JPH06260733A - Copper-clad insulating sheet resin composition - Google Patents

Copper-clad insulating sheet resin composition

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JPH06260733A
JPH06260733A JP7290593A JP7290593A JPH06260733A JP H06260733 A JPH06260733 A JP H06260733A JP 7290593 A JP7290593 A JP 7290593A JP 7290593 A JP7290593 A JP 7290593A JP H06260733 A JPH06260733 A JP H06260733A
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resin composition
resin
copper
layer
insulating sheet
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Application number
JP7290593A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoichi Haruta
要一 春田
Haruhiko Yasui
晴彦 安井
Takeya Matsumoto
健也 松本
Tomio Kanbayashi
富夫 神林
Hitoshi Kato
仁 加藤
Takenao Hattori
武尚 服部
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Toagosei Co Ltd
Original Assignee
Toagosei Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To obtain a copper-clad insulating sheet high in resistance to both mechanical and thermal shock and free from cracking by a method wherein the insulating sheet is made of material primarily composed of acrylic resin, methacrylic resin, and crosslinking agent all specified in a mixing weight ratio. CONSTITUTION:A layer 2 of first resin composition soluble in alkaline water solution and small in fluidity at a high temperature is formed on the roughened surface of a copper foil 4, and a layer 3 of second resin composition soluble in alkaline water solution and large in fluidity at a high temperature is formed on the layer 2 for the formation of a copper-clad insulating sheet 1 used for a printed wiring board, wherein resin composition is primarily composed of (meth) acrylic resin and cross-linking agent, and first resin composition and second resin composition are so set in composition as to satisfy a formula, weight ratio of (meth) acrylic resin to crosslinking agent in first resin composition = (0.9 to 1.1)X weight ratio of (meth) acrylic resin to cross-linking agent in second resin composition. By this setup, a multilayer printed wiring board excellent in physical and electrical properties and reliability can be obtained.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は高密度実装に適した多層
プリント配線板を製造するための銅張絶縁シート用樹脂
組成物に関するものである。特に物理特性、電気特性等
の優れたブラインドバイアホールを有する多層プリント
配線板の量産性に優れた製造が可能な銅張絶縁シート用
樹脂組成物を提供するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resin composition for a copper clad insulating sheet for producing a multilayer printed wiring board suitable for high density mounting. In particular, the present invention provides a resin composition for a copper-clad insulating sheet, which can be manufactured with excellent mass productivity of a multilayer printed wiring board having a blind via hole having excellent physical properties and electrical properties.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子機器の小型化、多機能化に伴って、
現在プリント配線板はより高密度化の方向に進んでい
る。例えば、導体回路の細線化、高多層化、スルーバイ
アホール、ブラインドバイアホ−ル、バリ−ドバイアホ
−ル等のインタ−スティシャルバイアホ−ルを含むスル
−ホ−ルの小径化、小型チップ部品の表面実装による高
密度実装等がある。
2. Description of the Related Art As electronic equipment becomes smaller and more multifunctional,
At present, printed wiring boards are moving toward higher density. For example, finer conductor circuits, higher multilayers, through via holes, blind via holes, through via holes and interstitial via holes such as barrier via holes, and small chips. There are high-density mounting by surface mounting of parts.

【0003】従来のブラインドバイアホールを有する多
層配線板の製造方法を説明するために、各工程の概略断
面を図10から図17に示す。図10に示すように、エ
ッチッグ法で銅配線パターン6を予め形成した内層用パ
ネル7を用意し、外層用の銅はく4と内層用パネル7の
間にプリプレグ5を1ないしは2枚重ねてレイアップ
し、160〜180℃の温度で60〜120分間、プレ
ス圧15〜50kg/cm2で熱プレスすることにより、図1
1に示す内層配線パターンを有する銅張積層板パネルが
得られる。精度が要求される場合には真空熱プレスを使
用する場合もある。
In order to explain a conventional method for manufacturing a multilayer wiring board having a blind via hole, schematic cross sections of respective steps are shown in FIGS. 10 to 17. As shown in FIG. 10, an inner layer panel 7 having a copper wiring pattern 6 previously formed by an etching method is prepared, and one or two prepregs 5 are stacked between the outer layer copper foil 4 and the inner layer panel 7. By laying up and heat-pressing at a temperature of 160 to 180 ° C. for 60 to 120 minutes at a pressing pressure of 15 to 50 kg / cm 2 ,
A copper clad laminate panel having the inner layer wiring pattern shown in 1 is obtained. A vacuum hot press may be used when accuracy is required.

【0004】次に、所定の位置にドリルマシンで順次穴
加工を施し、ブラインドバイアホール用穴13を形成す
ると図12のようになる。引き続き、従来のスルーホー
ル10を設けると図13のようになる。
Next, holes are sequentially drilled at predetermined positions by a drill machine to form blind via hole holes 13 as shown in FIG. Subsequently, when the conventional through hole 10 is provided, it becomes as shown in FIG.

【0005】以下、従来の無電解銅めっき、電解銅めっ
きを施し、めっきスルーホール11を形成すると図14
のようになり、エッチングレジスト12を形成した(図
15)後、続いてエッチングすると図16のようにな
り、最終的にはエッチングレジストの膜はぎを行い、図
17のようになり、ブラインドバイアホールを有する多
層プリント配線板が得られる。
When conventional electroless copper plating and electrolytic copper plating are carried out to form the plated through holes 11, as shown in FIG.
After the etching resist 12 is formed (FIG. 15) and the subsequent etching is performed, the result is as shown in FIG. 16. Finally, the etching resist film is stripped, and as shown in FIG. 17, the blind via hole is formed. A multilayer printed wiring board having is obtained.

【0006】このようにドリルでブラインドバイアホー
ルを形成するには、通常のスルーホールのようにパネル
を複数枚重ねて明けることもできず、また0.1〜0.
5mm程度の小径を明けるドリルは芯ぶれが大きいので
一穴づつ明ける必要があり、穴加工に非常に時間を要
し、生産効率が悪いという欠点があった。また、ドリル
穴加工においてはドリル先端の深さを制御するために、
ドリル穿孔方向、一般的にはZ軸方向の移動距離と内層
用パネル表面の銅配線パターンの深さを合致させる必要
がある。しかしながら前述のとおり小径ドリルは芯ぶれ
が大きく、また銅配線パターンのZ軸方向の位置のばら
つきなどがあり、精度よくコントロールすることは難し
く、ドリル加工が浅いと下部の銅配線パターンまで達せ
ず、後工程のめっきで接続されずにブラインドバイアホ
ール不良の原因となり、逆にドリル加工が深すぎると更
にその下の銅配線パターンと接触し、ショート不良とな
っていた。
In order to form a blind via hole with a drill as described above, it is not possible to open a panel by laminating a plurality of panels like an ordinary through hole.
Since a drill with a small diameter of about 5 mm has a large runout, it is necessary to open each hole one by one, and it takes a very long time for drilling, and there is a drawback that the production efficiency is poor. In addition, in order to control the depth of the drill tip during drilling,
It is necessary to match the movement distance in the drilling direction, generally the Z-axis direction, with the depth of the copper wiring pattern on the inner layer panel surface. However, as mentioned above, small-diameter drills have large run-out, and there are variations in the position of the copper wiring pattern in the Z-axis direction, so it is difficult to control accurately, and if the drilling is shallow, it will not reach the lower copper wiring pattern, If the drilling process is too deep, the copper wiring pattern will come into contact with the underlying copper wiring pattern, resulting in a short circuit defect.

【0007】また、従来の多層プリント回路板の製造法
では、一般的には上述のように熱プレスあるいは真空熱
プレス等を使用するため、熱プレスの準備として内層板
パネル、プリプレグ、銅はく、離型フィルム、鏡面プレ
ス板等をレイアップし、それを熱プレスあるいは真空熱
プレスで熱圧着し、その後取り出して解体する作業等が
必要である。この製造は、バッチ作業となり、レイアッ
プ、加熱時の温度上昇、加熱圧着、冷却、解体等と工数
が大きく煩雑である。自動化すると生産性は上がるが、
このための装置は高額となり、更に大量に熱圧着出来る
大型の熱プレス装置を必要とするという問題があった。
Further, in the conventional method for manufacturing a multilayer printed circuit board, a hot press, a vacuum hot press or the like is generally used as described above, and therefore an inner layer board panel, a prepreg and a copper foil are prepared in preparation for the hot press. It is necessary to lay up a release film, a mirror press plate, etc., thermocompress them with a heat press or a vacuum heat press, and then take them out and dismantle them. This production is a batch operation and requires a large number of man-hours such as lay-up, temperature rise during heating, thermocompression bonding, cooling and disassembly. Productivity increases with automation, but
The apparatus for this purpose is expensive, and there is a problem that a large-sized heat press apparatus capable of thermocompression bonding in large quantities is required.

【0008】本発明者は既に上記従来法の欠点をなく
し、物理特性および電気特性に優れ、品質が安定したブ
ラインドバイアホールを有する多層プリント配線板を優
れた量産性で製造することが可能な銅張絶縁シートおよ
びこれに用いる樹脂組成物を提供している(特願平4−
237733号および特願平4−88395号)。この
発明は加熱時の流動性が小さい第1の樹脂組成物の層を
銅はくの粗面化面に形成し、さらにその上に加熱時の流
動性が大きい第2の樹脂組成物の層を形成したプリント
配線板用銅張絶縁シート、これに用いる樹脂組成物、お
よび該銅張絶縁シートを用いた多層プリント回路板の製
造方法に関するものであり、樹脂組成物としては、ノボ
ラック型エポキシアクリレート等のカルボキシル基を有
するノボラック型エポキシ樹脂が好ましいとするもので
ある。
The present inventor has already eliminated the above-mentioned drawbacks of the conventional method, and is capable of producing a multilayer printed wiring board having a blind via hole with excellent physical properties and electrical properties and stable quality with excellent mass productivity. The present invention provides a tension insulating sheet and a resin composition used therefor (Japanese Patent Application No. 4-
237733 and Japanese Patent Application No. 4-88395). According to the present invention, a layer of a first resin composition having a low fluidity when heated is formed on a roughened surface of a copper foil, and a layer of a second resin composition having a high fluidity when heated is further formed thereon. The present invention relates to a copper-clad insulating sheet for a printed wiring board having a resin composition, a resin composition used for the same, and a method for producing a multilayer printed circuit board using the copper-clad insulating sheet, wherein the resin composition is a novolac type epoxy acrylate. Novolak type epoxy resins having a carboxyl group such as are preferable.

【0009】上記の銅張絶縁シートを、予め導体回路パ
ターンを形成した内層用パネルの片面または両面に熱ロ
ールでラミネートし、表面銅はく上にエッチングレジス
トを形成して選択エッチングして内層用パネルの特定の
導体回路パターン上に対応するように微細穴を形成し、
エッチング除去した微細穴の下層の樹脂組成物の層をア
ルカリ水溶液で除去し、樹脂層を硬化させた後、導電物
質で内層用パネル上の導体パターンと表面銅はくとを電
気的に導通させ、その後表面銅はくを選択エッチングし
て所定のパターンを形成することによってブラインドバ
イアホールを有する多層プリント配線板が製造できるも
のである。
The above copper clad insulating sheet is laminated on one side or both sides of an inner layer panel on which a conductor circuit pattern is formed in advance with a heat roll, an etching resist is formed on the surface copper foil, and selective etching is performed for the inner layer. Form fine holes to correspond to the specific conductor circuit pattern of the panel,
After removing the resin composition layer of the lower layer of the micro holes removed by etching with an alkaline aqueous solution and curing the resin layer, electrically conductive the conductive pattern on the inner layer panel and the surface copper foil with a conductive substance. Then, by selectively etching the surface copper foil to form a predetermined pattern, a multilayer printed wiring board having a blind via hole can be manufactured.

