JPH07114799A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JPH07114799A
JPH07114799A JP26012093A JP26012093A JPH07114799A JP H07114799 A JPH07114799 A JP H07114799A JP 26012093 A JP26012093 A JP 26012093A JP 26012093 A JP26012093 A JP 26012093A JP H07114799 A JPH07114799 A JP H07114799A
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JP
Japan
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memory
bit
defective
data
stored
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JP26012093A
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Japanese (ja)
Inventor
Shinichi Suga
進一 菅
Yasunori Yamaguchi
泰紀 山口
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Hitachi Ltd
Hitachi Consumer Electronics Co Ltd
Japan Display Inc
Original Assignee
Hitachi Device Engineering Co Ltd
Hitachi Ltd
Hitachi Consumer Electronics Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To relieve a defective bit with a simple method without performing laser processing and without increasing chip area. CONSTITUTION:An address data of a defective bit stored in a flash memory 10 is compared with an address signal from the outside (CPU), it is decided whether reading/writing of data based on the address signal is to be performed for a normal area 21A or for a redundant area 21B. Increasing a chip area can be suppressed without providing a fuse for relieving and the like conventionally required. Also, relieving of the defective bit can be simply performed by only storing address data of the defective bit in the flash memory 10. In order to discriminate whether an address signal indicates a defective bit or not, it is divided into the upper bit and the lower bit and compared, when both upper bits are not coincident, a normal area is immediately accessed, and processing speed is increased.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体記憶装置、更に
は同一チップ上に機能の異なる2つの記憶部が形成され
た半導体記憶装置に適用して特に有効な技術に関し、例
えばフラッシュメモリを具えたランダム・アクセス・メ
モリに利用して有用な技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a technique which is particularly effective when applied to a semiconductor memory device in which two memory parts having different functions are formed on the same chip. The present invention relates to a technique useful for a random access memory.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より半導体メモリにおいて、当該チ
ップ内に、不良ビットが発生したときに具えて冗長回路
が設けられている。そして、LSIのパッケージング前
に行われる検査で不良ビットが検知されると、不良ビッ
トのアドレスデータに基いて当該冗長回路に設けられた
スペアデコーダをプログラミングし、該不良ビットのア
ドレスが入力されたときにスペアデコーダが選択され
て、この不良ビットに対応する冗長回路内の冗長ビット
が選択されて、不良ビット救済が行われる。尚、上記ス
ペアデコーダをプログラミングする際には、例えばチッ
プ上に設けられた所定の救済用ヒューズ素子を、パッケ
ージング前にレーザビーム等によって切断する方法がと
られる。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a semiconductor memory, a redundant circuit is provided in the chip in case a defective bit occurs. Then, when the defective bit is detected in the inspection performed before the packaging of the LSI, the spare decoder provided in the redundant circuit is programmed based on the address data of the defective bit, and the address of the defective bit is input. At this time, the spare decoder is selected, the redundant bit in the redundant circuit corresponding to this defective bit is selected, and the defective bit is relieved. When programming the spare decoder, for example, a method of cutting a predetermined relief fuse element provided on the chip with a laser beam or the like before packaging is used.

