JPH07170073A - Manufacture of multilayer printed wiring board - Google Patents

Manufacture of multilayer printed wiring board

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JPH07170073A
JPH07170073A JP34234693A JP34234693A JPH07170073A JP H07170073 A JPH07170073 A JP H07170073A JP 34234693 A JP34234693 A JP 34234693A JP 34234693 A JP34234693 A JP 34234693A JP H07170073 A JPH07170073 A JP H07170073A
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JP
Japan
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resin composition
copper foil
resin
copper
conductor circuit
Prior art date
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Pending
Application number
JP34234693A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoichi Haruta
要一 春田
Haruhiko Yasui
晴彦 安井
Takeya Matsumoto
健也 松本
Tomio Kanbayashi
富夫 神林
Hideki Hiraoka
秀樹 平岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toagosei Co Ltd
Original Assignee
Toagosei Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Toagosei Co Ltd filed Critical Toagosei Co Ltd
Priority to JP34234693A priority Critical patent/JPH07170073A/en
Publication of JPH07170073A publication Critical patent/JPH07170073A/en
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Abstract

PURPOSE:To manufacture a multilayer wiring board provided with a blind viahole by a hot roller by a method wherein an alkali soluble-resin layer is formed on an inner panel layer having a conductor circuit pattern, an alkali soluble-resin layer formed on the roughened surface of a copper foil is laminated thereon, a fine hole is bored in the copper foil, and the conductor pattern is exposed to be connected to the copper foil. CONSTITUTION:A second alkali-soluble resin layer 3 is formed on an inner layer panel 7 having a conductor circuit pattern 6. On the other hand, a first alkali-soluble resin layer 2 is formed on the roughened surface of a copper foil 1, which is formed on the second resin layer 3. Then, fine holes are bored in the copper foil 1 at prescribed spots by etching. The resin layer exposed in the holes are dissolved into an alkaline solution to make the conductor circuit pattern 6 of the inner layer panel 7 exposed, the resin layers 2 and 3 are hardened, and the conductor circuit pattern 6 of the inner layer panel 7 is electrically connected to the surface of the copper foil 1 with conductive material. Thus a multilayer printed wiring board having a blind viahole excellent in physical, electrical characteristics, and productivity can be obtained.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は高密度実装に適した多層
プリント配線板の製造方法に関するもので、更に詳しく
は物理特性、電気特性等の優れたブラインドバイアホー
ルを有する多層プリント配線板の量産性に優れた製造方
法を提供するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer printed wiring board suitable for high-density mounting, and more specifically to mass production of a multilayer printed wiring board having a blind via hole excellent in physical characteristics and electrical characteristics. A manufacturing method having excellent properties is provided.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子機器の小型化、多機能化に伴って、
現在プリント配線板はより高密度化の方向に進んでい
る。例えば、導体回路の細線化、高多層化、スルーバイ
アホール、ブラインドバイアホ−ルまたはバリードバイ
アホ−ル等のインタースティシャルバイアホールを含む
バイアホールの小径化、小型チップ部品の表面実装によ
る高密度実装等が挙げられる。
2. Description of the Related Art As electronic equipment becomes smaller and more multifunctional,
At present, printed wiring boards are moving toward higher density. For example, thinning conductor circuits, increasing the number of layers, reducing the diameter of via holes, including through via holes, interstitial via holes such as blind via holes or balled via holes, and improving the surface mounting of small chip components. Examples include density mounting.

【0003】従来のブラインドバイアホールを有する多
層プリント配線板の製造法を説明するために、各工程の
概略断面を図11から図18に示す。図11に示すよう
に、エッチング法で導体回路パターン6を予め形成した
内層用パネル7を用意し、外層用の銅はく1と内層用パ
ネル7の間にプリプレグ14を1ないしは2枚重ねてレ
イアップし、160〜180℃の温度で60〜120分
間、プレス圧15〜50kg/cm2で熱プレスすることによ
り、図12に示す内層導体回路パターンを有する銅張積
層板パネルが得られる。精度が要求される場合には真空
熱プレスを使用する場合もある。
In order to explain a conventional method for manufacturing a multilayer printed wiring board having a blind via hole, schematic cross sections of respective steps are shown in FIGS. 11 to 18. As shown in FIG. 11, an inner layer panel 7 on which a conductor circuit pattern 6 has been previously formed by an etching method is prepared, and one or two prepregs 14 are superposed between the outer layer copper foil 1 and the inner layer panel 7. The copper clad laminate panel having the inner layer conductor circuit pattern shown in FIG. 12 is obtained by laying up and hot pressing at a temperature of 160 to 180 ° C. for 60 to 120 minutes at a pressing pressure of 15 to 50 kg / cm 2 . A vacuum hot press may be used when accuracy is required.

【0004】次に、所定の位置にドリルマシンで順次穴
加工を施し、ブラインドバイアホール用穴15を形成す
ると図13のようになる。引き続きスルーホール10を
設けると図14のようになる。
Next, holes are sequentially formed at predetermined positions by a drill machine to form blind via hole 15 as shown in FIG. When the through hole 10 is continuously provided, the result is as shown in FIG.

【0005】以下、従来の無電解銅めっき、電解銅めっ
きを施し、めっきスルーホール11を形成すると図15
のようになり、エッチングレジスト12を形成した(図
16)後、続いてエッチングすると図17のようにな
り、最終的にはエッチングレジストの膜はぎを行い、ブ
ラインドバイアホールを有する多層プリント配線板が得
られる(図18)。
Hereinafter, conventional electroless copper plating and electrolytic copper plating will be performed to form the plated through holes 11 as shown in FIG.
After the etching resist 12 is formed (FIG. 16) and the etching is subsequently performed, the result is as shown in FIG. 17. Finally, the etching resist film is stripped, and a multilayer printed wiring board having a blind via hole is formed. Obtained (FIG. 18).

【0006】このようにドリルでブラインドバイアホー
ルを形成するには、通常のスルーホールのようにパネル
を複数枚重ねて空けることはできず、一穴づつ空ける必
要があり、穴加工に非常に時間を要し、生産効率が悪い
という欠点があった。また、ドリル穴加工においてはド
リル先端の深さを制御するために、ドリル穿孔方向一般
的にはZ軸方向の移動距離と内層用パネル表面の導体回
路パターンの深さを合致させる必要がある。しかしなが
ら0.1〜0.5mm程度の小径を空けるドリルは芯ぶ
れが大きく、また導体回路パターンのZ軸方向の位置の
ばらつきなどがあり、精度よくコントロールすることは
難しく、ドリル加工が浅いと下部の導体回路パターンま
で達せず、後工程のめっきで接続されずにブラインドバ
イアホール不良の原因となり、逆にドリル加工が深すぎ
ると更にその下の導体回路パターンと接触し、ショート
不良となっていた。
In order to form a blind via hole with a drill in this way, it is not possible to stack a plurality of panels like a normal through hole, and it is necessary to drill one hole at a time, which requires a very long time for drilling. However, there is a drawback that the production efficiency is poor. Further, in drilling, in order to control the depth of the tip of the drill, it is necessary to match the moving distance in the drilling direction, generally the Z-axis direction, with the depth of the conductor circuit pattern on the inner layer panel surface. However, a drill with a small diameter of about 0.1 to 0.5 mm has a large runout, and there are variations in the position of the conductor circuit pattern in the Z-axis direction. The conductor circuit pattern did not reach, and it was not connected in the plating in the subsequent process, causing a blind via hole defect. Conversely, if the drilling process was too deep, it contacted the conductor circuit pattern below it, resulting in a short circuit defect. .

【0007】また、従来の多層プリント配線板の製造法
では、一般的には上述のように熱プレスあるいは真空熱
プレスを使用するため、熱プレスの準備として内層用パ
ネル、プリプレグ、銅はく、離型フィルムおよび鏡面プ
レス板等をレイアップし、それを熱プレスまたは真空熱
プレスで熱圧着し、その後取り出して解体する作業が必
要となる。この製造法は通常バッチ生産であり、工数が
大きく煩雑である。バッチ作業を自動化して生産性を上
げるには高額な装置が必要となり、また大量に熱圧着で
きる大型の熱プレス装置を必要とする等の問題点があっ
た。
In the conventional method for manufacturing a multilayer printed wiring board, a hot press or a vacuum hot press is generally used as described above. Therefore, as a preparation for the hot press, an inner layer panel, a prepreg, a copper foil, It is necessary to lay up a release film and a mirror press plate, thermocompress them with a hot press or a vacuum heat press, and then take them out and dismantle them. This manufacturing method is usually batch production, and the number of steps is large and complicated. There is a problem in that an expensive device is required to automate the batch operation to increase productivity, and a large-sized heat press device capable of thermocompression bonding in a large amount is required.

【0008】上記従来の多層プリント配線板の製造法の
問題点を解決するために、本発明者等は既に、加熱時に
流動性を有するアルカリ可溶性の樹脂組成物を銅はくに
塗布した銅張絶縁シートを使用したブラインドバイアホ
ールを有する多層プリント配線板の製造方法を提案して
いる(特願平4−56348号、特願平4−88395
号、特願平4−112304号および特願平4−237
733号等)。図19〜図27に各工程の概略断面図を
示す。
In order to solve the above problems of the conventional method for producing a multilayer printed wiring board, the present inventors have already applied copper-clad insulation to a copper foil coated with an alkali-soluble resin composition having fluidity when heated. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board having a blind via hole using a sheet is proposed (Japanese Patent Application No. 4-56348, Japanese Patent Application No. 4-88395).
Japanese Patent Application No. 4-112304 and Japanese Patent Application No. 4-237.
733). 19 to 27 show schematic cross-sectional views of each step.

【0009】図19に示すように銅はく1にアルカリ可
溶で加熱流動性の小さい有機溶剤を含有する第1の樹脂
組成物を塗布し乾燥させ、その第1の樹脂組成物の層2
の上に、アルカリ可溶で加熱流動性の大きい有機溶剤を
含有する第2の樹脂組成物を塗布して乾燥し、銅張絶縁
シート16を作成した。その銅張絶縁シートの樹脂側を
予め導体回路パターン6を設けた内層用パネル7に熱ロ
ールでラミネートし(図20)、ブラインドバイアホー
ルを形成する所定の位置を除いてエッチングレジスト1
2を形成し、不要な銅はくをエッチングして銅はくの微
小穴8を形成する(図21)。
As shown in FIG. 19, a copper foil 1 is coated with a first resin composition containing an organic solvent which is soluble in alkali and has low heat fluidity, and is dried to form a layer 2 of the first resin composition.
A second resin composition containing an organic solvent that is soluble in alkali and has high heat fluidity is applied onto the above and dried to prepare a copper-clad insulating sheet 16. The resin side of the copper-clad insulating sheet is laminated on the inner layer panel 7 provided with the conductor circuit pattern 6 in advance with a heat roll (FIG. 20), and the etching resist 1 is removed except at a predetermined position where a blind via hole is formed.
2 is formed and unnecessary copper foil is etched to form fine holes 8 of the copper foil (FIG. 21).

【0010】次に、露出した樹脂組成物の層およびレジ
ストをアルカリ溶液で溶解し、ブラインドバイアホール
9を形成する(図22)。樹脂組成物の層を硬化後、必
要ならばスルーホールを所定の位置にドリル加工で設け
(図23)、無電解銅めっき電気銅めっきを施して、ブ
ラインドバイアホールおよびスルーホールに導電層を設
けて、導体層間を電気的に接続し、表面の銅はくを更に
選択エッチングすることにより、導体パターンを形成す
ると、ブラインドバイアホールを有する多層プリント配
線板が得られる(図24〜図27)。
Next, the exposed layer of the resin composition and the resist are dissolved in an alkaline solution to form a blind via hole 9 (FIG. 22). After curing the resin composition layer, if necessary, through holes are drilled at predetermined positions (Fig. 23), electroless copper plating and electrolytic copper plating are performed, and conductive layers are provided on the blind via holes and through holes. Then, by electrically connecting the conductor layers and selectively etching the copper foil on the surface to form a conductor pattern, a multilayer printed wiring board having blind via holes is obtained (FIGS. 24 to 27).

【0011】しかしながら、上記銅張絶縁シートを作成
するときの乾燥条件は、第1の樹脂組成物の厚さが例え
ば40μm(乾燥後)ならば70℃で15分程度かか
り、また第2の樹脂組成物は第1の樹脂組成物の層の上
に塗布するため、第2の樹脂組成物の溶剤が浸透し第1
の樹脂組成物の層を膨潤させるため更に時間を要し、厚
さが例えば30μm(乾燥後)ならば70℃で40分程
度も必要となり、塗工生産性が極めて低いものであっ
た。
However, the drying conditions for producing the copper-clad insulating sheet take about 15 minutes at 70 ° C. if the thickness of the first resin composition is, for example, 40 μm (after drying), and the second resin is used. Since the composition is applied on the layer of the first resin composition, the solvent of the second resin composition permeates the first resin composition.
It took more time to swell the resin composition layer, and if the thickness was, for example, 30 μm (after drying), it took about 40 minutes at 70 ° C., and the coating productivity was extremely low.

