JPH07118091A - Apparatus for growing semiconductor single crystal - Google Patents
Apparatus for growing semiconductor single crystalInfo
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- JPH07118091A JPH07118091A JP28762193A JP28762193A JPH07118091A JP H07118091 A JPH07118091 A JP H07118091A JP 28762193 A JP28762193 A JP 28762193A JP 28762193 A JP28762193 A JP 28762193A JP H07118091 A JPH07118091 A JP H07118091A
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- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ケーブル巻き上げ機構
を持たないシャフト方式の半導体単結晶育成装置に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a shaft type semiconductor single crystal growing apparatus having no cable winding mechanism.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体素子の基板となるシリコン単結晶
の育成方法の一つとして、るつぼ内の原料融液から円柱
状の単結晶を引き上げるチョクラルスキー法(以下CZ
法という)が用いられている。CZ法においては、単結
晶育成装置のチャンバ内に設置したるつぼに原料である
多結晶シリコンを充填し、前記るつぼの外周に設けたヒ
ータによって原料を加熱溶解した上、シードホルダに取
り付けた種子結晶を融液に浸漬し、シードホルダおよび
るつぼを同方向または逆方向に回転しつつシードホルダ
を引き上げて単結晶を成長させる。単結晶の直径制御に
は、一般に、ロードセルによる結晶重量式直径制御シス
テムまたはテレビカメラ等で直径を測定する光学式直径
制御システムが用いられている。2. Description of the Related Art A Czochralski method (hereinafter referred to as CZ) for pulling a cylindrical single crystal from a raw material melt in a crucible is one of the methods for growing a silicon single crystal as a substrate of a semiconductor device.
Law) is used. In the CZ method, a crucible installed in a chamber of a single crystal growing apparatus is filled with polycrystalline silicon as a raw material, a raw material is heated and melted by a heater provided on the outer periphery of the crucible, and then a seed crystal attached to a seed holder. Is immersed in the melt, and the seed holder is pulled up while the seed holder and the crucible are rotated in the same direction or opposite directions to grow a single crystal. In order to control the diameter of a single crystal, a crystal weight type diameter control system using a load cell or an optical diameter control system for measuring the diameter with a television camera or the like is generally used.
【0003】図7は、シャフト方式による従来の半導体
単結晶育成装置の主要部分について、その概略構成を模
式的に示したものである。引き上げシャフト21は、ガ
イドレール22に沿って上下動するキャリッジ23に軸
受を介して回転自在に取り付けられ、前記引き上げシャ
フト21の下端にはシードホルダ3が取着されている。
前記引き上げシャフト21の上端には歯車24が嵌着さ
れ、駆動軸25によって駆動される歯車列を介して歯車
24および引き上げシャフト21が回転し、最終的には
種子結晶から成長した単結晶4に回転運動を与える。な
お、26は融液、10はるつぼ、27はるつぼ10を回
転ならびに昇降させるるつぼ軸である。結晶重量式直径
制御システムを有するシャフト方式の半導体単結晶育成
装置の場合は、中空の引き上げシャフトにフォースバー
が遊貫され、このフォースバーの上端はロードセルの荷
重印加部に連結され、下端にはシードホルダが取着され
ている。FIG. 7 schematically shows a schematic structure of a main part of a conventional semiconductor single crystal growing apparatus of the shaft type. The pull-up shaft 21 is rotatably attached via a bearing to a carriage 23 that moves up and down along a guide rail 22, and a seed holder 3 is attached to the lower end of the pull-up shaft 21.
