JPH07116403A - 極低温冷凍機 - Google Patents

極低温冷凍機

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JPH07116403A
JPH07116403A JP26862793A JP26862793A JPH07116403A JP H07116403 A JPH07116403 A JP H07116403A JP 26862793 A JP26862793 A JP 26862793A JP 26862793 A JP26862793 A JP 26862793A JP H07116403 A JPH07116403 A JP H07116403A
Authority
JP
Japan
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temperature
helium
refrigerant
nitrogen
refrigerator
Prior art date
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Pending
Application number
JP26862793A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroyuki Morishita
弘之 森下
Yuichi Kita
雄一 喜多
Hirotoshi Torii
宏年 鳥居
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daikin Industries Ltd
Original Assignee
Daikin Industries Ltd
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Publication date
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Priority to JP26862793A priority Critical patent/JPH07116403A/ja
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Pending legal-status Critical Current

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  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 電気ヒータを不要にできて低コストで、信頼
性低下なくヒートステージの温度を必要温度に調節でき
るようにする。 【構成】 循環路16にヘリウム冷媒を充填すると共
に、このヘリウム冷媒に、極低温膨張機11におけるヒ
ートステージ12のヘリウム冷媒による温度低下を抑制
する窒素を5〜50%体積充填し、ヘリウム冷媒と混合
させた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は極低温冷凍機に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、真空室と真空排気装置との間に介
装され、前記真空室内の水分を凝縮させて排気するよう
にしたコールドトラップは、ヘリウム冷媒を充填した極
低温冷凍機を用い、この冷凍機のヒートステージにコー
ルドパネルを接続して、該コールドパネルのクライオ面
を極低温に冷却し、このクライオ面に水分を凝縮して排
気するようにしている。
【0003】所でコールドトラップによる水分の排気
は、前記したように前記コールドパネルのクライオ面を
極低温に冷却して水分を凝縮させるのであるが、前記コ
ールドパネルの温度が下がり過ぎると前記真空室内に用
いる例えばアルゴンガスなどのプロセスガスも凝縮する
問題があり、このため、前記コールドパネルの温度を、
水分の排気が有効にできながらプロセスガスの凝縮が生
じない最適な温度(熱負荷作用時で70〜120K程