【0012】更に、第1の樹脂組成物の層と第2の樹脂
組成物の層を重ねて合計の厚さが大きくなると、乾燥に
よっても該層から完全に溶剤を無くすることは困難にな
る。僅かな溶剤が銅張絶縁シートに残存すると、後の樹
脂組成物の層を硬化させる工程、例えば100℃30分
で予備加熱し150℃30分で硬化させると、溶剤が揮
発して気泡が発生し、得られる絶縁層の絶縁耐圧性やは
んだ耐熱性等が悪くなるという欠点があった。これを解
決するために本発明者等は、樹脂組成物中に電子線に感
応する架橋剤を添加し、銅はくを透過した電子線で樹脂
組成物の層を半硬化させて流動性をなくし、熱を加えて
完全硬化をすれば気泡の発生を防止することができるこ
とを見出した。しかしながら、この手段は大がかりであ
り高額な電子線照射装置が必要となり、銅張絶縁シート
を使用した多層プリント配線板のコストがアップすると
いう欠点があった。
Further, when the first resin composition layer and the second resin composition layer are stacked to increase the total thickness, it becomes difficult to completely remove the solvent from the layers even by drying. . If a small amount of solvent remains in the copper-clad insulating sheet, the subsequent step of curing the layer of the resin composition, for example, preheating at 100 ° C. for 30 minutes and curing at 150 ° C. for 30 minutes causes the solvent to volatilize and generate bubbles. However, there is a drawback that the withstand voltage resistance and solder heat resistance of the obtained insulating layer are deteriorated. In order to solve this, the present inventors have added a crosslinking agent sensitive to an electron beam to the resin composition and semi-cure the layer of the resin composition with the electron beam transmitted through the copper foil to improve the fluidity. It has been found that the generation of bubbles can be prevented by eliminating the heat and completely curing it by applying heat. However, this method has a drawback in that it requires a large-scale and expensive electron beam irradiation device, and the cost of the multilayer printed wiring board using the copper clad insulating sheet increases.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来法の
欠点をなくし、物理特性および電気特性に優れ、品質が
安定し、しかも量産性に優れたブラインドバイアホール
を有する多層プリント配線板の製造方法を提供するもの
である。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention eliminates the above-mentioned drawbacks of the conventional method, produces a multilayer printed wiring board having a blind via hole which is excellent in physical and electrical characteristics, stable in quality, and excellent in mass productivity. It provides a method.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明の多層プリント配
線板の製造方法は、片面または両面に導体回路パターン
を有する内層用パネルに、アルカリ可溶性の第2の樹脂
組成物を塗布し、前記導体回路パターン間の隙間を第2
の樹脂組成物で埋め、乾燥させる工程;銅はくの粗面化
面にアルカリ可溶性の第1の樹脂組成物を塗布し乾燥さ
せてなる銅張絶縁シートの樹脂側を、前記第2の樹脂組
成物の層の上に積層する工程;銅はくの所定の位置にエ
ッチングで微小穴を空ける工程;該穴の部分の露出し
た、樹脂組成物の層をアルカリ溶液で溶解して内層用パ
ネルの導体回路パターンを露出させる工程;第1および
第2の樹脂組成物の層を硬化させる工程;内層用パネル
の導体回路パターンと表面の銅はくを導電物質で導通さ
せる工程からなる。
According to the method for producing a multilayer printed wiring board of the present invention, an alkali-soluble second resin composition is applied to an inner layer panel having a conductor circuit pattern on one side or both sides, and the conductor is used. Second gap between circuit patterns
The step of filling with the resin composition and drying it; the resin side of the copper-clad insulating sheet obtained by applying the alkali-soluble first resin composition to the roughened surface of the copper foil and drying the second resin, A step of laminating on the layer of the composition; a step of forming a minute hole by etching in a predetermined position of the copper foil; a layer for the resin composition, in which the hole portion is exposed, is dissolved in an alkaline solution to form an inner layer panel. The step of exposing the conductor circuit pattern of (1); the step of curing the layers of the first and second resin compositions; and the step of electrically connecting the conductor circuit pattern of the inner layer panel and the copper foil on the surface with a conductive substance.

【0015】従来の第1の樹脂組成物と第2の樹脂組成
物を重ねて塗布および乾燥して銅張絶縁シートを作成し
た場合に対し、本発明の方法は第1の樹脂組成物の層を
銅はく上に塗布し乾燥する工程と、第2の樹脂組成物を
直接内層用パネルの上に塗布し乾燥する工程が別である
ので、従来のように第1の樹脂組成物の層に第2の樹脂
組成物の溶剤が浸透し、膨潤することがないため合計の
乾燥時間を短くすることができる。ここで積層の手段と
してロールラミネートを用いると、連続的に行なうこと
ができ、生産性が著しく向上するので好ましい。
In contrast to the conventional case where a first resin composition and a second resin composition are overlaid and coated and dried to prepare a copper clad insulating sheet, the method of the present invention is a layer of the first resin composition. Since the step of coating and drying the copper foil on the copper foil and the step of directly coating and drying the second resin composition on the inner layer panel are different from each other, the first resin composition layer Since the solvent of the second resin composition does not penetrate into and swell, the total drying time can be shortened. Here, it is preferable to use roll laminating as a laminating means because continuous laminating can be performed and productivity is remarkably improved.

【0016】また本発明の多層プリント配線板の他の製
造方法は、アルカリ可溶性で加熱流動性の大きい第2の
樹脂組成物を離型フィルム上に塗布し乾燥させてなる絶
縁シートの樹脂側を、片面または両面に導体回路パター
ンを有する内層用パネルに加熱積層し、前記導体回路パ
ターン間の隙間を第2の樹脂組成物で埋める工程;離型
フィルムを剥離する工程;銅はくの粗面化面にアルカリ
可溶性の第1の樹脂組成物を塗布し乾燥させてなる銅張
絶縁シートの樹脂側を、前記第2の樹脂組成物の層の上
に積層する工程;銅はくの所定の位置にエッチングで微
小穴を空ける工程;該穴の部分の露出した樹脂組成物の
層をアルカリ溶液で溶解して内層用パネルの導体回路パ
ターンを露出させる工程;第1および第2の樹脂組成物
の層を硬化させる工程;内層用パネルの導体回路パター
ンと表面の銅はくを導電物質で導通させる工程からな
る。
In another method for producing a multilayer printed wiring board of the present invention, the resin side of an insulating sheet obtained by applying a second resin composition which is soluble in alkali and has high heat fluidity onto a release film and then drying it is applied. A step of heating and laminating on an inner layer panel having a conductor circuit pattern on one side or both sides and filling a gap between the conductor circuit patterns with a second resin composition; a step of peeling a release film; a rough surface of copper foil Laminating the resin side of the copper-clad insulating sheet obtained by applying the alkali-soluble first resin composition on the activated surface and drying it, on the layer of the second resin composition; A step of etching a micro hole at a position; a step of dissolving the layer of the resin composition exposed at the hole portion with an alkaline solution to expose the conductor circuit pattern of the inner layer panel; first and second resin compositions Cure the layers of Extent; consisting of copper foil conductive circuit pattern and the surface of the inner panel from the step of conducting a conductive material.

【0017】従来の第1および第2の樹脂組成物を重ね
て塗布し乾燥させて銅張絶縁シートを作成した場合に対
し、本発明の方法は第1の樹脂組成物を銅はく上に塗布
し乾燥する工程と第2の樹脂組成物を離型フィルム上に
塗布し乾燥する工程が別であるので、従来のように第2
の樹脂組成物の溶剤が浸透して第1の樹脂組成物の層を
膨潤させることはないため、合計の乾燥時間は短くする
ことができる。また、絶縁シートは離型フィルムで押さ
えながら加熱積層するので内層用パネルの導体パターン
間に第2の樹脂組成物の層は流動し、離型フィルム側の
表面を平滑にすることができる。このため次の工程で第
1の樹脂組成物の層を積層しても、銅はくの表面は平滑
性が保たれる。ここで各積層手段としてロールラミネー
ト法を用いると、連続的に行なうことができ生産性が著
しく向上するので好ましい。またロールラミネートとし
てメタルロールを使用すればより平滑性は高まる。
In contrast to the case where a conventional copper-clad insulating sheet is prepared by coating and drying the first and second resin compositions, the method of the present invention is characterized in that the first resin composition is applied onto the copper foil. Since the step of coating and drying and the step of coating and drying the second resin composition on the release film are different from each other, the second
Since the solvent of the resin composition does not permeate to swell the layer of the first resin composition, the total drying time can be shortened. In addition, since the insulating sheet is heated and laminated while being pressed by the release film, the layer of the second resin composition flows between the conductor patterns of the inner layer panel, and the surface on the release film side can be made smooth. Therefore, even if a layer of the first resin composition is laminated in the next step, the smoothness of the surface of the copper foil is maintained. Here, it is preferable to use the roll laminating method as each laminating means, since it can be continuously performed and the productivity is remarkably improved. Further, if a metal roll is used as the roll laminate, the smoothness is further improved.

【0018】更に本発明の多層プリント配線板のもう一
つの製造方法は、銅はくの粗面化面に加熱流動性が小さ
くアルカリ可溶性の第1の樹脂組成物を塗布し乾燥させ
てなる銅張絶縁シートの第1の樹脂組成物の層と、アル
カリ可溶性で加熱流動性の大きい第2の樹脂組成物を離
型フィルム上に塗布し乾燥させてなる絶縁シートの第2
の樹脂組成物の層を積層して、第1および第2の樹脂組
成物の層を有する銅張絶縁シートを作成する工程;片面
または両面に導体回路パターンを有する内層用パネルに
第1および第2の樹脂組成物の層を有する銅張絶縁シー
トの樹脂側を加熱積層し、前記導体回路パターン間の隙
間を第2の樹脂組成物で埋める工程;銅はくの所定の位
置にエッチングで微小穴を空ける工程;該穴の部分の露
出した樹脂組成物の層をアルカリ溶液で溶解して内層用
パネルの導体回路パターンを露出させる工程;第1およ
び第2の樹脂組成物の層を硬化させる工程;内層用パネ
ルの導体回路パターンと表面の銅はくを導電物質で導通
させる工程からなる。
Another method for producing a multilayer printed wiring board according to the present invention is a method in which a roughened surface of a copper foil is coated with a first alkali-soluble resin composition having a small heating fluidity and is dried. Of the first resin composition of the tension insulating sheet, and the second sheet of the insulating sheet obtained by applying the second resin composition of alkali-soluble and having high heat fluidity onto the release film and drying.
Laminating the layers of the resin composition to produce a copper clad insulating sheet having the layers of the first and second resin compositions; the first and the second layers for the inner layer panel having conductor circuit patterns on one or both sides. The step of heating and laminating the resin side of the copper-clad insulating sheet having the layer of the second resin composition and filling the gap between the conductor circuit patterns with the second resin composition; etching the copper foil at predetermined positions by etching. A step of making a hole; a step of dissolving the resin composition layer exposed at the hole portion with an alkaline solution to expose the conductor circuit pattern of the inner layer panel; curing the first and second resin composition layers Steps: a step of electrically connecting the conductor circuit pattern of the inner layer panel and the copper foil on the surface with a conductive material.

【0019】この方法で用いる銅張絶縁シートは第1お
よび第2の樹脂組成物の層を設けたものであるが、第1
の樹脂組成物と第2の樹脂組成物の塗布は別々に行って
いるので合計乾燥時間の短縮を図ることができる。ここ
で積層手段としてロールラミネート法を用いると、連続
的に行なうことができ生産性が著しく向上するので好ま
しい。
The copper clad insulating sheet used in this method is provided with layers of the first and second resin compositions.
Since the resin composition and the second resin composition are separately applied, the total drying time can be shortened. Here, it is preferable to use the roll laminating method as the laminating means, because it can be continuously performed and the productivity is remarkably improved.

【0020】本発明で用いる、第1および第2の樹脂組
成物は、アルカリ水溶液に可溶なベースレジン(以下、
単に「ベースレジン」と称する。)を主成分とし、好ま
しくはこれに接着性補強剤(架橋剤)および硬化剤を配
合して得られる。また光硬化性を付与するために活性エ
ネルギー線硬化反応開始剤および活性エネルギー線硬化
反応促進剤を添加することも好ましい。更に所望により
着色顔料、耐湿顔料、消泡剤、レベリング剤、チクソ
剤、重合禁止剤または沈降防止剤等を適宜添加しても良
い。また該樹脂組成物には塗工性を持たせるために、有
機溶剤を適宜加えるものである。
The first and second resin compositions used in the present invention are base resins (hereinafter
It is simply referred to as "base resin". 2) as a main component, and preferably, an adhesive reinforcing agent (crosslinking agent) and a curing agent are mixed therein. It is also preferable to add an active energy ray curing reaction initiator and an active energy ray curing reaction accelerator in order to impart photocurability. Further, if desired, a coloring pigment, a moisture resistant pigment, a defoaming agent, a leveling agent, a thixotropic agent, a polymerization inhibitor or an anti-settling agent may be appropriately added. In addition, an organic solvent is appropriately added to the resin composition in order to have coatability.

【0021】ベースレジンとしては、カルボキシル基、
フェノール性水酸基等のアルカリ溶解性の基を含有する
が感光性のない樹脂、或いはカルボキシル基、フェノー
ル性水酸基等のアルカリ溶解性の基と、アクリロイル基
またはメタクリロイル基(以後「(メタ)アクリロイル
基」と称する。)等の光重合または光二量化する感光性
基とを含有する感光性のある樹脂のいずれもが使用でき
る。 なおここで感光性または光硬化性とは、紫外線等
の短波長の電磁波により硬化する性質を言う。
As the base resin, a carboxyl group,
A resin containing an alkali-soluble group such as a phenolic hydroxyl group, but having no photosensitivity, or an alkali-soluble group such as a carboxyl group or a phenolic hydroxyl group, and an acryloyl group or a methacryloyl group (hereinafter referred to as “(meth) acryloyl group”). ), Etc., and a photosensitive resin containing a photopolymerizable or photodimerizable photosensitive group can be used. Here, the photosensitivity or photocurability means the property of being cured by electromagnetic waves of short wavelength such as ultraviolet rays.

【0022】アルカリ可溶性を有するが、感光性のない
樹脂としては、例えばアクリル酸および/またはメタ
クリル酸(以下、「(メタ)アクリル酸」と称す
る。)、(メタ)アクリル酸エステルおよびスチレン等
の他のビニルモノマーの共重合体、スチレンと無水マ
レイン酸との共重合体にアルコールを付加したハーフエ
ステル、スチレンとp−ヒドロキシフェニルマレイミ
ドとの共重合体、ポリビニルフェノールまたはその共
重合体、メチルメタクリレート共重合体、ヒドロキシエ
チルメタクリレート共重合体、スチレン共重合体、フェ
ニルマレイミド共重合体等、ノボラック型フェノール
樹脂またはノボラック型クレゾール樹脂、アルコール
性水酸基含有ポリマーと酸無水物の開環付加物等が挙げ
られる。
Examples of the resin which is soluble in alkali but has no photosensitivity include acrylic acid and / or methacrylic acid (hereinafter referred to as "(meth) acrylic acid"), (meth) acrylic acid ester and styrene. Copolymer of other vinyl monomer, half ester obtained by adding alcohol to copolymer of styrene and maleic anhydride, copolymer of styrene and p-hydroxyphenylmaleimide, polyvinylphenol or its copolymer, methyl methacrylate Copolymers, hydroxyethyl methacrylate copolymers, styrene copolymers, phenylmaleimide copolymers, etc., novolac type phenolic resins or novolac type cresol resins, alcohol-containing hydroxyl group-containing polymers and acid anhydride ring-opening adducts, etc. To be

【0023】上記の中では、の共重合体(以下、「ア
クリル系共重合体」と称する。)が、アルカリ溶解性に
優れ、また硬化させて絶縁層としたときの層間絶縁抵抗
および耐熱性が優れているので好ましい。
Among the above, the copolymer (hereinafter referred to as "acrylic copolymer") has excellent alkali solubility, and the interlayer insulation resistance and heat resistance when cured to form an insulating layer. Is preferable and is preferable.