【0010】この銅張絶縁シートの第2の樹脂組成物は
加熱加圧時の樹脂流れが大きいために、ラミネート工程
で導体パターンを有する内層用パネルの導体回路パター
ンと導体回路パターンの間や内層用パネルの表面へ樹脂
が浸透して空隙を皆無にすることができ、一方第1の樹
脂組成物は加熱加圧時の樹脂流れが小さいため導体回路
パターン面と表面銅はく間の絶縁を確保することができ
るものである。
The second resin composition of this copper-clad insulating sheet has a large resin flow during heating and pressurization, and therefore, between the conductor circuit patterns of the inner layer panel having the conductor pattern in the laminating step and between the conductor circuit patterns and the inner layer. The resin can permeate the surface of the panel to eliminate voids. On the other hand, since the first resin composition has a small resin flow at the time of heating and pressurizing, insulation between the conductor circuit pattern surface and the surface copper foil can be obtained. It can be secured.

【0011】しかしながら、前記ノボラック型エポキシ
樹脂を用いると、塗布した際の厚さが均一にならない、
銅張絶縁シートから得られた絶縁層を挟んだ両導体回路
間の層間絶縁抵抗や耐熱性が悪いという欠点があった。
However, when the novolac type epoxy resin is used, the thickness when applied is not uniform,
There is a defect that the interlayer insulation resistance and heat resistance between both conductor circuits sandwiching the insulating layer obtained from the copper clad insulating sheet are poor.

【0012】これを解決する方法として、ノボラック型
エポキシ樹脂ではなく、アクリル樹脂および/またはメ
タクリル樹脂(以下「(メタ)アクリル樹脂」と称す
る。)を用いることにより、上記欠点が解決されること
を見出し、(メタ)アクリル樹脂および架橋剤を主成分
とする加熱時の流動性が小さい第1層の樹脂組成物を銅
はくの粗面化面に形成し、更にその上に(メタ)アクリ
ル樹脂および架橋剤を主成分とする加熱時の流動性が大
きい第2層の樹脂組成物を形成したプリント配線板用銅
張絶縁シートを発明するに至った。
As a method for solving this, it is possible to solve the above-mentioned drawbacks by using an acrylic resin and / or a methacrylic resin (hereinafter referred to as "(meth) acrylic resin") instead of a novolac type epoxy resin. The finding is that a resin composition of a first layer containing a (meth) acrylic resin and a cross-linking agent as a main component and having low fluidity during heating is formed on a roughened surface of a copper foil, and a (meth) acrylic resin is further formed on the roughened surface. The inventors have invented a copper-clad insulating sheet for a printed wiring board, which has a second layer resin composition containing a resin and a cross-linking agent as main components and having high fluidity when heated.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな(メタ)アクリル樹脂を主成分とする樹脂組成物を
用いると、次のような問題が発生することが分かった。
However, it has been found that the following problems occur when a resin composition containing such a (meth) acrylic resin as a main component is used.

【0014】その一つは、第1の樹脂組成物と第2の樹
脂組成物の特性、特にラミネートの際の温度条件が経時
的に変化することである。即ち上記銅張絶縁シートは内
層用パネルにラミネートするまで長時間保存する場合が
あるが、保存後に第2の樹脂組成物の層の流動性が十分
に出なくなり、ラミネート温度を高くする必要が生じ、
毎回温度調整を行わなければならないことから、生産性
が著しく低下することである。
One of them is that the characteristics of the first resin composition and the second resin composition, especially the temperature conditions during lamination, change with time. That is, the copper-clad insulating sheet may be stored for a long time before being laminated on the inner layer panel, but after storage, the fluidity of the layer of the second resin composition is not sufficiently exerted, and it is necessary to raise the laminating temperature. ,
Since the temperature must be adjusted every time, the productivity is significantly reduced.

【0015】例えば、(メタ)アクリル樹脂65重量部
および架橋剤35重量部からなる樹脂組成物を第1の樹
脂組成物とし、(メタ)アクリル樹脂30重量部および
架橋剤70重量部からなる樹脂組成物を第2の樹脂組成
物とした銅張絶縁シートは、作成直後の最適ラミネート
温度は80℃であったが、1月間室温で放置したところ
最適ラミネート温度は90℃になった(後記の比較例
2)。
For example, a resin composition comprising 65 parts by weight of a (meth) acrylic resin and 35 parts by weight of a crosslinking agent is used as a first resin composition, and a resin comprising 30 parts by weight of a (meth) acrylic resin and 70 parts by weight of a crosslinking agent. The copper-clad insulating sheet using the composition as the second resin composition had an optimum laminating temperature of 80 ° C. immediately after preparation, but when left at room temperature for one month, the optimum laminating temperature became 90 ° C. (see below). Comparative example 2).

【0016】もう一つの問題は、上記銅張絶縁シートを
使用して完成させた多層プリント回路板は、機械的衝
撃、温度衝撃等に脆くなり、シャーリング、ギロチンカ
ッター等で切断するとひび割れが起こり易く、中には切
断端部付近の導体回路パターンまでひび割れが伸長し
て、導体回路パターンの断線を生じることもあった。ま
た冷熱温度サイクル試験、煮沸試験、オイルディップに
よる熱衝撃試験等でもひび割れが発生するという問題が
あった。
Another problem is that the multilayer printed circuit board completed by using the above-mentioned copper clad insulating sheet becomes fragile due to mechanical shock, temperature shock, etc., and is easily cracked when cut with a shirring or guillotine cutter. In some cases, the crack extended to the conductor circuit pattern near the cut end, and the conductor circuit pattern was broken. Further, there is a problem that cracks are generated in a cold heat temperature cycle test, a boiling test, a thermal shock test with an oil dip, and the like.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、樹脂組成
物の特性の経時的変化という課題を解決すべく、樹脂組
成物中の架橋剤の挙動について研究を行ったところ、前
記銅張絶縁シートの樹脂組成物は(メタ)アクリル樹脂
と架橋剤を主成分とするものであるが、第2の樹脂組成
物は加熱時の流動性を高めるために、架橋剤を第1の樹
脂組成物より多くしており、樹脂組成物を硬化させる前
に長時間放置すると、架橋剤が濃度が高い層から低い層
に移行をするいう事実を見出し、それを防止する方法を
鋭意検討した結果、本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems The present inventors have studied the behavior of a cross-linking agent in a resin composition in order to solve the problem that the characteristics of the resin composition change with time. The resin composition of the insulating sheet contains a (meth) acrylic resin and a cross-linking agent as main components, but the second resin composition contains the cross-linking agent in order to increase fluidity during heating. It is more than the number of products, and when left for a long time before curing the resin composition, the fact that the cross-linking agent shifts from a high concentration layer to a low layer is found, and as a result of diligent study of a method for preventing it, The present invention has been completed.

【0018】またひび割れの発生のメカニズムについて
同様に研究を行ったところ、ノボラック型エポキシ樹脂
に比べ、硬化後の(メタ)アクリル樹脂の硬度が大き
く、通常の架橋剤を配合したのみでは、架橋密度が大き
くなりすぎるため発生するという事実を見出し、これを
防止する方法を鋭意検討した結果、本発明を完成するに
至った。
Further, the same research was conducted on the mechanism of crack generation, and the hardness of the (meth) acrylic resin after curing was higher than that of the novolac type epoxy resin, and the crosslinking density could be increased only by adding an ordinary crosslinking agent. The present invention has been completed as a result of finding the fact that the above phenomenon occurs because it becomes too large and carefully studying a method for preventing it.

【0019】即ち、本発明は、アルカリ水溶液に可溶で
加熱時の流動性が小さい第1の樹脂組成物の層を、銅は
くの粗面化面に形成し、該層の上にアルカリ水溶液に可
溶で加熱時の流動性が大きい第2の樹脂組成物の層を形
成してなるプリント配線板用銅張絶縁シートに用いる樹
脂組成物であって、(メタ)アクリル樹脂と架橋剤を主
成分とし、かつ(第1の樹脂組成物における(メタ)ア
クリル樹脂と架橋剤の重量比)=(0.9〜1.1)×
(第2の樹脂組成物における(メタ)アクリル樹脂と架
橋剤の重量比)であることを特徴とする銅張絶縁シート
用樹脂組成物である。
That is, according to the present invention, a layer of the first resin composition which is soluble in an alkaline aqueous solution and has a low fluidity when heated is formed on the roughened surface of the copper foil, and the alkali is formed on the layer. A resin composition for use in a copper-clad insulation sheet for printed wiring boards, which comprises a layer of a second resin composition that is soluble in an aqueous solution and has a high fluidity when heated, the (meth) acrylic resin and a cross-linking agent. And ((weight ratio of (meth) acrylic resin and crosslinking agent in the first resin composition) = (0.9 to 1.1) ×)
(Weight ratio of (meth) acrylic resin and cross-linking agent in the second resin composition) is a resin composition for a copper-clad insulating sheet.

【0020】第1の樹脂組成物中の架橋剤の濃度と、第
2の樹脂組成物中の架橋剤の濃度に大きな差があると、
架橋剤は濃度の大きい方から小さい方へ経時的に移行を
起こすため、樹脂組成物の特性、特にラミネート時の加
熱加圧条件を経時的に変化させる。このため、第1およ
び第2の樹脂組成物中の架橋剤の濃度はほぼ同じである
こと、即ち第1の樹脂組成物の(メタ)アクリル樹脂と
架橋剤の重量比に対して、第2の樹脂組成物中の(メ
タ)アクリル樹脂と架橋剤の重量比が10%を超えて異
ならないことが必要である。
When there is a large difference between the concentration of the crosslinking agent in the first resin composition and the concentration of the crosslinking agent in the second resin composition,
Since the cross-linking agent migrates over time from the one with the higher concentration to the one with the lower concentration, the characteristics of the resin composition, particularly the heating and pressurizing conditions during lamination are changed with time. Therefore, the concentrations of the cross-linking agent in the first and second resin compositions are almost the same, that is, the concentration of the cross-linking agent in the first resin composition is the same as that in the second resin composition. It is necessary that the weight ratio of the (meth) acrylic resin and the cross-linking agent in the resin composition of above does not differ by more than 10%.

【0021】10%を超えて異なる場合は、室温で3ヵ
月間も放置すると、架橋剤が濃度の高い方から低い方へ
移行し、銅張絶縁シートのラミネート温度条件を変更す
る必要を生じさせる。また架橋剤の一部は銅張絶縁シー
トの樹脂側表面に分離して浮き上がり、樹脂組成物の層
のタック性を阻害すると共に内層用パネルとの密着性を
阻害する。
When the difference is more than 10%, if the cross-linking agent is left at room temperature for 3 months, the cross-linking agent shifts from the higher concentration to the lower concentration, which makes it necessary to change the laminating temperature condition of the copper-clad insulating sheet. . Further, a part of the cross-linking agent separates and floats on the resin-side surface of the copper-clad insulating sheet, which hinders the tackiness of the layer of the resin composition and the adhesion to the inner layer panel.

