturated alcohol to copolymer with maleic anhydride, copolymer of vinyl monomer such as (meth) acrylic acid and (meth) acrylic acid ester or styrene, copolymer of styrene and maleic anhydride Of alcohol-added half ester, copolymer of styrene and p-hydroxyphenylmaleimide, polyvinylphenol or its copolymer, novolac type phenol resin, novolac type cresol resin, alcoholic hydroxyl group-containing polymer and acid anhydride ring-opening Various polymers such as adducts , Glycidyl (meth)
Ring-opening adducts with glycidyl group-containing unsaturated compounds such as acrylates (hereinafter collectively referred to as "ring-opening adducts with polymers and glycidyl group-containing unsaturated compounds"), styrene and p.
-Hydroxyphenylmaleimide copolymer, polyvinylphenol or its copolymer, novolac-type phenol resin, novolac-type cresol resin, and some of the hydroxyl groups in the phenolic hydroxyl group-containing polymer, (meth) acrylic acid chloride, cinnamic acid Condensation reaction of a photosensitive group-containing acid chloride such as chloride, some of the hydroxyl groups of the alcoholic hydroxyl group-containing polymer, (meth) acrylic acid chloride, a photosensitive group-containing acid chloride such as cinnamic acid chloride is condensed, A ring-opening addition of an acid anhydride to the remaining hydroxyl group, an isocyanate group-containing (meth) acrylate was added to a part of the hydroxyl group of the alcoholic hydroxyl group-containing polymer, and an acid anhydride was ring-opening added to the remaining hydroxyl group. A copolymer of styrene and p-hydroxyphenylmaleimide, Polyvinylphenol or its copolymer, novolac type phenolic resin, novolac type cresol resin, etc. with some isocyanate groups containing (meth) acrylates added to some of the hydroxyl groups in the phenolic hydroxyl group containing polymer, epoxy (meth) Examples thereof include those in which an isocyanate group-containing (meth) acrylate is added to a part of the hydroxyl groups of acrylate, and an acid anhydride is ring-opened and added to all or a part of the remaining hydroxyl groups.

【0030】これらの製法は例えば以下のようなもので
ある。スチレンと無水マレイン酸との共重合体に不飽和
アルコールを付加したハーフエステルは、スチレンおよ
び無水マレイン酸の共重合体に、ヒドロキシエチル(メ
タ)アクリレート等の不飽和アルコールを付加反応させ
て得ることができる。
These manufacturing methods are as follows, for example. The half ester obtained by adding an unsaturated alcohol to a copolymer of styrene and maleic anhydride is obtained by adding an unsaturated alcohol such as hydroxyethyl (meth) acrylate to a copolymer of styrene and maleic anhydride. You can

【0031】ポリマーとグリシジル基含有不飽和化合物
との開環付加物は、溶剤(例えばジグライム等のエーテ
ル類、エチルカルビトールアセテート、エチルセロソル
ブアセテート、イソプロピルアセテート等のエステル
類、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
類)に、前述の各種ポリマーを溶解し、グリシジル(メ
タ)アクリレートをそのまま或いは溶剤で希釈して滴下
しながら反応させて得られる。
The ring-opening adduct of the polymer and the unsaturated compound containing a glycidyl group is a solvent (for example, ethers such as diglyme, esters such as ethyl carbitol acetate, ethyl cellosolve acetate and isopropyl acetate, ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone). It is obtained by dissolving the above-mentioned various polymers in (a) and reacting glycidyl (meth) acrylate as it is or by diluting it with a solvent and dropping it.

【0032】この際、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノ
メチルエーテル、フェノチアジン等のラジカル重合禁止
剤を、好ましくは10〜10,000ppm、更に好ま
しくは30〜5,000ppm、特に好ましくは50〜
2,000ppmの範囲で添加し、反応温度を好ましく
は室温〜170℃、更に好ましくは40〜150℃、特
に好ましくは60〜130℃の範囲で行う。また、触媒
としてテトラブチルアンモニウムブロマイド、トリメチ
ルベンジルアンモニウムクロライド等の四級アンモニウ
ム塩、トリエチルアミン等の三級アミン等を添加するこ
とが好ましい。ポリマー中のカルボキシル基、フェノー
ル性水酸基等のアルカリ溶解性基にグリシジル(メタ)
アクリレートのエポキシ基を開環付加させる際に、アル
カリ溶解性基の一部を残して適切な酸価になるようにす
ればそのまま使用できる。酸価が小さくなりすぎてアル
カリ溶解性が低下した場合は、上記反応で生成した二級
水酸基に酸無水物を開環付加することにより酸価を上げ
ることができる。
At this time, a radical polymerization inhibitor such as hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, phenothiazine, etc., is preferably 10 to 10,000 ppm, more preferably 30 to 5,000 ppm, particularly preferably 50 to 50 ppm.
It is added in the range of 2,000 ppm, and the reaction temperature is preferably room temperature to 170 ° C., more preferably 40 to 150 ° C., and particularly preferably 60 to 130 ° C. Further, it is preferable to add a quaternary ammonium salt such as tetrabutylammonium bromide or trimethylbenzylammonium chloride, a tertiary amine such as triethylamine, or the like as a catalyst. Glycidyl (meta) in alkali-soluble groups such as carboxyl and phenolic hydroxyl groups in polymers
When the epoxy group of the acrylate is subjected to ring-opening addition, a part of the alkali-soluble group may be left so that the acid value becomes appropriate, and the product can be used as it is. When the acid value becomes too small and the alkali solubility decreases, the acid value can be increased by ring-opening addition of an acid anhydride to the secondary hydroxyl group produced in the above reaction.

【0033】スチレンとp−ヒドロキシフェニルマレイ
ミドの共重合体、ポリビニルフェノールまたはその共重
合体、ノボラック型フェノール樹脂、ノボラック型クレ
ゾール樹脂等のフェノール性水酸基含有ポリマー中の水
酸基の一部と、(メタ)アクリル酸クロライド、ケイヒ
酸クロライド等の感光性基含有酸クロライドを縮合反応
させたものの合成は次のとおりである。溶剤(塩化メチ
レン、クロロホルム、トルエン等水に混和しない溶剤、
またはアセトン、ジグライム、エチルカルビトールアセ
テート等水に混和する溶剤)にフェノール性水酸基含有
ポリマーを溶解し、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム、水酸化カルシウムまたはトリエチルアミン等の塩基
性化合物、感光性基含有酸クロライドを添加し、反応温
度を通常0〜100℃(好ましくは0〜50℃、更に好
ましくは0〜30℃)の範囲で反応させて得られる。触
媒として四級アンモニウム塩、三級アミン、リン酸エス
テル、亜リン酸エステル等を使用してもよい。また水に
混和しない溶剤を使用し、無機の塩基を使用する時に
は、系に水を添加することによって反応が速く終了する
こともある。
Some of the hydroxyl groups in the phenolic hydroxyl group-containing polymer such as copolymers of styrene and p-hydroxyphenylmaleimide, polyvinylphenol or its copolymers, novolac type phenol resins, novolac type cresol resins, and (meth) The synthesis of a product obtained by subjecting a photosensitive group-containing acid chloride such as acrylic acid chloride and cinnamic acid chloride to a condensation reaction is as follows. Solvents (methylene chloride, chloroform, toluene and other water immiscible solvents,
Alternatively, a phenolic hydroxyl group-containing polymer is dissolved in a solvent such as acetone, diglyme, or ethyl carbitol acetate that is miscible with water, and a basic compound such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide or triethylamine, a photosensitive group-containing acid It is obtained by adding chloride and reacting at a reaction temperature of usually 0 to 100 ° C (preferably 0 to 50 ° C, more preferably 0 to 30 ° C). As the catalyst, a quaternary ammonium salt, a tertiary amine, a phosphoric acid ester, a phosphorous acid ester or the like may be used. When a solvent immiscible with water is used and an inorganic base is used, the reaction may be terminated quickly by adding water to the system.

【0034】精製は、水を混和しない溶剤を使用した場
合には、反応液を酸性水溶液で洗浄した後、水による洗
浄を繰り返し、脱水、ろ過する。更にろ過後のものを脱
溶剤するか、必要があれば再沈精製を行う。水と混和す
る溶剤を使用した場合は反応液を適切な量の水と混和
し、製品を固体として析出させる。水による洗浄を繰り
返した後、乾燥させる。ポリマー中のアルカリ溶解性基
であるフェノール性水酸基と酸クロライド基を縮合させ
る際には、アルカリ溶解性基の一部を残して適切な酸価
になるようにする。
For the purification, when a solvent immiscible with water is used, the reaction solution is washed with an acidic aqueous solution and then repeatedly washed with water, dehydrated and filtered. Further, the solvent after filtration is removed, or if necessary, reprecipitation purification is performed. When a water-miscible solvent is used, the reaction solution is mixed with an appropriate amount of water to precipitate the product as a solid. After repeated washing with water, it is dried. When a phenolic hydroxyl group, which is an alkali-soluble group in the polymer, is condensed with an acid chloride group, a part of the alkali-soluble group is left so that the acid value becomes appropriate.

【0035】アルコール性水酸基含有ポリマーの水酸基
の一部にイソシアネート基含有(メタ)アクリレートを
付加させ、残りの水酸基に酸無水物を開環付加させたも
のは、ジイソシアネート(イソホロンジイソシアネート
のように2個のイソシアネート基の反応性が異なる化合
物が望ましい)の一方のイソシアネート基に、ヒドロキ
シエチル(メタ)アクリレート等の水酸性基含有(メ
タ)アクリレートを付加させることによって合成され
る。標準的な条件はジブチルスズジラウレート等の錫化
合物を触媒として使用し、60〜80℃程度で反応させ
る。
A compound obtained by adding an isocyanate group-containing (meth) acrylate to a part of the hydroxyl groups of an alcoholic hydroxyl group-containing polymer and ring-opening addition of an acid anhydride to the remaining hydroxyl groups is a diisocyanate (two groups such as isophorone diisocyanate). (Compounds having different reactivity of the isocyanate group are desirable) are added to one of the isocyanate groups, and a (meth) acrylate containing a hydroxyl group such as hydroxyethyl (meth) acrylate is added. Under standard conditions, a tin compound such as dibutyltin dilaurate is used as a catalyst, and the reaction is carried out at about 60 to 80 ° C.

【0036】エポキシ(メタ)アクリレートと酸無水物
の開環付加物の合成で使用するエポキシ樹脂は、フェノ
ールノボラック型またはクレゾールノボラック型、ポリ
ビニルフェノール骨格等のエポキシ樹脂で、分子量は
1,000以上が好ましく、更に好ましくは3,000
以上、特に好ましくは4,000以上である。分子量が
小さいと架橋密度が上がらず、耐熱性が悪くなる。
The epoxy resin used in the synthesis of the ring-opening adduct of epoxy (meth) acrylate and acid anhydride is an epoxy resin of phenol novolac type or cresol novolac type, polyvinylphenol skeleton, etc., and has a molecular weight of 1,000 or more. Preferably, more preferably 3,000
More preferably, it is 4,000 or more. When the molecular weight is small, the crosslink density does not increase and the heat resistance deteriorates.

【0037】エポキシ(メタ)アクリレートと酸無水物
の開環付加物の合成で使用する(メタ)アクリル酸の仕
込み量は、エポキシ基の0.98〜1.10当量が好ま
しく、更に好ましくは1.00〜1.07で、特に好ま
しくは1.01〜1.04である。(メタ)アクリル酸
の仕込量が少ないとエポキシ基が残存して保存安定性が
悪くなり、極端な場合は酸無水物変成の際にゲル化す
る。逆に多すぎると(メタ)アクリル酸が残存して臭気
が発生したり、耐熱性の低下の原因となる。
The amount of (meth) acrylic acid used in the synthesis of the ring-opening adduct of epoxy (meth) acrylate and acid anhydride is preferably 0.98 to 1.10 equivalents of the epoxy group, more preferably 1 0.001 to 1.07, and particularly preferably 1.01 to 1.04. When the charged amount of (meth) acrylic acid is small, epoxy groups remain and storage stability deteriorates, and in extreme cases, gelation occurs during acid anhydride modification. On the other hand, if the amount is too large, the (meth) acrylic acid remains to generate odor and cause a decrease in heat resistance.