度)に保持することが要求されており、このために、前
記ヒートステージの無負荷時における最低到達温度は5
0〜60K前後がベターとされている。
【0004】所が従来の極低温冷凍機ではヘリウム冷媒
を用いているため、冷凍能力がコールドパネルの必要大
きさ及びその熱負荷に対し大きく、前記冷凍機における
ヒートステージの温度は、無負荷時において20K以下
となるのである。このため、本出願人は、コールドトラ
ップに用いる極低温冷凍機において、前記冷凍機のヒー
トステージやコールドトラップに電気ヒータを取付け、
このヒータを温度コントローラーにより操作して前記ヒ
ートステージの温度制御を行うようにしたものを提案し
た。(特願平4−50874号) 即ち、この出願で提案したコールドトラップは、図3に
示したようにヘリウム冷凍機AのヒートステージBにコ
ールドパネルPを接続すると共に、このコールドパネル
PのヒートステージBに対する背面側に電気ヒータHを
取付けたもので、温度コントロ−ラーCによる前記電気
ヒータHの操作により、前記コールドパネルCの温度を
水分の排気に適した温度に保持し、アルゴンガスなどの
プロセスガスが凝縮しないようにしたものである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】所が以上のように電気
ヒータH及び温度コントロ−ラCを用いることにより、
前記コールドパネルPの温度調節を行えるのであるが、
前記電気ヒータHや温度コントロ−ラーCを特別に設け
る必要があり、このため前記冷凍機と共にコールドトラ
ップを構成する場合、そのシステムのイニシャルコスト
が高くなるだけでなくランニングコストも高くなり、そ
の上、温度コントロ−ラーCにより前記コールドパネル
Pの温度制御を行うのであるから、使用者による温度制
御の操作性が難しくなるし、機器の信頼性に難点が生ず
る問題も有している。
【0006】本発明は従来のコールドトラップ用冷凍機
において電気ヒータを用いて温度調節する必要があるの
は前記ヘリウム冷凍機を用いている点にその要因がある
ことを見出し、極低温冷凍機に充填する冷媒を工夫する
ことにより前記冷凍機におけるヒートステージの温度を
調節できることに着目して発明したもので、目的は、温
度調節用電気ヒータ及び温度コントロ−ラーを用いなく
ともヒートステージの温度を必要温度に温度調節がで
き、低コストで、信頼性を低下することなく、また操作
性も簡略化できるようにする点にある。
【0007】
【課題を解決するための手段】以上の目的を達成するた
め請求項1記載の発明は、圧縮ユニット13とヒートス
テージ12をもつ極低温膨張機11とを備え、これら圧
縮ユニット13と極低温膨張機11とを高圧ガス通路1
4及び低圧ガス通路15により接続して冷媒の循環路1
6を形成している極低温冷凍機において、前記循環路1
6にヘリウム冷媒を充填すると共に、このヘリウム冷媒
に、該ヘリウム冷媒による極低温膨張機11のヒートス
テージ12における温度低下を抑制する窒素冷媒を充填
し、前記ヘリウム冷媒と混合させたのである。
【0008】また、請求項2記載の発明は、前記ヘリウ
ム冷媒に対する窒素冷媒の混合割合を5〜50%体積と
したのである。
【0009】
【作用】請求項1記載の発明では、前記循環路16に充
填する冷媒を、前記ヘリウム冷媒と窒素との混合冷媒と
したから、前記極低温膨張機11におけるヒートステー
ジ12の温度を、ヘリウム冷媒単体を充填している従来
のヘリウム冷凍機における前記ヒートステージBの温度
より高くでき、従って、電気ヒータを用いなくともその
温度を所望温度に調節できるのであって、コールドトラ
ップに適用する場合従来例のように電気ヒータを用いな
くとも前記ヒートステージに接続するコールドパネルの
温度を、水分を凝縮させて排出できる所定の温度範囲に
できるのである。
【0010】また、前記ヘリウム冷媒に窒素冷媒を混合
させるのであるから、この温度割合を変更することによ
り前記ヒートステージ12の温度を任意に調節でき、従
って、水分除去を目的とするコールドトラップのみなら
ず、他のシステムにも適用できるのである。
【0011】また、請求項2記載の発明では、前記ヘリ