A gear 24 is fitted to the upper end of the pulling shaft 21, and the gear 24 and the pulling shaft 21 rotate through a gear train driven by a drive shaft 25, and finally a single crystal 4 grown from a seed crystal is obtained. Gives a rotational movement. Reference numeral 26 is a melt, 10 is a crucible, and 27 is a crucible shaft for rotating and moving the crucible 10 up and down. In the case of a shaft type semiconductor single crystal growing device having a crystal weight type diameter control system, a force bar is loosely inserted into a hollow pulling shaft, the upper end of this force bar is connected to the load applying part of the load cell, and the lower end is The seed holder is attached.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】上記シャフト方式の半
導体単結晶育成装置においては、キャリッジを上昇させ
ることによって引き上げシャフトとともに単結晶を引き
上げる。従って、単結晶の直胴部長さを従来のものより
長くしようとすると、半導体単結晶育成装置自体の全高
を高くしなければならず、設備コストの上昇を招く。こ
れに伴って育成装置を収容するクリーンルームの高さも
高くする必要があり、単結晶の原価に占める設備コスト
の割合は極めて高いものとなる。本発明は上記従来の問
題点に着目してなされたもので、ケーブル巻き上げ機構
を持たないシャフト方式の半導体単結晶育成装置におい
て、従来よりも長尺の単結晶を引き上げるためシード移
動ストロークを延長させることができるような半導体単
結晶育成装置を提供することを目的としている。In the shaft type semiconductor single crystal growing apparatus, the single crystal is pulled up together with the pulling shaft by raising the carriage. Therefore, if the length of the straight body portion of the single crystal is made longer than that of the conventional one, the total height of the semiconductor single crystal growing apparatus itself must be increased, resulting in an increase in equipment cost. Along with this, it is necessary to increase the height of the clean room accommodating the growing device, and the ratio of the equipment cost to the cost of the single crystal becomes extremely high. The present invention has been made in view of the above conventional problems, and in a shaft type semiconductor single crystal growing apparatus having no cable winding mechanism, a seed moving stroke is extended in order to pull a longer single crystal than before. It is an object of the present invention to provide a semiconductor single crystal growth apparatus capable of performing the above.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に係る半導体単結晶育成装置の第1の発明で
は、シャフト方式の半導体単結晶育成装置において、全
長を短くした引き上げシャフトまたはフォースバーの下
端あるいは、ロードセルの下端にワイヤを介してシード
ホルダを取着した上、前記ワイヤの一部をシードホルダ
の上方で横方向にたぐり寄せる機構を設けたことを特徴
としている。また第2の発明では、シャフト方式の半導
体単結晶育成装置において、全長を短くした引き上げシ
ャフトまたはフォースバーの下端あるいは、ロードセル
の下端にワイヤ引張り機構を設け、一端にシードホルダ
を釣支したワイヤの他端を前記ワイヤ引張り機構に掛止
したことを特徴とし、第3の発明では、シャフト方式の
半導体単結晶育成装置において、全長を短くした引き上
げシャフトまたはフォースバーの下端あるいは、ロード
セルの下端にワイヤを介してシードホルダを取着した
上、前記シードホルダを上方に吊り上げる機構を設けた
ことを特徴としている。In order to achieve the above object, in the first invention of the semiconductor single crystal growing apparatus according to the present invention, in the shaft type semiconductor single crystal growing apparatus, the pulling shaft or force having a shortened total length is used. A seed holder is attached to the lower end of the bar or the lower end of the load cell via a wire, and a mechanism is provided for laterally pulling a part of the wire above the seed holder. According to a second aspect of the invention, in a shaft type semiconductor single crystal growing apparatus, a wire pulling mechanism is provided at the lower end of a pulling shaft or force bar having a shortened overall length or the lower end of a load cell, and a wire having a seed holder supported at one end is provided. The other end is hooked on the wire pulling mechanism. In the third invention, in the shaft type semiconductor single crystal growing apparatus, the wire is attached to the lower end of the pulling shaft or force bar or the lower end of the load cell having a shortened overall length. The mechanism is characterized in that a seed holder is attached via the, and a mechanism for lifting the seed holder upward is provided.