【0038】エポキシ(メタ)アクリレートと酸無水物
の開環付加においては、ラジカル重合禁止剤として、ヒ
ドロキノンを30〜300ppm添加することが効果的
である。フェノチアジンは500ppm程度添加すれば
合成が可能であるが、ヒドロキノンと比較するとやや保
存安定性が悪い。
In the ring-opening addition of epoxy (meth) acrylate and acid anhydride, it is effective to add 30 to 300 ppm of hydroquinone as a radical polymerization inhibitor. Phenothiazine can be synthesized by adding about 500 ppm, but its storage stability is slightly worse than that of hydroquinone.

【0039】エポキシ(メタ)アクリレートと酸無水物
の開環付加においては、触媒としてテトラブチルアンモ
ニウムブロマイド等の四級アンモニウム塩を0.1〜
5.0%、好ましくは0.3〜2.0%添加することが
効果的である。触媒の添加が少ないと反応が遅く、多す
ぎると反応生成物中に残存して絶縁性等が悪くなる。
In the ring-opening addition of epoxy (meth) acrylate and acid anhydride, a quaternary ammonium salt such as tetrabutylammonium bromide is used as a catalyst in an amount of 0.1 to 0.1%.
It is effective to add 5.0%, preferably 0.3 to 2.0%. When the amount of the catalyst added is small, the reaction is slow, and when the amount is too large, it remains in the reaction product and the insulating property and the like deteriorate.

【0040】エポキシ(メタ)アクリレートと酸無水物
の開環付加物の合成で使用する酸無水物としては、無水
コハク酸、テトラヒドロ無水フタル酸、無水トリメリッ
ト酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸等がアルカリ溶
解性が良好で、かつ炭酸ナトリウムで溶解できるので好
ましい。無水フタル酸、無水イタコン酸、無水マレイン
酸等は炭酸ナトリウムでの溶解は困難であるが、水酸化
ナトリウムを使用すれば溶解できる。酸無水物は反応前
のエポキシ基の0.2〜0.95当量の範囲で使用する
ことが好ましい。0.2当量未満ではアルカリ水溶液に
溶解し難くなり、0.95当量を超えると未反応の酸無
水物が残るため、耐熱性・電気特性等組成物の物性が悪
くなりいずれも好ましくない。
Acid anhydrides used in the synthesis of ring-opening adducts of epoxy (meth) acrylates and acid anhydrides include succinic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, trimellitic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride and the like. It is preferable because it has good alkali solubility and can be dissolved in sodium carbonate. Phthalic anhydride, itaconic anhydride, maleic anhydride and the like are difficult to dissolve in sodium carbonate, but can be dissolved by using sodium hydroxide. The acid anhydride is preferably used in the range of 0.2 to 0.95 equivalent of the epoxy group before the reaction. If it is less than 0.2 equivalent, it becomes difficult to dissolve in an alkaline aqueous solution, and if it exceeds 0.95 equivalent, unreacted acid anhydride remains, so that the physical properties of the composition such as heat resistance and electrical properties are deteriorated, which is not preferable.

【0041】エポキシ(メタ)アクリレートと酸無水物
の開環付加物の合成で使用する溶剤は原料や反応生成物
が充分溶解させることができ、沸点が反応温度以上で、
水酸基を持っていないものが使用可能である。ブチルセ
ロソルブ等のように水酸基をもつ溶剤は酸無水物と反応
して、耐熱性等を低下させる副生成物を与える場合があ
るので好ましくない。好ましい溶剤としてはジグライム
等のエーテル類、エチルカルビトールアセテート、エチ
ルセロソルブアセテート、イソプロピルアセテート等の
エステル類、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等
のケトン類が挙げられる。芳香族炭化水素等を反応生成
物の溶解性を阻害しない程度に併用しても良い。
The solvent used in the synthesis of the ring-opening adduct of epoxy (meth) acrylate and acid anhydride can sufficiently dissolve the raw materials and reaction products, and has a boiling point of not lower than the reaction temperature.
Those having no hydroxyl group can be used. A solvent having a hydroxyl group, such as butyl cellosolve, is not preferable because it may react with an acid anhydride to give a by-product that reduces heat resistance and the like. Preferred solvents include ethers such as diglyme, esters such as ethyl carbitol acetate, ethyl cellosolve acetate and isopropyl acetate, and ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone. Aromatic hydrocarbons and the like may be used together to the extent that the solubility of the reaction product is not hindered.

【0042】エポキシ(メタ)アクリレートと酸無水物
の開環付加物の合成では、反応温度を好ましくは60〜
160℃、更に好ましくは70〜140℃、特に好まし
くは80〜120℃で行う。反応温度が低すぎると反応
が遅く、高すぎるとゲル化したり、反応生成物の保存安
定性が悪くなる。反応液の酸価を経時的に分析し、ほぼ
ゼロになったら(メタ)アクリレート化の反応を終了す
る。反応温度や触媒濃度により反応時間は大きく異なる
が通常4〜30時間である。また、酸無水物変性反応は
通常1〜8時間で行うことができる。
In the synthesis of the ring-opening adduct of epoxy (meth) acrylate and acid anhydride, the reaction temperature is preferably 60 to
It is carried out at 160 ° C, more preferably 70 to 140 ° C, particularly preferably 80 to 120 ° C. If the reaction temperature is too low, the reaction is slow, and if it is too high, gelation occurs or the storage stability of the reaction product deteriorates. The acid value of the reaction solution is analyzed over time, and when the acid value becomes almost zero, the (meth) acrylate reaction is terminated. The reaction time varies depending on the reaction temperature and the catalyst concentration, but is usually 4 to 30 hours. The acid anhydride modification reaction can be performed usually in 1 to 8 hours.

【0043】エポキシ(メタ)アクリレートと酸無水物
の開環付加物の合成は、上述のように二段の反応からな
り、前段の反応ではエポキシ樹脂のエポキシ基と(メ
タ)アクリル酸のカルボキシル基との反応で両者がエス
テル結合により結ばれ、同時に二級の水酸基が生成す
る。この反応は発熱を伴う。後段の反応は先に生成した
二級水酸基と酸無水物との反応により、両者がエステル
結合し、同時にカルボキル基が生成する。この反応は若
干の発熱を伴う。
The synthesis of the ring-opening adduct of epoxy (meth) acrylate and acid anhydride consists of a two-step reaction as described above. In the previous reaction, the epoxy group of the epoxy resin and the carboxyl group of (meth) acrylic acid are used. By the reaction with, both are linked by an ester bond, and at the same time, a secondary hydroxyl group is generated. This reaction is exothermic. In the reaction in the latter stage, the secondary hydroxyl group produced previously and the acid anhydride react with each other to form an ester bond with each other, and at the same time, a carboxyl group is produced. The reaction is slightly exothermic.

【0044】上述のようにアルカリ水溶液に溶解するベ
ースレジンとしては多くのものが使用でき、それらを併
用することもできるが、耐熱性や電気特性が優れている
ことから、第1の樹脂組成物のベースレジンとしては、
ポリマーとグリシジル基含有不飽和化合物との開環付加
物が、第2の樹脂組成物のベースレジンとしては、エポ
キシ(メタ)アクリレートと酸無水物の開環付加物また
はポリマーとグリシジル基含有不飽和化合物との開環付
加物が好ましいものである。よく知られているようにこ
れらは電子線および紫外線等の活性エネルギー線、或い
は加熱等の手段によって容易に硬化させることができ
る。
As described above, many base resins which can be dissolved in an alkaline aqueous solution can be used, and they can be used in combination, but the first resin composition has excellent heat resistance and electric characteristics. As the base resin of
The ring-opening adduct of a polymer and a glycidyl group-containing unsaturated compound is used as the base resin of the second resin composition as a ring-opening adduct of an epoxy (meth) acrylate and an acid anhydride or a polymer and a glycidyl group-containing unsaturated compound. Ring-opening adducts with compounds are preferred. As is well known, these can be easily cured by active energy rays such as electron beams and ultraviolet rays, or by means such as heating.

【0045】ベースレジンは、その分子量(ゲルパーミ
ュエーションクロマトグラフによるスチレン換算重量平
均分子量)が1,000〜200,000の範囲のもの
が好ましく、更に好ましくは2,000〜100,00
0、特に好ましくは5,000〜80,000である。
分子量が小さすぎると耐熱性、耐水性等が悪くなり、ま
た流動性が大きくなり過ぎる。分子量が大きくなりすぎ
るとアルカリ溶解性が悪くなる。
The base resin preferably has a molecular weight (styrene-equivalent weight average molecular weight by gel permeation chromatography) in the range of 1,000 to 200,000, more preferably 2,000 to 100,00.
0, particularly preferably 5,000 to 80,000.
If the molecular weight is too small, heat resistance, water resistance, etc. deteriorate, and the fluidity becomes too large. If the molecular weight becomes too large, the alkali solubility will deteriorate.

【0046】ベースレジンは、その酸価が0.2〜1
0.0meq/gの範囲が好ましく、更に好ましくは
0.4〜5.0meq/gで、特に好ましくは0.6〜
3.0meq/gである。酸価が小さすぎるとアルカリ
溶解性が悪くなり、大きすぎると耐水性等が悪くなる。
The base resin has an acid value of 0.2 to 1
The range is preferably 0.0 meq / g, more preferably 0.4 to 5.0 meq / g, and particularly preferably 0.6 to
It is 3.0 meq / g. If the acid value is too small, the alkali solubility will be poor, and if it is too large, the water resistance will be poor.

【0047】本発明における銅張絶縁シートに使用する
第1の樹脂組成物の好ましい例としては、アルカリ溶解
性ベースレジンとして前述のポリマーとグリシジル基含
有不飽和化合物との開環付加物で、分子量30,000
〜80,000、酸価が0.6〜2.5meq/gのも
のを選択し、必要により接着性補強剤(架橋剤)、活性
エネルギー線硬化反応開始剤・増感剤、硬化剤としてパ
ーオキサイド等を添加したものが挙げられる。
A preferred example of the first resin composition used in the copper-clad insulating sheet of the present invention is a ring-opening adduct of the above-mentioned polymer as an alkali-soluble base resin and a glycidyl group-containing unsaturated compound, and has a molecular weight of 30,000
~ 80,000, acid value 0.6-2.5 meq / g, and if necessary, an adhesive reinforcing agent (crosslinking agent), an active energy ray curing reaction initiator / sensitizer, and a peroxide as a curing agent. Examples include oxides added.

【0048】また本発明における銅張絶縁シートに使用
する第2の樹脂組成物の好ましい例としては、アルカリ
水溶液に可溶なベースレジンとして前述のエポキシ(メ
タ)アクリレートと酸無水物の開環付加物またはポリマ
ーとグリシジル基含有不飽和化合物との開環付加物で、
分子量3,000〜50,000、酸価が0.6〜3.
0meq/gのものを選択し、必要によりこれに接着性
補強剤(架橋剤)、活性エネルギー線硬化反応開始剤・
増感剤、硬化剤としてパーオキサイド等を調合したもの
が挙げられる。
As a preferred example of the second resin composition used in the copper-clad insulation sheet of the present invention, a ring-opening addition of the above-mentioned epoxy (meth) acrylate and acid anhydride as a base resin soluble in an alkaline aqueous solution is preferable. Ring-opening adduct of a compound or polymer with a glycidyl group-containing unsaturated compound,
Molecular weight 3,000-50,000, acid value 0.6-3.
Select 0 meq / g, and if necessary, an adhesive reinforcing agent (crosslinking agent), active energy ray curing reaction initiator,
As a sensitizer and a curing agent, those prepared by mixing peroxide and the like can be mentioned.