【0024】ベースレジンとしては、感光性のある樹脂
の方が好ましく、その感光性基の濃度は0.1〜10.
0meq/gの範囲が好ましく、より好ましくは0.3
〜8.0meq/g、特に好ましくは0.5〜5.0m
eq/gである。感光性基の濃度が小さすぎると感光性
が悪くなり、大きすぎると保存安定性が悪くなる。
The base resin is preferably a photosensitive resin, and the concentration of the photosensitive group is 0.1 to 10.
The range of 0 meq / g is preferable, and 0.3 is more preferable.
To 8.0 meq / g, particularly preferably 0.5 to 5.0 m
eq / g. If the concentration of the photosensitive group is too low, the photosensitivity deteriorates, and if it is too high, the storage stability deteriorates.

【0025】アルカリ可溶性を有し、かつ感光性のある
樹脂としては、例えばエポキシアクリレートおよび/
またはメタクリレート(以下「アクリレートおよび/ま
たはメタクリレート」を「(メタ)アクリレート」と称
する。)と酸無水物の開環付加物、スチレンと無水マ
レイン酸との共重合体に不飽和アルコールを付加したハ
ーフエステル、アクリル系共重合体、スチレンと無水
マレイン酸との共重合体にアルコールを付加したハーフ
エステル、スチレンとp−ヒドロキシフェニルマレイミ
ドとの共重合体、ポリビニルフェノールまたはその共重
合体、ノボラック型フェノール樹脂、ノボラック型クレ
ゾール樹脂或いはアルコール性水酸基含有ポリマーと酸
無水物の開環付加物等のポリマーに、グリシジル(メ
タ)アクリレート等のグリシジル基およびC=C不飽和
二重結合を有する化合物を付加させた重合体、スチレ
ンとp−ヒドロキシフェニルマレイミドとの共重合体、
ポリビニルフェノールまたはその共重合体、ノボラック
型フェノール樹脂またはノボラック型クレゾール樹脂等
のフェノール性水酸基含有ポリマー中の水酸基の一部
に、(メタ)アクリル酸クロライド、ケイヒ酸クロライ
ド等の感光性基含有酸クロライドとを縮合させたもの、
アルコール性水酸基含有ポリマーの水酸基の一部に
(メタ)アクリル酸クロライドまたはケイヒ酸クロライ
ド等の感光性基含有酸クロライドを縮合させて残りの水
酸基に酸無水物を開環付加させたもの、アルコール性
水酸基含有ポリマーの水酸基の一部にイソシアネート基
含有(メタ)アクリレートを付加させ、残りの水酸基に
酸無水物を開環付加させたもの、スチレンとp−ヒド
ロキシフェニルマレイミドとの共重合体、ポリビニルフ
ェノールまたはその共重合体、ノボラック型フェノール
樹脂またはノボラック型クレゾール樹脂等のフェノール
性水酸基含有ポリマー中の水酸基の一部に、イソシアネ
ート基含有(メタ)アクリレートを付加させたもの、
エポキシ(メタ)アクリレートの水酸基の一部に、イソ
シアネート基含有(メタ)アクリレートを付加させ、残
りの水酸基の全部または一部に酸無水物を開環付加した
もの等が挙げられる。
As the alkali-soluble and photosensitive resin, for example, epoxy acrylate and / or
Alternatively, a ring-opening adduct of methacrylate (hereinafter, "acrylate and / or methacrylate" is referred to as "(meth) acrylate") and an acid anhydride, a half obtained by adding an unsaturated alcohol to a copolymer of styrene and maleic anhydride. Ester, acrylic copolymer, half ester obtained by adding alcohol to copolymer of styrene and maleic anhydride, copolymer of styrene and p-hydroxyphenylmaleimide, polyvinylphenol or its copolymer, novolak type phenol A compound having a glycidyl group such as glycidyl (meth) acrylate and a C = C unsaturated double bond is added to a resin, a novolac type cresol resin or a polymer such as an alcoholic hydroxyl group-containing polymer and a ring-opening adduct of an acid anhydride. Polymers, styrene and p-hydroxypheny A copolymer of maleimide,
Some of the hydroxyl groups in the phenolic hydroxyl group-containing polymer such as polyvinylphenol or its copolymer, novolac type phenolic resin or novolac type cresol resin have a photosensitive group-containing acid chloride such as (meth) acrylic acid chloride or cinnamic acid chloride. Condensed with and
Alcoholic properties obtained by condensing a part of the hydroxyl groups of an alcoholic hydroxyl group-containing polymer with a photosensitive group-containing acid chloride such as (meth) acrylic acid chloride or cinnamic acid chloride, and ring-opening addition of an acid anhydride to the remaining hydroxyl groups. An isocyanate group-containing (meth) acrylate is added to a part of the hydroxyl groups of the hydroxyl group-containing polymer, and an acid anhydride is ring-opened and added to the remaining hydroxyl groups, a copolymer of styrene and p-hydroxyphenylmaleimide, and polyvinylphenol. Or a copolymer thereof, a part of a hydroxyl group in a phenolic hydroxyl group-containing polymer such as a novolac type phenol resin or a novolac type cresol resin, with an isocyanate group-containing (meth) acrylate added,
Examples thereof include those obtained by adding an isocyanate group-containing (meth) acrylate to a part of the hydroxyl groups of epoxy (meth) acrylate and ring-opening addition of an acid anhydride to all or part of the remaining hydroxyl groups.

【0026】この中では、の中のアクリル系共重合体
に、グリシジル(メタ)アクリレート等のグリシジル基
およびC=C不飽和二重結合を有する化合物を開環付加
させた重合体が、アルカリ溶解性に優れ、また硬化させ
て絶縁層としたときの層間絶縁抵抗および耐熱性が優れ
ているので好ましい。
Among these, a polymer obtained by ring-opening addition of a compound having a glycidyl group such as glycidyl (meth) acrylate and a C = C unsaturated double bond to the acrylic copolymer of It is preferable because it has excellent properties and also has excellent interlayer insulation resistance and heat resistance when cured to form an insulating layer.

【0027】ここで加熱流動性が大きいとは、表面に導
体回路パターンを有する内層用パネルの表面に、銅張絶
縁シートまたは絶縁シートの樹脂側を重ね、加熱積層、
特に熱ロールでラミネートして全体を積層する工程にお
ける加熱、即ち概ね60〜120℃の範囲において樹脂
組成物が溶融して、内層用パネルの導体回路パターン間
に容易に流れ出しパターンの凹部を埋めることができる
ことを示す。
The term "high heating fluidity" means that the copper-clad insulating sheet or the resin side of the insulating sheet is superposed on the surface of the inner layer panel having the conductor circuit pattern on the surface, and is heated and laminated,
In particular, heating in the process of laminating with a hot roll and laminating the whole, that is, the resin composition is melted in the range of about 60 to 120 ° C., and easily flows out between the conductor circuit patterns of the inner layer panel to fill the concave portions of the pattern. Indicates that you can.

【0028】樹脂組成物の加熱流動性は主としてベース
レジンの分子量によって決まり、架橋剤の種類および量
によって影響を受ける。即ちベースレジンの分子量が小
さいほど、硬化前の流動性が大きい架橋剤を使用するほ
ど、また架橋剤の量が多いほど樹脂組成物の加熱時の流
動性は大きくなる。
The heat fluidity of the resin composition is mainly determined by the molecular weight of the base resin and is influenced by the type and amount of the crosslinking agent. That is, the smaller the molecular weight of the base resin, the greater the fluidity of the resin before curing is used, and the greater the amount of the crosslinking agent, the greater the fluidity of the resin composition upon heating.

【0029】本発明で用いる第1および第2の樹脂組成
物は、同じ種類のベースレジンを用いると得られる両層
の密着性が良いので好ましく、分子量を変化させ加熱流
動性を変えた同じ種類のベースレジンを組み合わせて使
用することが好ましい。
The first and second resin compositions used in the present invention are preferable because the adhesion between both layers obtained by using the same type of base resin is good, and the same type in which the heating fluidity is changed by changing the molecular weight. It is preferable to use the base resin of 1.

【0030】第2の樹脂組成物は加熱流動性が大きく、
第1の樹脂組成物は小さいことが好ましく、特に第2の
樹脂組成物を離型フィルム上に塗布し乾燥させた絶縁シ
ートの樹脂側と、銅はくの粗面化面に第1の樹脂組成物
の層を形成させた銅張絶縁シートの樹脂側を積層し、得
られた第1および第2の樹脂組成物の層を有する銅張絶
縁シートを内層用パネルに加熱積層する場合には、第2
の樹脂組成物は加熱流動性が大きく、第1の樹脂組成物
は加熱流動性が小さくなければならない。また第2の樹
脂組成物を離型フィルム上に塗布し乾燥させた絶縁シー
トの樹脂側を、内層用パネルに加熱積層し、この上に銅
はくの粗面化面に第1の樹脂組成物を形成させた銅張絶
縁シートの樹脂側を積層する場合には、第2の樹脂組成
物は加熱流動性が大きいことが必須である。
The second resin composition has high heat fluidity,
The first resin composition is preferably small, and in particular, the first resin is applied to the resin side of the insulating sheet obtained by applying the second resin composition onto the release film and drying it, and to the roughened surface of the copper foil. When the resin side of the copper-clad insulation sheet having the composition layer formed thereon is laminated and the copper-clad insulation sheet having the obtained first and second resin composition layers is laminated on the inner layer panel by heating. , Second
The resin composition (1) has high heat fluidity, and the first resin composition has low heat fluidity. Further, the resin side of the insulating sheet obtained by applying the second resin composition on the release film and drying it is heat-laminated on the inner layer panel, and the first resin composition is formed on the roughened surface of the copper foil. When the resin side of the copper clad insulating sheet on which the product has been formed is laminated, it is essential that the second resin composition has high heat fluidity.

【0031】本発明に使用する第1の樹脂組成物を構成
するベースレジンは、その分子量(ゲルパーミュエーシ
ョンクロマトグラフによるスチレン換算重量平均分子
量)は10,000〜200,000の範囲が好まし
く、より好ましくは30,000〜100,000であ
る。分子量が小さすぎると加熱時の流動性が大きくなり
過ぎ、大きくなりすぎるとアルカリ溶解性が悪くなる。
また、第2の樹脂組成物を構成するベースレジンの分子
量は1,000〜50,000のものが好ましく、より
好ましくは5,000〜30,000である。分子量が
小さすぎると耐熱性、耐水性等が悪くなり、大きくなり
すぎると加熱時の流動性が小さくなり過ぎる。
The base resin constituting the first resin composition used in the present invention preferably has a molecular weight (styrene-equivalent weight average molecular weight by gel permeation chromatography) in the range of 10,000 to 200,000, More preferably, it is 30,000 to 100,000. If the molecular weight is too small, the fluidity during heating will be too large, and if it is too large, the alkali solubility will be poor.
The base resin that constitutes the second resin composition preferably has a molecular weight of 1,000 to 50,000, more preferably 5,000 to 30,000. If the molecular weight is too small, the heat resistance, water resistance, etc. will deteriorate, and if it is too large, the fluidity during heating will be too small.

【0032】ベースレジンの酸価は、0.2〜10.0
meq/gの範囲が好ましく、より好ましくは0.4〜
5.0meq/gで、更に好ましくは0.6〜3.0m
eq/gである。酸価が小さすぎるとアルカリ溶解性が
悪くなり、大きすぎると耐水性等が悪くなりがちでいず
れも好ましくない。
The acid value of the base resin is 0.2 to 10.0.
The range of meq / g is preferable, and more preferably 0.4 to
5.0 meq / g, more preferably 0.6 to 3.0 m
eq / g. If the acid value is too small, the alkali solubility will be poor, and if it is too large, the water resistance will tend to be poor, and neither is preferred.

【0033】アクリル系共重合体における(メタ)アク
リル酸の割合は、該共重合体を構成する全モノマーのう
ち25〜60モル%であることが好ましい。
The proportion of (meth) acrylic acid in the acrylic copolymer is preferably 25 to 60 mol% of all the monomers constituting the copolymer.

【0034】またアクリル系共重合体で用いる(メタ)
アクリル酸および(メタ)アクリル酸エステル以外の他
のビニル系単量体は、この共重合体を構成する全モノマ
ーのうち25モル%以下の割合であることが好ましい。
Also used in an acrylic copolymer (meth)
The vinyl-based monomer other than acrylic acid and (meth) acrylic acid ester is preferably contained in an amount of 25 mol% or less based on all monomers constituting the copolymer.

【0035】グリシジル基およびC=C不飽和二重結合
を有する化合物としては、グリシジル(メタ)アクリレ
ート、アリルグリシジルエーテル、ビニルベンジルグリ
シジルエーテルおよび4−グリシジルオキシ−3,5−
ジメチルベンジルアクリルアミド等が挙げられ、これら
の中では、酸への付加反応が容易な点からグリシジル
(メタ)アクリレートが好ましい。
Examples of the compound having a glycidyl group and a C = C unsaturated double bond include glycidyl (meth) acrylate, allyl glycidyl ether, vinylbenzyl glycidyl ether and 4-glycidyloxy-3,5-.
Examples thereof include dimethylbenzyl acrylamide, and among these, glycidyl (meth) acrylate is preferable from the viewpoint of easy addition reaction to an acid.

【0036】グリシジル基およびC=C不飽和二重結合
を有する化合物は、ベースレジンに感光性と耐熱性を付
与する。グリシジル基およびC=C不飽和二重結合を有
する化合物の付加量は、アクリル系共重合体を構成する
全モノマーを100モル%として、10〜25モル%と
することが好ましい。10モル%未満では、耐熱性や耐
湿性が充分に発揮されず、また25モル%を超えると、
アクリル系共重合体中に(メタ)アクリル酸が多くなり
過ぎることになり、ベースレジンの物性が低下するため
いずれも好ましくない。
The compound having a glycidyl group and a C = C unsaturated double bond imparts photosensitivity and heat resistance to the base resin. The addition amount of the compound having a glycidyl group and a C = C unsaturated double bond is preferably 10 to 25 mol% based on 100 mol% of all monomers constituting the acrylic copolymer. When it is less than 10 mol%, heat resistance and moisture resistance are not sufficiently exhibited, and when it exceeds 25 mol%,
Any amount of (meth) acrylic acid will be contained in the acrylic copolymer, and the physical properties of the base resin will be deteriorated.