【0006】[0006]
【作用】シャフト方式の半導体単結晶育成装置におい
て、上記第1の発明は、光学式直径制御システムを用い
る単結晶育成装置の場合は全長を短くした引き上げシャ
フトの下端あるいは、ロードセルの下端、結晶重量式直
径制御システムを用いる単結晶育成装置の場合は全長を
短くしたフォースバーの下端あるいは、ロードセルの下
端にワイヤを介してシードホルダを取着し、従来のシャ
フトまたはフォースバーの大部分あるいは、全体をワイ
ヤに置き換えたものである。このワイヤの一部をシード
ホルダの上方で水平方向にたぐり寄せることにより、単
結晶育成装置の全高を高くしなくてもシード移動ストロ
ークを従来よりも長くすることができ、単結晶はより上
方に引き上げられる。従って、従来よりも長尺の単結晶
を取り出すことができる。In the shaft type semiconductor single crystal growing apparatus, the first invention is such that, in the case of the single crystal growing apparatus using the optical diameter control system, the lower end of the pulling shaft or the lower end of the load cell, the weight of the crystal are shortened. In the case of a single crystal growth system that uses a diameter control system, the seed holder is attached to the lower end of the force bar whose length is shortened or the lower end of the load cell via a wire, and most or all of the conventional shaft or force bar is attached. Is replaced with a wire. By pulling part of this wire horizontally above the seed holder, the seed movement stroke can be made longer than before without raising the overall height of the single crystal growth apparatus, and the single crystal can be moved upward. Be lifted. Therefore, a single crystal longer than the conventional one can be taken out.
【0007】第2の発明では、引き上げシャフトまたは
フォースバーの下端あるいは、ロードセルの下端にワイ
ヤ引張り機構を設け、シードホルダを釣支するワイヤの
端末を前記ワイヤ引張り機構に掛止したので、ワイヤ引
張り手段を用いて前記ワイヤの端末を引っ張ることによ
り、単結晶を従来よりも上方まで引き上げることができ
る。また第3の発明では、引き上げシャフトまたはフォ
ースバーの下端にワイヤを連結した上、前記ワイヤの下
端に取着したシードホルダを上方に吊り上げる機構を設
けたので、前記吊り上げ機構を駆動することにより単結
晶を従来よりも上方まで引き上げることができる。In the second invention, the wire pulling mechanism is provided at the lower end of the pulling shaft or the force bar or the lower end of the load cell, and the end of the wire for supporting the seed holder is hooked on the wire pulling mechanism. By pulling the end of the wire by using a means, the single crystal can be pulled up to a higher level than before. Further, in the third invention, since the wire is connected to the lower end of the pulling shaft or the force bar and the seed holder attached to the lower end of the wire is lifted upward, the lifting mechanism is driven to drive the seed holder. The crystal can be pulled up above the conventional one.
【0008】[0008]
【実施例】以下に、本発明に係る半導体単結晶育成装置
の実施例について、図面を参照して説明する。図1は請
求項1の第1実施例に基づく半導体単結晶育成装置の概
略構成を示す模式図で、育成の完了した単結晶をチャン
バ上方に引き上げて冷却している状態を示している。こ
の単結晶育成装置は結晶重量式直径制御システムを有
し、装置頂部にロードセル1が設けられている。前記ロ
ードセル1に連結されたフォースバーの長さは極めて短
いものであり、その下端にワイヤ2が接続されている。
また、ロードセル下端に直接ワイヤ2を接続してもい
い。前記ワイヤ2の下端にはシードホルダ3が取着さ
れ、種子結晶の下端には育成された単結晶4が釣支され
ている。また、チャンバ5の上方空間はベローズ6によ
って被包され、減圧状態が維持されている。前記ベロー
ズ6の左外側には2個のプーリ7,8が配設され、右外
側にはプーリ9が配設されている。これらのプーリ7,
8,9はいずれも図示しない手段によって水平方向に移
動可能である。なお、10は融液を貯留するるつぼであ
る。Embodiments of the semiconductor single crystal growth apparatus according to the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic diagram showing a schematic structure of a semiconductor single crystal growth apparatus according to the first embodiment of the first aspect, showing a state in which a grown single crystal is pulled above a chamber and cooled. This single crystal growing apparatus has a crystal weight type diameter control system, and a load cell 1 is provided on the top of the apparatus. The length of the force bar connected to the load cell 1 is extremely short, and the wire 2 is connected to the lower end of the force bar.
Alternatively, the wire 2 may be directly connected to the lower end of the load cell. A seed holder 3 is attached to the lower end of the wire 2, and a grown single crystal 4 is supported on the lower end of the seed crystal. Further, the upper space of the chamber 5 is covered with a bellows 6 to maintain a reduced pressure state. Two pulleys 7 and 8 are arranged on the left outer side of the bellows 6, and a pulley 9 is arranged on the right outer side thereof. These pulleys 7,
Both 8 and 9 can be moved in the horizontal direction by means not shown. In addition, 10 is a crucible which stores a melt.
