JPH07120445A - イオン分析装置 - Google Patents
イオン分析装置Info
- Publication number
- JPH07120445A JPH07120445A JP26891493A JP26891493A JPH07120445A JP H07120445 A JPH07120445 A JP H07120445A JP 26891493 A JP26891493 A JP 26891493A JP 26891493 A JP26891493 A JP 26891493A JP H07120445 A JPH07120445 A JP H07120445A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- solution
- suppressor
- measured
- eluent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ノイズを小さくできると共に、安定なベース
ラインを得ることができる。 【構成】 イオン交換膜を介して除去液で挟まれたサプ
レッサの溶離液室に分離カラムで分離した被測定溶液を
導き、前記サプレッサに印加した電圧によって被測定溶
液からイオン交換膜を介して妨害イオンを除去液側に除
去した後、被測定溶液中のイオンを分析するイオン分析
装置において、前記サプレッサで除去液側に発生するガ
スを除去する脱気装置を設けたことを特徴している。
ラインを得ることができる。 【構成】 イオン交換膜を介して除去液で挟まれたサプ
レッサの溶離液室に分離カラムで分離した被測定溶液を
導き、前記サプレッサに印加した電圧によって被測定溶
液からイオン交換膜を介して妨害イオンを除去液側に除
去した後、被測定溶液中のイオンを分析するイオン分析
装置において、前記サプレッサで除去液側に発生するガ
スを除去する脱気装置を設けたことを特徴している。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば、陰イオンや陽
イオンを分析するイオンクロマトグラフィのようなイオ
ン分析装置に関し、更に詳しくは、バックグランドの影
響を小さくして精度良く被測定溶液中のイオンを測定す
ることのできるイオン分析装置に関する。
イオンを分析するイオンクロマトグラフィのようなイオ
ン分析装置に関し、更に詳しくは、バックグランドの影
響を小さくして精度良く被測定溶液中のイオンを測定す
ることのできるイオン分析装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図４は、従来のイオンクリマログラフィ
の構成図である。図中、１は例えば、０．００３Ｍの炭
酸ナトリウムを貯蔵してなる溶離液槽、２は溶離液をサ
ンプル導入装置３に圧送するポンプ、４は分離カラム
で、サンプル導入装置３によって導入された被測定溶液
のイオンを分離する。
の構成図である。図中、１は例えば、０．００３Ｍの炭
酸ナトリウムを貯蔵してなる溶離液槽、２は溶離液をサ
ンプル導入装置３に圧送するポンプ、４は分離カラム
で、サンプル導入装置３によって導入された被測定溶液
のイオンを分離する。
【０００３】分離カラム４でイオンが分離された被測定
溶液は、サプレッサ５で妨害イオン、この場合はナトリ
ウムイオンが除去され、導電度計６に送出される。導電
度計６に送出された被測定溶液は、測定後、今度は除去
液としてサプレッサに送出され被測定液中からイオン交
換膜を介して妨害イオンを取り除いた後、廃液槽７導か
れる。
溶液は、サプレッサ５で妨害イオン、この場合はナトリ
ウムイオンが除去され、導電度計６に送出される。導電
度計６に送出された被測定溶液は、測定後、今度は除去
液としてサプレッサに送出され被測定液中からイオン交
換膜を介して妨害イオンを取り除いた後、廃液槽７導か
れる。
【０００４】８は直流電源で、サプレッサ５に電圧を印
加し、被測定溶液から妨害イオンをイオン交換膜を介し
て除去液側に移動する。サプレッサ５で妨害イオンが除
去された被測定溶液は、電導度計６で伝導度が測定さ
れ、クロマトグラムとして記録計に表示される。尚、こ
こで説明した除去液は、被測定溶液が再利用されて用い
られているが、別途ラインを設け、ドデシルベンゼンス
ルフォン酸ナトリウム等のような溶液をサプレッサに供
給するようにしてもよい。
加し、被測定溶液から妨害イオンをイオン交換膜を介し
て除去液側に移動する。サプレッサ５で妨害イオンが除
去された被測定溶液は、電導度計６で伝導度が測定さ
れ、クロマトグラムとして記録計に表示される。尚、こ
こで説明した除去液は、被測定溶液が再利用されて用い
られているが、別途ラインを設け、ドデシルベンゼンス
ルフォン酸ナトリウム等のような溶液をサプレッサに供
給するようにしてもよい。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このような従来のイオ
ン分析装置は、被測定溶液からイオン交換膜を介して妨
害イオンを除去液側に移動する為に、サプレッサに電圧
を印加するので、除去液側に水素ガス若しくは酸素ガス
が発生し、被測定溶液が流れる流路を狭め流動変動を起
こす。このために、図５のクロマトグラムに示すように
ノイズが大きくなり、更に、ベースラインがドリフトす
るという問題点が発生する。
ン分析装置は、被測定溶液からイオン交換膜を介して妨
害イオンを除去液側に移動する為に、サプレッサに電圧
を印加するので、除去液側に水素ガス若しくは酸素ガス
が発生し、被測定溶液が流れる流路を狭め流動変動を起
こす。このために、図５のクロマトグラムに示すように
ノイズが大きくなり、更に、ベースラインがドリフトす
るという問題点が発生する。