ウム冷媒に対する窒素冷媒の混合割合を5〜50%体積
としたから、冷凍機の運転差圧を、ヘリウム冷凍機の運
転差圧と同程度にでき、しかも、温度のふらつきも少な
くできながら、前記ヒートステージ12の最低到達温度
を、無負荷時において50〜60K程度に温度調節で
き、一定の熱負荷作用時において水分を凝縮させて排出
できる温度(70〜120K前後)にできるのである。
【0012】従って、コールドトラップに適用する場合
でも、その信頼性を向上でき、また、操作性を簡略化で
きながら、イニシャルコスト及びランニングコストを安
価にできるのである。
【0013】
【実施例】図1に示したものは、アルゴンガスを充満さ
せた半導体製造装置の真空室1とこの真空室1を真空に
する真空排気装置(クライオポンプ)2との間に介装さ
れるコールドトラップ3に適用したもので、このコール
ドトラップ3は前記真空室1に連通する排気入口部4と
前記真空排気装置2に連通する排気出口部5とを備えた
トラップ本体6と、このトラップ本体6における前記入
口部4と出口部5との間に内装するコールドパネル7と
から成り、前記トラップ本体6に本発明冷凍機10の極
低温膨張機11を支持して、この膨張機11のヒートス
テージ12に前記コールドパネル7を接続したものであ
る。
【0014】前記極低温膨張機11は、圧縮機を内装す
る圧縮ユニット13と共に極低温冷凍機10を構成する
もので、前記膨張機11を圧縮ユニット13に高圧ガス
通路14と低圧ガス通路15とを介して接続し、前記圧
縮ユニット13との間に冷媒の循環路16を形成するの
である。
【0015】また、前記極低温膨張機11は図示してい
ないが既知の通り、切換パルブをもった本体ハウジング
11aとスラックピストン、及びディスプレーサーをシ
ールリングを介して摺動可能に内装するシリンダ11b
とから成り、前記切換バルブをバルブモ−タの駆動で切
換え、高圧冷媒ガスを前記シリンダ11bに供給した
り、前記ディスプレーサーの先端側に設ける膨張空間で
膨張した低圧ガス冷媒を排出したりして、前記膨張空間
に隣接して設ける前記ヒートステージ12を極低温に冷
却保持するようにしたものである。
【0016】しかして以上の構成において、前記循環路
16にはヘリウム冷媒を充填すると共にこのヘリウム冷
媒に、該ヘリウム冷媒による前記ヒートステージ12の
温度低下を抑制する窒素冷媒を充填し、前記ヘリウム冷
媒と混合させたのである。
【0017】所で、前記コールドトラップ3において前
記真空室1の水分を排気するには、前記コールドパネル
7を極低温に冷却することにより行えるが、水分の排気
を有効に行うには、水分の蒸気圧を10‐10 トール以
下にすることが好ましく、従って、前記コールドパネル
7の温度は水蒸気分圧が前記蒸気圧となる130K以下
にする必要があるが、前記コールドパネル7の温度が低
過ぎると、前記真空室1のアルゴンガス分子も凝縮して
排気されることになる。
【0018】即ち、蒸気圧10‐10 トールで23.7
Kより低い場合や、10‐1トールで48.2Kより低
い場合にはアルゴンガス分子も凝縮して排気されること
になり、従って、アルゴンガスの排気をなくしながら水
分の排気を有効にするためには前記コールドパネル7の
温度は、熱負荷がある状態で70〜120K前後の温度
に保持する必要があり、このため冷凍機10の最低到達
温度は50Kより低くならない60K前後の温度にする
必要がある。
【0019】従って、従来のコールドトラップにおいて
は、コールドパネルに電気ヒータを設けてその温度を調
節しているのであるが、本発明では、従来において電気
ヒータを用い温度調節をしているのは極低温冷凍機の冷
媒にヘリウムを用いている点に起因することを究明し、
ヘリウム冷媒に、このヘリウムより高い沸点(液化点)
をもつ窒素を混合し、この混合割合を所定割合にするこ
とにより、電気ヒータを用いることなくヒートステージ
12の温度低下を抑制し、水分排気に必要な温度にした
のである。
【0020】更に詳記すると、窒素の沸点は約77Kで
あるから、この窒素をヘリウムに加えることによりヒー
トステージ12での温度低下を抑制でき、その混合割合