【0009】冷却した単結晶4を炉外に取り出すに当た
り、ベローズ6を上方に圧縮する。このとき、プーリ
7,8,9から下方が露出される。次に、図2に示すよ
うにプーリ7,8をワイヤ2に当接するまで右方に水平
移動させ、プーリ9をワイヤ2に当接した後も更に左方
に水平移動させる。これによりワイヤ2の一部は、プー
リ7から上方の部分とプーリ8から下方の部分とを垂直
に保ちながらその中間の部分が横方向にたぐり寄せら
れ、その分だけ単結晶4が上方に引き上げられることに
なる。従って、従来よりも直胴部長さの長い単結晶を取
り出すことができる。When the cooled single crystal 4 is taken out of the furnace, the bellows 6 is compressed upward. At this time, the lower part is exposed from the pulleys 7, 8 and 9. Next, as shown in FIG. 2, the pulleys 7 and 8 are horizontally moved to the right until they come into contact with the wire 2, and even after the pulley 9 is brought into contact with the wire 2, they are further moved leftward. As a result, a part of the wire 2 is laterally pulled up while the upper part of the wire 7 and the lower part of the pulley 8 are kept vertically, and the single crystal 4 is pulled up by that much. Will be done. Therefore, it is possible to take out a single crystal having a straight body length longer than that of a conventional one.
【0010】図3は請求項1の第2実施例に基づく半導
体単結晶育成装置の概略構成を示す模式図で、育成の完
了した単結晶を冷却中の状態を示している。この単結晶
育成装置は結晶重量式直径制御システムを有し、第1実
施例と同様にロードセル1には長さの短いフォースバー
を介してワイヤ2が接続されている。また、ロードセル
下端に直接ワイヤ2を接続してもいい。また、磁性流動
体ケース11とベローズ6との間にプーリケース12が
設けられ、このプーリケース12内にはワイヤ2の近傍
左側に2個のプーリ7,8が、右側にはプーリ9がいず
れも水平方向に移動自在に収容されている。FIG. 3 is a schematic diagram showing a schematic structure of a semiconductor single crystal growing apparatus according to the second embodiment of the present invention, and shows a state in which a grown single crystal is being cooled. This single crystal growing apparatus has a crystal weight type diameter control system, and the wire 2 is connected to the load cell 1 via a short force bar as in the first embodiment. Alternatively, the wire 2 may be directly connected to the lower end of the load cell. A pulley case 12 is provided between the magnetic fluid case 11 and the bellows 6. Inside the pulley case 12, there are two pulleys 7 and 8 on the left side near the wire 2 and a pulley 9 on the right side. Is also movably accommodated in the horizontal direction.
【0011】育成の完了した単結晶4はベローズ6に囲
まれた空間内に引き上げられるが、従来よりも長尺の単
結晶の場合は、シード移動ストローク限度まで引き上げ
ても単結晶の下端がゲートバルブよりも上方に上がらな
い場合がある。しかし本実施例の場合はプーリ7,8を
ワイヤ2に当接するまで右方に水平移動させ、プーリ9
をワイヤ2に当接した後も更に左方に水平移動させるこ
とにより、ワイヤ2の一部がプーリケース12内で横方
向にたぐり寄せられるので、単結晶4の下端をゲートバ
ルブよりも上方に引き上げることができる。冷却済みの
単結晶4はベローズ6を上方に圧縮した後、取り出され
る。The grown single crystal 4 is pulled into the space surrounded by the bellows 6. However, in the case of a single crystal longer than the conventional one, the lower end of the single crystal is gated even if pulled up to the seed movement stroke limit. It may not rise above the valve. However, in the case of this embodiment, the pulleys 7 and 8 are horizontally moved to the right until they come into contact with the wire 2,
By further horizontally moving the wire 2 leftward after contacting the wire 2, a part of the wire 2 is laterally drawn in the pulley case 12, so that the lower end of the single crystal 4 moves above the gate valve. Can be raised. The cooled single crystal 4 is taken out after compressing the bellows 6 upward.