【０００６】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、サプレッサに発生するガスを脱気装置によって
除去するようにしたもので、ベースラインが安定で、ノ
イズの小さなイオン分析装置を提供することを目的とし
ている。
もので、サプレッサに発生するガスを脱気装置によって
除去するようにしたもので、ベースラインが安定で、ノ
イズの小さなイオン分析装置を提供することを目的とし
ている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明は、イオン交換膜を介して除去液で挟
まれたサプレッサの溶離液室に分離カラムで分離した被
測定溶液を導き、前記サプレッサに印加した電圧によっ
て被測定溶液からイオン交換膜を介して妨害イオンを除
去液側に除去し、被測定溶液中のイオンを分析するイオ
ン分析装置において、前記サプレッサで除去液側に発生
するガスを除去する脱気装置、を設けたことを特徴とし
ている。
るために、本発明は、イオン交換膜を介して除去液で挟
まれたサプレッサの溶離液室に分離カラムで分離した被
測定溶液を導き、前記サプレッサに印加した電圧によっ
て被測定溶液からイオン交換膜を介して妨害イオンを除
去液側に除去し、被測定溶液中のイオンを分析するイオ
ン分析装置において、前記サプレッサで除去液側に発生
するガスを除去する脱気装置、を設けたことを特徴とし
ている。
【０００８】
【作用】サプレッサに電圧が印加されると、妨害イオン
は除去液側に移動する。この時、除去液側に発生した発
生ガスは、脱気装置で除去される。
は除去液側に移動する。この時、除去液側に発生した発
生ガスは、脱気装置で除去される。
【０００９】
【実施例】以下、図面を用いて本発明の一実施例を詳細
に説明する。図１は、本発明のイオン分析装置の要部を
示した構成図である。図中、２０は被測定溶液から妨害
イオンを除去するサプレッサである。サプレッサ２０
は、ステンレス鋼からなる二枚の平板２１、２２の間に
絶縁部材２３を介し、陽イオン交換膜２４が配置され、
陽極液室２５、陰極液室２６及び溶離液室２７が設けら
れている。
に説明する。図１は、本発明のイオン分析装置の要部を
示した構成図である。図中、２０は被測定溶液から妨害
イオンを除去するサプレッサである。サプレッサ２０
は、ステンレス鋼からなる二枚の平板２１、２２の間に
絶縁部材２３を介し、陽イオン交換膜２４が配置され、
陽極液室２５、陰極液室２６及び溶離液室２７が設けら
れている。
【００１０】２５Ａは除去液が供給される除去液供給
口、２５Ｂは除去液排出口である。除去液排出口２５Ｂ
から排出された除去液は、脱気装置３０によって陽極液
室２５で発生したガスが除去された後、陰極液室２６側
の除去液供給口２６Ａに送出され、除去液排出口２６Ｂ
を介して廃液槽７に送出される。
口、２５Ｂは除去液排出口である。除去液排出口２５Ｂ
から排出された除去液は、脱気装置３０によって陽極液
室２５で発生したガスが除去された後、陰極液室２６側
の除去液供給口２６Ａに送出され、除去液排出口２６Ｂ
を介して廃液槽７に送出される。
【００１１】サプレッサは、平板２１に正電位が印加さ
れ、平板２２に負電位が印加されているので、溶離液室
２７を流れる被測定溶液は、溶離液中のＮａ+が陰極液
室２６側に移動し、陽極液室２５からＨ+が供給され
る。この時、電気分解のため陽極液室２５にはＯ2ガス
が、陰極液室２６にはＨ2ガスが発生する。
れ、平板２２に負電位が印加されているので、溶離液室
２７を流れる被測定溶液は、溶離液中のＮａ+が陰極液
室２６側に移動し、陽極液室２５からＨ+が供給され
る。この時、電気分解のため陽極液室２５にはＯ2ガス
が、陰極液室２６にはＨ2ガスが発生する。
【００１２】脱気装置３０は、陽極液室２５で発生した
ガスを除去し、発生ガスがイオン交換膜を押して溶離液
室２７を狭め、中を流れる被測定流体の流量が変化しな
いようにする。
ガスを除去し、発生ガスがイオン交換膜を押して溶離液
室２７を狭め、中を流れる被測定流体の流量が変化しな
いようにする。
【００１３】図２は、本発明の他の実施例を示した構成
図である。図中、図１と同一作用をするものは同一符号
を付けて説明する。２８は除去液供給口２５Ａ（２６
Ａ）と除去液排出口２５Ｂ（２６Ｂ）との間に設けられ
るバイパスである。このような構成にあっては、陽極液
室２５の途中でも発生ガスを除去できるし、陰極液室２
６の途中からガスを完全に取り除いた除去液を供給でき
るので、発生ガスの影響を非常に小さなものとすること
ができる。
図である。図中、図１と同一作用をするものは同一符号
を付けて説明する。２８は除去液供給口２５Ａ（２６
Ａ）と除去液排出口２５Ｂ（２６Ｂ）との間に設けられ
るバイパスである。このような構成にあっては、陽極液
室２５の途中でも発生ガスを除去できるし、陰極液室２
６の途中からガスを完全に取り除いた除去液を供給でき
るので、発生ガスの影響を非常に小さなものとすること
ができる。
【００１４】尚、図中は、バイパス２８は１本である
が、複数本設けることで効果は更に大きくなる。また、
脱気装置３０は、バイパス２８毎に設けるようにしても
よいし、バイパスを陽極液室２５毎、陰極液室２６毎に
ループ式に設けてもよい。
が、複数本設けることで効果は更に大きくなる。また、
脱気装置３０は、バイパス２８毎に設けるようにしても
よいし、バイパスを陽極液室２５毎、陰極液室２６毎に
ループ式に設けてもよい。
【００１５】図３は、本実施例で得られたクロマトグラ
ムで、ブランクの状態、即ち被測定溶液がない場合を示
した図である。尚、分析条件は図の下部に示してある。
データは、時間変化にかかわらず、ベースラインも一定
していて、ノイズも従来のものに対し半分以下になって
いることが分かる。