【0022】架橋剤の配合量は、両樹脂組成物中の(メ
タ)アクリル樹脂に対する配合比だけでなく、両樹脂組
成物中の架橋剤の濃度そのものもほぼ合わせることが更
に好ましい。また(メタ)アクリル樹脂や架橋剤の種類
についても、同一または類似のものを使用する方が好ま
しい。
It is further preferable that the amount of the cross-linking agent to be blended is not only the blending ratio with respect to the (meth) acrylic resin in both resin compositions but also the concentration itself of the cross-linking agent in both resin compositions. Moreover, it is preferable to use the same or similar kinds of (meth) acrylic resins and crosslinking agents.

【0023】また別の本発明は、アルカリ水溶液に可溶
で加熱時の流動性が小さい第1の樹脂組成物の層を、銅
はくの粗面化面に形成し、該層の上にアルカリ水溶液に
可溶で加熱時の流動性が大きい第2の樹脂組成物の層を
形成してなるプリント配線板用銅張絶縁シートに用いる
樹脂組成物であって、アクリル樹脂および/またはメタ
クリル樹脂並びに架橋剤を主成分とし、かつ架橋剤とし
て、単官能性および/または2官能性のアクリル酸エス
テル類および/またはメタクリルエステル類(以下「単
官能性および/または2官能性(メタ)アクリル酸エス
テル類」と称する。)、並びに3官能以上の多官能性ア
クリル酸エステル類(以下単に「多官能性(メタ)アク
リル酸エステル類」と称する。)を併用することを特徴
とする銅張絶縁シート用樹脂組成物である。
According to another aspect of the present invention, a layer of the first resin composition which is soluble in an alkaline aqueous solution and has low fluidity when heated is formed on the roughened surface of the copper foil, and the layer is formed on the layer. A resin composition used for a copper-clad insulating sheet for a printed wiring board, which is formed by forming a layer of a second resin composition which is soluble in an alkaline aqueous solution and has high fluidity when heated, the acrylic resin and / or the methacrylic resin. In addition, a monofunctional and / or bifunctional acrylic acid ester and / or methacrylic ester (hereinafter, referred to as “monofunctional and / or difunctional (meth) acrylic acid” containing a cross-linking agent as a main component and as the cross-linking agent. Ester)) and trifunctional or higher-functional polyfunctional acrylic acid esters (hereinafter simply referred to as “multifunctional (meth) acrylic acid esters”). Shi A preparative resin composition.

【0024】ここで、加熱時の流動性が大きいとは、表
面に導体回路パターンを有する内層用パネルの表面に、
銅張絶縁シートの樹脂組成物側を重ね、プレスまたはラ
ミネートにより全体を積層する工程における加熱、即ち
概ね60〜120℃の範囲において樹脂組成物が溶融し
て内層用パネルの導体回路パターン内に容易に流れ出
し、パターンの凹部を埋めることができることを指す。
Here, the fact that the fluidity during heating is large means that the surface of the inner layer panel having the conductor circuit pattern on the surface is
The resin composition side of the copper-clad insulating sheet is overlaid, and the resin composition is melted in the step of laminating the whole by pressing or laminating, that is, in the range of approximately 60 to 120 ° C., and easily in the conductor circuit pattern of the inner layer panel. It means that it can flow out to fill the concave portion of the pattern.

【0025】本発明における銅張絶縁シートに使用する
第1の樹脂組成物および第2の樹脂組成物の加熱時の流
動性は(メタ)アクリル樹脂の分子量、架橋剤の種類、
架橋剤の量によって制御でき、即ち、(メタ)アクリル
樹脂の分子量が小さいほど、硬化前の流動性がより高い
架橋剤を使用するほど、架橋剤の量が多いほど、樹脂組
成物の加熱時の流動性は大きくなる。しかし前述のよう
に、銅張絶縁シート保存安定性の問題から、架橋剤の種
類や量を調整して硬化時の流動性を制御することは好ま
しくなく、(メタ)アクリル樹脂の分子量の違いによ
り、流動性を調整することが最も好ましい。
The fluidity of the first resin composition and the second resin composition used for the copper-clad insulating sheet in the present invention upon heating depends on the molecular weight of the (meth) acrylic resin, the type of the crosslinking agent,
It can be controlled by the amount of the crosslinking agent, that is, the smaller the molecular weight of the (meth) acrylic resin, the higher the fluidity before curing is used, the more the amount of the crosslinking agent is, the more the resin composition is heated. Liquidity will increase. However, as described above, it is not preferable to control the fluidity at the time of curing by adjusting the type and amount of the cross-linking agent, because of the problem of storage stability of the copper-clad insulating sheet, because of the difference in the molecular weight of the (meth) acrylic resin. Most preferably, the fluidity is adjusted.

【0026】本発明の銅張絶縁シートにおいて、第1お
よび第2の樹脂組成物の層は、好ましくはアルカリ水溶
液に可溶な(メタ)アクリル樹脂および架橋剤を主成分
とし、その種類および目的に応じて、副成分として、活
性エネルギー線硬化反応開始剤、活性エネルギー線硬化
反応促進剤および硬化剤から選ばれる必要な成分を配合
して得られる。更に必要であれば、上記樹脂組成物に着
色顔料、耐湿顔料、消泡剤、レベリング剤、チクソ性付
与剤、重合禁止剤、沈降防止剤等を適宜添加しても良
い。
In the copper-clad insulation sheet of the present invention, the layers of the first and second resin compositions are preferably composed mainly of a (meth) acrylic resin soluble in an alkaline aqueous solution and a cross-linking agent. According to the above, it can be obtained by blending, as an auxiliary component, necessary components selected from an active energy ray curing reaction initiator, an active energy ray curing reaction accelerator and a curing agent. Further, if necessary, a color pigment, a moisture resistant pigment, a defoaming agent, a leveling agent, a thixotropy imparting agent, a polymerization inhibitor, an anti-settling agent, etc. may be appropriately added to the above resin composition.

【0027】本発明で使用する樹脂組成物を構成するア
ルカリ水溶液に可溶な(メタ)アクリル樹脂としては、
カルボキシル基、フェノール性水酸基等のアルカリ溶解
性の基を含有する感光性のないアルカリ水溶液に可溶な
(メタ)アクリル樹脂またはカルボキシル基、フェノー
ル性水酸基等のアルカリ溶解性の基と、アクリロイル基
またはメタクリロイル基(以下「(メタ)アクリロイル
基」と称する。)等の光重合或いは光二量化する感光性
基とを含有する感光性のあるアルカリ水溶液に可溶な
(メタ)アクリル樹脂が使用できる。
Examples of the (meth) acrylic resin soluble in an aqueous alkaline solution which constitutes the resin composition used in the present invention include:
(Meth) acrylic resin soluble in a non-photosensitive alkaline aqueous solution containing an alkali-soluble group such as a carboxyl group or a phenolic hydroxyl group, or an alkali-soluble group such as a carboxyl group or a phenolic hydroxyl group, and an acryloyl group or A (meth) acrylic resin soluble in a photosensitive alkaline aqueous solution containing a photopolymerizable or photodimerizable photosensitive group such as a methacryloyl group (hereinafter referred to as “(meth) acryloyl group”) can be used.

【0028】感光性のないアルカリ水溶液に可溶な(メ
タ)アクリル樹脂はアクリル酸またはメタクリル酸(以
下「(メタ)アクリル酸」と称する。)と、(メタ)ア
クリル酸エステル、スチレンまたはアクリロニトリル等
のビニルモノマーを共重合することによって得られる。
The (meth) acrylic resin soluble in an aqueous alkaline solution having no photosensitivity includes acrylic acid or methacrylic acid (hereinafter referred to as "(meth) acrylic acid"), (meth) acrylic acid ester, styrene or acrylonitrile. It is obtained by copolymerizing the vinyl monomer of

【0029】本発明で使用する樹脂組成物を構成するア
ルカリ水溶液に可溶な(メタ)アクリル樹脂としては、
感光性を有する樹脂が望ましく、その感光性基の濃度が
0.1〜10.0meq/gの範囲が好ましく、更に好
ましくは0.3〜8.0meq/g、特に好ましくは
0.5〜5.0meq/gである。感光性基の濃度が小
さすぎると光硬化性が悪くなり、大きすぎると保存安定
性が悪くなる。
Examples of the (meth) acrylic resin soluble in an aqueous alkaline solution which constitutes the resin composition used in the present invention include:
A resin having photosensitivity is desirable, and the concentration of the photosensitive group is preferably in the range of 0.1 to 10.0 meq / g, more preferably 0.3 to 8.0 meq / g, particularly preferably 0.5 to 5 It is 0.0 meq / g. If the concentration of the photosensitive group is too low, the photocurability will be poor, and if it is too high, the storage stability will be poor.

【0030】感光性を有しアルカリ水溶液に可溶な(メ
タ)アクリル樹脂としては、(メタ)アクリル酸エステ
ル、スチレンまたはアクリロニトリル等のビニルモノマ
ーと、(メタ)アクリル酸との共重合体に、グリシジル
アクリレートまたはグリシジルメタクリレート(以下
「グリシジル(メタ)アクリレート」と称する。)等の
グリシジル基含有不飽和化合物を開環付加した物(以下
「開環付加物」と称する。)が好ましい。
Examples of the (meth) acrylic resin having photosensitivity and soluble in an alkaline aqueous solution include a copolymer of vinyl monomer such as (meth) acrylic acid ester, styrene or acrylonitrile, and (meth) acrylic acid. A product obtained by ring-opening addition of a glycidyl group-containing unsaturated compound such as glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate (hereinafter referred to as “glycidyl (meth) acrylate”) (hereinafter referred to as “ring-opened addition product”) is preferable.

【0031】この開環付加物は、溶剤(例えばジグライ
ムなどのエーテル類、エチルカルビトールアセテート、
エチルセロソルブアセテート、イソプロピルアセテート
等のエステル類、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン等のケトン類)に、上記の共重合体を溶解し、グリシ
ジル(メタ)アクリレートをそのまま或いは溶剤で希釈
して適下しながら反応させて得られる。
The ring-opening adduct is a solvent (for example, ethers such as diglyme, ethyl carbitol acetate,
Ethyl cellosolve acetate, esters such as isopropyl acetate, ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone), the above copolymer is dissolved, and glycidyl (meth) acrylate as it is or diluted with a solvent and reacted under appropriate conditions can get.

【0032】この際、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノ
メチルエーテル、フェノチアジン等のラジカル重合禁止
剤を10〜10,000ppm、好ましくは30〜5,
000ppm、特に好ましくは50〜2,000ppm
の範囲で添加し、反応温度をこのましくは室温〜170
℃、更に好ましくは40〜150℃、特に好ましくは6
0〜130℃の範囲で行うのが良い。また、触媒として
テトラブチルアンモニウムブロマイド、トリメチルベン
ジルアンモニウムクロライド等の四級アンモニウム塩、
トリエチルアミンなどの三級アミン等を添加しても良
い。
At this time, a radical polymerization inhibitor such as hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether or phenothiazine is added in an amount of 10 to 10,000 ppm, preferably 30 to 5 ppm.
000 ppm, particularly preferably 50 to 2,000 ppm
The reaction temperature is preferably room temperature to 170
° C, more preferably 40 to 150 ° C, particularly preferably 6
It is good to carry out in the range of 0 to 130 ° C. Further, as a catalyst, tetrabutylammonium bromide, a quaternary ammonium salt such as trimethylbenzylammonium chloride,
A tertiary amine such as triethylamine may be added.