【0003】又、従来、半導体メモリを設計するにあっ
ては、当該メモリマットのワード線の立上げ処理の態様
等、その標準仕様は、半導体記憶装置の配線パターンに
て決定される。例えば、そのメモリ領域が4つのメモリ
マットに分割されている半導体記憶装置にあっては、読
出し/書込み動作を行うに当り、4つのメモリマットに
対して同時にワード線の立上げを行なう仕様(「×4仕
様」と称する)、2つのマットを選択してワード線の立
上げを行なう仕様(「×2仕様」と称する)、1つのマ
ットを選択してワード線の立上げを行なう仕様(「×1
仕様」と称する)と云う具合いに、アクセスの仕方を異
ならせることができる。この「×4仕様」、「×2仕
様」、「×1仕様」の何れを選択するかは、予め3種類
の配線パターンを用意しておいて、その何れを使用する
かによって決定していた。更に、従来の半導体メモリに
あっては、メモリがダイナミックRAMである場合、そ
の記憶再生動作(リフレッシュ動作)を行わなければな
らず、このリフレッシュ動作を行わせるためにユーザ
が、記憶装置の外部(CPU)からリフレッシュ用の制
御信号を入力させなければならなかった。
Further, conventionally, in designing a semiconductor memory, the standard specifications such as the mode of the rise processing of the word line of the memory mat are determined by the wiring pattern of the semiconductor memory device. For example, in a semiconductor memory device whose memory area is divided into four memory mats, a word line is simultaneously activated for four memory mats when performing a read / write operation. Specification for performing word line startup by selecting two mats (referred to as "x2 specification") Specification for performing word line startup by selecting one mat (referred to as "x2 specification" (referred to as "x2 specification") × 1
It is possible to change the way of access in the manner of "specification"). Which of the “× 4 specifications”, “× 2 specifications”, and “× 1 specifications” should be selected was determined in advance by preparing three types of wiring patterns and using which of them. . Further, in the conventional semiconductor memory, if the memory is a dynamic RAM, the storage / reproduction operation (refresh operation) must be performed, and in order to perform this refresh operation, the user must It was necessary to input a control signal for refresh from the CPU.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た技術には、次のような問題のあることが本発明者らに
よってあきらかにされた。即ち、上記従来の冗長回路技
術では、不良ビットの救済を行うに当り、上記のように
ヒューズをレーザビームで切断しなければならず、救済
するビット数を増やそうとすると、ヒューズ面積が大き
くなる等の不具合が生じる。
However, the present inventors have clarified that the above-mentioned technique has the following problems. That is, in the above-mentioned conventional redundant circuit technology, when repairing a defective bit, the fuse must be cut by the laser beam as described above, and if the number of bits to be repaired is increased, the fuse area becomes large. The problem of occurs.

【0005】又、上記のように、メモリの「×1仕
様」、「×2仕様」、「×4仕様」の選択を、配線パタ
ーンにて行う技術では、当該メモリを何れの仕様にする
かに応じて、異なる複数の配線マスクパターンを設計し
なければならず、ユーザの要求にあったLSIを製作す
るのに長時間を要し、又、コスト高を招いていた。
Further, as described above, in the technique of selecting the "x1 specification", "x2 specification", and "x4 specification" of the memory by the wiring pattern, which specification is the memory concerned? Accordingly, it is necessary to design a plurality of different wiring mask patterns, which requires a long time to manufacture an LSI that meets the user's request, and also causes an increase in cost.

【0006】更に、上記従来のリフレッシュ動作を行な
う技術では、ユーザが、当該DRAMにリフレッシュ動
作を行わせるための回路を設計しなければならず、使い
勝手が悪い。又、リフレッシュ動作は、動作途中で停止
されると、最初のビットからリフレッシュをやりなおさ
なければならず、その間に記憶内容が消える虞がある。
このため、一旦、リフレッシュ動作が始まると、動作途
中でのアクセスが禁止されるようにされ、システムのス
ループットが低下する。
Further, in the above-described conventional refresh operation technique, the user has to design a circuit for causing the DRAM to perform the refresh operation, which is inconvenient. Further, if the refresh operation is stopped during the operation, the refresh operation must be restarted from the first bit, and the stored contents may be lost during that time.
Therefore, once the refresh operation is started, access during the operation is prohibited and the throughput of the system is reduced.