【0037】本発明の第1および第2の樹脂組成物に
は、架橋剤(接着性補強剤)として、光硬化性化合物お
よび/または熱硬化性樹脂を添加することが好ましく、
その量はベースレジン100重量部に対して20〜12
0重量部が好ましい。光硬化性化合物としては(メタ)
アクリロイル基を有する化合物が好ましく、その例とし
ては、単官能性化合物としては、2−エチルヘキシルア
クリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−
ヒドロキシプロピルアクリレート;2官能性化合物とし
ては、ウレタンアクリレート、1,3−ブタンジオール
ジアクリレート、ポリエステルアクリレート、1,4−
ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオ
ールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレ
ート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエ
チレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン
酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート;多
官能性化合物としては、トリメチロールプロパントリア
クリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、
ジペンタエリストールヘキサアクリレート等が挙げら
れ、これらは付加物または縮合体としても使用できる。
また熱硬化性樹脂としてはウレタン樹脂、エポキシ樹
脂、ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、シリコン樹脂、
フェノール樹脂、メラミン樹脂および尿素樹脂等が挙げ
られる。
It is preferable to add a photocurable compound and / or a thermosetting resin to the first and second resin compositions of the present invention as a crosslinking agent (adhesive reinforcing agent),
The amount is 20 to 12 with respect to 100 parts by weight of the base resin.
0 parts by weight is preferred. As a photo-curable compound (meta)
A compound having an acryloyl group is preferable, and examples thereof include monofunctional compounds such as 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, and 2-hydroxyethyl acrylate.
Hydroxypropyl acrylate; as bifunctional compounds, urethane acrylate, 1,3-butanediol diacrylate, polyester acrylate, 1,4-
Butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, hydroxypivalate neopentyl glycol diacrylate; polyfunctional compounds include trimethylolpropane triacrylate. Acrylate, pentaerythritol triacrylate,
Dipentaerythritol hexaacrylate and the like can be mentioned, and these can also be used as an adduct or a condensate.
Further, as the thermosetting resin, urethane resin, epoxy resin, polyester resin, alkyd resin, silicone resin,
Phenolic resins, melamine resins, urea resins and the like can be mentioned.

【0038】上記架橋剤としてはウレタンアクリレート
および/またはペンタエリスリトールトリアクリレート
が好ましい。ウレタンアクリレートは表面銅はくと樹脂
組成物の層との密着性を高める作用を特に有し、ペンタ
エリスリトールトリアクリレートは樹脂組成物の硬化後
の耐熱性を高める作用を特に有している。
As the crosslinking agent, urethane acrylate and / or pentaerythritol triacrylate are preferable. Urethane acrylate has a function of particularly improving the adhesion between the surface copper foil and the layer of the resin composition, and pentaerythritol triacrylate has a function of particularly improving the heat resistance of the resin composition after curing.

【0039】紫外線、電子線等活性エネルギー線硬化の
反応開始剤としてはベンゾインエーテル系としてベンジ
ル、ベンゾイン、ベンゾインアルキルエーテル、1−ヒ
ドロキシシクロヘキシルフェニルケトン;ケタール系と
してベンジルジアルキルケタール;アセトフェノン系と
して2,2’−ジアリコキシアセトフェノン、2−ヒド
ロキシアセトフェノン、p−t−ブチルトリクロロアセ
トフェノン、p−t−ブチルジクロロアセトフェノン、
ベンゾフェノン系としてベンゾフェノン、4−クロルベ
ンゾフェノン、4,4’−ジクロルベンゾフェノン、
4,4’−ビスジメチルアミノベンゾフェノン、o−ベ
ンゾイル安息香酸メチル、3,3’−ジメチル−4−メ
トキシベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチル
ジフェニルスルフィド、ジベンゾスベロン、ベンジメチ
ルケタール;チオキサントン系としてチオキサントン、
2−クロルチオキサントン、2−アルキルチオキサント
ン、2,4−ジアルキルチオキサントン、2−アルキル
アントラキノン、2,2’−ジクロロ−4−フェノキシ
アセトン等が挙げられ、その配合量はベースレジン10
0重量部に対して0.5〜10重量部が好ましい。0.
5重量部未満では反応が十分開始されなく、10重量部
を超えると樹脂層が脆くなる。なお活性エネルギー線の
うち電子線を用いて硬化させる場合はこの重合開始剤は
省いてもよい。
As reaction initiators for curing active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams, benzoin ether type benzyl, benzoin, benzoin alkyl ether, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone; ketal type benzyl dialkyl ketal; acetophenone type 2,2 '-Dialicoxyacetophenone, 2-hydroxyacetophenone, pt-butyltrichloroacetophenone, pt-butyldichloroacetophenone,
Benzophenone, benzophenone, 4-chlorobenzophenone, 4,4'-dichlorobenzophenone,
4,4'-bisdimethylaminobenzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, dibenzosuberone, benzdimethylketal; thioxanthone system As thioxanthone,
2-chlorothioxanthone, 2-alkylthioxanthone, 2,4-dialkylthioxanthone, 2-alkylanthraquinone, 2,2′-dichloro-4-phenoxyacetone and the like can be mentioned, and the compounding amount thereof is base resin 10.
0.5 to 10 parts by weight is preferable with respect to 0 parts by weight. 0.
If it is less than 5 parts by weight, the reaction is not sufficiently initiated, and if it exceeds 10 parts by weight, the resin layer becomes brittle. When the curing is performed using an electron beam among the active energy rays, this polymerization initiator may be omitted.

【0040】活性エネルギー線硬化反応時の増感剤とし
ては新日曹化工(株)製のニッソキュアEPA、EM
A、IAMA、EHMA、MABP、EABP等や、日
本化薬(株)製のカヤキュアEPA、DETX、DMB
I等や、Ward Blenkinsop社製のQun
tacure EPD、BEA、EOB、DMB等や、
大阪有機化学(株)製のDABA、大東化学(株)製の
PAA、DAA等が挙げられる。その添加量はベースレ
ジン100重量部に対して0.5〜10重量部が好まし
い。0.5重量部未満では活性エネルギー硬化の反応速
度は向上せず、10重量部を超えると反応が速くなり、
シェルフライフを低下させる。電子線照射で使用する場
合はこの増感剤を省いてもよい。
As the sensitizer at the time of curing the active energy rays, Nisso Cure EPA and EM manufactured by Shin Nisso Kako Co., Ltd.
A, IAMA, EHMA, MABP, EABP, etc., and Kayacure EPA, DETX, DMB manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
I, etc., Warn Blenkinsop Qun
tacure EPD, BEA, EOB, DMB, etc.,
Examples include DABA manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd., PAA, DAA manufactured by Daito Chemical Co., Ltd., and the like. The addition amount is preferably 0.5 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the base resin. If it is less than 0.5 part by weight, the reaction rate of the active energy curing does not improve, and if it exceeds 10 parts by weight, the reaction becomes faster.
Reduces shelf life. When used with electron beam irradiation, this sensitizer may be omitted.

【0041】硬化剤としてはパーオキサイド系が好まし
く、中でも保存安定性の面からジブチルパーオキサイ
ド、ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサ
イド等のアルキルパーオキサイドまたはアリールパーオ
キサイドが好ましい。その量はベースレジン100重量
部に対して0.1〜10重量部が好ましい。0.1重量
部未満では硬化時間が長くなり、10重量部を超えると
シェルフライフが短くなり作業性が悪くなる。電子線照
射で硬化を行う場合には必ずしも硬化剤を必要としない
が、銅はくの接着安定性、はんだ耐熱性等密着性を高め
るためには硬化剤を添加した方が好ましい。
As the curing agent, peroxides are preferable, and among them, alkyl peroxides such as dibutyl peroxide, butyl cumyl peroxide, dicumyl peroxide or aryl peroxides are preferable from the viewpoint of storage stability. The amount is preferably 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the base resin. If it is less than 0.1 parts by weight, the curing time will be long, and if it exceeds 10 parts by weight, the shelf life will be shortened and the workability will be poor. A curing agent is not necessarily required when curing by electron beam irradiation, but it is preferable to add a curing agent in order to improve adhesion stability such as copper foil adhesion stability and solder heat resistance.

【0042】本発明で使用する第1および第2の樹脂組
成物の塗布時に用いる有機溶剤としては、ジグライムな
どのエーテル類、エチルカルビトールアセテート、エチ
ルセロソルブアセテート、イソプロピルアセテート等の
エステル類、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等
のケトン類、イソプロピルアルコール、エチルアルコー
ル等のアルコール類等が挙げられる。有機溶剤の添加量
は塗布方法によって異なるが、樹脂組成物固形分を10
0重量%として、20〜80重量%の添加が好ましい。
As the organic solvent used for coating the first and second resin compositions used in the present invention, ethers such as diglyme, esters such as ethyl carbitol acetate, ethyl cellosolve acetate and isopropyl acetate, methyl ethyl ketone, Examples thereof include ketones such as cyclohexanone and alcohols such as isopropyl alcohol and ethyl alcohol. The amount of the organic solvent added varies depending on the coating method, but the solid content of the resin composition is 10
As 0% by weight, addition of 20 to 80% by weight is preferable.

【0043】本発明の多層プリント配線板の製造方法
は、まず内層用パネルに絶縁層を介して銅はくを積層し
た銅張積層板パネルを作成する工程がある。この手段と
しては、内層用パネルに、第2の樹脂組成物を直接塗
布し乾燥させ、この上に銅はくの粗面化面に第1の樹脂
組成物を形成させてなる銅張絶縁シートの樹脂側を積層
する方法(以下「銅張積層板パネルの第1の製法」と称
する。)、第2の樹脂組成物を離型フィルム上に塗布
乾燥させてなる絶縁シートの樹脂側を、内層用パネルに
加熱積層し、この上に銅はくの粗面化面に第1の樹脂組
成物の層を形成させてなる銅張絶縁シートの樹脂側を積
層する方法(以下「銅張積層板パネルの第2の製法」と
称する。)、並びに第2の樹脂組成物を離型フィルム
上に塗布し乾燥させてなる絶縁シートの樹脂側と、銅は
くの粗面化面に第1の樹脂組成物の層を形成させてなる
銅張絶縁シートの樹脂側を積層し、得られた第1および
第2の樹脂組成物の層を有する銅張絶縁シートを内層用
パネルに加熱積層する方法(以下「銅張積層板パネルの
第3の製法」と称する。)がある。なお、各工程におけ
る積層手段としてロールラミネートを用いると連続的に
行なうことができ生産性がよく好ましい。更に熱ロール
ラミネートを採用すると、気泡の巻き込みが少なくなる
ので更に好ましい。
In the method for manufacturing a multilayer printed wiring board of the present invention, there is a step of first forming a copper clad laminate panel in which copper foil is laminated on an inner layer panel via an insulating layer. As a means for this, a copper-clad insulating sheet obtained by directly applying the second resin composition to the inner layer panel and drying it, and then forming the first resin composition on the roughened surface of the copper foil. The resin side of the insulating sheet obtained by coating and drying the second resin composition on the release film, A method of laminating the resin side of a copper clad insulating sheet obtained by heating and laminating on a panel for inner layer, and forming a layer of the first resin composition on the roughened surface of the copper foil (hereinafter referred to as "copper clad laminating" The second manufacturing method of the plate panel "), and the resin side of the insulating sheet formed by applying the second resin composition onto the release film and drying the first and the second side on the roughened surface of the copper foil. The first and second resin sets obtained by laminating the resin side of a copper clad insulating sheet formed by forming a layer of the resin composition of Method of heating the laminated copper-clad insulating sheet on the inner layer panel having a layer of the object (hereinafter referred to as "third production method of the copper-clad laminate panel".) It is. In addition, it is preferable to use roll laminating as a laminating means in each step because it can be continuously performed and productivity is good. Further, the use of hot roll lamination is more preferable because it reduces the entrainment of bubbles.

【0044】次に、得られた銅張積層板パネルの銅はく
の所定の位置にエッチングレジストを形成して、選択エ
ッチングにより、内層用パネルの特定の導体回路パター
ン上に対応するように表面銅はくに微小穴を空ける。露
出した樹脂組成物の層をアルカリ溶液で溶解して内層用
パネルの導体パターンを露出させ、第1および第2の樹
脂組成物の層を硬化させた後、内層用パネルの導体回路
パターンと表面の銅はくを導電物質で電気的に導通させ
る。その後、必要により最外層の銅はくを選択エッチン
グして所定のパターンを形成することによって、ブライ
ンドバイアホールを有する多層プリント配線板が製造で
きる。
Next, an etching resist is formed at a predetermined position on the copper foil of the obtained copper-clad laminate panel, and the surface thereof is selectively etched to correspond to a specific conductor circuit pattern of the inner layer panel. Make a small hole in the copper foil. The exposed layer of the resin composition is dissolved in an alkaline solution to expose the conductor pattern of the inner layer panel, and the first and second resin composition layers are cured, and then the conductor circuit pattern and the surface of the inner layer panel are formed. The copper foil is electrically conductive with a conductive material. Thereafter, if necessary, the outermost copper foil is selectively etched to form a predetermined pattern, whereby a multilayer printed wiring board having a blind via hole can be manufactured.

【0045】本発明で使用する内層用パネルは、片面ま
たは両面に導体回路パターンを有するもので、その片面
または両面に樹脂組成物を塗布するか、或いは絶縁シー
トまたは銅張絶縁シートを積層して用いる。
The inner layer panel used in the present invention has a conductor circuit pattern on one side or both sides. The resin composition is applied to one side or both sides of the panel, or an insulating sheet or a copper clad insulating sheet is laminated. To use.

【0046】樹脂組成物の塗布には、バーコーター、カ
ーテンコーター、ロールコーターまたはスクリーン印刷
等が採用できる。樹脂組成物には有機溶剤および必要に
応じてフィラーを添加して前記塗布方式に適した粘度に
なるよう調製しておく。
For coating the resin composition, a bar coater, a curtain coater, a roll coater, screen printing or the like can be adopted. An organic solvent and, if necessary, a filler are added to the resin composition to prepare a viscosity suitable for the coating method.