【0033】共重合体中のカルボキシル基にグリシジル
(メタ)アクリレートのエポキシ基を開環付加させる際
に、カルボキシル基の一部を残して適切な酸価になるよ
うにすれば、得られる重合体はアルカリ可溶性となる。
酸価が小さくなりすぎてアルカリ溶解性が低下した場合
は、上記反応で生成した二級水酸基に酸無水物を開環付
加することにより酸価を上げることができる。
When the epoxy group of glycidyl (meth) acrylate is added to the carboxyl group in the copolymer by ring-opening addition, a suitable acid value is obtained by leaving a part of the carboxyl group to obtain a polymer. Becomes alkali-soluble.
When the acid value becomes too small and the alkali solubility decreases, the acid value can be increased by ring-opening addition of an acid anhydride to the secondary hydroxyl group produced in the above reaction.

【0034】本発明に使用する第1の樹脂組成物を構成
する(メタ)アクリル樹脂は、その分子量(ゲルパーミ
ュエーションクロマトグラフによるスチレン換算重量平
均分子量)が20,000〜200,000の範囲のも
のが好ましく、更に好ましくは40,000〜150,
000である。分子量が小さすぎると加熱時の流動性が
大きくなり過ぎ、大きくなりすぎるとアルカリ溶解性が
悪くなる。また、第2の樹脂組成物を構成する(メタ)
アクリル系樹脂としては分子量が1,000〜50,0
00のものが好ましく、更に好ましくは5,000〜3
0,000である。分子量が小さすぎると耐熱性、耐水
性等が悪くなり、大きくなりすぎると加熱時の流動性が
小さくなり過ぎる。
The (meth) acrylic resin constituting the first resin composition used in the present invention has a molecular weight (styrene-equivalent weight average molecular weight by gel permeation chromatography) in the range of 20,000 to 200,000. And more preferably 40,000 to 150,
It is 000. If the molecular weight is too small, the fluidity during heating will be too large, and if it is too large, the alkali solubility will be poor. Further, it constitutes the second resin composition (meta).
The acrylic resin has a molecular weight of 1,000 to 50,0.
00 is preferable, and more preferably 5,000 to 3
It is 10,000. If the molecular weight is too small, the heat resistance, water resistance, etc. will deteriorate, and if it is too large, the fluidity during heating will be too small.

【0035】本発明で使用する樹脂組成物を構成する
(メタ)アクリル樹脂は、その酸価が0.2〜10.0
meq/gの範囲が好ましく、更に好ましくは0.4〜
5.0meq/gで、特に好ましくは0.6〜3.0m
eq/gである。酸価が小さすぎるとアルカリ溶解性が
悪くなり、大きすぎると耐水性等が悪くなる。
The (meth) acrylic resin constituting the resin composition used in the present invention has an acid value of 0.2 to 10.0.
The range of meq / g is preferable, and more preferably 0.4 to
5.0 meq / g, particularly preferably 0.6 to 3.0 m
eq / g. If the acid value is too small, the alkali solubility will be poor, and if it is too large, the water resistance will be poor.

【0036】本発明で使用する樹脂組成物には、架橋剤
として光反応性化合物および/または熱硬化性樹脂が使
用できる。光反応性化合物としてはアクリル系、ポリエ
ーテル系、ポリエステル系、不飽和ポリエステル系、ウ
レタン系、エポキシ系、ポリエステル/ウレタン系、ポ
リアセタール系、ポリブタジエン系等が挙げられる。そ
の例としては、単官能性(メタ)アクリル酸エステル類
としては2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロ
キシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアク
リレート;2官能性(メタ)アクリル酸エステル類とし
てはウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレー
ト、1,3−ブタンジオールジアクリレート、1,4−
ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオ
ールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレ
ート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエ
チレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン
酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート;多
官能性(メタ)アクリル酸エステル類としてはトリメチ
ロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート、ジペンタエリストールヘキサアク
リレート等が挙げられ、これらはオリゴマー状態でも使
用できる。熱硬化性樹脂としてはウレタン樹脂、エポキ
シ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アルキ
ド樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、フッ素樹脂、シリコン樹
脂、酢酸ビニル樹脂およびポリビニルアルコール等が挙
げられる。
In the resin composition used in the present invention, a photoreactive compound and / or a thermosetting resin can be used as a crosslinking agent. Examples of the photoreactive compound include acrylic type, polyether type, polyester type, unsaturated polyester type, urethane type, epoxy type, polyester / urethane type, polyacetal type and polybutadiene type. Examples thereof include 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, and 2-hydroxypropyl acrylate as monofunctional (meth) acrylic acid esters; urethane acrylate and polyester as difunctional (meth) acrylic acid esters. Acrylate, 1,3-butanediol diacrylate, 1,4-
Butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, hydroxypivalate neopentyl glycol diacrylate; as polyfunctional (meth) acrylic acid esters Examples include trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, and these can be used in an oligomer state. Examples of the thermosetting resin include urethane resin, epoxy resin, polyester resin, polyether resin, alkyd resin, polyvinyl chloride resin, fluororesin, silicone resin, vinyl acetate resin and polyvinyl alcohol.

【0037】上記架橋剤のうち、補強用架橋剤として多
官能性(メタ)アクリル酸エステル類を使用すると、は
んだ耐熱性、層間絶縁耐圧特性が確保できることを本発
明者等は発見した。しかしながら、多官能性(メタ)ア
クリル酸エステル類のみ使用すると、架橋密度が大きく
なり過ぎるため、前記したようにひび割れが起こり易い
という問題があった。この問題を解決するために、架橋
剤を柔軟性がある単官能性および/または2官能性(メ
タ)アクリル酸エステル類にすることも検討したが、こ
れらはひび割れ防止対策にはなるが、反面はんだ耐熱性
が低下し、更に層間絶縁耐圧特性が著しく低下すること
となった。これに対し本発明は、架橋剤として、単官能
性および/または2官能性(メタ)アクリル酸エステル
類、並びに多官能性(メタ)アクリル酸エステル類を併
用するもので、各種特性を維持しつつ、ひび割れを防止
することができるものである。
The present inventors have found that when polyfunctional (meth) acrylic acid esters are used as a reinforcing cross-linking agent among the above-mentioned cross-linking agents, solder heat resistance and interlayer dielectric strength characteristics can be secured. However, when only polyfunctional (meth) acrylic acid esters are used, the crosslink density becomes too large, so that there is a problem that cracking easily occurs as described above. In order to solve this problem, the use of flexible monofunctional and / or difunctional (meth) acrylic acid esters as a crosslinking agent was also examined, but these are measures for preventing cracks, but on the other hand, The solder heat resistance was lowered, and the interlayer dielectric strength characteristics were also significantly lowered. On the other hand, in the present invention, monofunctional and / or difunctional (meth) acrylic acid esters and polyfunctional (meth) acrylic acid esters are used together as a cross-linking agent, and various properties are maintained. At the same time, it is possible to prevent cracking.

【0038】上記柔軟性がある単官能性および/または
2官能性(メタ)アクリル酸エステル類としては、ウレ
タンアクリレートが最も好ましいものである。またそれ
以外の架橋剤としては、ポリプロピレングリコールは樹
脂組成物の加熱後の流動性を高める作用を、ペンタエリ
スリトールトリアクリレートは樹脂組成物の硬化後の耐
熱性を高める作用を有している。
As the above-mentioned flexible monofunctional and / or bifunctional (meth) acrylic acid esters, urethane acrylate is most preferable. As other cross-linking agents, polypropylene glycol has an effect of increasing the fluidity of the resin composition after heating, and pentaerythritol triacrylate has an effect of increasing the heat resistance of the resin composition after curing.

【0039】架橋剤は1種または2種以上を、(メタ)
アクリル樹脂の固形分100重量部に対して、20〜1
20重量部添加することが望ましい。120重量部を超
えるとアルカリ水溶液による溶解性が悪くなり、樹脂残
留物が生じ易い。20重量部未満では樹脂組成物と外層
銅はく間の十分な密着強度が得られない。
The cross-linking agent may be one kind or two or more kinds (meta).
20 to 1 based on 100 parts by weight of the solid content of the acrylic resin
It is desirable to add 20 parts by weight. When it exceeds 120 parts by weight, the solubility in an alkaline aqueous solution is deteriorated, and a resin residue is likely to occur. If it is less than 20 parts by weight, sufficient adhesion strength between the resin composition and the outer layer copper foil cannot be obtained.

【0040】紫外線、電子線等活性エネルギー線硬化の
反応開始剤としては、ベンゾインエーテル系としてベン
ジル、ベンゾイン、ベンゾインアルキルエーテル、1−
ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン;ケタール系
としてベンジルジアルキルケタール;アセトフェノン系
として2,2’−ジアリコキシアセトフェノン、2−ヒ
ドロキシアセトフェノン、p−t−ブチルトリクロロア
セトフェノン、p−t−ブチルジクロロアセトフェノ
ン;ベンゾフェノン系としてベンゾフェノン、4−クロ
ルベンゾフェノン、4,4’−ジクロルベンゾフェノ
ン、4,4’−ビスジメチルアミノベンゾフェノン、o
−ベンゾイル安息香酸メチル、3,3’−ジメチル−4
−メトキシベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メ
チルジフェニルスルフィド、ジベンゾスベロン、ベンジ
メチルケタール;チオキサントン系としてチオキサント
ン、2−クロルチオキサントン、2−アルキルチオキサ
ントン、2,4−ジアルキルチオキサントン、2−アル
キルアントラキノン、2,2’−ジクロロ−4−フェノ
キシアセトン等が挙げられ、その配合量は(メタ)アク
リル樹脂固形分100重量部に対して0.5〜10重量
部が好ましい。0.5重量部未満では反応が十分開始さ
れなく、10重量部を超えると樹脂層が脆くなる。電子
線照射で使用する場合は反応開始剤を省いてもよい。
As the reaction initiator for curing active energy rays such as ultraviolet rays and electron rays, benzoin ether type benzyl, benzoin, benzoin alkyl ether, 1-
Hydroxycyclohexyl phenyl ketone; benzyl dialkyl ketal as a ketal system; 2,2′-dialicoxyacetophenone, 2-hydroxyacetophenone, pt-butyltrichloroacetophenone, pt-butyldichloroacetophenone as an acetophenone system; benzophenone as a benzophenone system , 4-chlorobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone, 4,4'-bisdimethylaminobenzophenone, o
-Methyl benzoylbenzoate, 3,3'-dimethyl-4
-Methoxybenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, dibenzosuberone, benzyl dimethyl ketal; thioxanthone-based thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-alkylthioxanthone, 2,4-dialkylthioxanthone, 2-alkylanthraquinone, 2,2′-dichloro-4-phenoxyacetone and the like can be mentioned, and the compounding amount thereof is preferably 0.5 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the (meth) acrylic resin solid content. If it is less than 0.5 part by weight, the reaction is not sufficiently initiated, and if it exceeds 10 parts by weight, the resin layer becomes brittle. When used by electron beam irradiation, the reaction initiator may be omitted.