【0007】本発明は、かかる事情に鑑みてなされたも
ので、その第1の目的は、不良ビットの救済をレーザ加
工処理を行なうことなく簡易な手法にて、且つ、チップ
面積を増大させることなく行うことができる半導体記憶
装置を提供することである。又、第2の目的は、メモリ
マットの読出し/書込み動作に係る標準仕様をユーザの
要求に合わせて容易に変更することができる半導体記憶
装置を提供することである。又、第3の目的は、メモリ
がDRAMである場合に、そのリフレッシュ動作中に
も、そのアクセス動作を可能ならしめ、DRAMを用い
たシステムのスループットを上げるようにした半導体記
憶装置を提供することである。この発明の前記ならびに
そのほかの目的と新規な特徴については、本明細書の記
述および添附図面から明らかになるであろう。
The present invention has been made in view of the above circumstances. A first object of the present invention is to increase the chip area with a simple method for repairing a defective bit without performing laser processing. It is an object of the present invention to provide a semiconductor memory device that can be carried out without the need. A second object is to provide a semiconductor memory device that can easily change the standard specifications relating to the read / write operation of the memory mat according to the user's request. A third object of the present invention is to provide a semiconductor memory device which, when the memory is a DRAM, enables the access operation even during the refresh operation to increase the throughput of the system using the DRAM. Is. The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を説明すれば、下記のと
おりである。即ち、上記第1の目的を達成するため、請
求項1に記載の半導体記憶装置では、冗長回路を具える
主記憶部と、書換え可能な不揮発性メモリにて構成され
た副記憶部とが同一チップ上に形成され、該副記憶部に
不良ビット発生箇所を特定するための不良アドレスデー
タが記憶され、該不良アドレスデータに基いて不良ビッ
ト位置を判定してその救済が行なわれるようになってい
る。又、上記第2の目的を達成するため、請求項2に記
載の半導体記憶装置では、当該複数のメモリマットの読
出し/書込み動作を行うための駆動回路が、各メモリマ
ット毎に設けられ、該メモリマットと同一チップ上に設
けられた書換え可能な不揮発性メモリに、上記駆動回路
の動作制御を行うためのデータが記憶されるようになっ
ている。更に、上記第3の目的を達成するため、請求項
3に記載の半導体記憶装置では、DRAMを構成する主
記憶部と同一チップ上に不揮発性の副記憶部が形成さ
れ、DRAMの記憶再生動作が一旦停止されたときに、
その停止されたビット位置が上記副記憶部に記憶される
ようになっている。
The typical ones of the inventions disclosed in the present application will be outlined below. That is, in order to achieve the first object, in the semiconductor memory device according to claim 1, the main memory unit including the redundant circuit and the sub memory unit configured by the rewritable nonvolatile memory are the same. Defective address data that is formed on a chip and that specifies a defective bit occurrence location is stored in the sub-memory section, and a defective bit position is determined based on the defective address data to relieve the defective bit position. There is. In order to achieve the second object, in the semiconductor memory device according to claim 2, a drive circuit for performing a read / write operation of the plurality of memory mats is provided for each memory mat, and Data for controlling the operation of the drive circuit is stored in a rewritable nonvolatile memory provided on the same chip as the memory mat. Further, in order to achieve the third object, in the semiconductor memory device according to claim 3, a non-volatile sub memory unit is formed on the same chip as a main memory unit constituting a DRAM, and a memory reproducing operation is performed. When is stopped,
The stopped bit position is stored in the sub storage unit.

【0009】[0009]

【作用】上記請求項1に記載の半導体記憶装置によれ
ば、副記憶部に不良ビットのアドレスデータを記憶する
だけで、ビット不良、ビット線不良、ワード線不良、マ
ット不良等の不良救済を適宜行なうことができる。又、
上記請求項2に記載の半導体記憶装置によれば、副記憶
部の記憶内容に基いて、ワード線の立上げ動作に係る仕
様(「×1仕様」、「×2仕様」、「×4仕様」)の選
択を行なうことができ、従来のように、複数の配線パタ
ーンを設計しておく必要がない。更に、上記請求項3に
記載の半導体記憶装置によれば、リフレッシュ動作中に
読出し/書込み動作のアクセスがかかったとき、その時
点で記憶再生動作が行われているビット位置が副記憶部
に記憶され、アクセスが終了した時点で、当該ビット位
置よりリフレッシュ動作を再開させることができる。
According to the semiconductor memory device of the first aspect, by only storing the address data of the defective bit in the sub storage unit, the defect relief such as the bit defect, the bit line defect, the word line defect, the mat defect, etc. can be relieved. It can be done as appropriate. or,
According to the semiconductor memory device of claim 2, the specifications (“× 1 specification”, “× 2 specification”, “× 4 specification” relating to the start-up operation of the word line are based on the stored contents of the sub storage unit. )) Can be selected, and it is not necessary to design a plurality of wiring patterns as in the conventional case. Further, according to the semiconductor memory device of the third aspect, when a read / write operation is accessed during the refresh operation, the bit position at which the memory reproducing operation is being performed is stored in the sub memory unit. When the access is completed, the refresh operation can be restarted from the bit position.

【0010】[0010]

【実施例】【Example】

(第1実施例)以下、本発明の第1実施例を添付図面を
参照して説明する。図1は、第1実施例のダイナミック
・ランダム・アクセス・メモリ(DRAM)の構造を模
式的に示すブロック図、図2は不良ビットのアドレスデ
ータとアドレス信号のデータとを比較する手順を示すブ
ロック図である。
(First Embodiment) A first embodiment of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a block diagram schematically showing the structure of a dynamic random access memory (DRAM) according to the first embodiment, and FIG. 2 is a block showing a procedure for comparing defective bit address data and address signal data. It is a figure.