を調節することにより前記ヒートステージ12の温度を
調節できるのであって、ヘリウムの容積に対し5%(容
積)の窒素を混合させることにより最低到達温度(Tmi
n)を50K付近に調節できるのである。
【0021】因みに窒素の混合割合に対する最低到達温
度(Tmin) の変化を調べてみると、図2に示した温度曲
線(Tmin)のように、2〜3%の窒素充填で前記温度
(Tmin) が急上昇し、5%充填で50K付近となり70
%充填までほゞ60Kで横這い状となり、70%を越え
ると再び上昇する傾向に変化するのである。
【0022】また一方、冷凍機においては運転差圧(Δ
P)が大きくなると圧縮機の圧縮比が高くなって、その
駆動力が大きくなり、圧縮機のみならず冷凍機全体に負
担がかゝることになるから運転差圧(ΔP)は小さい方
が好ましいし、また、ヒートステージ12における温度
の安定性を考慮すると最低到達温度(Tmin)での温度の
ふらつき(ΔT)も少ない方が好ましい。
【0023】所で、ヘリウム冷媒を用いた極低温冷凍機
において、その運転差圧(ΔP)は16Kg/cm 2 程度で
あり、温度のふらつき(ΔT)は零に近いのであるが、
ヘリウムに窒素を充填すると、運転差圧(ΔP)及び温
度のふらつき(ΔT)は図2に示した運転差圧曲線(Δ
P)及び温度のふらつき曲線(ΔT)のように変化す
る。
【0024】即ち、窒素の混合割合が低い領域(約48
%以下)においては、前記冷凍機10の運転差圧(Δ
P)をヘリウム冷凍機における運転差圧(ΔP)より小
さくできるのであるが、窒素はヘリウムに比較して粘性
係数が大きく、このため50%を越える窒素を充填する
と、特に前記膨張機11におけるディスプレーサー内で
の流れが悪くなり、このため低圧が低下してヘリウム冷
凍機の運転差圧(ΔP)より大きくなるのであって、こ
の運転差圧(ΔP)の増大で圧縮機及び冷凍機全体に負
担がかゝることになり、信頼面では好ましくないのであ
る。また、窒素の充填により温度のふらつき(ΔT)が
生じ、50%を越える窒素の充填(約55%)によりそ
の温度差が2Kを越えることになる。
【0025】従って、以上のように最低到達温度(Tmi
n)が50Kより低くならないように温度調節できる性
能面と、運転差圧(ΔP)が圧縮機及び冷凍機全体に負
担がかゝらない程度、つまり従来のヘリウム冷凍機にお
ける運転差圧と同程度の運転差圧(ΔP)で運転でき、
しかも、温度のふらつき(ΔT)がせいぜい2K程度に
できる信頼性面とを考慮し、窒素のヘリウムに対する混
合割合を5〜50%体積にするのであって、斯くするこ
とにより信頼性の低下なく、冷凍機の最低到達温度(Tm
in)を50K以上に調節できるのである。
【0026】しかして図1に示した実施例のようにコー
ルドトラップ3に適用する場合には、最低到達温度(Tm
in)を60K前後にすればよいのであるから、運転差圧
(ΔP)を12Kg/cm2程度にでき、温度のふらつき(Δ
T)を2Kより低くできる20〜30%体積が好まし
い。
【0027】斯くすることで電気ヒータを不要にできる
ことは勿論、運転差圧(ΔP)も従来のヘリウム冷凍機
より小さくでき、圧縮機及び冷凍機全体の負担を軽減で
きながら温度の安定性も良好に水分排気を行えるのであ
る。
【0028】尚図2においてQは90Kでの冷凍能力割
合、つまり、ヘリウム冷凍機の冷凍能力を100%とし
たときのヘリウム冷凍能力に対する割合を示すもので、
前記した窒素の混合割合範囲(5〜50%)においては
50%以下にできる。
【0029】また、以上説明した実施例は水分排気を目
的とするコールドトラップ3に適用したものであるが、
その他ヒートステージ12の温度を50〜60K前後に
調節して用いる他のシステムにも適用できる。
【0030】また、ヘリウムへの窒素の充填方法は、予
め所定割合で混合してガスボンベに充填し、このガスボ
ンベから前記冷凍機10の循環路16に充填してもよい
が、予めヘリウムを充填した冷凍機を用い、この冷凍機
に窒素を充填してもよいし、また、前記冷凍機10に予
めヘリウムを例えば20Kg/cm 2 充填した後、この冷凍
機10の循環路16に窒素を充填してもよい。この場