【0041】紫外線、電子線等活性エネルギー線硬化の
反応時の増感剤としては新日曹化工(株)製のニッソキ
ュアEPA、EMA、IAMA、EHMA、MABP、
EABP等、日本化薬(株)製のカヤキュアEPA、D
ETX、DMBI等、Ward Blenkinsop
社製のQuntacure EPD、BEA、EOB、
DMB等、大阪有機(株)製のDABA、大東化学
(株)製のPAA、DAA等が挙げられる。その配合量
は(メタ)アクリル樹脂固形分100重量部に対して
0.5〜10重量部が好ましい。0.5重量部未満では
活性エネルギー線硬化の反応速度は向上せず、10重量
部を超えると反応が速くなり、シェルフライフを低下さ
せる。電子線照射で使用する場合は反応増感剤を省いて
もよい。
As the sensitizer at the time of curing the active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams, Nisso Cure EPA, EMA, IAMA, EHMA, MABP manufactured by Shin Nisso Kako Co., Ltd.
Kayakyu EPA, D manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. such as EABP
Ward Blenkinsop, ETX, DMBI, etc.
Quantacure EPD, BEA, EOB,
Examples thereof include DMB and the like, DABA manufactured by Osaka Organic Co., Ltd., and PAA and DAA manufactured by Daito Chemical Co., Ltd. The blending amount thereof is preferably 0.5 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the (meth) acrylic resin solid content. If it is less than 0.5 part by weight, the reaction rate of active energy ray curing is not improved, and if it exceeds 10 parts by weight, the reaction becomes faster and shelf life is shortened. When used by electron beam irradiation, the reaction sensitizer may be omitted.

【0042】硬化剤としてはパーオキサイド系が使用可
能であるが、中でも保存安定性の面からジブチルパーオ
キサイド、ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパー
オキサイド等のアルキルパーオキサイドまたはアリール
パーオキサイドが好ましい。その量は(メタ)アクリル
樹脂固形分100重量部に対して1〜10重量部が好ま
しい。1重量部未満では硬化時間が長くなり、10重量
部を超えるとシェルフライフが短くなり作業性が悪くな
る紫外線照射、電子線照射等を行う場合には必ずしも硬
化剤を必要としないが、銅はくの接着安定性、はんだ耐
熱性等密着性を高めるためには硬化剤を添加した方が好
ましい。
As the curing agent, peroxides can be used, but among them, alkyl peroxides such as dibutyl peroxide, butyl cumyl peroxide, dicumyl peroxide or aryl peroxides are preferable from the viewpoint of storage stability. The amount is preferably 1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the (meth) acrylic resin solid content. If it is less than 1 part by weight, the curing time will be long, and if it exceeds 10 parts by weight, the shelf life will be shortened and workability will be poor. A curing agent is not necessarily required when performing ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, etc. It is preferable to add a curing agent in order to enhance adhesion stability such as adhesion stability and solder heat resistance.

【0043】本発明における銅張絶縁シートを使用して
バイアホールを有する多層プリント配線板を製造する方
法では、内層用パネルに銅張絶縁シートをラミネートし
た場合、内層用パネルの導体回路パターン面と表面銅は
くの間の厚さは、20〜70μmが好ましい。20μm
未満では層間の絶縁抵抗および耐電圧が確保できず、7
0μmを超えると小径穴でのバイアホール形成時のアル
カリ溶解によりアンダーカットが大きくなり、十分な層
間の接続信頼性が得られない。
In the method for producing a multilayer printed wiring board having via holes using the copper clad insulating sheet according to the present invention, when the copper clad insulating sheet is laminated on the inner layer panel, the inner layer panel and the conductor circuit pattern surface are The thickness between the surface copper foils is preferably 20 to 70 μm. 20 μm
If it is less than 7, insulation resistance and withstand voltage between layers cannot be secured, and
If it exceeds 0 μm, the undercut becomes large due to alkali dissolution at the time of forming a via hole in a small diameter hole, and sufficient connection reliability between layers cannot be obtained.

【0044】本発明における銅張絶縁シートは、銅はく
に塗布する第1樹脂組成物の層の厚さは30〜60μ
m、第2層の樹脂組成物は20〜40μmとすることが
好ましい。
In the copper clad insulating sheet of the present invention, the thickness of the layer of the first resin composition applied to the copper foil is 30 to 60 μm.
m, and the resin composition of the second layer is preferably 20 to 40 μm.

【0045】本発明の銅張絶縁シートを内層用パネルに
ラミネートする方法としては、熱ロールを用いと連続的
にラミネートできるので好ましい。熱ロール時の圧力
は、エアー圧で1〜5kg/cm2 とすることが好まし
い。
The method for laminating the copper clad insulating sheet of the present invention on the inner layer panel is preferable because it can be continuously laminated by using a heat roll. The pressure during the heat roll is preferably 1 to 5 kg / cm 2 in terms of air pressure.

【0046】本発明の銅張絶縁シートを使用するブライ
ンドバイアホールを有する多層プリント配線板の製造方
法において、樹脂層の硬化は主として加熱によって行う
が、電子線のような活性エネルギー線によっても可能で
ある。加熱の場合その温度は80〜180℃の範囲が好
ましく、より好ましくは150〜170℃である。熱硬
化で180℃を超えると内層用パネルを構成する絶縁樹
脂が劣化を起こし、80℃未満では硬化に時間がかかる
と共に、架橋が不充分で絶縁抵抗が充分に出ない恐れが
ある。
In the method for producing a multilayer printed wiring board having a blind via hole using the copper clad insulating sheet of the present invention, the curing of the resin layer is mainly carried out by heating, but it can also be carried out by an active energy ray such as an electron beam. is there. In the case of heating, the temperature is preferably in the range of 80 to 180 ° C, more preferably 150 to 170 ° C. If the temperature exceeds 180 ° C. by thermosetting, the insulating resin forming the inner layer panel deteriorates, and if the temperature is less than 80 ° C., it takes a long time to cure, and the crosslinking may be insufficient, resulting in insufficient insulation resistance.

【0047】加熱時にバイアホール周囲の樹脂組成物が
流れ出し、流れの多い部分は樹脂が下の内層パネルの導
体回路パターンの表面を覆うことになり、バイアホール
にめっきしても導通が得られない不良が発生する。この
ため、樹脂組成物が加熱により流れ始めた状態で紫外線
照射または電子線照射を行い、銅はくに空けたバイアホ
ールから下、またはバイアホールに面する部分の樹脂組
成物に活性エネルギー線を当て、樹脂組成物の硬化を進
行させることにより、樹脂流れの堰を形成させ、必要以
上に樹脂組成物が流れることを防止することができる。
電子線照射の場合には180〜300kVで10〜30
Mradの条件がよく、バイアホール周辺の樹脂組成物
の層の硬化だけでなく銅はくを電子線が透過することに
より18〜35μm厚の銅はくの下の樹脂組成物の層も
硬化させることができる。
The resin composition around the via hole flows out at the time of heating, and the resin in the portion with a large amount of flow covers the surface of the conductor circuit pattern of the lower inner layer panel, so that conduction cannot be obtained even if the via hole is plated. Defects occur. Therefore, ultraviolet irradiation or electron beam irradiation is performed in a state where the resin composition starts to flow by heating, and an active energy ray is applied to the resin composition below the via hole opened in the copper foil or in the portion facing the via hole. By advancing the curing of the resin composition, it is possible to form a weir for the resin flow and prevent the resin composition from flowing more than necessary.
In the case of electron beam irradiation, 10 to 30 at 180 to 300 kV
The condition of Mrad is good, and not only the layer of the resin composition around the via hole is cured but also the layer of the resin composition under the 18-35 μm thick copper foil is cured by the electron beam penetrating the copper foil. be able to.

【0048】本発明の銅張絶縁シートを使用するバイア
ホールを有する多層プリント配線板の製造方法で用いる
銅張絶縁シートを内層用パネルにラミネートする際に、
樹脂組成物と内層される導体回路パターンとの接着力を
確保するために、該回路パターン表面を粗面化処理、ブ
ラックオキサイド処理、ブラウンオキサイド処理、レッ
ドオキサイド処理等を施しておくと好ましい。
When laminating the copper clad insulating sheet used in the method for producing a multilayer printed wiring board having via holes using the copper clad insulating sheet of the present invention on an inner layer panel,
In order to secure the adhesive force between the resin composition and the conductor circuit pattern to be the inner layer, it is preferable to subject the surface of the circuit pattern to roughening treatment, black oxide treatment, brown oxide treatment, red oxide treatment and the like.

【0049】本発明の銅張絶縁シートを使用するバイア
ホールを有する多層プリント配線板の製造方法におい
て、バイアホールを形成するための樹脂組成物の層の溶
解は有機溶剤でもできるが、アルカリ水溶液を用いる方
がバイアホールの信頼性、および作業性等からもより好
ましい。なぜならば有機溶剤で樹脂組成物を溶解した場
合には、膨潤かつ溶解反応であり、溶解後の樹脂の境界
がスムーズでなく粗くなり、しかも境界近傍には有機溶
剤が残るという問題がある。そのため、樹脂組成物を溶
解して得られたバイアホールにめっきを施す場合に有機
溶剤の残留の影響や樹脂の境界が粗いため、無電解めっ
きが析出しにくくなりめっきのピンホールの発生、めっ
きができたバイアホールにおいても残留有機溶剤が蒸発
してボイド、気泡、ふくれ等の問題が発生し、これらが
層間の導電回路間のバイアホールによる電気的および機
械的接続を不安定にし接続信頼性が得られないからであ
る。
In the method for producing a multilayer printed wiring board having a via hole using the copper clad insulating sheet of the present invention, the layer of the resin composition for forming the via hole can be dissolved with an organic solvent, but an alkaline aqueous solution is used. It is more preferable to use it from the viewpoint of reliability of via holes and workability. This is because when the resin composition is dissolved in an organic solvent, the reaction is swelling and dissolution reaction, and the boundary of the resin after dissolution becomes rough instead of smooth, and there is a problem that the organic solvent remains near the boundary. Therefore, when the via hole obtained by dissolving the resin composition is plated, the influence of the residual organic solvent and the rough boundaries of the resin make it difficult to deposit the electroless plating, thus causing the occurrence of pinholes in the plating and the plating. The residual organic solvent evaporates even in the formed via holes, causing problems such as voids, bubbles, and blistering, which make the electrical and mechanical connections due to the via holes between the conductive circuits between layers unstable and the connection reliability Because I can't get it.

【0050】それに対してアルカリ水溶液で樹脂組成物
を溶解する場合はカルボキシル基が反応して溶解するか
ら溶解速度も速く、アルカリ水溶液と接する部分から樹
脂が順次溶解されるから樹脂の境界が明確になる。ま
た、アルカリ水溶液で樹脂溶解をした後、酸で洗浄して
やればアルカリ成分が残留することもなく、後の無電解
めっきの析出もよく、ボイド、気泡、ふくれ等の欠陥も
発生しないので信頼性の高いバイアホールが形成でき
る。
On the other hand, when the resin composition is dissolved in an alkaline aqueous solution, the carboxyl group reacts and dissolves, so that the dissolution rate is fast, and the resin is sequentially dissolved from the portion in contact with the alkaline aqueous solution, so that the boundary of the resin becomes clear. Become. In addition, if the resin is dissolved in an alkaline aqueous solution and then washed with an acid, the alkaline component does not remain, the deposition of the electroless plating afterwards is good, and defects such as voids, bubbles, and blisters do not occur, so that reliability is improved. High via holes can be formed.