【0012】図4は請求項2の第1実施例に基づく半導
体単結晶育成装置において、育成した単結晶を取り出す
場合を示す模式図である。長さの短い引き上げシャフト
またはフォースバー13の下端にはプーリ14が軸着さ
れ、ワイヤ2の上端は前記プーリ14から外れないよう
にストッパによって掛止されている。ワイヤ2の下端に
はシードホルダ3が取着され、プーリ14は、単結晶育
成時にワイヤ2が引き上げシャフトまたはフォースバー
13の中心を通る鉛直線と一致する位置を維持するよう
に取り付けられている。FIG. 4 is a schematic diagram showing a case where the grown single crystal is taken out in the semiconductor single crystal growing apparatus according to the first embodiment of the second aspect. A pulley 14 is axially attached to the lower end of the pulling shaft or the force bar 13 having a short length, and the upper end of the wire 2 is hooked by a stopper so as not to come off the pulley 14. The seed holder 3 is attached to the lower end of the wire 2, and the pulley 14 is attached so as to maintain the position where the wire 2 coincides with the vertical line passing through the center of the pulling shaft or the force bar 13 during single crystal growth. .
【0013】冷却した単結晶4を炉外に取り出す際、ベ
ローズ6を上方に圧縮し、引き上げシャフトまたはフォ
ースバー13の下端から下の部分を露出する。次に、ワ
イヤ2上端のストッパに図示しないワイヤ引張り手段を
連結してワイヤ2を引っ張り、単結晶4を取り出し可能
な高さまで引き上げる。この操作により、従来よりも長
尺の単結晶を取り出すことができる。When the cooled single crystal 4 is taken out of the furnace, the bellows 6 is compressed upward to expose the lower part from the lower end of the pulling shaft or force bar 13. Next, a wire pulling means (not shown) is connected to the stopper at the upper end of the wire 2 to pull the wire 2 and pull the single crystal 4 to a height at which it can be taken out. By this operation, a longer single crystal than before can be taken out.
【0014】図5は請求項2の第2実施例に基づく半導
体単結晶育成装置において、育成した単結晶を取り出す
場合を示す模式図で、長さの短い引き上げシャフトまた
はフォースバー13の下端に2個のプーリ15が軸着さ
れ、シードホルダ3の上端にもプーリ16が軸着されて
いる。ワイヤ2は、一側のプーリ15からプーリ16を
介して他側のプーリ15に張架され、左右両端末にはそ
れぞれストッパが取着されていて、前記プーリ15から
脱落することを防止している。図示しないワイヤ引張り
手段によりワイヤ2の両端を引っ張ることにより、単結
晶4を取り出し可能な高さまで引き上げることができ
る。FIG. 5 is a schematic diagram showing a case where a grown single crystal is taken out in a semiconductor single crystal growing apparatus according to the second embodiment of the present invention. A single pulley 15 is pivotally mounted, and a pulley 16 is also pivotally mounted on the upper end of the seed holder 3. The wire 2 is stretched from the pulley 15 on one side to the pulley 15 on the other side via the pulley 16 and stoppers are attached to both left and right ends to prevent the wire 2 from falling off from the pulley 15. There is. By pulling both ends of the wire 2 by a wire pulling means (not shown), the single crystal 4 can be pulled up to a height at which it can be taken out.