【0049】第2の樹脂組成物は、ベースレジン、その
分子量の大きさ、酸価、接着性補強剤(架橋剤)の添加
量を変えて、第1の樹脂組成物よりもアルカリ溶解性を
大きく、好ましくは2倍以上になるよう調製することが
好ましい。架橋剤として、硬化前には流動性の大きいも
のを添加すると、得られる樹脂組成物のアルカリ浸透性
は良くなるから、加熱時の流動性を高めると同時にアル
カリ溶解性を高めることもできる。
The second resin composition has a higher alkali solubility than the first resin composition by changing the base resin, the size of its molecular weight, the acid value, and the addition amount of the adhesive reinforcing agent (crosslinking agent). It is preferable to prepare it so that it is large, preferably twice or more. As a cross-linking agent, if a resin having a large fluidity is added before curing, the alkali permeability of the resin composition obtained will be improved, so that it is possible to enhance the fluidity at the time of heating and simultaneously enhance the alkali solubility.

【0050】前述のとおりベースレジンの分子量の大き
さ、酸価、ガラス転移温度、接着性補強剤・架橋剤の添
加量を変えて、樹脂組成物のアルカリ溶解性を調整する
ことにより、アルカリ溶解性時間の長いものから短い樹
脂組成物の層が得られるが、本発明で用いる銅張絶縁シ
ートとして、例えば、酸価の低いベースレジンを第1の
樹脂組成物に使用し、酸価の高いベースレジンを第2の
樹脂組成物として使用すれば、第2の樹脂組成物溶解時
にも第1の樹脂組成物は溶解が少なくなり、銅はくの下
の樹脂のアンダーカットが小さく押さえることができ
る。
As described above, the alkali solubility of the resin composition is adjusted by changing the molecular weight of the base resin, the acid value, the glass transition temperature, and the addition amount of the adhesive reinforcing agent / crosslinking agent. A resin composition layer having a long acidity can be obtained, but as the copper-clad insulating sheet used in the present invention, for example, a base resin having a low acid value is used for the first resin composition to obtain a high acid value. When the base resin is used as the second resin composition, the first resin composition is less dissolved even when the second resin composition is dissolved, and the undercut of the resin under the copper foil can be suppressed small. it can.

【0051】アルカリ水溶液の温度を変えて樹脂組成物
のアルカリ溶解性を制御する方法として例えば、分子量
の大きなベースレジンを第1の樹脂組成物とし、分子量
の小さいベースレジンを第2の樹脂組成物とした銅張絶
縁シートを使用する方法がある。これによると第2の樹
脂組成物の方が溶解時間は短くなる。通常温度が低くな
ればアルカリ溶解時間は長くなるので、作業上差し障り
の無いアルカリ溶解時間までアルカリ溶解温度を下げる
ことにより、第1の樹脂組成物の層のアンダーカットを
抑制することができる。アルカリ溶解温度を制御する他
の方法はベースレジンのガラス転移温度Tgの高いもの
を第1の樹脂組成物に使用し、第2の樹脂組成物はTg
の低いベースレジンを使用してもよい。Tgが高いと樹
脂が硬いためアルカリ水溶液の浸透性が悪く、アルカリ
溶解温度を高くする必要があるが、Tgが低いと低い温
度でもアルカリ水溶液の浸透性が良くなり、アルカリ溶
解温度を下げることができる。
As a method of controlling the alkali solubility of the resin composition by changing the temperature of the alkaline aqueous solution, for example, a base resin having a large molecular weight is used as the first resin composition and a base resin having a small molecular weight is used as the second resin composition. There is a method of using the copper clad insulation sheet. According to this, the dissolution time of the second resin composition is shorter. The lower the normal temperature, the longer the alkali dissolution time. Therefore, the undercut of the layer of the first resin composition can be suppressed by lowering the alkali dissolution temperature to an alkali dissolution time that does not hinder work. Another method of controlling the alkali dissolution temperature is to use a base resin having a high glass transition temperature Tg in the first resin composition and to use Tg in the second resin composition.
Low base resins may be used. When Tg is high, the resin is hard and the permeability of the alkaline aqueous solution is poor, and it is necessary to raise the alkali dissolution temperature. However, when Tg is low, the permeability of the alkaline aqueous solution is improved and the alkali dissolution temperature can be lowered. it can.

【0052】本発明で使用する樹脂組成物には、接着性
補強剤または架橋剤として、光反応性化合物および/ま
たは熱硬化性樹脂を添加でき、その量はベースレジン固
形分100重量部に対して40〜250重量部が好まし
い。光反応性化合物としてはポリエーテル系、ポリエス
テル系、不飽和ポリエステル系、ウレタン系、エポキシ
系、ポリエステル/ウレタン系、ポリアセタール系、ポ
リブタジエン系等が使用できる。その例としては、2−
エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルア
クリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2
官能性オリゴマーとしてウレタンアクリレート、1,3
−ブタンジオールジアクリレート、1,4−ブタンジオ
ールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアク
リレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ネオ
ペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリ
コール400ジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸エ
ステルネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメ
チロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレート、トリアリルイソシアヌレート等、または
これらの付加物ないし縮合物が挙げられる。熱硬化性樹
脂としてはアクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹
脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アルキド樹
脂、ポリ塩化ビニル樹脂、フッ素樹脂、シリコン樹脂、
酢酸ビニル樹脂およびポリビニルアルコール等が挙げら
れる。
To the resin composition used in the present invention, a photoreactive compound and / or a thermosetting resin can be added as an adhesive reinforcing agent or a crosslinking agent, the amount of which is 100 parts by weight of the solid content of the base resin. 40 to 250 parts by weight is preferable. As the photoreactive compound, polyether series, polyester series, unsaturated polyester series, urethane series, epoxy series, polyester / urethane series, polyacetal series, polybutadiene series and the like can be used. An example is 2-
Ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2
Urethane acrylate as functional oligomer, 1,3
-Butanediol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, polyethylene glycol 400 diacrylate, hydroxypivalic acid ester neopentyl glycol diacrylate, Examples thereof include trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, triallyl isocyanurate, and the adducts or condensates thereof. As the thermosetting resin, acrylic resin, urethane resin, epoxy resin, polyester resin, polyether resin, alkyd resin, polyvinyl chloride resin, fluorine resin, silicone resin,
Examples thereof include vinyl acetate resin and polyvinyl alcohol.

【0053】上記の接着性補強剤としてはウレタンアク
リレートが好ましい。ウレタンアクリレートは、表面銅
はくと樹脂層との密着性を高める作用を特に有し、該ア
クリレートとしては、無黄変・中硬質タイプのものが好
ましく、東亞合成化学工業(株)製アロニックスM−1
100、アロニックスM−1600、アロニックスM−
1700等が挙げられる。上記ウレタンアクリレートは
1種または2種以上を、ベースレジン固形分100重量
部に対して、40〜120重量部添加することが好まし
い。120重量部を超えるとアルカリ水溶液による溶解
性が悪くなり、樹脂残留物が生じ易い。導電物を形成し
て内層用導体パターンと外層の銅はくとの導通を行う際
に樹脂残留物があると十分な導通が得られなくなる。4
0重量部未満では樹脂組成物と外層の銅はく間の十分な
密着強度が得られない。
Urethane acrylate is preferred as the above-mentioned adhesive reinforcing agent. The urethane acrylate has a function of particularly enhancing the adhesion between the surface copper foil and the resin layer, and as the acrylate, a non-yellowing / medium-hard type is preferable, and Aronix M manufactured by Toagosei Chemical Industry Co., Ltd. -1
100, Aronix M-1600, Aronix M-
1700 etc. are mentioned. It is preferable that 40 to 120 parts by weight of the urethane acrylate is added in one kind or two or more kinds to 100 parts by weight of the solid content of the base resin. When it exceeds 120 parts by weight, the solubility in an alkaline aqueous solution is deteriorated, and a resin residue is likely to occur. When a conductive material is formed to conduct electrical conduction between the inner layer conductor pattern and the outer layer copper foil, sufficient electrical continuity cannot be obtained if there is a resin residue. Four
If it is less than 0 part by weight, sufficient adhesion strength between the resin composition and the copper foil of the outer layer cannot be obtained.

【0054】紫外線、電子線等活性エネルギー線硬化の
反応開始剤としては、ベンゾインエーテル系としてベン
ジル、ベンゾイン、ベンゾインアルキルエーテル、1−
ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン;ケタール系
としてベンジルジアルキルケタール;アセトフェノン系
として2,2’−ジアリルアセトフェノン、2−ヒドロ
キシアセトフェノン、p−t−ブチルトリクロロアセト
フェノン、p−t−ブチルジクロロアセトフェノン;ベ
ンゾフェノン系としてベンゾフェノン、4−クロルベン
ゾフェノン、4,4’−ジクロルベンゾフェノン、4,
4’−ビスジメチルアミノベンゾフェノン、o−ベンゾ
イル安息香酸メチル、3,3’−ジメチル−4−メトキ
シベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフ
ェニルスルフィド、ジベンゾスベロン、ベンジメチルケ
タール;チオキサントン系としてチオキサントン、2−
クロルチオキサントン、2−アルキルチオキサントン、
2,4−ジアルキルチオキサントン、2−アルキルアン
トラキノン、2,2’−ジクロロ−4−フェノキシアセ
トン等が使用できる。その量はベースポリマー固形分1
00重量部に対して0.5〜10重量部が好ましい。
0.5重量部未満では反応が十分開始されなく、10重
量部を超えると樹脂層が脆くなる。電子線照射で使用す
る場合は反応開始剤を省いてもよい。
As a reaction initiator for curing active energy rays such as ultraviolet rays and electron rays, benzoin ether type benzyl, benzoin, benzoin alkyl ether, 1-
Hydroxycyclohexyl phenyl ketone; benzyl dialkyl ketal as a ketal system; 2,2′-diallyl acetophenone, 2-hydroxyacetophenone, pt-butyltrichloroacetophenone, p-t-butyldichloroacetophenone as an acetophenone system; benzophenone as a benzophenone system, 4 -Chlorobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, 4,
4'-bisdimethylaminobenzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, dibenzosuberone, benzdimethylketal; thioxanthone as a thioxanthone system , 2-
Chlorthioxanthone, 2-alkylthioxanthone,
2,4-dialkylthioxanthone, 2-alkylanthraquinone, 2,2'-dichloro-4-phenoxyacetone and the like can be used. The amount is 1 base polymer solids
0.5 to 10 parts by weight is preferable with respect to 00 parts by weight.
If it is less than 0.5 part by weight, the reaction is not sufficiently initiated, and if it exceeds 10 parts by weight, the resin layer becomes brittle. When used by electron beam irradiation, the reaction initiator may be omitted.

【0055】紫外線、電子線等活性エネルギー線硬化の
反応時の増感剤としては新日曹化工(株)製のニッソキ
ュアEPA、EMA、IAMA、EHMA、MABP、
EABP等や、日本化薬(株)製のカヤキュアEPA、
DETX、DMBI等や、Ward Blenkins
op社のQuntacure EPD、BEA、EO
B、DMB等や、大阪有機(株)製のDABA、大東化
学(株)製のPAA、DAA等が挙げられる。添加量は
ベースポリマー固形分100重量部に対して0.5〜1
0重量部が好ましい。0.5重量部未満では活性エネル
ギー線硬化の反応速度は向上せず、10重量部を超える
と反応が速くなり、シェルフライフを低下させる。電子
線照射を使用する場合は反応増感剤を省いてもよい。
As the sensitizer at the time of curing the active energy ray such as ultraviolet ray and electron beam, Nisso Cure EPA, EMA, IAMA, EHMA, MABP manufactured by Shin Nisso Kako Co., Ltd.
EABP, Kayakyu EPA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.,
DETX, DMBI, etc., Ward Blenkins
Opunt's Quantacure EPD, BEA, EO
B, DMB, etc., DABA manufactured by Osaka Organic Co., Ltd., PAA, DAA manufactured by Daito Chemical Co., Ltd., and the like. The addition amount is 0.5 to 1 with respect to 100 parts by weight of the solid content of the base polymer.
0 parts by weight is preferred. If it is less than 0.5 part by weight, the reaction rate of active energy ray curing is not improved, and if it exceeds 10 parts by weight, the reaction becomes faster and shelf life is shortened. If electron beam irradiation is used, the reaction sensitizer may be omitted.