【0051】また、有機溶剤のように作業環境を悪化さ
せることなく、従来のプリント配線板の製造工程の中で
バイアホールを有する多層プリント配線板が容易に製造
できる点でも更に好ましい。すなわち、銅はくのバイア
ホール形成に、アルカリ可溶型エッチングレジストを使
用すれば、銅はくエッチング後の膜はぎ工程で、レジス
トと同時に銅はくバイアホールの下部分の樹脂組成物の
層を溶解できる。またアルカリ現像型ドライフィルムを
レジストとした場合であれば、剥離用水酸化ナトリウム
水溶液で、レジスト除去と同時に銅はくバイアホールの
下部分の樹脂層の溶解除去が可能であり更に好ましい。
Further, it is more preferable in that a multilayer printed wiring board having a via hole can be easily manufactured in the conventional manufacturing process of a printed wiring board without deteriorating the working environment like an organic solvent. That is, if an alkali-soluble etching resist is used to form a via hole in a copper foil, a resin composition layer under the copper foil via hole is formed simultaneously with the resist in the film stripping step after copper foil etching. Can be dissolved. Further, when the alkali development type dry film is used as a resist, it is more preferable that the resin layer in the lower part of the copper foil via hole can be dissolved and removed at the same time as the removal of the resist with a sodium hydroxide aqueous solution for stripping.

【0052】なおカルボキシル基等のアルカリ溶解性の
基を有する樹脂組成物をアルカリ水溶液で溶解した場合
は、カルボキシル基と反応したアルカリ分が残存して、
銅の腐食や電気特性の低下を起こす恐れがあるので、溶
解後、稀硫酸等で酸洗浄を行うことが望ましい。内層用
パネルの銅配線パターンを黒化処理した場合、バイアホ
ールを酸で中和すると黒化処理の酸化被膜が溶解し、銅
の色が出ることになる。黒化処理被膜の表面に樹脂が残
っている場合は銅の色が見えないのでアルカリ溶解の良
否をこの中和処理で判定できる。
When a resin composition having an alkali-soluble group such as a carboxyl group is dissolved in an aqueous alkaline solution, the alkali component that has reacted with the carboxyl group remains,
Since there is a risk of corrosion of copper and deterioration of electrical characteristics, it is desirable to carry out acid cleaning with diluted sulfuric acid or the like after dissolution. When the copper wiring pattern of the inner layer panel is blackened, if the via holes are neutralized with an acid, the blackened oxide film is dissolved and copper color is produced. When the resin remains on the surface of the blackening treatment film, the color of copper cannot be seen, and therefore the quality of the alkali dissolution can be judged by this neutralization treatment.

【0053】本発明の銅張絶縁シートを使用するブライ
ンドバイアホールを有する多層プリント配線板の製造に
おいて、銅はくをエッチングして微細穴を設け、アルカ
リ水溶液でその微細穴の下の樹脂組成物を溶解させて露
出した内層用パネルの導体回路パターンと表面銅はくと
を電気的に接続する方法としては、無電解めっきまたは
/および電解めっき法、金、銀、銅、はんだ等の導電ペ
ーストをスクリーン印刷、ディスペンサー、ピン印刷等
で塗布し乾燥硬化する方法等が使用できる。
In the production of a multilayer printed wiring board having a blind via hole using the copper clad insulating sheet of the present invention, a copper foil is etched to form fine holes, and a resin composition under the fine holes is formed with an alkaline aqueous solution. As a method of electrically connecting the exposed conductor circuit pattern of the inner layer panel to the surface copper foil by electrolysis, electroless plating or / and electrolytic plating, and a conductive paste such as gold, silver, copper, or solder. Can be applied by screen printing, dispenser, pin printing and the like, followed by drying and curing.

【0054】本発明の銅張絶縁シートは多層プリント配
線板の製造を連続的行えるように、銅はくに第1の樹脂
組成物の層および第2の樹脂組成物の層を形成した銅張
絶縁シートを、離型フィルムまたは離型紙を介して、ロ
ール状に巻き取っておくと、そのロール状の銅張絶縁シ
ートを内層用パネルに熱ロールで連続的にラミネートす
ることができるので好ましい。
The copper-clad insulation sheet of the present invention is a copper-clad insulation sheet in which a layer of the first resin composition and a layer of the second resin composition are formed on the copper foil so that the multilayer printed wiring board can be continuously manufactured. It is preferable to wind the sheet in a roll shape via a release film or release paper because the rolled copper-clad insulating sheet can be continuously laminated on the inner layer panel with a hot roll.

【0055】また、本発明の銅張絶縁シートは銅はくの
マット面に第1および第2の樹脂組成物の層を形成し、
銅はくの反対面の銅はく上に予め感光性樹脂を塗布して
おくこともできる。該感光性樹脂は銅張絶縁シートを内
層用パネルにラミネートした後、ドライフィルムやエッ
チングレジストの代わりに使用でき、多層プリント配線
板の製造工程においてドライフィルムやエッチングレジ
ストの形成工程を省くことができる。経済性が向上する
だけではなく、この方法を用いると歩留りも向上するか
ら品質面でも優位になり得る。
The copper-clad insulating sheet of the present invention has the first and second resin composition layers formed on the mat surface of the copper foil,
It is also possible to apply a photosensitive resin in advance on the copper foil opposite to the copper foil. The photosensitive resin can be used in place of the dry film or the etching resist after laminating the copper clad insulating sheet on the inner layer panel, and the step of forming the dry film or the etching resist can be omitted in the manufacturing process of the multilayer printed wiring board. . Not only the economic efficiency is improved, but also the yield is improved by using this method, so that it can be superior in terms of quality.

【0056】[0056]

【実施例】実施例1〜7 (ベースレジンの合成)合成例1 n−ブチルメタクリレート40重量部、メチルメタクリ
レート15重量部、スチレン10重量部、ヒドロキシエ
チルメタクリレート10重量部、メタクリル酸25重量
部、アゾビスイソブチルニトリル1重量部からなる混合
物を、窒素ガス雰囲気下で80℃に保持したプロピレン
グリコールモノメチルエーテル120重量部中に5時間
かけて滴下した。その後、1時間熟成後、更にアゾビス
イソブチルニトリル0.5重量部を加えて2時間熟成す
ることによりカルボキシル基含有メタクリル樹脂を合成
した。次に空気を吹き込みながら、グリシジルメタクリ
レート20重量部、テトラブチルアンモニウムブロマイ
ド1.5重量部、更に重合禁止剤としてハイドロキノン
0.15重量部を加えて温度80℃で8時間反応させて
分子量50,000〜70,000、酸価1.2meq
/g、不飽和当量1.14モル/kgのカルボキシル基
を有するベースレジンを合成した。
EXAMPLES Examples 1 to 7 (Synthesis of Base Resin) Synthesis Example 1 40 parts by weight of n-butyl methacrylate, 15 parts by weight of methyl methacrylate, 10 parts by weight of styrene, 10 parts by weight of hydroxyethyl methacrylate, 25 parts by weight of methacrylic acid, A mixture consisting of 1 part by weight of azobisisobutylnitrile was added dropwise to 120 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether kept at 80 ° C. in a nitrogen gas atmosphere over 5 hours. Then, after aging for 1 hour, 0.5 parts by weight of azobisisobutylnitrile was further added and aging for 2 hours to synthesize a carboxyl group-containing methacrylic resin. Next, while blowing in air, 20 parts by weight of glycidyl methacrylate, 1.5 parts by weight of tetrabutylammonium bromide, and 0.15 parts by weight of hydroquinone as a polymerization inhibitor were added and reacted at a temperature of 80 ° C. for 8 hours to give a molecular weight of 50,000. ~ 70,000, acid value 1.2 meq
/ G, unsaturated equivalent 1.14 mol / kg of a base resin having a carboxyl group was synthesized.

【0057】合成例2 n−ブチルメタクリレート40重量部、メチルメタクリ
レート15重量部、スチレン10重量部、ヒドロキシエ
チルメタクリレート10重量部、メタクリル酸25重量
部、アゾビスイソブチルニトリル2重量部および連鎖移
動剤としてドデシルメルカプタン2重量部からなる混合
物を、窒素ガス雰囲気下で90℃に保持したプロピレン
グリコールモノメチルエーテル120重量部中に5時間
かけて滴下した。その後、1時間熟成後、更にアゾビス
イソブチルニトリル1重量部を加えて2時間熟成するこ
とによりカルボキシル基含有メタクリル樹脂を合成し
た。次に空気を吹き込みながら、グリシジルメタクリレ
ート20重量部、テトラブチルアンモニウムブロマイド
1.5重量部、更に重合禁止剤としてハイドロキノン
0.15重量部を加えて温度100℃で8時間反応させ
て分子量6,000〜8,000、酸価1.2meq/
g、不飽和当量1.14モル/kgのカルボキシル基を
有するベースレジンを合成した。
Synthesis Example 2 40 parts by weight of n-butyl methacrylate, 15 parts by weight of methyl methacrylate, 10 parts by weight of styrene, 10 parts by weight of hydroxyethyl methacrylate, 25 parts by weight of methacrylic acid, 2 parts by weight of azobisisobutylnitrile and a chain transfer agent. A mixture of 2 parts by weight of dodecyl mercaptan was added dropwise to 120 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether kept at 90 ° C. in a nitrogen gas atmosphere over 5 hours. Thereafter, after aging for 1 hour, 1 part by weight of azobisisobutylnitrile was further added and aging was performed for 2 hours to synthesize a carboxyl group-containing methacrylic resin. Next, while blowing in air, 20 parts by weight of glycidyl methacrylate, 1.5 parts by weight of tetrabutylammonium bromide, and 0.15 parts by weight of hydroquinone as a polymerization inhibitor were added and reacted at a temperature of 100 ° C. for 8 hours to give a molecular weight of 6,000. ~ 8,000, acid value 1.2 meq /
g, unsaturated equivalent 1.14 mol / kg of a base resin having a carboxyl group was synthesized.

【0058】(樹脂組成物の調製)上述のように作製し
た合成例1のベースレジンを用い、表1記載の種類と量
の架橋剤および硬化剤(日本油脂(株)製パークミル
D)をよく混合して第1の樹脂組成物を調製した。また
上述のように作製した合成例2のベースレジンを用い、
表1記載の種類と量の架橋剤および硬化剤(日本油脂
(株)製パークミルD)をよく混合して第1層の樹脂組
成物を調製した。これらを実施例1〜6および比較例1
とした。
(Preparation of Resin Composition) Using the base resin of Synthesis Example 1 prepared as described above, the type and amount of the crosslinking agent and the curing agent (Perky Mill D manufactured by NOF CORPORATION) shown in Table 1 were often used. The first resin composition was prepared by mixing. Also, using the base resin of Synthesis Example 2 produced as described above,
The type and amount of the crosslinking agent and the curing agent shown in Table 1 (Perky Mill D manufactured by NOF CORPORATION) were thoroughly mixed to prepare a resin composition for the first layer. These are Examples 1 to 6 and Comparative Example 1
And

【0059】(多層プリント配線板の作成)本発明の銅
張絶縁シートを使用するバイアホールを有する多層プリ
ント配線板の製造方法を図面に則して説明する。図1は
本発明の銅張絶縁シートの概略断面図であり、図2〜図
10は本発明の銅張絶縁シートを使用する多層プリント
配線板の製造過程および構成を説明するための概略断面
図である。
(Production of Multilayer Printed Wiring Board) A method for producing a multilayer printed wiring board having via holes using the copper clad insulating sheet of the present invention will be described with reference to the drawings. 1 is a schematic cross-sectional view of a copper-clad insulating sheet of the present invention, and FIGS. 2 to 10 are schematic cross-sectional views for explaining a manufacturing process and a structure of a multilayer printed wiring board using the copper-clad insulating sheet of the present invention. Is.