【0011】本実施例では、フラッシュメモリ10とD
RAM20とが、同一チップ1上に形成されている。こ
のうちフラッシュメモリ10には、DRAM20のメモ
リ領域に生じた不良ビット(不良ビット線、不良ワード
線、不良マット)に係る不良アドレスデータが記憶され
る。又、DRAM20は、通常エリア21Aと、冗長エ
リア21Bとに分けられたメモリ領域21、比較回路2
3にて構成されている。しかして、外部(CPU)から
のアドレス信号に基いて、当該DRAM20の読出し/
書込み動作が行われるときには、上記アドレス信号が比
較回路23に送られ、フラッシュメモリ10に記憶され
ている不良アドレスデータと上記アドレス信号の比較が
行われる。そして、この比較の結果が不一致のときには
当該アドレスに応じて、通常エリア21Aからデータが
読出し、又は、該エリア21Aへのデータの書込みが行
われる。一方、上記比較の結果、2つのアドレスデータ
が一致したとき、即ち、上記アドレス信号がアクセスす
るビットが不良ビットであるときには、上記冗長エリア
21Bから冗長データが読み出され、又、該エリア21
Bに対するデータの書込みが行われる。
In this embodiment, the flash memory 10 and D
The RAM 20 is formed on the same chip 1. Among them, the flash memory 10 stores defective address data relating to defective bits (defective bit line, defective word line, defective mat) generated in the memory area of the DRAM 20. The DRAM 20 includes a memory area 21 divided into a normal area 21A and a redundant area 21B, and a comparison circuit 2
It is composed of 3. Then, based on the address signal from the outside (CPU), the read / write of the DRAM 20 is performed.
When the write operation is performed, the address signal is sent to the comparison circuit 23, and the defective address data stored in the flash memory 10 is compared with the address signal. When the result of this comparison does not match, the data is read from the normal area 21A or the data is written in the area 21A according to the address. On the other hand, as a result of the comparison, when the two address data match, that is, when the bit accessed by the address signal is a defective bit, the redundant data is read from the redundant area 21B and the area 21 is read.
Data is written to B.

【0012】次に、上記切換回路23によるアドレス信
号と不良アドレスデータとの比較方法について説明す
る。図2に示すように、上記比較回路23は、第1の比
較器23Aと第2の比較器23Bによって構成され、こ
のうち第1の比較器23Aには上記フラッシュメモリか
ら不良アドレスを示す信号(不良アドレス信号)の上位
ビットに係る不良アドレスデータが入力され、第2の比
較器23Bには下位ビットに係る不良アドレスデータが
入力されるようになっている。いま仮に、外部(CP
U)からDRAM20(例えば×4仕様の16メガDR
AM)に入力されるアドレス信号が24ビットである場
合を考える。この場合、Xアドレスデータは、Yアドレ
スデータ、共に11ビットが割り当てられる。そして、
RAS信号が入力されたときにXアドレスに係る信号が
入力され、CAS信号が入力されたときにYアドレスに
係る信号が入力される。
Next, a method of comparing the address signal and the defective address data by the switching circuit 23 will be described. As shown in FIG. 2, the comparison circuit 23 includes a first comparator 23A and a second comparator 23B. Of these, the first comparator 23A sends a signal (indicated by the flash memory) indicating a defective address to the first comparator 23A. The defective address data related to the upper bits of the defective address signal) is input, and the defective address data related to the lower bits is input to the second comparator 23B. Now, suppose the outside (CP
U) to DRAM 20 (for example, x4 specification 16 mega DR
Consider the case where the address signal input to (AM) is 24 bits. In this case, 11 bits are assigned to both the X address data and the Y address data. And
When the RAS signal is input, the signal related to the X address is input, and when the CAS signal is input, the signal related to the Y address is input.