【0056】硬化剤としてはパーオキサイド系が使用可
能であるが、中でも保存安定性の面からジブチルパーオ
キサイド、ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパー
オキサイド等のアルキルパーオキサイドまたはアリール
パーオキサイドが好ましい。その量はベースポリマー固
形分100重量部に対して1〜10重量部が好ましい。
1重量部未満では硬化時間が長くなり、10重量部を超
えるとシェルフライフが短くなり作業性が悪くなる。紫
外線照射、電子線照射等を行う場合には必ずしも硬化剤
を必要としないが、銅はくの接着安定性、はんだ耐熱性
等密着性を高めるためには硬化剤を添加した方が好まし
い。
Although peroxides can be used as the curing agent, in view of storage stability, alkyl peroxides such as dibutyl peroxide, butyl cumyl peroxide, dicumyl peroxide or aryl peroxides are preferable. The amount is preferably 1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid content of the base polymer.
If it is less than 1 part by weight, the curing time will be long, and if it exceeds 10 parts by weight, the shelf life will be short and the workability will be poor. A curing agent is not necessarily required when performing ultraviolet ray irradiation, electron beam irradiation, etc., but it is preferable to add a curing agent in order to enhance adhesion stability such as copper foil adhesion stability and solder heat resistance.

【0057】本発明の銅張絶縁シートを、予め作成した
片面または両面に導体回路パターンを有する0.1〜
1.6mm厚の内層用パネルの導体回路パターンを有す
る面に熱ロールでラミネートすると、導体回路パターン
間に第2の樹脂組成物が流動し、またスルーホールがあ
ると熱ロールの加熱および加圧により流動性のある第2
の樹脂組成物がスルーホールへ流れ込み易くなり、スル
ーホールを樹脂で充填することになる。これは当初、第
2の樹脂組成物の層の厚さとスルーホールの周囲の導体
パターンのランド面積の積による体積分のみ流入すると
予想したが、意に反して樹脂はスルーホールの反対面に
まで達することが分かった。本発明はこの現象をバリー
ドバイアホールの樹脂充填に利用したものである。
The copper clad insulating sheet of the present invention is prepared in advance and has a conductor circuit pattern on one or both sides of 0.1 to 0.1.
When the inner layer panel having a thickness of 1.6 mm is laminated with a heat roll on the surface having the conductor circuit pattern, the second resin composition flows between the conductor circuit patterns, and if there is a through hole, heating and pressing of the heat roll is performed. Second with more fluidity
The resin composition of (3) easily flows into the through holes, and the through holes are filled with the resin. Initially, it was expected that only the volume would flow due to the product of the thickness of the layer of the second resin composition and the land area of the conductor pattern around the through hole, but unexpectedly, the resin spreads to the opposite surface of the through hole. I knew I would reach it. The present invention utilizes this phenomenon for filling the resin of the lead via hole.

【0058】ラミネートした前記銅張絶縁シートの表面
銅はくに、エッチングレジストを形成してバイアホール
位置の銅はくおよび不要な銅はくを除去し、この銅張絶
縁シートの熱ロールによるラミネートおよびエッチング
工程を順次繰り返して、多層プリント回路板とすること
もできる。この場合、最外層の銅張絶縁シートをラミネ
ートした後、バイアホールの必要な部分の表面銅はくを
エッチング除去し、露出した樹脂組成物の層をアルカリ
水溶液で溶解して、内層された任意の導体回路パターン
を露出させ、樹脂組成物の層を加熱または電子線等の活
性エネルギー線で硬化させ、前記アルカリ溶解した部分
を介して表面銅はくと内層し、これら複数の銅体回路パ
ターン間に導電物質を形成させ電気的に接続させること
もできる。
An etching resist is formed on the surface copper foil of the laminated copper-clad insulation sheet to remove the copper foil at the via hole position and unnecessary copper foil, and the copper-clad insulation sheet is laminated with a hot roll. The etching process may be repeated in sequence to form a multilayer printed circuit board. In this case, after laminating the copper clad insulating sheet of the outermost layer, the surface copper foil of the required portion of the via hole is removed by etching, and the exposed layer of the resin composition is dissolved in an alkaline aqueous solution to give an optional inner layer. Of the conductor circuit pattern of, the layer of the resin composition is cured by heating or active energy rays such as electron beams, the inner layer with the surface copper foil through the alkali-dissolved portion, these multiple copper body circuit pattern It is also possible to form a conductive material between them and electrically connect them.

【0059】本発明のプリント回路板の製造方法におい
て、外層を形成するために銅張絶縁シートを、内層用パ
ネルにラミネートした場合、内層用パネルの表面の導体
回路パターン面と銅張絶縁シートの表面銅はく間の厚さ
は、20〜70μmが好ましい。20μm未満では層間
の絶縁抵抗および耐電圧が確保できず、70μmを超え
ると小径のバイアホールを形成する時のアルカリ溶解に
よるアンダーカットが大きくなり、バイアホールのめっ
きまたは導電ペーストによる十分な接続信頼性が得られ
難くなる。
In the method for producing a printed circuit board of the present invention, when a copper clad insulating sheet for forming an outer layer is laminated on an inner layer panel, the inner surface of the inner layer panel and the conductor layer of the copper clad insulating sheet are The thickness of the surface copper foil is preferably 20 to 70 μm. If it is less than 20 μm, the insulation resistance and withstand voltage between layers cannot be secured, and if it exceeds 70 μm, the undercut due to alkali dissolution when forming a via hole of small diameter becomes large, and the connection reliability by plating the via hole or conductive paste is sufficient. Is difficult to obtain.

【0060】熱ロールによるラミネート時の樹脂組成物
の流動性の制御は、主としてベースレジンの分子量の調
整によって行なうことができる。先に述べたように本発
明に用いられるベースレジンの好ましい分子量は1,0
00〜200,000であるが、通常30,000を超
えると加熱時の樹脂の流動性が殆どなくなり、10,0
00〜30,000は流動性がやや生じるものとなり、
10,000未満では流動性がある。しかし前述のとお
り、硬化前には流動性が大きい架橋剤を樹脂組成物に多
量に添加した場合は、ベースポリマーの分子量が大きく
とも、該樹脂組成物に加熱時の流動性を大きくさせるこ
とができる。
The fluidity of the resin composition at the time of lamination with a hot roll can be controlled mainly by adjusting the molecular weight of the base resin. As mentioned above, the preferred molecular weight of the base resin used in the present invention is 1,0.
However, if it exceeds 30,000, the fluidity of the resin at the time of heating will almost disappear and the value will be 10.0.
From 00 to 30,000, fluidity is slightly generated,
Below 10,000, there is fluidity. However, as described above, when a large amount of a cross-linking agent having a large fluidity is added to the resin composition before curing, even if the molecular weight of the base polymer is large, the resin composition may have a large fluidity when heated. it can.

【0061】本発明のプリント回路板の製造方法におい
て、樹脂組成物の硬化は、主として加熱によって行なう
が、電子線のような活性エネルギー線の照射によっても
可能である。加熱の場合その温度は80〜180℃の範
囲が好ましく、より好ましくは150〜170℃であ
る。熱硬化で180℃を超えると内層される導体回路パ
ターンを有する積層板を構成する絶縁樹脂が劣化を起こ
し、80℃未満では硬化に時間がかかると共に、架橋が
不充分で絶縁抵抗が充分に出ない恐れがある。
In the method for producing a printed circuit board of the present invention, the resin composition is cured mainly by heating, but irradiation with active energy rays such as electron beams is also possible. In the case of heating, the temperature is preferably in the range of 80 to 180 ° C, more preferably 150 to 170 ° C. If the temperature exceeds 180 ° C by heat curing, the insulating resin that constitutes the laminated layer having the conductor circuit pattern to be inner layer deteriorates, and if the temperature is less than 80 ° C, it takes time to cure and sufficient crosslinking occurs due to insufficient crosslinking. There is a fear of not.

【0062】また加熱時にバイアホール周囲の樹脂組成
物が流れ出し、流れの多い部分は樹脂組成物が下の導体
回路パターンの表面を覆うことになり、バイアホールに
めっきしても導通が得られない不良が発生する。このた
め、樹脂組成物が加熱により流れ始めた状態で紫外線照
射または電子線照射を行い、銅はくに空けたバイアホー
ルから下、或いはバイアホールに面する部分の樹脂組成
物に活性エネルギー線を当て、樹脂組成物の硬化を進行
させることにより、樹脂流れの堰を形成し、必要以上に
樹脂が流れることを防止することができる。電子線照射
の場合には180〜300kVで10〜30Mradの
条件がよく、バイアホール周辺の樹脂組成物の硬化だけ
でなく銅はくを電子線が透過することにより18〜35
μmの銅はくの下の樹脂組成物の層も硬化させることが
できる。
Further, the resin composition around the via hole flows out at the time of heating, and the resin composition covers the surface of the underlying conductor circuit pattern in a portion where a large amount of flow occurs, so that conduction cannot be obtained even if the via hole is plated. Defects occur. Therefore, the resin composition is irradiated with ultraviolet rays or electron beams in a state where the resin composition starts to flow by heating, and the active energy ray is applied to the resin composition below the via hole formed in the copper foil or in the portion facing the via hole. By advancing the curing of the resin composition, a weir for the resin flow can be formed and the resin can be prevented from flowing more than necessary. In the case of electron beam irradiation, the condition of 180 to 300 kV and 10 to 30 Mrad is preferable, and not only the curing of the resin composition around the via hole but also the electron beam penetrating the copper foil to 18 to 35
The layer of resin composition underneath the μm copper foil can also be cured.

【0063】本発明のプリント回路板の製造方法で用い
る銅張絶縁シートを内層用パネルにラミネートする際
に、樹脂組成物と内層される導体回路パターンとの接着
力を確保するために該回路パターン表面に粗面化処理、
ブラックオキサイド処理、ブラウンオキサイド処理、レ
ッドオキサイド処理等を施しておくのが好ましい。また
銅張絶縁シートを内層化する場合には、銅張絶縁シート
の銅はくについても予めこれらの処理を施しておくこと
が好ましい。
When the copper clad insulating sheet used in the method for producing a printed circuit board according to the present invention is laminated on an inner layer panel, the circuit pattern is provided in order to secure the adhesive force between the resin composition and the inner conductor circuit pattern. Surface roughening treatment,
It is preferable to perform black oxide treatment, brown oxide treatment, red oxide treatment and the like. Further, when the copper-clad insulating sheet is made the inner layer, it is preferable that the copper foil of the copper-clad insulating sheet is also subjected to these treatments in advance.

【0064】本発明のプリント回路板の製造方法におい
て、バイアホールを形成させるための樹脂組成物の層の
溶解は、有機溶剤でもできるが、アルカリ水溶液を用い
る方がバイアホールの信頼性および作業性等からも適切
である。なぜならば有機溶剤で樹脂組成物を溶解した場
合には、膨潤かつ溶解反応であり、溶解後の樹脂の境界
がスムーズでなく粗くなり、しかも境界近傍には有機溶
剤が残るという問題がある。そのため、樹脂を溶解後の
バイアホールにめっきを施す場合に、有機溶剤の残留の
影響や樹脂の境界が粗いため無電解めっきが析出しにく
くなり、めっきのピンホールの発生、めっきができたバ
イアホールにおいても残留有機溶剤が蒸発してボイド、
気泡、ふくれ等の問題が発生し、これらが層間の導体回
路間のバイアホールによる電気的および機械的接続を不
安定にし接続信頼性が得られない恐れがある。これに対
してアルカリ水溶液で樹脂組成物を溶解する場合はカル
ボキシル基やフェノール性水酸基などアルカリ溶解性の
基が反応して溶解するから溶解速度も速く、アルカリ水
溶液と接する部分から樹脂組成物が順次溶解されるから
樹脂の境界が明確になる。また、有機溶剤のように作業
環境を悪化させることがない。
In the method for producing a printed circuit board of the present invention, the layer of the resin composition for forming via holes can be dissolved with an organic solvent, but the use of an alkaline aqueous solution is more reliable and easier to work with. It is also appropriate from the above. This is because when the resin composition is dissolved in an organic solvent, the reaction is swelling and dissolution reaction, and the boundary of the resin after dissolution becomes rough instead of smooth, and there is a problem that the organic solvent remains near the boundary. Therefore, when plating the via hole after melting the resin, electroless plating is less likely to deposit due to the effect of the residual organic solvent and the resin boundary being rough, and the occurrence of pinholes in the plating Even in holes, residual organic solvent evaporates and voids,
Problems such as bubbles and blisters may occur, and these may make electrical and mechanical connections unstable due to via holes between conductor circuits between layers, resulting in unreliable connection. On the other hand, when the resin composition is dissolved in an alkaline aqueous solution, an alkali-soluble group such as a carboxyl group or a phenolic hydroxyl group reacts and dissolves, so that the dissolution rate is fast, and the resin composition is sequentially formed from a portion in contact with the alkaline aqueous solution. The boundaries of the resin become clear because they are dissolved. Moreover, unlike the organic solvent, it does not deteriorate the working environment.