【0060】マット処理した35μmの銅はくのマット
面に上記第1層の樹脂組成物をコンマコータでコーティ
ングし、60℃、20分間乾燥させて70μmの樹脂層
を形成した。
The resin composition of the first layer was coated on the matte surface of the copper foil having a thickness of 35 μm, which had been subjected to the mat treatment, with a comma coater and dried at 60 ° C. for 20 minutes to form a resin layer having a thickness of 70 μm.

【0061】上記第1層の樹脂層の上に第2層の樹脂組
成物を同様に塗布乾燥して30μmの樹脂層を形成し、
図1に示すような銅張絶縁シートを作成した。得られた
各実施例の銅張絶縁シートを1ヵ月、40℃の高温槽中
に放置したが、変化は見られず、最適ラミネート温度も
当初の80℃から変化することはなかった。
The resin composition of the second layer is similarly applied and dried on the resin layer of the first layer to form a resin layer of 30 μm,
A copper clad insulating sheet as shown in FIG. 1 was created. The obtained copper-clad insulation sheet of each Example was left in a high temperature bath at 40 ° C. for one month, but no change was observed and the optimum laminating temperature did not change from the initial 80 ° C.

【0062】内層用パネルとしての35μm銅はく4を
有する板厚0.6mmガラスエポキシ両面銅張板に、選
択エッチングにより所定の位置に銅配線パターン6を形
成した内層用パネル7を用意し、その内層用パネル7の
銅配線パターン6表面を、亜塩素酸ナトリウム37g/
リットル、水酸化ナトリウム10g/リットル、りん酸
3ナトリウム12水和物20g/リットルからなる溶液
で、95℃5分間処理し、よく水洗した後乾燥させ、黒
化処理を行った。
An inner layer panel 7 was prepared by forming a copper wiring pattern 6 at a predetermined position on a 0.6 mm thick glass epoxy double-sided copper clad plate having a 35 μm copper foil 4 as an inner layer panel by selective etching. The surface of the copper wiring pattern 6 of the inner layer panel 7 is 37 g of sodium chlorite /
The solution was treated with a solution consisting of liter, 10 g / liter of sodium hydroxide and 20 g / liter of trisodium phosphate dodecahydrate at 95 ° C. for 5 minutes, thoroughly washed with water, dried and then blackened.

【0063】次に、内層用パネル7の両側に銅張絶縁シ
ート1を重ね(図1)、エアー圧3kg/cm2 で、1
50mmメタルロールによるラミネートを実施して内層
用パネルを内蔵する銅張積層板パネルを作成した。ここ
で、最適ラミネート温度は80℃であった。この工程で
第2の樹脂組成物の層3は流動性が大きいので銅配線パ
ターン6間に流れ込み、第1の樹脂組成物の層2は樹脂
流れが殆どないので下層の銅配線パターン6と接触する
ような図2に示す銅張積層板パネルが作成できた。
Next, the copper-clad insulating sheets 1 are laid on both sides of the inner layer panel 7 (FIG. 1), and the air pressure is set to 3 kg / cm 2 for 1
Lamination with a 50 mm metal roll was carried out to produce a copper clad laminate panel incorporating the inner layer panel. Here, the optimum laminating temperature was 80 ° C. In this step, the layer 3 of the second resin composition has a large fluidity and therefore flows into the space between the copper wiring patterns 6, and the layer 2 of the first resin composition has almost no resin flow and thus contacts the copper wiring pattern 6 of the lower layer. A copper clad laminate panel as shown in FIG. 2 was produced.

【0064】上記銅張積層パネルの銅はく4の表面の
0.3〜0.5mmφの銅はくバイアホール8を形成さ
せる箇所を除く部分に、スクリーン印刷法またはホト法
でアルカリ可溶型のエッチングレジストを形成し、塩化
第2銅溶液で銅はくのバイアホールの箇所の銅をエッチ
ングした(図3)。続いて40℃の1重量%の炭酸ナト
リウム溶液を1.5kg/cm2 のスプレー圧で、上記
銅はくのバイアホール8の箇所の下層の第1層の樹脂組
成物の層2を溶解除去して下層の銅配線パターン6を露
出させてブラインドバイアホール9を形成したのち、2
重量%の水酸化ナトリウム溶液でエッチングレジストの
除去を行った(図4)。
Alkali-soluble type by a screen printing method or a photo method on a portion of the surface of the copper foil 4 of the above copper clad laminate panel except a portion where the copper foil via hole 8 of 0.3 to 0.5 mmφ is formed. The etching resist of 1 was formed, and the copper in the via holes of the copper foil was etched with a cupric chloride solution (FIG. 3). Followed by 1 wt% sodium carbonate solution 40 ° C. at a spray pressure of 1.5 kg / cm 2, dissolve and remove the layer 2 of the first layer of the resin composition of the underlying portion of the via hole 8 of the copper foil Then, the copper wiring pattern 6 of the lower layer is exposed to form a blind via hole 9, and then 2
The etching resist was removed with a weight% sodium hydroxide solution (FIG. 4).

【0065】引き続き、水洗、10%硫酸水溶液で洗浄
した後、ブラインドバイアホールの樹脂が露出した部分
に電子線を照射させて、樹脂の表面を硬化させた。その
後100℃で30分予備加熱後、150℃で45分間エ
ージングし、第1の樹脂組成物の層2および第2の樹脂
組成物の層3を硬化させた後、図5に示すように内層用
パネルの銅配線パターン6と外層の銅はく4との接続を
必要とするスルーホール10をドリル加工し、図6に示
すようにブラインドバイアホールとスルーホールを同時
にめっきを施し、図7、図8、図9のようにエッチング
レジスト12を形成し、エッチング、膜はぎを行い、ブ
ラインドバイアホールを有する多層プリント配線板が得
られた。
Subsequently, after washing with water and a 10% sulfuric acid aqueous solution, the portion of the blind via hole where the resin was exposed was irradiated with an electron beam to cure the surface of the resin. Then, after preheating at 100 ° C. for 30 minutes and aging at 150 ° C. for 45 minutes to cure the layer 2 of the first resin composition and the layer 3 of the second resin composition, as shown in FIG. The through hole 10 that requires connection between the copper wiring pattern 6 of the panel for use and the copper foil 4 of the outer layer is drilled, and the blind via hole and the through hole are plated at the same time as shown in FIG. An etching resist 12 was formed as shown in FIGS. 8 and 9, and etching and film stripping were performed to obtain a multilayer printed wiring board having a blind via hole.

【0066】上記のように作成したプリント配線板のギ
ロチンカッターによる切断時のひび割れ発生評価、−6
5℃30分、125℃30分を1サイクルとする冷熱サ
イクル試験によるひび割れ発生評価、25mm角パター
ンで280℃3分間のはんだ耐熱試験評価、クラッシャ
ークッカーテスト(130℃、85%RH、100時
間、DC20Vバイアス)による層間絶縁耐圧評価を行
い結果を表1に示す。
Evaluation of crack generation at the time of cutting the printed wiring board prepared as described above with a guillotine cutter, -6
Cracking evaluation by a thermal cycling test with 5 ° C 30 minutes and 125 ° C 30 minutes as one cycle, solder heat resistance test evaluation at 280 ° C for 3 minutes with a 25 mm square pattern, crusher cooker test (130 ° C, 85% RH, 100 hours, Table 1 shows the results of the evaluation of the inter-layer withstand voltage by DC20V bias).

【0067】[0067]

【表1】 [Table 1]

【0068】表1に記載した各試験の評価の基準は次の
とおり。切断時および冷熱サイクルのひび割れは、○
(発生無し)、△(若干発生)、×(発生大)。はんだ
耐熱は、○(全て180秒以上OK)、△(30〜18
0秒)、×(30秒以下でふくれ発生)。層間絶縁耐圧
は、○(異常無し)、△(外観異常が少し有り)、×
(外観異常大、絶縁劣化2桁以上有り)。
The evaluation criteria for each test shown in Table 1 are as follows. Cracks during cutting and thermal cycling are
(No occurrence), △ (slightly occurred), × (large occurrence). Soldering heat resistance is ○ (all 180 seconds or more OK), △ (30-18
0 seconds), × (Blistering occurs within 30 seconds). Interlayer withstand voltage: ○ (no abnormality), △ (some abnormal appearance), ×
(Abnormal appearance, insulation deterioration of 2 digits or more).

【0069】表1から明らかなように、多官能性(メ
タ)アクリル酸エステル類としてペンタエリスリトール
トリアクリレート(東亞合成化学工業(株)製アロニッ
クスM−305)を配合した場合には、はんだ耐熱およ
び層間絶縁耐圧は良好であるが、ひび割れが発生し易
い。単官能の2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル
アクリレート(同 アロニックスM−5700)、2官
能性のテトラエチレングリコールジアクリレート(同
アロニックスM−240)、ポリエステルアクリレート
(同 アロニックスM−6400)単独ではひび割れは
減少するが、はんだ耐熱または層間絶縁耐圧が悪くなる
傾向がある。これらは3官能性架橋剤と組合せることに
より改良されるがまだ十分な結果は得られない。一方ウ
レタンアクリレート(同 アロニックスM−1600)
は単独でもひび割れ防止硬化が大きく、3官能架橋剤と
組み合わせると更に効果が大きかった。
As is clear from Table 1, when pentaerythritol triacrylate (Aronix M-305 manufactured by Toagosei Kagaku Kogyo Co., Ltd.) was blended as the polyfunctional (meth) acrylic acid ester, solder heat resistance and The interlayer dielectric strength is good, but cracks easily occur. Monofunctional 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate (the same Aronix M-5700), bifunctional tetraethylene glycol diacrylate (the same)
Aronix M-240) and polyester acrylate (Aronix M-6400) alone reduce cracking but tend to deteriorate soldering heat resistance or interlayer dielectric strength. These are improved by combining with a trifunctional cross-linking agent, but still unsatisfactory results are obtained. On the other hand, urethane acrylate (the same Aronix M-1600)
The above alone had a large crack-preventing cure, and when combined with a trifunctional crosslinking agent, the effect was even greater.

【0070】比較例1 例えば、合成例1のベースレジン65重量部、架橋剤
(アロニックスM−305)35重量部および硬化剤
(パークミルD)1.5重量部からなる樹脂組成物を第
1の樹脂組成物とし、合成例1のベースレジン30重量
部、アロニックスM−305 70重量部およびパーク
ミルD 1.5重量部からなる樹脂組成物を第2の樹脂
組成物とした銅張絶縁シートは、作成直後の最適ラミネ
ート温度は80℃であったが、1月間室温で放置したと
ころ最適ラミネート温度は90℃になった
Comparative Example 1 For example, a resin composition containing 65 parts by weight of the base resin of Synthesis Example 1, 35 parts by weight of a cross-linking agent (Aronix M-305) and 1.5 parts by weight of a curing agent (Perk Mill D) was used as a first composition. A copper-clad insulating sheet having a resin composition of 30 parts by weight of the base resin of Synthesis Example 1, 70 parts by weight of Aronix M-305 and 1.5 parts by weight of Perkmill D as the second resin composition is used as the resin composition. The optimum laminating temperature immediately after preparation was 80 ° C, but when left at room temperature for 1 month, the optimum laminating temperature became 90 ° C.