【0047】内層用パネルの導体回路パターン面と表面
銅はくの間の厚さは30〜60μmが好ましい。30μ
m未満では層間の絶縁抵抗および耐電圧が確保できず、
60μmを超えると小径のブラインドバイアホール形成
時にアルカリ溶解によりアンダーカットが大きくなり、
導電物質による層間の電気的接続信頼性が得られ難くな
りいずれも好ましくない。
The thickness between the conductor circuit pattern surface of the inner layer panel and the surface copper foil is preferably 30 to 60 μm. 30μ
If it is less than m, insulation resistance and withstand voltage between layers cannot be secured,
If it exceeds 60 μm, the undercut becomes large due to alkali dissolution when forming a small diameter blind via hole,
It is difficult to obtain reliability of electrical connection between layers by the conductive material, which is not preferable.

【0048】本発明で用いる銅張絶縁シートにおいて、
銅はくに塗布形成した第1の樹脂組成物の層の厚さは3
0〜60μmが好ましい。第2の樹脂組成物の層の厚さ
は、用いる内層用パネルの導体回路パターンの厚さによ
り選定すればよい。例えば、直接内層用パネルに塗布す
る場合には乾燥後の厚さが、導体回路パターンの銅はく
を埋め込むことができる程度に塗布すればよい。好まし
くは塗布後の樹脂組成物の層の表面が平滑性を有し、銅
はくの厚さとほぼ同程度になるよう塗布する。また、第
2の樹脂組成物を離型フィルムに塗布乾燥させ、内層用
パネルに加熱積層する場合には、例えば内層用パネルの
導体回路パターンの銅はくが厚さ18μmであれば、乾
燥後の厚みが15〜20μmになるよう第2の樹脂組成
物の層を離型フィルムに形成すればよく、35μmの銅
はくであれば、25〜40μmの厚さに形成するのが好
ましい。
In the copper-clad insulating sheet used in the present invention,
The thickness of the layer of the first resin composition applied and formed on the copper foil is 3
0 to 60 μm is preferable. The thickness of the layer of the second resin composition may be selected according to the thickness of the conductor circuit pattern of the inner layer panel to be used. For example, when it is applied directly to the inner layer panel, it may be applied so that the thickness after drying can embed the copper foil of the conductor circuit pattern. Preferably, the surface of the resin composition layer after coating has smoothness and is coated so as to have approximately the same thickness as the copper foil. When the release film is coated with the second resin composition and dried, and heat laminated on the inner layer panel, for example, if the copper foil of the conductor circuit pattern of the inner layer panel has a thickness of 18 μm, it is dried. The second resin composition layer may be formed on the release film so as to have a thickness of 15 to 20 μm, and is preferably 25 to 40 μm in the case of a 35 μm copper foil.

【0049】第1および第2の樹脂組成物を重ねて塗布
し乾燥させた銅張絶縁シートは、樹脂組成物の層の合計
厚さが大きくなり、該層の中の有機溶剤を完全に蒸発さ
せることは困難である。そのため、熱硬化のみで樹脂組
成物の層を硬化させると小さい気泡を生じることがあっ
た。本発明によれば、第1の樹脂組成物のみを塗布して
得られた層、第2の樹脂組成物のみを塗布して得られた
層は、いずれも薄いので短い乾燥時間で溶剤を蒸発させ
ることができ、熱硬化だけでも気泡を発生させずに硬化
させることができる。
In the copper-clad insulating sheet in which the first and second resin compositions are applied and dried, the total thickness of the resin composition layers becomes large, and the organic solvent in the layers is completely evaporated. It is difficult to get it done. Therefore, when the layer of the resin composition is cured only by thermosetting, small bubbles may be generated. According to the present invention, since the layer obtained by applying only the first resin composition and the layer obtained by applying only the second resin composition are both thin, the solvent is evaporated in a short drying time. And can be cured without generating bubbles even only by heat curing.

【0050】銅張積層板パネルの第2の製法または銅張
積層板パネルの第3の製法において、第2の樹脂組成物
の層を離型フィルム上に設けた絶縁シート或いは第1お
よび第2の樹脂組成物の層を銅はく上に設けた銅張絶縁
シートを、内層用パネルに熱ロールでラミネートすると
きにスピードを上げると、該パネル表面の導体回路パタ
ーンの段差のため気泡を巻き込むことがある。しかし銅
張積層板パネルの第2の製法において、第2の樹脂組成
物の層を離型フィルム上に設けた絶縁シートをまずパネ
ルにラミネートした後、再度加熱工程を加え、次に第1
の樹脂組成物の層を銅はく上に設けた銅張絶縁シートを
ラミネートすると、巻き込んだ気泡を取り除くこともで
きる。
In the second method for producing a copper-clad laminate panel or the third method for producing a copper-clad laminate panel, an insulating sheet provided with a layer of the second resin composition on the release film, or the first and second sheets. When the speed is increased when laminating a copper clad insulating sheet having a layer of the resin composition on a copper foil on an inner layer panel by heating rolls, bubbles are trapped due to a step of the conductor circuit pattern on the panel surface. Sometimes. However, in the second method for producing a copper clad laminate panel, an insulating sheet provided with a layer of the second resin composition on a release film is first laminated on the panel, then a heating step is added again, and then the first step is performed.
By laminating a copper clad insulating sheet having a layer of the resin composition on a copper foil, the entrapped air bubbles can be removed.

【0051】なお、銅張積層板パネルの第1の製法で
は、第2の樹脂組成物を内層用パネルを塗布した時には
表面が平滑性を有するが、導体回路パターン上とそれ以
外の部分では樹脂組成物の厚みと蒸発する有機溶剤の量
が異なり、また樹脂組成物の流動があるので、乾燥後に
は導体回路パターンの上部分が凸になる傾向がある。こ
の凹凸は表面銅はくにも影響を及ぼし、高密度パターン
形成が難しくなる場合もある。これに対して銅張積層板
パネルの第2の製法では、第2の樹脂組成物を予め塗布
してなる絶縁シートは既に有機溶剤を蒸発させているの
で、内層用パネルに積層すれば、第2の樹脂組成物は加
熱流動性が大きいので、導体回路パターン間や内層用パ
ネルの基板表面に樹脂組成物が流動し、空隙を皆無にす
ると共に樹脂組成物の層の表面を平滑にすることができ
るので、高密度パターンが必要になるプリント配線板に
より適している。
In the first method for producing a copper clad laminate panel, the surface has smoothness when the second resin composition is applied to the inner layer panel, but the resin is present on the conductor circuit pattern and other portions. Since the thickness of the composition and the amount of the evaporated organic solvent are different and the resin composition flows, the upper portion of the conductor circuit pattern tends to be convex after drying. These irregularities also affect the surface copper foil, which may make it difficult to form a high-density pattern. On the other hand, in the second method for producing a copper clad laminate panel, the insulating sheet formed by applying the second resin composition in advance has already evaporated the organic solvent, so if it is laminated on the inner layer panel, Since the resin composition of 2 has a large heating fluidity, the resin composition flows between the conductor circuit patterns and on the substrate surface of the panel for the inner layer to eliminate voids and smooth the surface of the resin composition layer. Therefore, it is more suitable for a printed wiring board that requires a high-density pattern.

【0052】本発明の多層プリント配線板の製造方法に
おいて用いる絶縁シートおよび/または銅張絶縁シート
は、離型紙を介してロール状に巻き取っておくと内層用
パネル等に連続的に積層できるので好ましい。例えば銅
張積層板パネルの第2の製法では、第2の樹脂組成物を
離型フィルムに塗工しロール状に巻き取った絶縁シート
を用いると内層用パネルに熱ロールで連続的に積層でき
る。また銅はくに第1の樹脂組成物の層を形成し、その
上に離型フィルムまたは離型紙を介してロール状に巻き
取ったロール状の銅張絶縁シートを用いると、引き続き
内層用パネルに連続的にロールラミネートすることがで
きる。
The insulating sheet and / or the copper-clad insulating sheet used in the method for producing a multilayer printed wiring board of the present invention can be continuously laminated on an inner layer panel or the like if wound in a roll shape via a release paper. preferable. For example, in the second method for producing a copper clad laminate panel, an insulating sheet coated with a second resin composition on a release film and wound in a roll can be used to continuously laminate the inner layer panel with a heat roll. . When a layer of the first resin composition is formed on the copper foil, and a roll-shaped copper-clad insulating sheet wound in a roll through a release film or release paper is used, the inner layer panel is continuously used. It can be roll-laminated continuously.

【0053】また、本発明で用いる銅張絶縁シートは銅
はくのマット面に樹脂組成物の層を形成し、銅はくの反
対面の銅はく上に予め感光性樹脂を塗布しておくことも
できる。該感光性樹脂は銅張絶縁シートを内層用パネル
にラミネートした後、ドライフィルムやエッチングレジ
ストの代わりに使用でき、多層プリント配線板の製造工
程においてドライフィルムやエッチングレジストの形成
工程を省くことができる。経済性が向上するだけではな
く、この方法を用いると歩留りも向上するから品質面で
も優位になり得る。
In the copper-clad insulating sheet used in the present invention, a layer of the resin composition is formed on the mat surface of the copper foil, and a photosensitive resin is previously applied on the copper foil on the opposite surface of the copper foil. You can also leave it. The photosensitive resin can be used in place of the dry film or the etching resist after laminating the copper clad insulating sheet on the inner layer panel, and the step of forming the dry film or the etching resist can be omitted in the manufacturing process of the multilayer printed wiring board. . Not only the economic efficiency is improved, but also the yield is improved by using this method, so that it can be superior in terms of quality.

【0054】本発明の多層プリント配線板の製造方法に
おいて、樹脂組成物の層の硬化は主として加熱によって
行うが、電子線によっても可能である。加熱の場合の温
度は80〜180℃の範囲が好ましく、より好ましくは
150〜170℃である。熱硬化で180℃を超えると
内層用パネルを構成する絶縁樹脂が劣化を起こし、80
℃未満では硬化に時間がかかると共に、架橋が不充分で
絶縁抵抗が充分に出ない恐れがある。
In the method for producing a multilayer printed wiring board of the present invention, the layer of the resin composition is cured mainly by heating, but it may be cured by electron beam. The temperature in the case of heating is preferably in the range of 80 to 180 ° C, more preferably 150 to 170 ° C. If the temperature exceeds 180 ° C by heat curing, the insulating resin that composes the inner layer panel will deteriorate,
If the temperature is lower than 0 ° C, it takes a long time to cure, and the crosslinking may be insufficient, resulting in insufficient insulation resistance.

【0055】ブラインドバイアホールの径が小さくなる
と、加熱時に該穴の周壁の樹脂組成物が流れ出し、流れ
の多い部分は樹脂が下の内層用パネルの導体回路パター
ンの表面を覆うことになり、ブラインドバイアホールに
めっきしても導通が得られない不良が発生する。このた
め、樹脂組成物が加熱により流れ始めた状態で紫外線照
射または電子線照射を行い、銅はくに空けたバイアホー
ルから下、またはバイアホールに面する部分の樹脂組成
物に活性エネルギー線を当て、樹脂組成物の硬化を進行
させることにより、樹脂流れの堰を形成させ、必要以上
に樹脂組成物が流れることを防止することができる。電
子線照射の場合には180〜300kVで10〜30M
radの条件がよく、ブラインドバイアホール周壁の樹
脂組成物の層の硬化だけでなく銅はくを電子線が透過す
ることにより18〜35μm厚の銅はくの下の樹脂組成
物の層も硬化させることができる。
When the diameter of the blind via hole becomes smaller, the resin composition on the peripheral wall of the hole flows out at the time of heating, and in the part where much flow occurs, the resin covers the surface of the conductor circuit pattern of the lower inner layer panel, and the blind Even if the via hole is plated, a defect in which continuity cannot be obtained occurs. Therefore, ultraviolet irradiation or electron beam irradiation is performed in a state where the resin composition starts to flow by heating, and an active energy ray is applied to the resin composition below the via hole opened in the copper foil or in the portion facing the via hole. By advancing the curing of the resin composition, it is possible to form a weir for the resin flow and prevent the resin composition from flowing more than necessary. In the case of electron beam irradiation, 10 to 30M at 180 to 300kV
The condition of rad is good, and not only the resin composition layer on the peripheral wall of the blind via hole is cured but also the resin composition layer under the 18-35 μm thick copper foil is cured by the electron beam penetrating the copper foil. Can be made.

【0056】本発明の多層プリント配線板の製造方法で
用いる樹脂組成物の層を有する銅張絶縁シートまたは絶
縁シートを内層用パネルに積層する際に、樹脂組成物の
層と内層導体回路パターンとの接着力を確保するため
に、該パターン表面を粗面化処理、ブラックオキサイド
処理、ブラウンオキサイド処理、レッドオキサイド処理
等を施しておくと好ましい。
When the copper clad insulating sheet or the insulating sheet having the layer of the resin composition used in the method for producing a multilayer printed wiring board of the present invention is laminated on the inner layer panel, the resin composition layer and the inner layer conductor circuit pattern are formed. In order to secure the adhesive strength of the above, it is preferable to subject the pattern surface to a roughening treatment, a black oxide treatment, a brown oxide treatment, a red oxide treatment and the like.

【0057】本発明の多層プリント配線板の製造方法に
おいて、ブラインドバイアホールを形成するための樹脂
組成物の層の溶解は有機溶剤でもできるが、アルカリ水
溶液を用いる方が、バイアホールの信頼性および作業性
等からもより好ましい。なぜならば有機溶剤で樹脂組成
物の層を溶解した場合には、膨潤かつ溶解反応であり、
溶解後の樹脂の境界がスムーズでなく粗くなり、しかも
境界近傍には有機溶剤が残るという問題がある。そのた
め、樹脂組成物の層を溶解して得られたブラインドバイ
アホールにめっきを施す場合に有機溶剤の残留の影響や
樹脂の境界が粗いため、無電解めっきが析出しにくくな
りめっきのピンホールの発生、めっきができたブライン
ドバイアホールにおいても残留有機溶剤が蒸発してボイ
ド、気泡、ふくれ等の問題が発生し、これらが層間の導
体回路間のブラインドバイアホールによる電気的および
機械的接続を不安定にし接続信頼性が得られないからで
ある。
In the method for producing a multilayer printed wiring board of the present invention, the layer of the resin composition for forming the blind via hole can be dissolved with an organic solvent, but using an alkaline aqueous solution improves reliability of the via hole and It is more preferable in terms of workability. Because when the layer of the resin composition is dissolved in an organic solvent, it is a swelling and dissolution reaction,
There is a problem that the boundary of the resin after dissolution becomes not smooth but rough, and the organic solvent remains in the vicinity of the boundary. Therefore, when the blind via hole obtained by dissolving the layer of the resin composition is plated, the effect of the residual organic solvent and the rough boundary of the resin make it difficult for the electroless plating to deposit and to prevent pinholes in the plating. Even in a blind via hole that has been generated and plated, residual organic solvent evaporates and problems such as voids, bubbles, and blistering occur, which prevent electrical and mechanical connection between the conductor circuits between layers due to the blind via hole. This is because it is stable and connection reliability cannot be obtained.