【0065】表面銅はくをエッチングして微細孔を設
け、その下の樹脂組成物をアルカリ溶解してバイアホー
ルを形成する場合は、従来のプリント回路板の製造工程
の中でバイアホールを有する多層プリント回路板が容易
に製造できる点でも更に好ましい。すなわち、銅はくの
微細孔形成に、アルカリ可溶型エッチングレジストを使
用すれば、銅はくエッチング後の膜はぎ工程で、レジス
トと同時に銅はくの微細孔の下部分の樹脂組成物の層を
溶解できる。またアルカリ現像型ドライフィルムをレジ
ストとした場合であれば、剥離用水酸化ナトリウム水溶
液で、レジスト除去と同時に銅はくの微細孔の下部分の
第1および第2の樹脂組成物の層の溶解除去が可能であ
り、更に好ましい。
When the surface copper foil is etched to form fine holes and the resin composition thereunder is alkali-dissolved to form the via holes, the via holes are formed in the conventional manufacturing process of the printed circuit board. It is further preferable in that the multilayer printed circuit board can be easily manufactured. That is, if an alkali-soluble etching resist is used for forming the copper foil micropores, the resin composition of the lower portion of the copper foil micropores is formed simultaneously with the resist in the film stripping step after copper foil etching. The layers can be dissolved. In the case where the alkali-developing dry film is used as a resist, the resist is removed with a sodium hydroxide aqueous solution for peeling, and at the same time, the layers of the first and second resin compositions under the fine holes of the copper foil are dissolved and removed. Is possible and more preferable.

【0066】なおカルボキシル基やフェノール性水酸基
を有するアルカリ溶解性の基を有する樹脂組成物の層を
アルカリ水溶液で溶解した後、希硫酸等の酸で洗浄すれ
ばアルカリ成分が残留することもなく、後の無電解めっ
きの析出もよく、ボイド、気泡、ふくれ等の欠陥も発生
しないので信頼性の高いバイアホールが形成できる。
When the layer of the resin composition having an alkali-soluble group having a carboxyl group or a phenolic hydroxyl group is dissolved in an aqueous alkaline solution and then washed with an acid such as dilute sulfuric acid, the alkaline component does not remain. Subsequent deposition of electroless plating is good, and defects such as voids, bubbles, and blisters do not occur, so that highly reliable via holes can be formed.

【0067】内層用パネルの表面の銅配線パターンを黒
化処理等の処理をした場合、バイアホール内の樹脂組成
物が溶解されていると、バイアホールを酸で中和すると
黒化処理の酸化銅被膜が溶解し、銅の色が出ることにな
る。黒化処理被膜の表面に樹脂が残っている場合は銅の
色が見えないのでアルカリ溶解の良否をこの中和処理で
判定できる。
When the copper wiring pattern on the surface of the inner layer panel is subjected to blackening treatment or the like, if the resin composition in the via hole is dissolved, the blackening treatment will be oxidized if the via hole is neutralized with an acid. The copper coating melts and the copper color appears. When the resin remains on the surface of the blackening treatment film, the color of copper cannot be seen, and therefore the quality of the alkali dissolution can be judged by this neutralization treatment.

【0068】本発明のプリント回路板の製造方法におい
て、銅はくをエッチングして微細穴を設け、アルカリ水
溶液でその微細穴の樹脂組成物の層を溶解させて露出し
た内層用パネルの表面の導体回路パターンと表面銅はく
とを電気的に接続する方法としては、無電解めっきまた
は/および電解めっき法、金、銀、銅、はんだ等の導電
ペーストをスクリーン印刷、ディスペンサー、ピン印刷
等で塗布し乾燥硬化する方法、或いは溶融金属のロール
コート、ディップコート、フローコート等が使用でき
る。
In the method for producing a printed circuit board of the present invention, copper foil is etched to form fine holes, and the layer of the resin composition in the fine holes is dissolved with an alkaline aqueous solution to expose the surface of the inner layer panel. As a method for electrically connecting the conductor circuit pattern and the surface copper foil, electroless plating and / or electrolytic plating, conductive paste of gold, silver, copper, solder or the like is used by screen printing, dispenser, pin printing or the like. The method of applying and drying and curing, or roll coating, dip coating, flow coating or the like of molten metal can be used.

【0069】本発明のプリント回路板の製造方法におい
て、製造を連続的に行えるように、第1の樹脂組成物の
層および第2の樹脂組成物の層を形成した銅張絶縁シー
トを、離型フィルムまたは離型紙を介して、ロール状に
巻き取っておくと、そのロール状の銅張絶縁シートを内
層用パネル等に熱ロールで連続的にラミネートすること
ができるので好ましい。
In the method for producing a printed circuit board according to the present invention, the copper clad insulating sheet on which the first resin composition layer and the second resin composition layer are formed is separated so that the production can be continuously performed. It is preferable to wind the roll-shaped copper-clad insulating sheet in a roll form via a mold film or release paper, because the roll-shaped copper-clad insulating sheet can be continuously laminated on the inner layer panel or the like with a hot roll.

【0070】また、銅張絶縁シートは銅はくのマット面
に第1および第2の樹脂組成物の層を形成し、銅はくの
反対面の銅はく上に予め感光性樹脂を塗布しておくこと
もできる。該感光性樹脂は銅張絶縁シートを内層用の多
層プリント回路板にラミネートした後、ドライフィルム
やエッチングレジストの代わりに使用でき、多層プリン
ト回路板の製造工程においてドライフィルムやエッチン
グレジストの形成工程を省くことができる。経済性が向
上するだけでなく、この方法を用いると歩留りが向上す
るから品質面でも優位になり得る。
In the copper clad insulating sheet, a layer of the first and second resin compositions is formed on the mat surface of the copper foil, and a photosensitive resin is applied beforehand on the copper foil on the opposite surface of the copper foil. You can also keep it. The photosensitive resin can be used in place of a dry film or an etching resist after laminating a copper clad insulating sheet on the multilayer printed circuit board for the inner layer, and the step of forming the dry film or the etching resist in the manufacturing process of the multilayer printed circuit board can be performed. It can be omitted. Not only is the economy improved, but the use of this method also improves the yield, which can lead to superior quality.

【0071】[0071]

【作用】本発明の銅張絶縁シートは、第1の樹脂組成物
は加熱時の樹脂流れは小さいが、第2の樹脂組成物は加
熱時の樹脂流れが大きいためにラミネート工程で導体回
路パターンを有する内層用パネルの導体回路パターンと
導体回路パターンの間や、内層用パネルの表面へ樹脂が
浸透して空隙を埋めることができる。この際、内層され
るプリント回路板にスルーホールがあれば第2の樹脂組
成物がスルーホールにも流入する。第1の樹脂組成物の
層はラミネート工程で加熱時の樹脂流れが小さいため、
内層用パネルの表面の導体回路パターン面とその上にラ
ミネートした銅張絶縁シート表面の銅はく間の絶縁層の
厚さを確保することができる。
In the copper clad insulating sheet of the present invention, the first resin composition has a small resin flow during heating, while the second resin composition has a large resin flow during heating, so that the conductor circuit pattern is formed in the laminating step. The resin can permeate between the conductor circuit patterns of the inner layer panel having the above and the surface of the inner layer panel to fill the voids. At this time, if the inner printed circuit board has through holes, the second resin composition also flows into the through holes. Since the resin flow during heating of the first resin composition layer is small in the laminating step,
It is possible to secure the thickness of the insulating layer between the conductor circuit pattern surface on the surface of the inner layer panel and the copper foil on the surface of the copper-clad insulating sheet laminated thereon.

【0072】実施例1 (ベースレジンの合成)n−ブチルメタクリレート40
重量部、メチルメタクリレート15重量部、スチレン1
0重量部、ヒドロキシエチルメタクリレート10重量
部、メタクリル酸25重量部およびアゾビスイソブチル
ニトリル1重量部からなる混合物を、窒素ガス雰囲気下
で80℃に保持したプロピレングリコールモノメチルエ
ーテル120重量部中に5時間かけて滴下した。その
後、1時間熟成後、更にアゾビスイソブチルニトリル
0.5重量部を加えて2時間熟成することにより、カル
ボキシル基含有メタクリル樹脂を合成した。次に空気を
吹き込みながら、グリシジルメタクリレート20重量
部、テトラブチルアンモニウムブロマイド1.5重量部
および重合禁止剤としてハイドロキノン0.15重量部
を加えて、80℃で8時間反応させて分子量50,00
0〜70,000、不飽和当量1.14モル/kgのカ
ルボキシル基を有するベースレジンを合成し、酸価が
1.2meg/gのベースレジンを作成した。
Example 1 (Synthesis of Base Resin) n-Butyl Methacrylate 40
Parts by weight, 15 parts by weight of methyl methacrylate, 1 styrene
A mixture of 0 parts by weight, 10 parts by weight of hydroxyethyl methacrylate, 25 parts by weight of methacrylic acid and 1 part by weight of azobisisobutylnitrile was placed in 120 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether kept at 80 ° C. under a nitrogen gas atmosphere for 5 hours. It dripped over. Then, after aging for 1 hour, 0.5 part by weight of azobisisobutylnitrile was further added and aging was performed for 2 hours to synthesize a carboxyl group-containing methacrylic resin. Next, while blowing air, 20 parts by weight of glycidyl methacrylate, 1.5 parts by weight of tetrabutylammonium bromide and 0.15 parts by weight of hydroquinone as a polymerization inhibitor were added, and the mixture was reacted at 80 ° C. for 8 hours to give a molecular weight of 50,000.
A base resin having a carboxyl group of 0 to 70,000 and an unsaturated equivalent of 1.14 mol / kg was synthesized to prepare a base resin having an acid value of 1.2 meg / g.

【0073】(第1の樹脂組成物の調製)上述のベース
レジン65重量部、架橋剤としてペンタエリスリトール
トリアクリレート(東亞合成化学工業(株)製アロニッ
クスM−305)35重量部および硬化剤として日本油
脂(株)製パークミルDを1.0重量部をよく混合して
第1の樹脂組成物を調製した。
(Preparation of First Resin Composition) 65 parts by weight of the above-mentioned base resin, 35 parts by weight of pentaerythritol triacrylate (Aronix M-305 manufactured by Toagosei Chemical Industry Co., Ltd.) as a crosslinking agent, and Japan as a curing agent. The first resin composition was prepared by thoroughly mixing 1.0 part by weight of YUKI CORPORATION's Perkmill D.

【0074】(第2の樹脂組成物の調製)上述のベース
レジン30重量部、架橋剤としてアロニックスM−30
5を70重量部および硬化剤としてパークミルDを1.
0重量部をよく混合して第2の樹脂組成物を調製した。
(Preparation of Second Resin Composition) 30 parts by weight of the above-mentioned base resin and Aronix M-30 as a crosslinking agent.
70 parts by weight of 5 and 1 of Percumil D as a curing agent.
A second resin composition was prepared by thoroughly mixing 0 parts by weight.

【0075】本発明で用いる銅張絶縁シートについて、
図8記載の概略断面図を基に説明する。
Regarding the copper-clad insulating sheet used in the present invention,
Description will be given based on the schematic sectional view shown in FIG.