【0013】しかして、RAS信号が入力されると、フ
ラッシュメモリ10から不良アドレスデータのうちXア
ドレスに係るデータが読み出され、その上位ビット(4
ビット)データが第1の比較器23Aに、下位ビット
(残りのビット)のデータが比較器23Bに送られる。
一方で、第1の比較器23AにはXアドレス信号が入力
され、その上位ビットデータが、上記不良アドレスデー
タの上位ビットデータと比較される。そして、この比較
の結果、一致していないと判断されたならば、当該アド
レス信号によって通常エリア21Aに対するアクセスが
行われる。一方、アドレス信号の上位ビットデータが不
良アドレスデータの上位ビットと一致したならば、一致
信号が第2の比較器23Bに送られ、該比較器23Bに
て、アドレス信号の残りのビットのデータ(下位ビッ
ト)が当該不良アドレスデータの下位ビットデータと比
較される。この比較の結果、下位ビットのデータが不良
アドレスデータと一致しないと判断されたならば、当該
アドレス信号に基いて通常エリア21Aに対するアクセ
スが行われ、下位ビットのデータが当該不良アドレスデ
ータと一致したならば、当該アドレス信号に基いて冗長
エリア21Bに対するアクセスが行われる。又、上記C
AS信号が入力されたときには、同様の手順にて、Yア
ドレス信号と、当該不良アドレスデータの比較が行われ
る。
Then, when the RAS signal is input, the data associated with the X address of the defective address data is read from the flash memory 10 and its upper bit (4
The bit data is sent to the first comparator 23A, and the lower bit data (remaining bits) is sent to the comparator 23B.
On the other hand, the X address signal is input to the first comparator 23A, and its upper bit data is compared with the upper bit data of the defective address data. If the result of this comparison shows that they do not match, the normal area 21A is accessed by the address signal. On the other hand, if the higher-order bit data of the address signal matches the higher-order bit of the defective address data, a match signal is sent to the second comparator 23B, and the comparator 23B causes the remaining bit data ( The lower bit) is compared with the lower bit data of the defective address data. As a result of this comparison, if it is determined that the lower bit data does not match the defective address data, the normal area 21A is accessed based on the address signal, and the lower bit data matches the defective address data. Then, the redundant area 21B is accessed based on the address signal. Also, the above C
When the AS signal is input, the Y address signal and the defective address data are compared in the same procedure.

【0014】このようにアドレス信号と、不良アドレス
データとを比較するに当たって、その比較を上位ビッ
ト、下位ビットに分けて行なうことによって、何れのエ
リアに対してアクセスを行うかを逸早く決定してその処
理速度を向上させることができる。
In comparing the address signal with the defective address data in this manner, the comparison is performed for the upper bits and the lower bits, thereby making it possible to quickly determine which area to access. The processing speed can be improved.

【0015】以上説明したように、第1実施例の半導体
メモリによれば、フラッシュメモリ10に記憶されてい
る不良ビットのアドレスデータが、外部(CPU)から
入力されたアドレス信号と比較され、この比較の結果に
応じて、当該アドレス信号に基くデータの読出し/書込
みを、通常エリア、冗長エリアの何れに対して行うかを
決定するようにしているので、従来必要とされていた救
済用のヒューズ等を設けることがなくなってチップ面積
の増大が抑えられる。しかも、フラッシュメモリ10に
不良ビットのアドレスデータを記憶するだけで、当該不
良ビットの救済を簡易に行うことができる。又、アドレ
ス信号が、不良ビットを示しているか否かを、上位ビッ
トと、下位ビットとに分けて比較しているので、上位ビ
ットを比較した時点で、不一致であれば、即座に通常エ
リアにアクセスをかけることができ、処理速度が早くな
る。尚、本実施例では、冗長エリア21Bを、DRAM
の通常エリア21Aと別個に形成した例について説明し
たが、通常エリアと同一マット上に冗長エリアを設けて
もよい。尚、フラッシュメモリは、DRAMが形成され
た半導体チップの空き領域(例えば周辺回路が形成され
ている領域内の空き領域)に形成され、その記憶容量
は、1kビット程度で充分である。尚、上記実施例で
は、主記憶部がRAMにて構成された半導体記憶装置を
例に説明したが、ROMからなる記憶装置の不良ビット
救済に用いてもよい。
As described above, according to the semiconductor memory of the first embodiment, the address data of the defective bit stored in the flash memory 10 is compared with the address signal input from the outside (CPU), According to the result of the comparison, whether to read or write the data based on the address signal to the normal area or the redundant area is determined. It is possible to suppress the increase of the chip area by not providing the above. Moreover, the defective bit can be relieved simply by storing the address data of the defective bit in the flash memory 10. In addition, since whether the address signal indicates a defective bit or not is divided into upper bits and lower bits and compared, if there is a mismatch at the time of comparing the upper bits, the normal area is immediately displayed. Access can be made and processing speed becomes faster. In this embodiment, the redundant area 21B is set to the DRAM
Although the example in which it is formed separately from the normal area 21A has been described, a redundant area may be provided on the same mat as the normal area. The flash memory is formed in a vacant area (for example, a vacant area in the area in which the peripheral circuit is formed) of the semiconductor chip in which the DRAM is formed, and its storage capacity of about 1 kbit is sufficient. In the above embodiment, the semiconductor memory device having the RAM as the main memory portion has been described as an example, but it may be used for repairing a defective bit in the memory device including the ROM.