【0058】それに対してアルカリ水溶液で樹脂組成物
の層を溶解する場合はカルボキシル基が反応して溶解す
るから溶解速度も速く、アルカリ水溶液と接する部分か
ら樹脂が順次溶解されるから樹脂の境界が明確になる。
また、アルカリ水溶液で樹脂溶解をした後、酸で洗浄し
てやればアルカリ成分が残留することもなく、後の無電
解めっきの析出もよく、ボイド、気泡、ふくれ等の欠陥
も発生しないので信頼性の高いブラインドバイアホール
が形成できる。
On the other hand, when the layer of the resin composition is dissolved in an alkaline aqueous solution, the carboxyl group reacts and dissolves, so that the dissolution rate is fast, and the resin is sequentially dissolved from the portion in contact with the alkaline aqueous solution, so that the boundary of the resin is Be clear.
In addition, if the resin is dissolved in an alkaline aqueous solution and then washed with an acid, the alkaline component does not remain, the deposition of the electroless plating afterwards is good, and defects such as voids, bubbles, and blisters do not occur, so that reliability is improved. A high blind via hole can be formed.

【0059】また、有機溶剤のように作業環境を悪化さ
せることなく、従来のプリント配線板の製造工程の中で
ブラインドバイアホールを有する多層プリント配線板が
容易に製造できる点でも更に好ましい。すなわち、表面
銅はくに微小穴を形成する際に、アルカリ可溶型エッチ
ングレジストを使用すれば、銅はくエッチング後の膜は
ぎ工程で、レジストと同時に銅はくの微小穴の下部分の
樹脂組成物の層を溶解できる。またアルカリ現像型ドラ
イフィルムをレジストとした場合であれば、剥離用水酸
化ナトリウム水溶液で、レジスト除去と同時に銅はくの
微小穴の下部分の樹脂組成物の層の溶解除去が可能であ
り更に好ましい。
Further, it is more preferable in that a multilayer printed wiring board having a blind via hole can be easily manufactured in the conventional manufacturing process of a printed wiring board without deteriorating the working environment like an organic solvent. In other words, when an alkali-soluble etching resist is used when forming microscopic holes in the surface copper foil, the resin underneath the microscopic holes in the copper foil is simultaneously formed with the resist in the film stripping process after copper foil etching. The layer of composition can be dissolved. Further, when the alkali development type dry film is used as a resist, it is possible to dissolve and remove the resin composition layer under the fine holes of the copper foil at the same time as removing the resist with an aqueous sodium hydroxide solution for stripping. .

【0060】なおカルボキシル基等のアルカリ溶解性の
基を有する樹脂組成物の層をアルカリ水溶液で溶解した
場合は、カルボキシル基と反応したアルカリ分が残存し
て、銅の腐食や電気特性の低下を起こす恐れがあるの
で、溶解後、稀硫酸等で酸洗浄を行うことが望ましい。
内層用パネルの銅配線パターンを黒化処理した場合、ブ
ラインドバイアホールを酸で中和すると黒化処理の酸化
被膜が溶解し、銅の色が出ることになる。黒化処理被膜
の表面に樹脂が残っている場合は銅の色が見えないので
アルカリ溶解の良否をこの中和処理で判定できる。これ
とは別にメチレンブルー等の染色剤を使用して樹脂の残
差の有無を検出することもできる。
When a layer of a resin composition having an alkali-soluble group such as a carboxyl group is dissolved in an aqueous alkali solution, the alkali content that has reacted with the carboxyl group remains, resulting in corrosion of copper and deterioration of electrical characteristics. After dissolution, it is desirable to wash with acid such as dilute sulfuric acid.
When the copper wiring pattern of the inner layer panel is blackened, if the blind via holes are neutralized with an acid, the oxide film of the blackening treatment will be dissolved and copper color will appear. When the resin remains on the surface of the blackening treatment film, the color of copper cannot be seen, and therefore the quality of the alkali dissolution can be judged by this neutralization treatment. Alternatively, a dye such as methylene blue may be used to detect the presence or absence of residual resin.

【0061】本発明の多層プリント配線板の製造方法に
おいて、銅はくをエッチングして微小穴を設け、アルカ
リ水溶液でその微小穴の下の樹脂組成物の層を溶解させ
て露出した内層用パネルの導体回路パターンと表面銅は
くとを電気的に接続する方法としては、無電解めっきま
たは/および電解めっき法、金、銀、銅、はんだ等の導
電ペーストをスクリーン印刷、ディスペンサー、ピン印
刷等で塗布し乾燥硬化する方法等が使用できる。
In the method for producing a multilayer printed wiring board according to the present invention, a copper foil is etched to form fine holes, and the resin composition layer under the fine holes is dissolved with an alkaline aqueous solution to expose the inner layer panel. As a method for electrically connecting the conductor circuit pattern and the surface copper foil to each other, electroless plating and / or electrolytic plating, conductive paste such as gold, silver, copper and solder is screen-printed, dispenser, pin-printed, etc. It is possible to use a method such as coating by applying the composition and drying and curing.

【0062】なお、本発明の多層プリント配線板の製造
方法では、エッチングにより銅はくに微小穴を明け、樹
脂組成物をアルカリ溶液で溶解してブラインドバイアホ
ールを形成する工程で、従来機械加工によるVカット加
工やUカット加工に類する溝を一括して設けることがで
きる。内層用パネルの板厚が0.5mm以下で、第1お
よび第2の樹脂組成物の層の合計が50μm以上であれ
ば0.1〜0.3mmの溝を設ければ容易に手で切断で
きる。
In the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention, in the step of forming a blind via hole by dissolving a resin composition in an alkaline solution by forming fine holes in a copper foil by etching, a conventional machining method is used. Grooves similar to V-cut processing and U-cut processing can be collectively provided. If the panel thickness for the inner layer is 0.5 mm or less and the total layer of the first and second resin compositions is 50 μm or more, a groove of 0.1 to 0.3 mm is provided to easily cut by hand. it can.

【0063】[0063]

【実施例】(ベースレジンの合成例1)n−ブチルメタ
クリレート30重量部、メチルメタクリレート13重量
部、スチレン10重量部、ヒドロキシエチルメタクリレ
ート5重量部、メタクリル酸42重量部、アゾビスイソ
ブチルニトリル1重量部からなる混合物を、窒素ガス雰
囲気下で80℃に保持したプロピレングリコールモノメ
チルエーテル120重量部中に5時間かけて滴下した。
その後、1時間熟成後、更にアゾビスイソブチルニトリ
ル0.5重量部を加えて2時間熟成することによりカル
ボキシル基含有メタクリル樹脂を合成した。次に空気を
吹き込みながら、グリシジルメタクリレート20重量
部、テトラブチルアンモニウムブロマイド1.5重量
部、更に重合禁止剤としてハイドロキノン0.15重量
部を加えて温度80℃で8時間反応させて分子量50,
000〜70,000、酸価1.9meq/g、不飽和
当量0.83モル/kgのカルボキシル基を有する第1
のベースレジンを合成した。
EXAMPLES (Synthesis Example 1 of Base Resin) 30 parts by weight of n-butyl methacrylate, 13 parts by weight of methyl methacrylate, 10 parts by weight of styrene, 5 parts by weight of hydroxyethyl methacrylate, 42 parts by weight of methacrylic acid, 1 part by weight of azobisisobutylnitrile. The mixture of 10 parts by weight was added dropwise to 120 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether kept at 80 ° C. in a nitrogen gas atmosphere over 5 hours.
Then, after aging for 1 hour, 0.5 parts by weight of azobisisobutylnitrile was further added and aging for 2 hours to synthesize a carboxyl group-containing methacrylic resin. Next, while blowing in air, 20 parts by weight of glycidyl methacrylate, 1.5 parts by weight of tetrabutylammonium bromide, and 0.15 parts by weight of hydroquinone as a polymerization inhibitor are added and reacted at a temperature of 80 ° C. for 8 hours to give a molecular weight of 50,
000 to 70,000, acid value 1.9 meq / g, unsaturated equivalent 0.81 mol / kg having a carboxyl group 1st
Was synthesized.

【0064】(ベースレジンの合成例2)n−ブチルア
クリレート49.5重量部、スチレン9重量部、ヒドロ
キシエチルメタクリレート9重量部、メタクリル酸3
2.5重量部、アゾビスイソブチルニトリル2重量部お
よび連鎖移動剤としてドデシルメルカプタン2重量部か
らなる混合物を、窒素ガス雰囲気下で90℃に保持した
イソプロピルアルコール120重量部中に5時間かけて
滴下した。その後、1時間熟成後、更にアゾビスイソブ
チルニトリル1重量部を加えて2時間熟成することによ
りカルボキシル基含有メタクリル樹脂を合成した。次に
空気を吹き込みながら、グリシジルメタクリレート20
重量部、テトラブチルアンモニウムブロマイド1.5重
量部、更に重合禁止剤としてハイドロキノン0.15重
量部を加えて温度100℃で8時間反応させて、分子量
6,000〜8,000、酸価1.9meq/g、不飽
和当量1.14モル/kgのカルボキシル基を有する第
2のベースレジンを合成した。
(Synthesis example 2 of base resin) n-butyl acrylate 49.5 parts by weight, styrene 9 parts by weight, hydroxyethyl methacrylate 9 parts by weight, methacrylic acid 3
A mixture of 2.5 parts by weight, 2 parts by weight of azobisisobutylnitrile and 2 parts by weight of dodecyl mercaptan as a chain transfer agent was added dropwise to 120 parts by weight of isopropyl alcohol kept at 90 ° C. in a nitrogen gas atmosphere over 5 hours. did. Thereafter, after aging for 1 hour, 1 part by weight of azobisisobutylnitrile was further added and aging was performed for 2 hours to synthesize a carboxyl group-containing methacrylic resin. Then, while blowing air, glycidyl methacrylate 20
Parts by weight, tetrabutylammonium bromide 1.5 parts by weight, and 0.15 parts by weight of hydroquinone as a polymerization inhibitor are further added and reacted at a temperature of 100 ° C. for 8 hours to give a molecular weight of 6,000 to 8,000 and an acid value of 1. A second base resin having a carboxyl group of 9 meq / g and an unsaturated equivalent of 1.14 mol / kg was synthesized.

【0065】(樹脂組成物の調製)上述のように作製し
た合成例1のベースレジン65重量部、架橋剤としてペ
ンタエリスリトールトリアクリレート(東亞合成化学工
業(株)製アロニックスM−305)を20重量部およ
びウレタンアクリレート(東亞合成化学工業(株)製ア
ロニックスM−1600)15重量部、硬化剤としてジ
クミルパーオキサイド1.0重量部および希釈溶剤とし
てメチルエチルケトン50重量部をよく混合して第1の
樹脂組成物を調製した。またベースレジンを合成例2の
ものに変えた以外は同じ条件で第2の樹脂組成物を調製
した。
(Preparation of Resin Composition) 65 parts by weight of the base resin of Synthesis Example 1 prepared as described above and 20 parts by weight of pentaerythritol triacrylate (Aronix M-305 manufactured by Toagosei Kagaku Kogyo Co., Ltd.) as a crosslinking agent. Parts and 15 parts by weight of urethane acrylate (Aronix M-1600 manufactured by Toagosei Co., Ltd.), 1.0 part by weight of dicumyl peroxide as a curing agent, and 50 parts by weight of methyl ethyl ketone as a diluting solvent are mixed well to prepare a first mixture. A resin composition was prepared. A second resin composition was prepared under the same conditions except that the base resin was changed to that of Synthesis Example 2.

【0066】(多層プリント配線板の製造方法)本発明
の銅張絶縁シートを使用するブラインドバイアホールを
有する多層プリント配線板の製造方法を図面に則して説
明する。図1〜図10は本発明の多層プリント配線板の
製造過程および構成を説明するための概略断面図であ
る。
(Manufacturing Method of Multilayer Printed Wiring Board) A manufacturing method of a multilayer printed wiring board having a blind via hole using the copper clad insulating sheet of the present invention will be described with reference to the drawings. 1 to 10 are schematic cross-sectional views for explaining a manufacturing process and a structure of a multilayer printed wiring board according to the present invention.

【0067】(銅張絶縁シートの作成)厚さ35μmの
銅はく1の粗面化面に粘度3000cpsの第1の樹脂
組成物をバーコーターで塗布して、70℃、13分間乾
燥させた。溶剤残量は0.05%以下であり、樹脂組成
物の層2の厚さが40μmの銅張絶縁シート4が得られ
た。
(Preparation of Copper Clad Insulation Sheet) The first resin composition having a viscosity of 3000 cps was applied to the roughened surface of the copper foil 1 having a thickness of 35 μm by a bar coater and dried at 70 ° C. for 13 minutes. . The residual amount of the solvent was 0.05% or less, and a copper-clad insulating sheet 4 having a thickness of the resin composition layer 2 of 40 μm was obtained.

【0068】(絶縁シートの作成)離型フィルムとして
の50μmのポリエステルからなる剥離フィルム5の表
面に粘度2000cpsの第2の樹脂組成物をバーコー
ターで塗布し、70℃で8分間乾燥させた。溶剤残量は
0.05%以下であり、樹脂組成物の層3の厚さが30
μmの絶縁シート13が得られた。
(Preparation of Insulating Sheet) A second resin composition having a viscosity of 2000 cps was applied to the surface of a release film 5 made of polyester having a thickness of 50 μm as a release film by a bar coater and dried at 70 ° C. for 8 minutes. The residual solvent amount is 0.05% or less, and the thickness of the resin composition layer 3 is 30% or less.
An insulating sheet 13 of μm was obtained.

【0069】(実施例1)35μm厚の銅はく1を有す
る板厚0.6mmガラスエポキシ両面銅張板に、選択エ
ッチングにより所定の位置に銅配線パターン6を形成し
た内層用パネル7を用意し、その内層用パネル7の銅配
線パターン6表面を、亜塩素酸ナトリウム37g/リッ
トル、水酸化ナトリウム10g/リットル、りん酸3ナ
トリウム12水和物20g/リットルからなる溶液で、
95℃5分間処理し、よく水洗した後乾燥させ、黒化処
理を行った。
(Example 1) An inner layer panel 7 was prepared in which a copper wiring pattern 6 was formed at a predetermined position by selective etching on a 0.6 mm glass epoxy double-sided copper clad plate having a copper foil 1 having a thickness of 35 μm. Then, the surface of the copper wiring pattern 6 of the inner layer panel 7 is treated with a solution containing 37 g / liter of sodium chlorite, 10 g / liter of sodium hydroxide, and 20 g / liter of trisodium phosphate dodecahydrate.
It was treated at 95 ° C. for 5 minutes, washed well with water, dried, and blackened.