【0076】(銅張絶縁シートの作成)マット処理した
35μmの銅はく1のマット面に上記第1の樹脂組成物
をコンマコータでコーティングし、60℃、20分間乾
燥させて60μmの樹脂層2を形成し、上記第1の樹脂
組成物の層の上に第2の樹脂組成物を同様に塗布乾燥し
て30μmの樹脂層3を形成し、銅張絶縁シート4を作
成した。
(Preparation of Copper Clad Insulation Sheet) The matte surface of the copper foil 1 having a thickness of 35 μm is coated with the first resin composition using a comma coater and dried at 60 ° C. for 20 minutes to obtain a resin layer 2 having a thickness of 60 μm. Then, the second resin composition was similarly applied and dried on the layer of the first resin composition to form a resin layer 3 having a thickness of 30 μm, and a copper clad insulating sheet 4 was prepared.

【0077】本発明の電磁波シールド層を有するプリン
ト回路板の製造方法を図面に即して説明する。図8〜図
14はその製造過程および構成を説明するための概略断
面図である。
A method for manufacturing a printed circuit board having an electromagnetic wave shield layer according to the present invention will be described with reference to the drawings. 8 to 14 are schematic cross-sectional views for explaining the manufacturing process and configuration.

【0078】図8および図9のように板厚0.2mmガ
ラスエポキシ両面銅張板にめっきスルーホール24、銅
配線パターン6を形成した黒化処理済みの内層用パネル
7を用意し、その内層用パネル7の銅配線パターン6表
面を亜塩素酸ナトリウム37g/リットル、水酸化ナト
リウム10g/リットルおよびりん酸3ナトリウム12
水和物20g/リットルからなる溶液で、95℃で5分
間処理し、よく水洗した後乾燥させ、黒化処理を行っ
た。次に、内層用パネル7の表面に離型フィルム21を
有する銅張絶縁シートを75℃、エアー圧3kg/cm
2 で、150mmφメタルロール16によるラミネート
を実施した。ここで第2の樹脂組成物の層3は流動性が
大きいので、銅配線パターン6間およびスルーホールに
流れ込み、第1の樹脂組成物の層2は樹脂流れが殆どな
いので下層の銅配線パターン6と接触するようになる。
As shown in FIGS. 8 and 9, a blackened inner layer panel 7 is prepared in which a plated through hole 24 and a copper wiring pattern 6 are formed on a glass epoxy double-sided copper clad plate having a plate thickness of 0.2 mm. On the surface of the copper wiring pattern 6 of the panel 7 for use, sodium chlorite 37 g / liter, sodium hydroxide 10 g / liter and trisodium phosphate 12
The solution was treated with a solution of a hydrate of 20 g / liter for 5 minutes at 95 ° C., washed well with water, dried and then blackened. Next, a copper-clad insulating sheet having a release film 21 on the surface of the inner layer panel 7 is placed at 75 ° C. and an air pressure of 3 kg / cm.
In No. 2 , lamination was performed with a 150 mmφ metal roll 16. Since the second resin composition layer 3 has a high fluidity, it flows between the copper wiring patterns 6 and into the through holes, and the first resin composition layer 2 has almost no resin flow. It comes into contact with 6.

【0079】離型フィルム21を剥離後、引き続き銅張
絶縁シートにエッチングレジスト13を形成し(図1
0)、バイアホール部分および不要な銅はく部分を塩化
第2銅エッチング液で溶解除去し、銅はくパターンを形
成した。
After the release film 21 is peeled off, the etching resist 13 is continuously formed on the copper clad insulating sheet (see FIG. 1).
0), the via hole portion and the unnecessary copper foil portion were dissolved and removed with a cupric chloride etching solution to form a copper foil pattern.

【0080】次に、ブラインドバイアホール9部分およ
びめっきスルーホール24の露出した樹脂層を1%炭酸
ナトリウム溶液をスプレー噴射で40℃、3分間処理し
て溶解させ、水洗、10%硫酸水溶液で洗浄することに
より、下層の銅はくパターンおよびめっきスルーホール
24を露出させ、膜はぎを行った(図11)。
Next, the exposed resin layer of the blind via hole 9 portion and the plated through hole 24 is treated by spraying a 1% sodium carbonate solution at 40 ° C. for 3 minutes to dissolve it, followed by washing with water and a 10% sulfuric acid aqueous solution. By doing so, the copper foil pattern and the plated through holes 24 in the lower layer were exposed and film peeling was performed (FIG. 11).

【0081】次に、上記積層パネルに電子線を照射させ
た後、最外層の表面銅はくをエッチングして導体回路パ
ターンを形成し、上記ブラインドバイアホール下の導体
回路パターンとの間を電気的に接続するための銀ペース
ト13を印刷し、150℃45分間熱硬化させた。更に
銀ペースト13を被覆するオーバーコート14を形成
し、電磁波シールド層の保護膜かつはんだ付け防止膜と
してソルダレジスト25を印刷形成することにより、電
磁波シールド層付きプリント回路板が得られた(図1
2)。
Next, after irradiating the laminated panel with an electron beam, the surface copper foil of the outermost layer is etched to form a conductor circuit pattern, and the conductor circuit pattern under the blind via hole is electrically connected. The silver paste 13 for electrical connection was printed and heat-cured at 150 ° C. for 45 minutes. Further, an overcoat 14 that covers the silver paste 13 is formed, and a solder resist 25 is formed by printing as a protective film of the electromagnetic wave shield layer and a soldering prevention film, whereby a printed circuit board with an electromagnetic wave shield layer is obtained (FIG. 1).
2).

【0082】上記電磁波シールド層付きプリント回路板
は図13に示すように露出しためっきスルーホール24
部分にリード線付き電子部品18のリード線17を挿入
し、はんだ付けすることができる。一方、銅張積層パネ
ル(図10)にエッチングレジストのパターンを変更す
ることにより、図14のようにチップ部品26の端子部
27を内層用パネルの導体回路パターン6に直接はんだ
19で接続できるし、上記リード線付き電子部品をはん
だ付けするときに同時にはんだ接続しても良い。更に、
はんだ付けするときに外層の導体回路パターンと内層用
パネルの導体回路パターンとを同時にはんだで接続する
こともできる。
As shown in FIG. 13, the printed circuit board with the electromagnetic wave shield layer has exposed plated through holes 24.
The lead wire 17 of the electronic component with a lead wire 18 can be inserted into the portion and soldered. On the other hand, by changing the pattern of the etching resist on the copper clad laminated panel (FIG. 10), the terminal portion 27 of the chip component 26 can be directly connected to the conductor circuit pattern 6 of the inner layer panel with the solder 19 as shown in FIG. Alternatively, the solder connection may be performed at the same time when the electronic component with the lead wire is soldered. Furthermore,
When soldering, the conductor circuit pattern of the outer layer and the conductor circuit pattern of the inner layer panel can be simultaneously connected by soldering.

【0083】実施例2 本発明のメタルコアプリント回路板の製造方法を図面に
即して説明する。図15〜図21はその製造過程および
構成を説明するための概略断面図である。
Example 2 A method of manufacturing a metal core printed circuit board according to the present invention will be described with reference to the drawings. 15 to 21 are schematic cross-sectional views for explaining the manufacturing process and configuration.

【0084】図15および図16に示すように、予め貫
通穴29が設けられ、サンドブラストで表面粗化した
0.5mm厚のアルミニウムパネル28の表面に離型フ
ィルム21を介して銅張絶縁シート4を75℃のメタル
ロール16で実施例1と同じ条件で連続的に片面づつラ
ミネートし、メタルコア銅張積層パネルを作成した(図
17)。この際、銅張絶縁シート4の第2の樹脂組成物
は流動して貫通穴の内部を埋めるようになる。
As shown in FIGS. 15 and 16, a copper-clad insulating sheet 4 is provided on the surface of an aluminum panel 28 having a thickness of 0.5 mm, which is provided with through holes 29 in advance and whose surface has been roughened by sandblasting, via a release film 21. Was continuously laminated on each side by a metal roll 16 at 75 ° C. under the same conditions as in Example 1 to prepare a metal core copper clad laminate panel (FIG. 17). At this time, the second resin composition of the copper-clad insulating sheet 4 flows and fills the inside of the through hole.

【0085】次に150℃30分で樹脂組成物を熱硬化
した後、上記穴のセンター位置に上記穴径よりも小さい
径の貫通穴30をドリル加工して形成した(図18)。
引き続き、周知の無電解銅めっき、電気銅めっきを順次
行い、めっきスルーホール24を形成した(図19)。
Next, the resin composition was thermally cured at 150 ° C. for 30 minutes, and then a through hole 30 having a diameter smaller than the hole diameter was drilled at the center position of the hole (FIG. 18).
Successively, well-known electroless copper plating and electrolytic copper plating were sequentially performed to form plated through holes 24 (FIG. 19).

【0086】次に、エッチングレジスト12を形成し
(図20)、不要な銅はく部分を塩化第2銅エッチング
液で溶解除去し、銅配線パターンを形成してメタルコア
プリント回路板が得られた(図21)。
Next, an etching resist 12 was formed (FIG. 20), unnecessary copper foil portions were dissolved and removed with a cupric chloride etching solution, and a copper wiring pattern was formed to obtain a metal core printed circuit board. (FIG. 21).

【0087】実施例3 本発明の別のメタルコアプリント回路板の製造方法を図
面に即して説明する。図15〜図17および図22はそ
の製造過程および構成を説明するための概略断面図であ
る。
Example 3 Another metal core printed circuit board manufacturing method of the present invention will be described with reference to the drawings. 15 to 17 and FIG. 22 are schematic cross-sectional views for explaining the manufacturing process and configuration.

【0088】図15および図16に示すように、予め貫
通穴29が設けられ、サンドブラストで表面粗化した
0.5mm厚のりん青銅パネル28の表面に離型フィル
ム21を介して銅張絶縁シート4を75℃のメタルロー
ル16で連続的に片面づつラミネートし、メタルコア銅
張積層パネルを図17のように作成した。
As shown in FIGS. 15 and 16, through-holes 29 are provided in advance, and the surface of a 0.5 mm thick phosphor bronze panel 28 roughened by sandblasting is placed on the surface of a copper clad insulating sheet via a release film 21. 4 was continuously laminated on one side by a metal roll 16 at 75 ° C. to prepare a metal core copper clad laminated panel as shown in FIG.

【0089】次に、ブラインドバイアホール部分および
不要な銅はく部分を除去するためにエッチングレジスト
12を形成し、エッチングを施し更にその上に銅張絶縁
シート4をラミネートし、上記と同様に不要な銅はくを
エッチング除去した。露出した樹脂層を1%炭酸ナトリ
ウム溶液をスプレー噴射で40℃、3分間処理して溶解
させ、水洗、10%硫酸水溶液で洗浄することにより下
層の銅配線パターンおよびリン酸銅パネルの一部を露出
させ、膜はぎを行った。
Next, an etching resist 12 is formed in order to remove the blind via hole portion and the unnecessary copper foil portion, etching is performed, and the copper clad insulating sheet 4 is laminated on the etching resist 12. The copper foil was removed by etching. The exposed resin layer is treated with a 1% sodium carbonate solution by spray injection at 40 ° C. for 3 minutes to dissolve it, and then washed with water and a 10% sulfuric acid aqueous solution to remove the lower copper wiring pattern and a part of the copper phosphate panel. Exposed and membrane stripped.

【0090】次に150℃で30分熱硬化した後、上記
樹脂を充填した穴のセンター位置に上記穴径よりも小さ
い径の貫通穴30をドリル加工して形成した。引き続
き、周知の無電解銅めっき、電気銅めっきを順次行い、
めっきスルーホールを形成し、金めっきレジストを形成
し、金めっきした。
Next, after thermosetting at 150 ° C. for 30 minutes, a through hole 30 having a diameter smaller than the hole diameter was drilled at the center position of the hole filled with the resin. Successively, well-known electroless copper plating and electrolytic copper plating are sequentially performed,
A plated through hole was formed, a gold plating resist was formed, and gold plating was performed.

【0091】次に、めっきレジストを剥離して金めっき
以外の不要な銅はく部分をエッチング溶解除去し、金め
っきパターンを形成し、かつメタルコアの露出させたメ
タルコア多層プリント回路板が得られた。
Next, the plating resist was peeled off to remove unnecessary copper foil portions other than gold plating by etching and dissolution to form a gold plating pattern, and a metal core multilayer printed circuit board having a metal core exposed was obtained. .