【0016】(第2実施例)次に、本発明の第2実施例
について、図3を参照して説明する。この第2実施例の
DRAM30は、メモリ領域が複数の領域(例えば4つ
のメモリマット)に分割され、各メモリマット毎にワー
ド線の立上げを行なう駆動回路が設けられている。この
DRAM30は、読出し/書込み動作を行う際に、4つ
のメモリマットに対して同時にワード線の立上げを行な
う仕様(「×1仕様」と称する)、2つのマットを選択
してワード線の立上げを行なう仕様(「×2仕様」と称
する)、1つのマットを選択してワード線の立上げを行
なう仕様(「×2仕様」と称する)の何れかの仕様(I
/O仕様)が、フラッシュメモリ31の記憶内容に応じ
て適宜選択できるように構成されている。
(Second Embodiment) Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the DRAM 30 of the second embodiment, the memory area is divided into a plurality of areas (for example, four memory mats), and a drive circuit for raising the word line is provided for each memory mat. The DRAM 30 has a specification (referred to as “× 1 specification”) in which four memory mats are simultaneously activated for read / write operations (referred to as “× 1 specification”). One of the specifications (I) for raising the word line (referred to as “× 2 specification”) and the specification for raising one word line by selecting one mat (referred to as “× 2 specification”) (I
(/ O specification) can be appropriately selected according to the stored contents of the flash memory 31.

【0017】具体的には、フラッシュメモリ31には、
ユーザによって選択された仕様に係るデータが記憶され
ており、当該DRAM30に印加されるスタンバイ電圧
Vccが、このフラッシュメモリ31にも印加されるよう
になっている。そして、スタンバイ電圧が印加された時
点で、I/O仕様を示す記憶データに基いた出力信号が
DRAM30に送られるようになっている。上記出力信
号を受けたDRAM30においては、出力レベルに応じ
て、切換回路32,33…がオン/オフされる。そし
て、このオン/オフ信号に基いて、当該RAM30に設
けられた複数のパッド(図には2つのパッド34,35
のみ示されている)の何れを有効とするかの選択が行わ
れる。
Specifically, in the flash memory 31,
Data relating to the specifications selected by the user is stored, and the standby voltage Vcc applied to the DRAM 30 is also applied to the flash memory 31. Then, when the standby voltage is applied, an output signal based on the stored data indicating the I / O specifications is sent to the DRAM 30. In the DRAM 30 receiving the output signal, the switching circuits 32, 33 ... Are turned on / off according to the output level. Then, based on the ON / OFF signal, a plurality of pads (two pads 34 and 35 in the drawing are provided in the RAM 30.
(Only shown) is selected.