【0015】図6は請求項3の実施例に基づく半導体単
結晶育成装置において、育成した単結晶を取り出す場合
を示す模式図である。シードホルダ3の上部にはくびれ
が設けられ、このくびれの部分に引き上げ金具17が嵌
着されている。前記引き上げ金具17の左右両端と単結
晶育成装置の頂部に設置された2個のワイヤ巻き取りド
ラム18との間にそれぞれワイヤ19が張架されてい
る。前記ワイヤ19は単結晶4の育成中はたるませてお
き、ロードセルにフォースバーを介して連結されたワイ
ヤ2のみに荷重がかかるようにしておく。ワイヤ2は直
接ロードセルに連続してもいい。育成が完了した単結晶
4は、前記ワイヤ巻き取りドラム18を駆動して2本の
ワイヤ19を巻き取ることにより、ベローズ6で囲まれ
た空間内にシードホルダ3とともに引き上げられ、冷却
される。単結晶4の冷却が完了したら、ベローズ6を上
方に圧縮して炉外に取り出す。FIG. 6 is a schematic diagram showing a case where the grown single crystal is taken out in the semiconductor single crystal growing apparatus according to the third embodiment. A constriction is provided on the upper portion of the seed holder 3, and a pull-up fitting 17 is fitted to the constricted portion. Wires 19 are stretched between the left and right ends of the pulling metal member 17 and two wire winding drums 18 installed at the top of the single crystal growing apparatus. The wire 19 is slackened during the growth of the single crystal 4, and the load is applied only to the wire 2 connected to the load cell via the force bar. The wire 2 may be directly connected to the load cell. The single crystal 4 that has been grown is pulled up together with the seed holder 3 into the space surrounded by the bellows 6 by driving the wire winding drum 18 and winding the two wires 19, and is cooled. When the cooling of the single crystal 4 is completed, the bellows 6 is compressed upward and taken out of the furnace.
【0016】[0016]
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、引
き上げシャフトまたはフォースバーの長さを短くしてそ
の下端にワイヤを連結し、このワイヤを横方向または上
方向にたぐり寄せる機構を設けて単結晶をより上方に引
き上げられるようにしたので、ケーブル巻き上げ機構を
持たないシャフト方式の半導体単結晶育成装置を用い
て、従来よりも長尺の単結晶を引き上げることが可能と
なる。従って、下記の効果が得られる。 (1)半導体単結晶育成装置の高さと、前記育成装置を
収容するクリーンルームの高さを、従来のシャフト方式
の場合に比べて低くすることができ、設備コストの低
減、ひいては単結晶製造コストの低減が可能となる。ま
た、既存のシャフト方式の単結晶育成装置に小規模の改
良を施すことにより、従来よりも長尺の単結晶を引き上
げることができるようになる。 (2)本発明を適用すればシード移動ストロークに余裕
ができるので、るつぼの大口径化すなわちチャージ量の
増大が可能となり、単結晶生産効率を向上させることが
できる。As described above, according to the present invention, the length of the pull-up shaft or the force bar is shortened, the wire is connected to the lower end of the pull-up shaft or the force bar, and a mechanism for pulling the wire laterally or upward is provided. Since the single crystal can be pulled up further by using the shaft-type semiconductor single crystal growing apparatus having no cable winding mechanism, it is possible to pull up a longer single crystal than before. Therefore, the following effects can be obtained. (1) The height of the semiconductor single crystal growing apparatus and the height of the clean room accommodating the growing apparatus can be made lower than in the case of the conventional shaft system, which leads to a reduction in equipment cost and a single crystal manufacturing cost. It is possible to reduce. Further, by making a small-scale improvement to the existing shaft type single crystal growing apparatus, it becomes possible to pull a single crystal longer than the conventional one. (2) When the present invention is applied, the seed movement stroke can be made larger, so that it is possible to increase the diameter of the crucible, that is, increase the charge amount, and improve the single crystal production efficiency.
【図1】請求項1の第1実施例に基づく半導体単結晶育
成装置の概略構成を示す模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing a schematic configuration of a semiconductor single crystal growth apparatus based on a first embodiment of claim 1.
【図2】図1の半導体単結晶育成装置において、単結晶
を取り出す場合を示す模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing a case where a single crystal is taken out in the semiconductor single crystal growth apparatus of FIG.
【図3】請求項1の第2実施例に基づく半導体単結晶育
成装置の概略構成を示す模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing a schematic configuration of a semiconductor single crystal growing apparatus based on a second embodiment of claim 1.
【図4】請求項2の第1実施例に基づく半導体単結晶育
成装置において、単結晶を取り出す場合を示す模式図で
ある。FIG. 4 is a schematic view showing a case where a single crystal is taken out in the semiconductor single crystal growing apparatus according to the first embodiment of claim 2.