【0092】次に、露出したメタルコア部分にダイボン
ド31として銀ペーストを印刷乾燥し、ICベアチップ
33を接着した後、金ワイヤー32でICチップの電極
と金めっきパターンとをボンディングし、封止剤34を
塗布し、150℃10分加熱して、ICベアチップを実
装したメタルコア多層プリント回路板が作成できた。
Next, after the silver paste is printed and dried as the die bond 31 on the exposed metal core portion to bond the IC bare chip 33, the electrode of the IC chip and the gold plating pattern are bonded by the gold wire 32, and the sealant 34 is formed. Was applied and heated at 150 ° C. for 10 minutes to prepare a metal core multilayer printed circuit board on which an IC bare chip was mounted.

【0093】[0093]

【発明の効果】本発明のプリント回路板の製造方法によ
れば、物理特性、電気特性、信頼性に優れた電磁波シー
ルド層を有するプリント回路板、メタルコアプリント回
路板が容易に得られた。また従来のように熱プレスを使
用せずバリードバイアホールの形成、電磁波シールド層
の形成、メタルコアの絶縁化を熱ロールで連続的に加工
することが可能である。
According to the method of manufacturing a printed circuit board of the present invention, a printed circuit board having an electromagnetic wave shield layer excellent in physical characteristics, electrical characteristics and reliability, and a metal core printed circuit board can be easily obtained. Further, it is possible to continuously form a baled via hole, an electromagnetic wave shield layer, and an insulation of a metal core with a hot roll without using a hot press as in the conventional case.

【0094】しかも、従来のように、バイアホールを1
穴づつドリル加工で空ける代わりに、樹脂組成物のアル
カリ溶解により一括でブラインドホールまたはスルーホ
ールの形成が可能となる。しかも、任意の層の導体回路
パターン間の樹脂組成物を溶解させて、任意の層間の導
体回路パターンを電気的に接続することができることに
なり、プリント回路板の設計の自由度が高くなると共に
薄型実装が可能となる。更に、従来の厚いプリプレグを
使用せず、薄い銅張絶縁シートを使用するため、薄型多
層プリント回路板の製造が可能となる。
Moreover, as in the conventional case, one via hole is formed.
Instead of drilling holes one by one, it becomes possible to form blind holes or through holes all at once by dissolving the resin composition with alkali. Moreover, the resin composition between the conductor circuit patterns of the arbitrary layers can be dissolved to electrically connect the conductor circuit patterns of the arbitrary layers, which increases the degree of freedom in designing the printed circuit board. Thin mounting becomes possible. Furthermore, since a thin copper clad insulating sheet is used instead of the conventional thick prepreg, it is possible to manufacture a thin multilayer printed circuit board.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】従来のブラインドバイアホールを有する多層プ
リント配線板の製造過程における、表面に銅配線パター
ンを有する内層用パネルと銅はくをプリプレグを介して
加熱圧着させる前の構成を示した概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a structure before thermocompression bonding of an inner layer panel having a copper wiring pattern on its surface and a copper foil through a prepreg in a manufacturing process of a conventional multilayer printed wiring board having a blind via hole. It is a figure.

【図2】同製造過程における、加熱圧着した後の銅張積
層板パネルの構成を示した概略断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of a copper clad laminate panel after being subjected to thermocompression bonding in the same manufacturing process.

【図3】同製造過程における、ドリル加工によりスルー
ホールを形成した後の上記銅張積層板パネルを示した概
略断面図である。
FIG. 3 is a schematic sectional view showing the copper clad laminate panel after forming through holes by drilling in the same manufacturing process.

【図4】同製造過程における、ドリル加工によりブライ
ンドバイアホール用穴を形成した後の上記銅張積層板パ
ネルを示した概略断面図である。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing the copper clad laminate panel after forming holes for blind via holes by drilling in the same manufacturing process.

【図5】同製造過程における、めっき処理後の概略断面
図である。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view after a plating process in the manufacturing process.

【図6】同製造過程における、エッチングレジストを形
成させた後の概略断面図である。
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view after forming an etching resist in the same manufacturing process.

【図7】同製造過程における、不要な銅はくのエッチン
グ除去を行った後の概略断面図である。
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view after unnecessary copper foil is removed by etching in the manufacturing process.

【図8】本発明の電磁波シールド層を有するプリント回
路板の製造過程における、めっきスルーホールおよび導
体回路パターンを有する内層用パネルと銅張絶縁シート
を熱ロールで加熱圧着している状態を示す概略断面図あ
る。
FIG. 8 is a schematic view showing a state in which a panel for inner layer having a plated through hole and a conductor circuit pattern and a copper clad insulating sheet are heated and pressure-bonded with a heat roll in the process of manufacturing a printed circuit board having an electromagnetic wave shielding layer of the present invention. FIG.

【図10】同製造過程における、めっきスルーホールお
よび銅はくパターンを有する内層用パネルと銅張絶縁シ
ートを熱ロールで加熱圧着後、エッチングレジストを形
成した後の概略断面図ある。
FIG. 10 is a schematic cross-sectional view after an inner layer panel having a plated through hole and a copper foil pattern and a copper clad insulating sheet are thermocompression bonded by a heat roll and an etching resist is formed in the manufacturing process.

【図11】同製造過程における、樹脂組成物をアルカリ
溶解除去した後のの概略断面図である。
FIG. 11 is a schematic cross-sectional view after the resin composition is alkali-dissolved and removed in the same manufacturing process.

【図12】同製造過程における、導電ペースト印刷、オ
ーバコート形成、ソルダレジスト形成後の概略断面図で
ある。
FIG. 12 is a schematic cross-sectional view after conductive paste printing, overcoat formation, and solder resist formation in the manufacturing process.

【図13】同製造過程における、内層用めっきスルーホ
ールにリード線付き電子部品を挿入し、はんだ付け実装
した状態のプリント回路板の概略断面図である。
FIG. 13 is a schematic cross-sectional view of a printed circuit board in a state in which an electronic component with a lead wire is inserted into a plated through hole for an inner layer and mounted by soldering in the same manufacturing process.

【図14】同製造過程における、内層用めっきスルーホ
ールにリード線付き電子部品を挿入してはんだ付けし、
チップ部品を併せて実装した状態の本発明の他の実施例
を示す電磁波シールド層を有するプリント回路板の概略
断面図である。
FIG. 14: In the same manufacturing process, insert the electronic component with a lead wire into the plated through hole for the inner layer and solder it,
It is a schematic sectional drawing of the printed circuit board which has an electromagnetic wave shield layer which shows the other Example of this invention in the state which mounted the chip component together.

【図15】本発明のメタルコアプリント回路板の製造過
程における、金属板パネルに銅張絶縁シートを熱ロール
で加熱圧着する工程を示す概略断面図ある。
FIG. 15 is a schematic cross-sectional view showing a step of heating and press-bonding a copper clad insulating sheet to a metal plate panel with a heating roll in the manufacturing process of the metal core printed circuit board of the present invention.

【図16】同製造過程における、金属板パネルのもう一
面に銅張絶縁シートを熱ロールで加熱圧着する工程を示
す概略断面図である。
FIG. 16 is a schematic cross-sectional view showing a step of heating and press-bonding a copper clad insulating sheet to the other surface of the metal plate panel with a heating roll in the same manufacturing process.

【図17】同製造過程における、金属板パネルの両面に
銅張絶縁シートをラミネートした状態を示す概略断面図
である。
FIG. 17 is a schematic cross-sectional view showing a state in which copper clad insulating sheets are laminated on both sides of a metal plate panel in the same manufacturing process.

【図18】同製造過程における、貫通穴を設けた状態を
示す概略断面図である。
FIG. 18 is a schematic cross-sectional view showing a state in which a through hole is provided in the manufacturing process.

【図19】同製造過程における、めっきスルーホールを
形成した状態を示す概略断面図である。
FIG. 19 is a schematic cross-sectional view showing a state in which a plated through hole is formed in the manufacturing process.

【図20】同製造過程における、エッチングレジストを
形成した状態を示す略断面図である。
FIG. 20 is a schematic cross-sectional view showing a state where an etching resist is formed in the manufacturing process.

【図21】同製造過程における、不要銅はくを除去し、
膜はぎして導体パターンを形成した状態を示す概略断面
図である。
FIG. 21 is a plan view showing the removal of unnecessary copper foil in the manufacturing process,
It is a schematic sectional drawing which shows the state which formed the conductor pattern by stripping the film.

【図22】本発明のもう一つの実施例であるメタルコア
多層プリント回路板にICチップを実装した状態の示す
概略断面図である。
FIG. 22 is a schematic cross-sectional view showing a state in which an IC chip is mounted on a metal core multilayer printed circuit board which is another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 銅はく 2 第1の樹脂組成物の層 3 第2の樹脂組成物の層 4 銅張絶縁シート 5 プリプレグ 6 銅配線パターン(導体回路パターン) 7 内層用パネル 8 スルーホール 12 エッチングレジスト 13 銀ペースト 14 オーバコート(ソルダーレジスト) 15 オーバコート 16 メタルロール 17 リード線 18 電子部品 19 はんだ 20 ブラインドバイアホール用の穴 21 離型フィルム 22 バリードバイアホール 23 ブラインドバイアホール用の穴 24 めっきスルーホール 25 ソルダーレジスト 26 チップ部品 27 端子部 28 金属板パネル 29 貫通穴 30 貫通穴 31 ダイボンド 32 金ワイヤー 33 半導体部品 34 封止材 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Copper foil 2 Layer of 1st resin composition 3 Layer of 2nd resin composition 4 Copper-clad insulating sheet 5 Prepreg 6 Copper wiring pattern (conductor circuit pattern) 7 Panel for inner layers 8 Through hole 12 Etching resist 13 Silver Paste 14 Overcoat (Solder resist) 15 Overcoat 16 Metal roll 17 Lead wire 18 Electronic component 19 Solder 20 Hole for blind via hole 21 Release film 22 Ballide via hole 23 Hole for blind via hole 24 Plating through hole 25 Solder resist 26 Chip component 27 Terminal part 28 Metal plate panel 29 Through hole 30 Through hole 31 Die bond 32 Gold wire 33 Semiconductor component 34 Encapsulating material

─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成6年10月18日[Submission date] October 18, 1994

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】図面の簡単な説明[Name of item to be corrected] Brief description of the drawing

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】従来のブラインドバイアホールを有する多層プ
リント配線板の製造過程における、表面に銅配線パター
ンを有する内層用パネルと銅はくをプリプレグを介して
加熱圧着させる前の構成を示した概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a structure before thermocompression bonding of an inner layer panel having a copper wiring pattern on its surface and a copper foil through a prepreg in a manufacturing process of a conventional multilayer printed wiring board having a blind via hole. It is a figure.

【図2】同製造過程における、加熱圧着した後の銅張積
層板パネルの構成を示した概略断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of a copper clad laminate panel after being subjected to thermocompression bonding in the same manufacturing process.

【図3】同製造過程における、ドリル加工によりスルー
ホールを形成した後の上記銅張積層板パネルを示した概
略断面図である。
FIG. 3 is a schematic sectional view showing the copper clad laminate panel after forming through holes by drilling in the same manufacturing process.

【図4】同製造過程における、ドリル加工によりブライ
ンドバイアホール用穴を形成した後の上記銅張積層板パ
ネルを示した概略断面図である。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing the copper clad laminate panel after forming holes for blind via holes by drilling in the same manufacturing process.

【図5】同製造過程における、めっき処理後の概略断面
図である。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view after a plating process in the manufacturing process.

【図6】同製造過程における、エッチングレジストを形
成させた後の概略断面図である。
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view after forming an etching resist in the same manufacturing process.

【図7】同製造過程における、不要な銅はくのエッチン
グ除去を行った後の概略断面図である。
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view after unnecessary copper foil is removed by etching in the manufacturing process.