【0070】内層用パネルの両面に、離型フィルム上に
第2の樹脂組成物を塗布乾燥させた絶縁シート13を、
75℃のメタルロールでラミネートし、離型フィルムを
剥離した。90℃5分間加熱後、引き続き第1の樹脂組
成物を塗工した銅張絶縁シート4を、内層用パネルの両
面の第2の樹脂組成物の層3の上に、75℃のメタルロ
ールでラミネートして銅張積層板パネルを作成した(図
1〜図3)。
On both surfaces of the inner layer panel, the insulating sheet 13 obtained by applying the second resin composition on the release film and drying it,
The release film was peeled off by laminating with a metal roll at 75 ° C. After heating at 90 ° C. for 5 minutes, the copper-clad insulation sheet 4 coated with the first resin composition is continuously applied onto the layer 3 of the second resin composition on both surfaces of the inner layer panel with a metal roll at 75 ° C. It laminated and produced the copper clad laminated board panel (FIGS. 1-3).

【0071】上記銅張積層板パネルの銅はく1の表面の
0.3〜0.5mmφの銅はくの微小穴8を形成させる
箇所を除く部分に、スクリーン印刷法またはホト法でア
ルカリ可溶型のエッチングレジスト12を形成し、塩化
第2銅溶液で銅はくの微小穴の箇所の銅をエッチングし
た(図4)。続いて40℃の1重量%の炭酸ナトリウム
溶液を1.5kg/cm2 のスプレー圧で、上記銅はく
の微小穴8の箇所の下層の第1の樹脂組成物の層2を溶
解除去して下層の銅配線パターン6を露出させてブライ
ンドバイアホール9を形成すると同時にエッチングレジ
ストの除去を行った(図5)。
The surface of the copper foil 1 of the above-mentioned copper clad laminate panel can be alkali-printed on the surface of the copper foil 1 by screen printing or photo method except for the portions where the fine holes 8 of 0.3 to 0.5 mmφ are formed. A solution type etching resist 12 was formed, and the copper in the fine holes of the copper foil was etched with a cupric chloride solution (FIG. 4). Then 40 1 wt% sodium carbonate solution ℃ a spray pressure of 1.5 kg / cm 2, the layer 2 of the first resin composition of the underlying part of the small holes 8 of the copper foil is dissolved and removed by The underlying copper wiring pattern 6 was exposed to form a blind via hole 9 and at the same time, the etching resist was removed (FIG. 5).

【0072】引き続き、水洗、10%硫酸水溶液で洗浄
した後、100℃で30分予備加熱後、150℃で30
分間ベーキングし、第1の樹脂組成物の層2および第2
の樹脂組成物の層3を硬化させた。その後、図6に示す
ように内層用パネルの銅配線パターン6と外層の銅はく
1との接続を必要とするスルーホール10をドリル加工
し、図7に示すようにブラインドバイアホールとスルー
ホールを同時にめっきを施し、図8、図9、図10のよ
うにエッチングレジスト12を形成し、エッチング、膜
はぎを行い、ブラインドバイアホールを有する多層プリ
ント配線板が得られた。なお樹脂組成物の層には気泡の
発生は認められなく、表面銅はくは平滑であった。
Then, after washing with water and 10% sulfuric acid aqueous solution, preheating at 100 ° C. for 30 minutes and then at 150 ° C. for 30 minutes
Baking for 1 minute to form layer 2 of the first resin composition and second
The resin composition layer 3 was cured. After that, as shown in FIG. 6, a through hole 10 which requires connection between the copper wiring pattern 6 of the inner layer panel and the copper foil 1 of the outer layer is drilled, and the blind via hole and the through hole are formed as shown in FIG. Was simultaneously plated to form an etching resist 12 as shown in FIGS. 8, 9 and 10, and etching and film stripping were performed to obtain a multilayer printed wiring board having blind via holes. No bubbles were observed in the resin composition layer, and the surface copper foil was smooth.

【0073】上記のように作成したプリント配線板の−
65℃30分、125℃30分を1サイクルとする冷熱
サイクル試験、25mm角パターンで260℃3分間お
よび280℃60秒間のはんだ耐熱試験、プレッシャー
クッカーテスト(130℃、85%RH、100時間、
DC20Vバイアス)による層間絶縁耐圧試験ではいず
れも異常は認められなかった。
Of the printed wiring board prepared as described above.
65 ° C 30 minutes, 125 ° C 30 minutes as one cycle thermal cycle test, soldering heat resistance test at 260 ° C for 3 minutes and 280 ° C for 60 seconds in a 25 mm square pattern, pressure cooker test (130 ° C, 85% RH, 100 hours,
No abnormality was found in any of the interlayer withstand voltage tests under a DC20V bias).

【0074】(実施例2)実施例1と同じ黒化処理され
た銅配線パターン6を有する内層用パネル7の片面に第
2の樹脂組成物をスクリーン印刷で塗布し、70℃7分
乾燥した。樹脂組成物の厚さは銅配線パターン上が10
μmで、内層用パネルの絶縁基板上は35μmであっ
た。同様に他の面も第2の樹脂組成物を塗布し乾燥させ
た。引き続き第1の樹脂組成物を塗工した銅張絶縁シー
ト4を内層用パネルの表面の第2の樹脂組成物の層3の
上に75℃のメタルロールでラミネートして表面が平滑
な銅張積層パネルを作成した。
(Example 2) The second resin composition was applied by screen printing to one surface of the inner layer panel 7 having the copper wiring pattern 6 subjected to the same blackening treatment as in Example 1 and dried at 70 ° C for 7 minutes. . The thickness of the resin composition is 10 on the copper wiring pattern.
The thickness was 35 μm on the insulating substrate of the inner layer panel. Similarly, the other surface was coated with the second resin composition and dried. Subsequently, the copper clad insulating sheet 4 coated with the first resin composition is laminated on the layer 3 of the second resin composition on the surface of the inner layer panel with a metal roll at 75 ° C. to form a copper clad sheet having a smooth surface. A laminated panel was created.

【0075】その後、実施例1と同様に、銅はくの微小
穴を形成し、その下層の第1の樹脂組成物の層を溶解除
去して下層の銅配線パターンを露出させてブラインドバ
イアホールを形成し、樹脂組成物を硬化させ、スルーホ
ールをドリル加工し、ブラインドバイアホールとスルー
ホールを同時にめっきを施し、表面に回路形成を行い、
ブラインドバイアホールを有する多層プリント配線板を
得た。なお樹脂組成物の層には気泡の発生は認められな
かったが、表面銅はくは内層用パネルの導体回路パター
ンの影響を受け、僅かに波をうっていた。
Thereafter, in the same manner as in Example 1, minute holes of copper foil were formed, and the underlying layer of the first resin composition was dissolved and removed to expose the underlying copper wiring pattern to form a blind via hole. Is formed, the resin composition is cured, the through hole is drilled, the blind via hole and the through hole are plated at the same time, and the circuit is formed on the surface.
A multilayer printed wiring board having blind via holes was obtained. Although no bubbles were observed in the resin composition layer, the surface copper foil was affected by the conductor circuit pattern of the inner layer panel and was slightly wavy.

【0076】上記のように作成したプリント配線板の−
65℃30分125℃30分を1サイクルとする冷熱サ
イクル試験、25mm角パターンで260℃3分間およ
び280℃60秒間のはんだ耐熱試験、プレッシャーク
ッカーテスト(130℃、85%RH、100時間、D
C20Vバイアス)による層間絶縁耐圧試験ではいずれ
も異常は認められなかった。
Of the printed wiring board prepared as described above.
65 ° C. 30 minutes 125 ° C. 30 minutes as one cycle thermal cycle test, soldering heat resistance test at 260 ° C. for 3 minutes and 280 ° C. for 60 seconds in a 25 mm square pattern, pressure cooker test (130 ° C., 85% RH, 100 hours, D
No abnormality was found in the interlayer withstand voltage test by C20V bias).

【0077】(実施例3)離型フィルム上に第2の樹脂
組成物を塗布乾燥させた絶縁シート13と、第1の樹脂
組成物を塗工した銅張絶縁シート4を、ゴムロールで7
0℃、エアー圧0.5〜1kg/cm2 の条件で貼り合わ
せ、第1および第2の樹脂組成物の層を有する銅張絶縁
シートを作成した。実施例1と同じ黒化処理された銅配
線パターン6を有する内層用パネルの両面に、該銅張絶
縁シート13を、75℃のメタルロールでラミネートし
て銅張積層板パネルを作成した。
Example 3 An insulating sheet 13 in which a second resin composition was applied and dried on a release film and a copper-clad insulating sheet 4 in which the first resin composition was applied were placed in a rubber roll 7
The layers were laminated at 0 ° C. and an air pressure of 0.5 to 1 kg / cm 2 to prepare a copper-clad insulating sheet having layers of the first and second resin compositions. The copper clad insulating sheet 13 was laminated on both surfaces of the inner layer panel having the same blackened copper wiring pattern 6 as in Example 1 with a metal roll at 75 ° C. to prepare a copper clad laminate panel.

【0078】その後、実施例1と同様に、銅はくの微小
穴を形成し、その下層の第1の樹脂組成物の層を溶解除
去して下層の銅配線パターンを露出させてブラインドバ
イアホールを形成し、樹脂組成物を硬化させ、スルーホ
ールをドリル加工し、ブラインドバイアホールとスルー
ホールを同時にめっきを施し、表面に回路形成を行い、
ブラインドバイアホールを有する多層プリント配線板を
得た。なお樹脂組成物の層には気泡の発生は認められな
かったが、第2の樹脂組成物の層し内層用パネルの基板
の間に、ラミネート時に巻き込んだ僅かな気泡が存在し
た。また銅はく表面は平滑であった。
Thereafter, as in Example 1, minute holes of copper foil were formed, and the underlying layer of the first resin composition was dissolved and removed to expose the underlying copper wiring pattern to form a blind via hole. Is formed, the resin composition is cured, the through hole is drilled, the blind via hole and the through hole are plated at the same time, and the circuit is formed on the surface.
A multilayer printed wiring board having blind via holes was obtained. No air bubbles were observed in the resin composition layer, but there were slight air bubbles caught during lamination between the substrates of the second resin composition layered inner layer panel. The surface of the copper foil was smooth.

【0079】上記のように作成したプリント配線板の−
65℃30分125℃30分を1サイクルとする冷熱サ
イクル試験、プレッシャークッカーテスト(130℃、
85%RH、100時間、DC20Vバイアス)による
層間絶縁耐圧試験ではいずれも異常は認められなかっ
た。またはんだ耐熱試験では25mm角パターンで26
0℃3分間および280℃20秒間では異常はなかった
が、280℃60秒間では僅かなふくれが発生した。
Of the printed wiring board prepared as described above.
65 ° C 30 minutes 125 ° C 30 minutes as a cycle of thermal cycle test, pressure cooker test (130 ° C,
No abnormality was found in the inter-layer dielectric breakdown voltage test under 85% RH, 100 hours, DC20V bias). In the solder heat resistance test, it is 26 in a 25 mm square pattern.
There was no abnormality at 0 ° C. for 3 minutes and 280 ° C. for 20 seconds, but slight blistering occurred at 280 ° C. for 60 seconds.

【0080】[0080]

【発明の効果】本発明の製造方法によれば、物理特性、
電気特性、信頼性に優れたブラインドバイアホールを有
する多層プリント配線板が得られる。しかもブラインド
バイアホールを銅はくのエッチングと、アルカリ水溶液
による樹脂組成物の溶解で容易にかつ一括して形成する
ことができるので、従来一穴づつ空けていたドリル加工
に比べると生産性が大幅に向上するものである。また、
内層用パネル上の導体パターンの深さのばらつきがあっ
ても関係なく、内層用パネル上の導体パターンまで樹脂
組成物の層を溶解させることにより確実にブラインドバ
イアホールを設けることができるので従来のブラインド
バイアホール接続不良がなくなり、また内層用の他の層
の導体パターンと誤って接続されるショート不良は皆無
となる。更に内層用パネルと外側の銅はくとの間に使用
するプリプレグを減らすことができるので、プリント配
線板の厚さを薄くできることから高密度な多層プリント
配線板が得られるものである。
According to the manufacturing method of the present invention, the physical characteristics,
A multilayer printed wiring board having a blind via hole with excellent electrical characteristics and reliability can be obtained. Moreover, since blind via holes can be easily and collectively formed by etching copper foil and dissolving the resin composition with an alkaline aqueous solution, productivity is greatly improved compared to the conventional drilling process in which holes are drilled. It will be improved. Also,
Regardless of variations in the depth of the conductor pattern on the inner layer panel, the blind via hole can be surely provided by dissolving the layer of the resin composition up to the conductor pattern on the inner layer panel. The blind via hole connection failure is eliminated, and there is no short circuit failure that is erroneously connected to the conductor pattern of the other layer for the inner layer. Further, since the prepreg used between the inner layer panel and the outer copper foil can be reduced, the thickness of the printed wiring board can be reduced, so that a high-density multilayer printed wiring board can be obtained.

【0081】また第1および第2の樹脂組成物を別々に
塗工するので、合計の塗工時間を短縮できる。そして、
加熱のみでも気泡を発生させずに硬化ができるので、多
層プリント配線板の製造工程が低減でき、また大がかり
で高額な電子線照射装置も不要となる。従って、各種の
電子機器で高密度実装に使用されるブラインドバイアホ
ールの必要な多層プリント配線板の製造を可能とするた
め極めて有用である。
Since the first and second resin compositions are applied separately, the total application time can be shortened. And
Since curing can be performed without generating bubbles only by heating, the manufacturing process of the multilayer printed wiring board can be reduced, and a large and expensive electron beam irradiation device is not required. Therefore, it is extremely useful because it enables the manufacture of a multilayer printed wiring board which requires blind via holes used for high-density mounting in various electronic devices.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施例2の多層プリント配線板の製造
過程における、表面に銅配線パターン6を有する内層用
パネル4と絶縁シート13をロールラミネートする前の
構成を示した概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a configuration before roll-laminating an inner layer panel 4 having a copper wiring pattern 6 on its surface and an insulating sheet 13 in a manufacturing process of a multilayer printed wiring board according to a second embodiment of the present invention. is there.