ムで、ブランクの状態、即ち被測定溶液がない場合を示
した図である。尚、分析条件は図の下部に示してある。
データは、時間変化にかかわらず、ベースラインも一定
していて、ノイズも従来のものに対し半分以下になって
いることが分かる。
【発明の効果】以上、詳細に説明したように本発明のイ
オン分析装置は、脱気装置によってサプレッサに発生し
たガスを除去しているので、発生ガスがイオン交換膜を
押して溶離液室を狭めることもなく、溶離液室を流れる
被測定流体の流量を一定にできるためにノイズを小さく
できると共に、安定なベースラインを得ることができ
る。
オン分析装置は、脱気装置によってサプレッサに発生し
たガスを除去しているので、発生ガスがイオン交換膜を
押して溶離液室を狭めることもなく、溶離液室を流れる
被測定流体の流量を一定にできるためにノイズを小さく
できると共に、安定なベースラインを得ることができ
る。
【図１】本発明のイオン分析装置の要部を示した構成図
である。
である。
【図２】本発明の他の実施例の構成図である。
【図３】本実施例で得られたクロマトグラムである。
【図４】従来のイオンクリマトグラフィの構成図であ
る。
る。
【図５】従来装置で得られるクロマトグラムである。
２０ サプレッサ ２１、２２ 平板 ２５ 陽極液室 ２６ 陰極液室 ２７ 溶離液室 ３０ 脱気装置
Claims (1)
- 【請求項１】 イオン交換膜を介して除去液で挟まれた
サプレッサの溶離液室に分離カラムで分離した被測定溶
液を導き、前記サプレッサに印加した電圧によって被測
定溶液からイオン交換膜を介して妨害イオンを除去液側
に除去した後、被測定溶液中のイオンを分析するイオン
分析装置において、 前記サプレッサで除去液側に発生するガスを除去する脱
気装置、 を設けたことを特徴とするイオン分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26891493A JPH07120445A (ja) | 1993-10-27 | 1993-10-27 | イオン分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26891493A JPH07120445A (ja) | 1993-10-27 | 1993-10-27 | イオン分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07120445A true JPH07120445A (ja) | 1995-05-12 |
Family
ID=17465032
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26891493A Pending JPH07120445A (ja) | 1993-10-27 | 1993-10-27 | イオン分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07120445A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001194353A (ja) * | 1999-10-13 | 2001-07-19 | Alltech Associates Inc | 試料の検出に先立ってガスを除去するイオンクロマトグラフィー装置及び方法 |
| JP2008531992A (ja) * | 2005-02-23 | 2008-08-14 | ダイオネックス コーポレイション | 接触的ガス排除を利用するイオンクロマトグラフィーシステム |
| WO2016098260A1 (ja) * | 2014-12-19 | 2016-06-23 | 株式会社島津製作所 | イオンクロマトグラフ |
-
1993
- 1993-10-27 JP JP26891493A patent/JPH07120445A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001194353A (ja) * | 1999-10-13 | 2001-07-19 | Alltech Associates Inc | 試料の検出に先立ってガスを除去するイオンクロマトグラフィー装置及び方法 |
| JP2008531992A (ja) * | 2005-02-23 | 2008-08-14 | ダイオネックス コーポレイション | 接触的ガス排除を利用するイオンクロマトグラフィーシステム |
| JP2012002826A (ja) * | 2005-02-23 | 2012-01-05 | Dionex Corp | 接触的ガス排除を利用するイオンクロマトグラフィーシステム |
| US8308952B2 (en) | 2005-02-23 | 2012-11-13 | Dionex Corporation | Ion chromatography system using catalytic gas elimination |
| US8784655B2 (en) | 2005-02-23 | 2014-07-22 | Dionex Corporation | Ion chromatography system using catalytic gas elimination |
| WO2016098260A1 (ja) * | 2014-12-19 | 2016-06-23 | 株式会社島津製作所 | イオンクロマトグラフ |
| JPWO2016098260A1 (ja) * | 2014-12-19 | 2017-07-20 | 株式会社島津製作所 | イオンクロマトグラフ |
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