【0071】[0071]

【発明の効果】本発明の銅張絶縁シートによれば、物理
特性、電気特性、信頼性に優れたブラインドバイアホー
ルを有する多層プリント配線板が得られる。しかもブラ
インドバイアホールおよびスルーバイアホールを銅はく
のエッチングと、樹脂の溶解をアルカリ水溶液により容
易にかつ一括して形成することができるので、従来一穴
づつ空けていたドリル加工に比べると生産性が大幅に向
上するものである。また、内層用銅はくパターンの深さ
のばらつきがあっても関係なく、内層用銅はくパターン
まで樹脂層を溶解させることにより確実にブラインドホ
ール用穴を設けることができるので従来のブラインドバ
イアホール接続不良がなくなり、また内層用の他の層の
銅はくパターンと誤って接続されるショート不良は皆無
となる。更に内層用パネルと外側の銅はくとの間に使用
するプリプレグを減らすことができるので、プリント配
線板の厚さを薄くできることから高密度な多層プリント
配線板が得られるものである。従って、各種の電子機器
で高密度実装に使用されるブラインドバイアホールの必
要な多層プリント配線板の製造を可能とするため極めて
有用である。
According to the copper clad insulating sheet of the present invention, a multilayer printed wiring board having a blind via hole having excellent physical properties, electrical properties and reliability can be obtained. Moreover, since blind via holes and through via holes can be easily and collectively formed by etching copper foil and dissolving resin with an alkaline aqueous solution, productivity is improved compared to the conventional drilling process in which holes are drilled. Is greatly improved. Also, regardless of variations in the depth of the inner layer copper foil pattern, it is possible to reliably form the blind hole by dissolving the resin layer up to the inner layer copper foil pattern. There is no hole connection defect, and there is no short circuit defect that is erroneously connected to the copper foil pattern of the other layer for the inner layer. Further, since the prepreg used between the inner layer panel and the outer copper foil can be reduced, the thickness of the printed wiring board can be reduced, so that a high-density multilayer printed wiring board can be obtained. Therefore, it is extremely useful because it enables the manufacture of a multilayer printed wiring board which requires blind via holes used for high-density mounting in various electronic devices.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の銅張絶縁シートを使用するバイアホー
ルを有する多層プリント配線板の製造過程における、表
面に銅配線パターンを有する内層用パネルと銅張絶縁シ
ートを加熱圧着させる前の構成を示した概略断面図であ
る。
FIG. 1 shows a configuration before thermocompression bonding of an inner layer panel having a copper wiring pattern on its surface and a copper clad insulating sheet in the manufacturing process of a multilayer printed wiring board having a via hole using the copper clad insulating sheet of the present invention. It is the schematic sectional drawing shown.

【図2】同製造過程における、ラミネートした後の内層
板パネルの構成を示した概略断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a configuration of an inner layer board panel after being laminated in the manufacturing process.

【図3】同製造過程における、表面の銅はくにエッチン
グレジストを形成した後の上記内層板パネルを示した概
略断面図である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing the inner layer board panel after forming an etching resist on the copper foil on the surface in the same manufacturing process.

【図4】同製造過程における、表面の銅はくにエッチン
グによりブラインドバイアホールを形成した後の上記内
層板パネルを示した概略断面図である。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing the inner layer board panel after a blind via hole is formed in a copper foil on the surface by etching in the same manufacturing process.

【図5】同製造過程における、銅はくブラインドバイア
ホール下部の樹脂層を溶解させかつ貫通穴の樹脂を溶解
してアクセスホール状のスルーバイアホールを形成した
後の上記内層板パネルの概略断面図である。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of the inner layer board panel after the resin layer under the copper foil blind via hole is melted and the resin in the through hole is melted to form an access hole-shaped through via hole in the manufacturing process. It is a figure.

【図6】同製造過程における、導電ペースト形成後の概
略断面図である。
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view after forming a conductive paste in the manufacturing process.

【図7】同製造過程における、外層銅はくパターンをエ
ッチングするためのエッチングレジスト形成後の概略断
面図である。
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view after forming an etching resist for etching the outer layer copper foil pattern in the manufacturing process.

【図8】同製造過程における、外層の不要な銅はくをエ
ッチングし、エッチングレジストを除去した後の概略断
面図である。
FIG. 8 is a schematic cross-sectional view after the unnecessary copper foil of the outer layer is etched and the etching resist is removed in the same manufacturing process.

【図9】同製造過程における、ソルダレジストを形成し
た後の概略断面図である。
FIG. 9 is a schematic cross-sectional view after forming a solder resist in the same manufacturing process.

【図10】従来のブラインドバイアホールを有する多層
プリント配線板の製造過程における、表面に銅配線パタ
ーンを有する内層用パネルと銅はくをプリプレグを介し
て加熱圧着させる前の構成を示した概略断面図である。
FIG. 10 is a schematic cross-sectional view showing a structure before thermocompression bonding of an inner layer panel having a copper wiring pattern on its surface and a copper foil through a prepreg in a manufacturing process of a conventional multilayer printed wiring board having a blind via hole. It is a figure.

【図11】同製造過程における、加熱圧着した後の銅張
積層板パネルの構成を示した概略断面図である。
FIG. 11 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of a copper clad laminate panel after being subjected to thermocompression bonding in the same manufacturing process.

【図12】同製造過程における、ドリル加工によりブラ
インドバイアホール用穴を形成した後の上記銅張積層板
パネルを示した概略断面図である。
FIG. 12 is a schematic cross-sectional view showing the copper clad laminate panel after forming blind via hole holes by drilling in the same manufacturing process.

【図13】同製造過程における、ドリル加工によりスル
ーホールを形成した後の上記銅張積層板パネルを示した
概略断面図である。
FIG. 13 is a schematic cross-sectional view showing the copper clad laminate panel after forming through holes by drilling in the same manufacturing process.

【図14】同製造過程における、めっき処理後の概略断
面図である。
FIG. 14 is a schematic cross-sectional view after a plating process in the manufacturing process.

【図15】同製造過程における、エッチングレジストを
形成させた後の概略断面図である。
FIG. 15 is a schematic cross-sectional view after forming an etching resist in the manufacturing process.

【図16】同製造過程における、不要な銅はくのエッチ
ング除去を行った後の概略断面図である。
FIG. 16 is a schematic cross-sectional view after unnecessary copper foil is removed by etching in the manufacturing process.

【図17】同製造過程における、エッチングレジストを
除去した後の概略断面図である。
FIG. 17 is a schematic cross-sectional view after removing the etching resist in the same manufacturing process.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 銅張絶縁シート 2 第1層の樹脂 3 第2層の樹脂 4 銅はく 5 プリプレグ 6 導体回路パターン(銅配線パターン) 7 内層用パネル 8 銅はくバイアホール 9 ブラインドバイアホール 10 貫通穴 11 めっきスルーホール 12 エッチングレジスト 13 バイアホール用穴 1 Copper Clad Insulation Sheet 2 First Layer Resin 3 Second Layer Resin 4 Copper Foil 5 Prepreg 6 Conductor Circuit Pattern (Copper Wiring Pattern) 7 Inner Layer Panel 8 Copper Foil Via Hole 9 Blind Via Hole 10 Through Hole 11 Plating through hole 12 Etching resist 13 Via hole hole

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松本 健也 愛知県名古屋市港区船見町1番地の1 東 亞合成化学工業株式会社名古屋総合研究所 内 (72)発明者 神林 富夫 愛知県名古屋市港区船見町1番地の1 東 亞合成化学工業株式会社名古屋総合研究所 内 (72)発明者 加藤 仁 愛知県名古屋市港区船見町1番地の1 東 亞合成化学工業株式会社名古屋総合研究所 内 (72)発明者 服部 武尚 愛知県名古屋市港区船見町1番地の1 東 亞合成化学工業株式会社名古屋総合研究所 内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Kenya Matsumoto Kenya Matsumoto, Aichi Prefecture 1-chome, Funami-cho, Minato-ku, Tochi Gosei Chemical Industry Co., Ltd. Nagoya Research Institute (72) Inventor Tomio Kanbayashi Nagoya, Aichi Prefecture 1 Toago Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., Nagoya Research Institute, Minami-ku Funami-cho (72) Inventor Hitoshi Kato 1 Toa Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. Nagoya Research Institute, 1-Funami-cho, Minato-ku, Nagoya, Aichi Prefecture (72) Inventor Hattori Takehisa 1 Touna Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 アルカリ水溶液に可溶で加熱時の流動性
が小さい第1の樹脂組成物の層を、銅はくの粗面化面に
形成し、該層の上にアルカリ水溶液に可溶で加熱時の流
動性が大きい第2の樹脂組成物の層を形成してなるプリ
ント配線板用銅張絶縁シートに用いる樹脂組成物であっ
て、アクリル樹脂および/またはメタクリル樹脂並びに
架橋剤を主成分とし、かつ(第1の樹脂組成物における
アクリル樹脂および/またはメタクリル樹脂と架橋剤の
重量比)=(0.9〜1.1)×(第2の樹脂組成物に
おけるアクリル樹脂および/またはメタクリル樹脂と架
橋剤の重量比)であることを特徴とする銅張絶縁シート
用樹脂組成物。
1. A layer of a first resin composition, which is soluble in an alkaline aqueous solution and has low fluidity when heated, is formed on a roughened surface of a copper foil and is soluble in the alkaline aqueous solution on the layer. A resin composition for use in a copper-clad insulating sheet for a printed wiring board, which comprises a layer of a second resin composition having high fluidity when heated, and which mainly comprises an acrylic resin and / or a methacrylic resin and a crosslinking agent. And (the weight ratio of the acrylic resin and / or methacrylic resin in the first resin composition to the crosslinking agent) = (0.9 to 1.1) × (acrylic resin in the second resin composition and / or A weight ratio of methacrylic resin to a cross-linking agent), the resin composition for a copper-clad insulating sheet.
【請求項2】 アルカリ水溶液に可溶で加熱時の流動性
が小さい第1の樹脂組成物の層を、銅はくの粗面化面に
形成し、該層の上にアルカリ水溶液に可溶で加熱時の流
動性が大きい第2の樹脂組成物の層を形成してなるプリ
ント配線板用銅張絶縁シートに用いる樹脂組成物であっ
て、アクリル樹脂および/またはメタクリル樹脂並びに
架橋剤を主成分とし、かつ架橋剤として、単官能性およ
び/または2官能性のアクリル酸エステル類および/ま
たはメタクリルエステル類、並びに3官能以上の多官能
性のアクリル酸エステル類および/またはメタクリルエ
ステル類を併用することを特徴とする銅張絶縁シート用
樹脂組成物。
2. A layer of a first resin composition, which is soluble in an alkaline aqueous solution and has low fluidity when heated, is formed on a roughened surface of a copper foil, and is soluble in the alkaline aqueous solution on the layer. A resin composition for use in a copper-clad insulating sheet for a printed wiring board, which comprises a layer of a second resin composition having high fluidity when heated, and which mainly comprises an acrylic resin and / or a methacrylic resin and a crosslinking agent. As a component and as a cross-linking agent, monofunctional and / or difunctional acrylic acid esters and / or methacrylic esters, and trifunctional or higher polyfunctional acrylic acid esters and / or methacrylic esters are used in combination. A resin composition for a copper-clad insulating sheet, comprising:
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07233226A (en) * 1994-02-24 1995-09-05 Toagosei Co Ltd Flame-retardant resin composition for interlaminar insulating material
WO1997018695A1 (en) * 1995-11-15 1997-05-22 Dyconex Patente Ag Process for making multi-layer foil printed circuit boards
WO2000033627A1 (en) * 1998-12-03 2000-06-08 Rexam Cfp Limited Method for producing adhesive coated foil
CN109041410A (en) * 2018-08-30 2018-12-18 歌尔股份有限公司 A kind of printed circuit board and design method

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