【図8】本発明の電磁波シールド層を有するプリント回
路板の製造過程における、めっきスルーホールおよび導
体回路パターンを有する内層用パネルと銅張絶縁シート
を熱ロールで加熱圧着している状態を示す概略断面図で
ある。
FIG. 8 is a schematic view showing a state in which a panel for an inner layer having a plated through hole and a conductor circuit pattern and a copper clad insulating sheet are heated and pressure bonded by a heat roll in the process of manufacturing a printed circuit board having an electromagnetic wave shield layer of the present invention. FIG.

【図9】同製造過程における、内層用パネルのもう一面
に銅張絶縁シートを熱ロールで加熱圧着している状態を
示す概略断面図である。
FIG. 9 is a schematic cross-sectional view showing a state in which a copper clad insulating sheet is heated and pressure-bonded to the other surface of the inner layer panel by a heating roll in the same manufacturing process.

【図10】同製造過程における、めっきスルーホールお
よび銅はくパターンを有する内層用パネルと銅張絶縁シ
ートを熱ロールで加熱圧着後、エッチングレジストを形
成した後の概略断面図である。
FIG. 10 is a schematic cross-sectional view after an inner layer panel having a plated through hole and a copper foil pattern and a copper clad insulating sheet are thermocompression bonded by a heat roll and an etching resist is formed in the manufacturing process.

【図11】同製造過程における、樹脂組成物をアルカリ
溶解除去した後の概略断面図である。
FIG. 11 is a schematic cross-sectional view after the resin composition is dissolved and removed by alkali in the same manufacturing process.

【図12】同製造過程における、導電ペースト印刷、オ
ーバコート形成、ソルダレジスト形成後の概略断面図で
ある。
FIG. 12 is a schematic cross-sectional view after conductive paste printing, overcoat formation, and solder resist formation in the manufacturing process.

【図13】同製造過程における、内層用めっきスルーホ
ールにリード線付き電子部品を挿入し、はんだ付け実装
した状態のプリント回路板の概略断面図である。
FIG. 13 is a schematic cross-sectional view of a printed circuit board in a state in which an electronic component with a lead wire is inserted into a plated through hole for an inner layer and mounted by soldering in the same manufacturing process.

【図14】同製造過程における、内層用めっきスルーホ
ールにリード線付き電子部品を挿入してはんだ付けし、
チップ部品を併せて実装した状態の本発明の他の実施例
を示す電磁波シールド層を有するプリント回路板の概略
断面図である。
FIG. 14: In the same manufacturing process, insert the electronic component with a lead wire into the plated through hole for the inner layer and solder it,
It is a schematic sectional drawing of the printed circuit board which has an electromagnetic wave shield layer which shows the other Example of this invention in the state which mounted the chip component together.

【図15】本発明のメタルコアプリント回路板の製造過
程における、金属板パネルに銅張絶縁シートを熱ロール
で加熱圧着する工程を示す概略断面図である。
FIG. 15 is a schematic cross-sectional view showing a step of thermocompression bonding a copper clad insulating sheet to a metal plate panel with a heating roll in the process of manufacturing the metal core printed circuit board of the present invention.

【図16】同製造過程における、金属板パネルのもう一
面に銅張絶縁シートを熱ロールで加熱圧着する工程を示
す概略断面図である。
FIG. 16 is a schematic cross-sectional view showing a step of heating and press-bonding a copper clad insulating sheet to the other surface of the metal plate panel with a heating roll in the same manufacturing process.

【図17】同製造過程における、金属板パネルの両面に
銅張絶縁シートをラミネートした状態を示す概略断面図
である。
FIG. 17 is a schematic cross-sectional view showing a state in which copper clad insulating sheets are laminated on both sides of a metal plate panel in the same manufacturing process.

【図18】同製造過程における、貫通穴を設けた状態を
示す概略断面図である。
FIG. 18 is a schematic cross-sectional view showing a state in which a through hole is provided in the manufacturing process.

【図19】同製造過程における、めっきスルーホールを
形成した状態を示す概略断面図である。
FIG. 19 is a schematic cross-sectional view showing a state in which a plated through hole is formed in the manufacturing process.

【図20】同製造過程における、エッチングレジストを
形成した状態を示す略断面図である。
FIG. 20 is a schematic cross-sectional view showing a state where an etching resist is formed in the manufacturing process.

【図21】同製造過程における、不要銅はくを除去し、
膜はぎして導体パターンを形成した状態を示す概略断面
図である。
FIG. 21 is a plan view showing the removal of unnecessary copper foil in the manufacturing process,
It is a schematic sectional drawing which shows the state which formed the conductor pattern by stripping the film.

【図22】本発明のもう一つの実施例であるメタルコア
多層プリント回路板にICチップを実装した状態を示す
概略断面図である。
FIG. 22 is a schematic cross-sectional view showing a state in which an IC chip is mounted on a metal core multilayer printed circuit board which is another embodiment of the present invention.

【符号の説明】 1 銅はく 2 第1の樹脂組成物の層 3 第2の樹脂組成物の層 4 銅張絶縁シート 5 プリプレグ 6 銅配線パターン(導体回路パターン) 7 内層用パネル 8 スルーホール 12 エッチングレジスト 13 銀ペースト 14 オーバコート(ソルダーレジスト) 15 オーバコート 16 メタルロール 17 リード線 18 電子部品 19 はんだ 20 ブラインドバイアホール用の穴 21 離型フィルム 22 バリードバイアホール 23 ブラインドバイアホール用の穴 24 めっきスルーホール 25 ソルダーレジスト 26 チップ部品 27 端子部 28 金属板パネル 29 貫通穴 30 貫通穴 31 ダイボンド 32 金ワイヤー 33 半導体部品 34 封止材[Explanation of reference numerals] 1 copper foil 2 layer of first resin composition 3 layer of second resin composition 4 copper-clad insulating sheet 5 prepreg 6 copper wiring pattern (conductor circuit pattern) 7 inner layer panel 8 through hole 12 Etching Resist 13 Silver Paste 14 Overcoat (Solder Resist) 15 Overcoat 16 Metal Roll 17 Lead Wire 18 Electronic Component 19 Solder 20 Hole for Blind Via Hole 21 Release Film 22 Ballide Via Hole 23 Hole for Blind Via Hole 24 Plating Through Hole 25 Solder Resist 26 Chip Component 27 Terminal Part 28 Metal Plate Panel 29 Through Hole 30 Through Hole 31 Die Bond 32 Gold Wire 33 Semiconductor Component 34 Sealing Material

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H05K 3/46 N 6921−4E ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Office reference number FI technical display location H05K 3/46 N 6921-4E

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 アルカリ水溶液に可溶で熱ロールによる
加熱加圧時の流動性が小さい第1の樹脂組成物の層を銅
はくの粗面化面に形成し、該層の上にアルカリ水溶液に
可溶で熱ロールによる加熱加圧時の流動性が大きい第2
の樹脂組成物の層を形成してなる銅張絶縁シートの樹脂
側を、両面または多層のプリント配線板の片面または両
面に熱ロールでラミネートする工程;ラミネートした上
記銅張絶縁シートの表面銅はくにエッチングレジストを
形成し、前記プリント配線板のグラウンド部分の上部に
位置する表面銅はくをエッチングで除去する工程;露出
した樹脂組成物の層をアルカリ水溶液で溶解して、前記
プリント配線板の導体回路パターンを露出させる工程;
樹脂組成物を硬化させる工程;前記プリント配線板の露
出した導体回路パターンと表面銅はくとを導電物質によ
り電気的に導通させ電磁波シールド層を形成させる工程
よりなるプリント回路板の製造方法。
1. A layer of a first resin composition, which is soluble in an aqueous alkali solution and has low fluidity when heated and pressed by a hot roll, is formed on a roughened surface of a copper foil, and an alkali is formed on the layer. It is soluble in aqueous solution and has high fluidity when heated and pressed by hot rolls.
The step of laminating the resin side of the copper-clad insulating sheet formed by forming a layer of the resin composition on both sides or one side or both sides of a multilayer printed wiring board with a heat roll; A step of forming an etching resist on the surface of the printed wiring board and removing the surface copper foil located above the ground portion of the printed wiring board by etching; Exposing the conductor circuit pattern;
A method for producing a printed circuit board, which comprises a step of curing a resin composition; and a step of electrically connecting an exposed conductor circuit pattern of the printed wiring board and surface copper foil with a conductive substance to form an electromagnetic wave shield layer.
【請求項2】 熱ロールによる加熱加圧時の流動性が小
さい第1の樹脂組成物の層を銅はくの粗面化面に形成
し、該層の上に熱ロールによる加熱加圧時の流動性が大
きい第2の樹脂組成物の層を形成してなる銅張絶縁シー
トの樹脂側を、予め貫通穴を形成した金属パネルの両面
に熱ロールでラミネートし、金属パネルの該穴中に樹脂
を充填した積層パネルを作成する工程;樹脂組成物を硬
化させる工程;上記積層パネルの樹脂の充填した穴にそ
れよりも小さい径の貫通穴を形成する工程;両表面の銅
はくを導電物質により電気的に接続する工程;選択エッ
チングにより表面銅はくに導体回路パターンを形成する
工程からなるメタルコアプリント回路板の製造方法。
2. A layer of a first resin composition having a low fluidity when heated and pressed by a hot roll is formed on a roughened surface of a copper foil, and the layer is heated and pressed by a hot roll on the layer. The resin side of the copper-clad insulating sheet formed with the layer of the second resin composition having a large fluidity is laminated on both sides of a metal panel in which through holes are formed in advance with a heat roll, A step of forming a resin-filled laminated panel in the resin; a step of curing the resin composition; a step of forming a through hole having a diameter smaller than that of the resin-filled hole of the laminated panel; A method of manufacturing a metal core printed circuit board, which comprises the step of electrically connecting with a conductive material; the step of forming a conductor circuit pattern on the surface copper foil by selective etching.
【請求項3】 アルカリ水溶液に可溶で熱ロールによる
加熱加圧時の流動性が小さい第1の樹脂組成物の層を銅
はくの粗面化面に形成し、該層の上にアルカリ水溶液に
可溶で熱ロールによる加熱加圧時の流動性が大きい第2
の樹脂組成物の層を形成してなる銅張絶縁シートの樹脂
側を、予め貫通穴を形成した金属パネルの両面に熱ロー
ルでラミネートし、金属パネルの該穴中に樹脂を充填し
た積層パネルを作成する工程;表面銅はくにエッチング
レジストを形成し、エッチングにより金属パネルを露出
させる位置の銅はくを除去し、露出した樹脂組成物の層
をアルカリ水溶液で溶解除去し、金属パネルを露出させ
る工程;樹脂組成物を硬化させる工程;上記積層パネル
の樹脂の充填した穴にそれよりも小さい径の貫通穴を形
成する工程;両表面の銅はくを導電物質により電気的に
接続する工程;半導体部品を金属パネルに直接ダイボン
ディングする工程からなるメタルコアプリント回路板の
製造方法。
3. A layer of a first resin composition which is soluble in an alkaline aqueous solution and has low fluidity when heated and pressed by a hot roll is formed on a roughened surface of a copper foil, and an alkali is formed on the layer. It is soluble in aqueous solution and has high fluidity when heated and pressed by hot rolls.
A laminated panel in which the resin side of a copper-clad insulating sheet formed by forming a layer of the resin composition is laminated on both sides of a metal panel in which a through hole is formed in advance with hot rolls, and the resin is filled in the hole of the metal panel. A step of forming an etching resist on the surface copper foil, removing the copper foil at the position where the metal panel is exposed by etching, and dissolving and removing the exposed resin composition layer with an alkaline aqueous solution to expose the metal panel. A step of curing the resin composition; a step of forming a through hole having a diameter smaller than that in the resin-filled hole of the laminated panel; a step of electrically connecting copper foils on both surfaces with a conductive material A method of manufacturing a metal core printed circuit board, which comprises a step of directly die bonding a semiconductor component to a metal panel.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1035164A (en) * 1996-04-25 1998-02-10 Samsung Aerospace Ind Ltd Ic card and manufacture thereof
JP2006313834A (en) * 2005-05-09 2006-11-16 Nitto Denko Corp Method of manufacturing wiring circuit board
KR102026094B1 (en) * 2018-12-31 2019-09-27 한인만 Dispersed supply of deposition gas for semiconductor deposition equipment Micro hole processing method

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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