【図2】同製造過程における、絶縁シート13をラミネ
ートし、離型フィルム5を取り除いた後、銅張絶縁シー
ト4をロールラミネートする前の構成を示した概略断面
図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the configuration before laminating the copper clad insulating sheet 4 after laminating the insulating sheet 13 and removing the release film 5 in the same manufacturing process.

【図3】同製造過程における、内層用パネルに銅張絶縁
シート4をロールラミネートした後の構成を示した概略
断面図である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a configuration after roll-laminating the copper clad insulating sheet 4 on the inner layer panel in the same manufacturing process.

【図4】同製造過程における、表面の銅はくにエッチン
グにより微小穴を形成した後の構成を示した概略断面図
である。
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a configuration after forming fine holes in a copper foil on the surface by etching in the same manufacturing process.

【図5】同製造過程における、銅はく微小穴下部の樹脂
組成物の層を溶解させた後の構成を示した概略断面図で
ある。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a configuration after the layer of the resin composition in the lower part of the copper foil microholes is dissolved in the same manufacturing process.

【図6】同製造過程における、ドリル加工によりスルー
ホールを形成した後の概略断面図である。
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view after forming a through hole by drilling in the same manufacturing process.

【図7】同製造過程における、めっき処理後の概略断面
図である。
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view after a plating process in the manufacturing process.

【図8】同製造過程における、外層銅はくパターンをエ
ッチングするためのエッチングレジスト形成後の概略断
面図である。
FIG. 8 is a schematic cross-sectional view after forming an etching resist for etching the outer layer copper foil pattern in the manufacturing process.

【図9】同製造過程における、外層の不要な銅はくをエ
ッチングした後の概略断面図である。
FIG. 9 is a schematic cross-sectional view after etching unnecessary copper foil of the outer layer in the same manufacturing process.

【図10】同製造過程における、エッチングレジストを
除去した後の概略断面図である。
FIG. 10 is a schematic cross-sectional view after removing the etching resist in the same manufacturing process.

【図11】従来のブラインドバイアホールを有する多層
プリント配線板の製造過程における、表面に銅配線パタ
ーンを有する内層用パネルと銅はくをプリプレグを介し
て加熱圧着させる前の構成を示した概略断面図である。
FIG. 11 is a schematic cross-sectional view showing a structure before thermocompression bonding an inner layer panel having a copper wiring pattern on the surface and a copper foil through a prepreg in the manufacturing process of a conventional multilayer printed wiring board having a blind via hole. It is a figure.

【図12】同製造過程における、加熱圧着した後の銅張
積層板パネルの構成を示した概略断面図である。
FIG. 12 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of a copper-clad laminate panel after being subjected to thermocompression bonding in the same manufacturing process.

【図13】同製造過程における、ドリル加工によりブラ
インドバイアホール用穴を形成した後の上記銅張積層板
パネルを示した概略断面図である。
FIG. 13 is a schematic cross-sectional view showing the copper clad laminate panel after forming blind via hole holes by drilling in the same manufacturing process.

【図14】同製造過程における、ドリル加工によりスル
ーホールを形成した後の上記銅張積層板パネルを示した
概略断面図である。
FIG. 14 is a schematic cross-sectional view showing the copper clad laminate panel after forming through holes by drilling in the manufacturing process.

【図15】同製造過程における、めっき処理後の概略断
面図である。
FIG. 15 is a schematic cross-sectional view after a plating process in the manufacturing process.

【図16】同製造過程における、エッチングレジストを
形成させた後の概略断面図である。
FIG. 16 is a schematic cross-sectional view after forming an etching resist in the manufacturing process.

【図17】同製造過程における、不要な銅はくのエッチ
ング除去を行った後の概略断面図である。
FIG. 17 is a schematic cross-sectional view after unnecessary copper foil is removed by etching in the manufacturing process.

【図18】同製造過程における、エッチングレジストを
除去した後の概略断面図である。
FIG. 18 is a schematic cross-sectional view after removing the etching resist in the same manufacturing process.

【図19】従来の銅張絶縁シートを用いた多層プリント
配線板の製造過程における、表面に銅配線パターンを有
する内層用パネルと銅張絶縁シートを、ロールラミネー
トする前の構成を示した概略断面図である。
FIG. 19 is a schematic cross-sectional view showing a configuration before roll-laminating an inner layer panel having a copper wiring pattern on its surface and a copper clad insulating sheet in the manufacturing process of a multilayer printed wiring board using a conventional copper clad insulating sheet. It is a figure.

【図20】同製造過程における、内層用パネルに銅張絶
縁シートをロールラミネートした後の構成を示した概略
断面図である。
FIG. 20 is a schematic cross-sectional view showing the configuration after roll-laminating the copper clad insulating sheet on the inner layer panel in the same manufacturing process.

【図21】同製造過程における、表面の銅はくにエッチ
ングにより微小穴を形成した後の構成を示した概略断面
図である。
FIG. 21 is a schematic cross-sectional view showing the configuration after forming minute holes in the copper foil on the surface by etching in the same manufacturing process.

【図22】同製造過程における、銅はく微小穴下部の樹
脂組成物の層を溶解させた後の構成を示した概略断面図
である。
FIG. 22 is a schematic cross-sectional view showing the configuration after the layer of the resin composition in the lower part of the copper foil microholes is dissolved in the same manufacturing process.

【図23】同製造過程における、ドリル加工によりスル
ーホールを形成した後の概略断面図である。
FIG. 23 is a schematic cross-sectional view after forming a through hole by drilling in the same manufacturing process.

【図24】同製造過程における、めっき処理後の概略断
面図である。
FIG. 24 is a schematic cross-sectional view after a plating process in the manufacturing process.

【図25】同製造過程における、外層銅はくパターンを
エッチングするためのエッチングレジスト形成後の概略
断面図である。
FIG. 25 is a schematic cross-sectional view after forming an etching resist for etching the outer layer copper foil pattern in the same manufacturing process.

【図26】同製造過程における、外層の不要な銅はくを
エッチングした後の概略断面図である。
FIG. 26 is a schematic cross-sectional view after etching an unnecessary copper foil of the outer layer in the same manufacturing process.

【図27】同製造過程における、エッチングレジストを
除去した後の概略断面図である。
FIG. 27 is a schematic cross-sectional view after removing the etching resist in the same manufacturing process.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 銅はく 2 第1の樹脂組成物の層 3 第2の樹脂組成物の層 4 銅張絶縁シート 5 離型フィルム 6 導体回路パターン(銅配線パターン) 7 内層用パネル 8 銅はくの微小穴 9 ブラインドバイアホール 10 スルーホール 11 めっきスルーホール 12 エッチングレジスト 13 絶縁シート 14 プリプレグ 15 ブラインドバイアホール用穴 16 第1および第2の樹脂組成物の層を形成した銅張
絶縁シート
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Copper foil 2 Layer of 1st resin composition 3 Layer of 2nd resin composition 4 Copper-clad insulating sheet 5 Release film 6 Conductor circuit pattern (copper wiring pattern) 7 Inner layer panel 8 Small copper foil Hole 9 Blind via hole 10 Through hole 11 Plating through hole 12 Etching resist 13 Insulating sheet 14 Prepreg 15 Hole for blind via hole 16 Copper clad insulating sheet on which layer of first and second resin composition is formed

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松本 健也 愛知県名古屋市港区船見町1番地の1 東 亞合成化学工業株式会社名古屋総合研究所 内 (72)発明者 神林 富夫 愛知県名古屋市港区船見町1番地の1 東 亞合成化学工業株式会社名古屋総合研究所 内 (72)発明者 平岡 秀樹 愛知県名古屋市港区船見町1番地の1 東 亞合成化学工業株式会社名古屋総合研究所 内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Kenya Matsumoto Kenya Matsumoto, Aichi Prefecture 1-chome, Funami-cho, Minato-ku, Tochi Gosei Chemical Industry Co., Ltd. Nagoya Research Institute (72) Inventor Tomio Kanbayashi Nagoya, Aichi Prefecture 1 Toago Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. Nagoya Research Institute, Minami-ku Funami-cho 1 (72) Inventor Hideki Hiraoka 1 Touna Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. Nagoya Research Laboratories 1 Funami-cho, Minato-ku Nagoya City, Aichi Prefecture Within

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 片面または両面に導体回路パターンを有
する内層用パネルに、アルカリ可溶性の第2の樹脂組成
物を塗布し、前記導体回路パターン間の隙間を第2の樹
脂組成物で埋め、乾燥させる工程;銅はくの粗面化面に
アルカリ可溶性の第1の樹脂組成物を塗布し乾燥させて
なる銅張絶縁シートの樹脂側を、前記第2の樹脂組成物
の層の上に積層する工程;銅はくの所定の位置にエッチ
ングで微小穴を空ける工程;該穴の部分の露出した、樹
脂組成物の層をアルカリ溶液で溶解して内層用パネルの
導体回路パターンを露出させる工程;第1および第2の
樹脂組成物の層を硬化させる工程;内層用パネルの導体
回路パターンと表面の銅はくを導電物質で導通させる工
程からなる多層プリント配線板の製造方法。
1. An inner layer panel having a conductor circuit pattern on one or both sides is coated with an alkali-soluble second resin composition, the gap between the conductor circuit patterns is filled with the second resin composition, and dried. A step of: laminating the resin side of the copper-clad insulating sheet obtained by applying the alkali-soluble first resin composition on the roughened surface of the copper foil and drying it, on the layer of the second resin composition A step of forming a minute hole by etching at a predetermined position of the copper foil; a step of dissolving the exposed layer of the resin composition with an alkaline solution to expose the conductor circuit pattern of the inner layer panel A method of manufacturing a multilayer printed wiring board comprising a step of curing the layers of the first and second resin compositions; a step of electrically connecting the conductor circuit pattern of the inner layer panel and the copper foil on the surface with a conductive substance.
【請求項2】 アルカリ可溶性で加熱流動性の大きい第
2の樹脂組成物を離型フィルム上に塗布し乾燥させてな
る絶縁シートの樹脂側を、片面または両面に導体回路パ
ターンを有する内層用パネルに加熱積層し、前記導体回
路パターン間の隙間を第2の樹脂組成物で埋める工程;
離型フィルムを剥離する工程;銅はくの粗面化面にアル
カリ可溶性の第1の樹脂組成物を塗布し乾燥させてなる
銅張絶縁シートの樹脂側を、前記第2の樹脂組成物の層
の上に積層する工程;銅はくの所定の位置にエッチング
で微小穴を空ける工程;該穴の部分の露出した樹脂組成
物の層をアルカリ溶液で溶解して内層用パネルの導体回
路パターンを露出させる工程;第1および第2の樹脂組
成物の層を硬化させる工程;内層用パネルの導体回路パ
ターンと表面の銅はくを導電物質で導通させる工程から
なる多層プリント配線板の製造方法。
2. A panel for an inner layer having a conductor circuit pattern on one or both sides of the resin side of an insulating sheet obtained by applying a second resin composition which is soluble in alkali and has high heat fluidity on a release film and drying the resin sheet. Heating and laminating the layers to fill the gaps between the conductor circuit patterns with the second resin composition;
The step of peeling the release film; the resin side of the copper-clad insulating sheet obtained by applying the alkali-soluble first resin composition to the roughened surface of the copper foil and drying the same is used as the second resin composition. A step of laminating on a layer; a step of forming a micro hole by etching at a predetermined position of a copper foil; a layer of the resin composition exposed at the hole portion is dissolved with an alkaline solution to form a conductor circuit pattern of an inner layer panel A method for producing a multilayer printed wiring board, which comprises a step of exposing the first and second resin composition layers; a step of electrically connecting the conductor circuit pattern of the inner layer panel and the copper foil on the surface with a conductive substance. .
【請求項3】 銅はくの粗面化面に加熱流動性が小さく
アルカリ可溶性の第1の樹脂組成物を塗布し乾燥させて
なる銅張絶縁シートの第1の樹脂組成物の層と、アルカ
リ可溶性で加熱流動性の大きい第2の樹脂組成物を離型
フィルム上に塗布し乾燥させてなる絶縁シートの第2の
樹脂組成物の層を積層して、第1および第2の樹脂組成
物の層を有する銅張絶縁シートを作成する工程;片面ま
たは両面に導体回路パターンを有する内層用パネルに第
1および第2の樹脂組成物の層を有する銅張絶縁シート
の樹脂側を加熱積層し、前記導体回路パターン間の隙間
を第2の樹脂組成物で埋める工程;銅はくの所定の位置
にエッチングで微小穴を空ける工程;該穴の部分の露出
した樹脂組成物の層をアルカリ溶液で溶解して内層用パ
ネルの導体回路パターンを露出させる工程;第1および
第2の樹脂組成物の層を硬化させる工程;内層用パネル
の導体回路パターンと表面の銅はくを導電物質で導通さ
せる工程からなる多層プリント配線板の製造方法。
3. A layer of the first resin composition of a copper-clad insulating sheet, which is obtained by applying the alkali-soluble first resin composition having a small heating fluidity to the roughened surface of the copper foil and drying it. A first resin composition and a second resin composition are obtained by laminating a second resin composition layer of an insulating sheet obtained by applying a second resin composition that is alkali-soluble and has high heat fluidity onto a release film and then drying it. Of a copper-clad insulation sheet having a layer of a product; a resin side of the copper-clad insulation sheet having a layer of the first and second resin compositions is heat-laminated on an inner layer panel having a conductor circuit pattern on one or both sides. Then, a step of filling a gap between the conductor circuit patterns with a second resin composition; a step of forming a minute hole by etching at a predetermined position of the copper foil; an alkali is applied to the layer of the resin composition exposed in the hole portion. Dissolve in a solution and apply the conductor circuit pattern of the inner layer panel. Of the multilayer printed wiring board, which comprises a step of exposing the resin layer of the first and second resin compositions; a step of electrically connecting the conductor circuit pattern of the inner layer panel and the copper foil on the surface with a conductive material. Production method.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1997016948A1 (en) * 1995-10-31 1997-05-09 Sumitomo Bakelite Company Limited Multilayer printed circuit board and process for producing the same
WO1997017824A1 (en) 1995-11-10 1997-05-15 Ibiden Co., Ltd. Multilayered printed wiring board and its manufacture
US6338936B1 (en) 1998-02-02 2002-01-15 Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd. Photosensitive resin composition and method for formation of resist pattern by use thereof

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