合、例えば20kg/cm2仕様の冷凍機に30%の窒素を充
填するには、先ず前記低圧ガス通路15を前記膨張機1
1から外してヘリウムガスを、圧力計付治具を用いて窒
素の混合割合30%体積に相当する14Kg/cm 2 のヘリ
ウムガスを抜取り、然る後に前記低圧ガス通路15を前
記膨張機11に接続し、前記高圧ガス通路14を外して
前記膨張機11の高圧側に窒素ガスボンベを接続し、ガ
スチャージ用治具を介して6Kg/cm2の窒素ガスを充填す
るのである。
【0031】その後前記高圧ガス通路14を接続するこ
とによりヘリウムガスと窒素ガスとは前記循環路16内
で拡散し、混合割合30%体積の混合冷媒が充填された
ことになる。
【0032】また、本発明ではヘリウム冷媒を基礎とし
て、このヘリウムより沸点(液化点)の高い窒素を用い
たが、窒素と同程度の沸点をもつ例えばアルゴンや酸素
などを用いてもよい。
【0033】
【発明の効果】請求項1記載の発明では、前記循環路1
6に充填する冷媒を、前記ヘリウム冷媒と窒素との混合
冷媒としたから、前記極低温膨張機11におけるヒート
ステージ12の温度を、ヘリウム冷媒単体を充填してい
る従来のヘリウム冷凍機における前記ヒートステージB
の温度より高くでき、従って、電気ヒータを用いなくと
もその温度を所望温度に調節できるのであって、コール
ドトラップに適用する場合従来例のように電気ヒータを
用いなくとも前記ヒートステージに接続するコールドパ
ネルの温度を、水分を凝縮させて排出できる所定の温度
範囲にできるのである。
【0034】また、前記ヘリウム冷媒に窒素冷媒を混合
させるのであるから、この温度割合を変更することによ
り前記ヒートステージ12の温度を任意に調節でき、従
って、水分除去を目的とするコールドトラップのみなら
ず、他のシステムにも適用できるのである。
【0035】また、請求項2記載の発明では、前記ヘリ
ウム冷媒に対する窒素冷媒の混合割合を5〜50%体積
としたから、冷凍機の運転差圧を、ヘリウム冷凍機の運
転差圧と同程度にでき、しかも、温度のふらつきも少な
くできながら、前記ヒートステージ12の最低到達温度
を、無負荷時において50〜60K程度に温度調節で
き、一定の熱負荷作用時において水分を凝縮させて排出
できる温度(70〜120K前後)にできるのである。
【0036】従って、コールドトラップに適用する場合
でも、その信頼性を向上でき、また、操作性を簡略化で
きながら、イニシャルコスト及びランニングコストを安
価にできるのである。
【図面の簡単な説明】
【図1】 コールドトラップに適用した例を示す概略説
明図。
【図2】 ヘリウムに混合する窒素の混合割合に対する
最低到達温度、運転差圧、温度のふらつき及び90Kで
の冷凍能力割合を示す特性曲線図。
【図3】 従来例を示す断面図。
【符号の説明】
11 極低温膨張機 12 ヒートステージ 13 圧縮ユニット 14 高圧ガス通路 15 低圧ガス通路 16 循環路

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 圧縮ユニット(13)とヒートステージ
    (12)をもつ極低温膨張機(11)とを備え、これら
    圧縮ユニット(13)と極低温膨張機(11)とを高圧
    ガス通路(14)及び低圧ガス通路(15)により接続
    して冷媒の循環路(16)を形成している極低温冷凍機
    において、 前記循環路(16)にヘリウム冷媒を充填すると共に、
    このヘリウム冷媒に、該ヘリウム冷媒による極低温膨張
    機(11)のヒートステージ(12)における温度低下
    を抑制する窒素冷媒を充填し、前記ヘリウム冷媒と混合
    させていることを特徴とする極低温冷凍機。
  2. 【請求項2】 ヘリウム冷媒に対する窒素冷媒の混合割
    合を5〜50%体積としている請求項1記載の極低温冷
    凍機。
JP26862793A 1993-10-27 1993-10-27 極低温冷凍機 Pending JPH07116403A (ja)

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