【図5】請求項2の第2実施例に基づく半導体単結晶育
成装置において、単結晶を取り出す場合を示す模式図で
ある。FIG. 5 is a schematic view showing a case where a single crystal is taken out in the semiconductor single crystal growing apparatus according to the second embodiment of the present invention.
【図6】請求項3の実施例に基づく半導体単結晶育成装
置において、単結晶を取り出す場合を示す模式図であ
る。FIG. 6 is a schematic view showing a case where a single crystal is taken out in the semiconductor single crystal growing apparatus based on the embodiment of claim 3.
【図7】シャフト方式による従来の半導体単結晶育成装
置の主要部分について、その概略構成を示す模式図であ
る。FIG. 7 is a schematic diagram showing a schematic configuration of a main part of a conventional semiconductor single crystal growth apparatus of a shaft type.
1 ロードセル 2,19 ワイヤ 3 シードホルダ 4 単結晶 7,8,9,14,15,16 プーリ 12 プーリケース 13 フォースバー 17 引き上げ金具 18 ワイヤ巻き取りドラム 1 load cell 2,19 wire 3 seed holder 4 single crystal 7,8,9,14,15,16 pulley 12 pulley case 13 force bar 17 pulling metal fitting 18 wire winding drum
Claims (3)
おいて、全長を短くした引き上げシャフトまたはフォー
スバーの下端あるいは、ロードセルの下端にワイヤを介
してシードホルダを取着した上、前記ワイヤの一部をシ
ードホルダの上方で横方向にたぐり寄せる機構を設けた
ことを特徴とする半導体単結晶育成装置。1. In a shaft type semiconductor single crystal growing apparatus, a seed holder is attached to a lower end of a pulling shaft or a force bar having a reduced overall length or a lower end of a load cell via a wire, and a part of the wire is attached. An apparatus for growing a semiconductor single crystal, which is provided with a mechanism for laterally pulling above a seed holder.
おいて、全長を短くした引き上げシャフトまたはフォー
スバーの下端あるいは、ロードセルの下端にワイヤ引張
り機構を設け、一端にシードホルダを釣支したワイヤの
他端を前記ワイヤ引張り機構に掛止したことを特徴とす
る半導体単結晶育成装置。2. In a shaft type semiconductor single crystal growing apparatus, a wire pulling mechanism is provided at the lower end of a pulling shaft or force bar having a shortened overall length or at the lower end of a load cell, and the other end of the wire with a seed holder supported at one end. An apparatus for growing a semiconductor single crystal, characterized in that:
おいて、全長を短くした引き上げシャフトまたはフォー
スバーの下端あるいは、ロードセルの下端にワイヤを介
してシードホルダを取着した上、前記シードホルダを上
方に吊り上げる機構を設けたことを特徴とする半導体単
結晶育成装置。3. In a shaft type semiconductor single crystal growing apparatus, a seed holder is attached to the lower end of a pulling shaft or force bar having a shortened overall length or the lower end of a load cell via a wire, and the seed holder is moved upward. A semiconductor single crystal growth apparatus having a lifting mechanism.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP05287621A JP3076488B2 (en) | 1993-10-22 | 1993-10-22 | Semiconductor single crystal growth equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP05287621A JP3076488B2 (en) | 1993-10-22 | 1993-10-22 | Semiconductor single crystal growth equipment |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07118091A true JPH07118091A (en) | 1995-05-09 |
JP3076488B2 JP3076488B2 (en) | 2000-08-14 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP05287621A Expired - Fee Related JP3076488B2 (en) | 1993-10-22 | 1993-10-22 | Semiconductor single crystal growth equipment |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3076488B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012082087A (en) * | 2010-10-08 | 2012-04-26 | Sumitomo Metal Fine Technology Co Ltd | Single crystal pulling device and crucible supporting device |
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1993
- 1993-10-22 JP JP05287621A patent/JP3076488B2/en not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2012082087A (en) * | 2010-10-08 | 2012-04-26 | Sumitomo Metal Fine Technology Co Ltd | Single crystal pulling device and crucible supporting device |
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Publication number | Publication date |
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JP3076488B2 (en) | 2000-08-14 |
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