【0018】仮に、ユーザの選択したI/O仕様では、
パッド34を必要としないのであるならば、信号線L1
よりハイレベル信号が入力される。又、このとき当該ハ
イレベル信号がRAM30のメインアンプ36にも送ら
れるようになっている。反対に、選択されたI/O仕様
が、パッド34を必要とするのであるならば、信号線L
1よりロウレベル信号が入力される(このときロウレベ
ル信号がメインアンプ36に送られる)。以上詳述した
ように、この第2実施例の半導体記憶装置によれば、I
/O仕様の選択を、フラッシュメモリの記憶データに基
いて行うことができるので、仕様毎に半導体記憶装置の
構造(配線パターン)を変更することがなく、コストが
低減される。又、上記構成の半導体記憶装置では、パッ
ケージングされた後、当該メモリに不良ビットが生じて
いて、特定のマットが使用不能となっていた場合でも、
フラッシュメモリの記憶データによるI/O仕様の変更
によって、所謂「マット欠け」が生じた半導体記憶装置
を、他の半導体記憶装置と同様に使用することができ
る。更に、上記半導体記憶装置は、ユーザに納入される
までは、そのI/O仕様が決定されないので、メーカー
側の製品管理が容易になる。尚、この第2実施例でも、
主記憶部がRAMにて構成された半導体記憶装置を例に
説明したが、ROMからなる記憶装置の不良ビット救済
に用いてもよい。
Assuming that the I / O specifications selected by the user are:
If the pad 34 is not required, the signal line L1
A higher level signal is input. At this time, the high level signal is also sent to the main amplifier 36 of the RAM 30. Conversely, if the selected I / O specification requires pad 34, then signal line L
A low level signal is input from 1 (at this time, the low level signal is sent to the main amplifier 36). As described above in detail, according to the semiconductor memory device of the second embodiment, I
Since the / O specification can be selected based on the data stored in the flash memory, the structure (wiring pattern) of the semiconductor memory device is not changed for each specification, and the cost is reduced. In addition, in the semiconductor memory device having the above configuration, even after the packaging, even if a specific mat is unusable due to defective bits in the memory,
A semiconductor memory device in which a so-called “mat missing” has occurred due to a change in I / O specifications according to stored data in a flash memory can be used like any other semiconductor memory device. Furthermore, since the I / O specifications of the semiconductor memory device are not determined until it is delivered to the user, product management on the manufacturer side becomes easy. Incidentally, also in this second embodiment,
Although the semiconductor memory device in which the main memory portion is configured by the RAM has been described as an example, the semiconductor memory device may be used for relieving a defective bit in the memory device including the ROM.

【0019】(第3実施例)次に、本発明の第3実施例
について、図4を参照して説明する。この第3実施例
は、当該DRAM40と同一チップ上に形成されたフラ
ッシュメモリ41に、リフレッシュ動作(記憶再生動
作)の制御に係るデータを記憶させるようにしたもので
ある。即ち、従来のリフレッシュ動作は、DRAMの外
部(例えばCPU)からの制御信号に基いて所定時間経
過毎に行われていた。このためユーザらは、リフレッシ
ュ動作を行わせるリフレッシュ駆動回路を、該DRAM
とは別個に設けるようにしていた。しかして、本実施例
のDRAMでは、同一チップ上に設けられたフラッシュ
メモリ41にリフレッシュ動作に必要なデータを書き込
んでおくことによって、DRAM40自身によるリフレ
ッシュ動作を行わせるようにしている。即ち、フラッシ
ュメモリ41には、ユーザの使用状況に応じたリフレッ
シュ時間が記憶され、当該フラッシュメモリ41にスタ
ンバイ電圧Vccが印加されたときに、その記憶データが
確定する。そして、その記憶内容を表す信号(リフレッ
シュ制御信号)が、DRAM40のリフレッシュ制御回
路43に送られる。このリフレッシュ制御回路43は、
例えばDRAM40の各メモリマット毎(1つのみ図
示)に設けられ、上記フラッシュメモリ41に記憶され
た値と、タイマ42からのクロック信号に基いてリフレ
ッシュ時間の経過を検知して、当該メモリマット45に
対しリフレッシュ動作を行なう。
(Third Embodiment) Next, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the third embodiment, the flash memory 41 formed on the same chip as the DRAM 40 stores data relating to the control of the refresh operation (storage / reproduction operation). That is, the conventional refresh operation is performed every predetermined time based on a control signal from the outside of the DRAM (for example, a CPU). For this reason, users need to install a refresh drive circuit for performing a refresh operation in the DRAM.
It was set up separately from. Therefore, in the DRAM of the present embodiment, the refresh operation is performed by the DRAM 40 itself by writing the data required for the refresh operation in the flash memory 41 provided on the same chip. That is, the flash memory 41 stores the refresh time according to the usage status of the user, and when the standby voltage Vcc is applied to the flash memory 41, the stored data is determined. Then, a signal (refresh control signal) representing the stored content is sent to the refresh control circuit 43 of the DRAM 40. This refresh control circuit 43
For example, the memory mat 45 is provided for each memory mat of the DRAM 40 (only one is shown), and the elapse of the refresh time is detected based on the value stored in the flash memory 41 and the clock signal from the timer 42 to detect the memory mat 45. Then, the refresh operation is performed.

【0020】又、上記フラッシュメモリ41には、リフ
レッシュ動作中に、外部(CPU)からのアクセスがか
かったときに、その時点でリフレッシュが行われていた
メモリ位置が記憶されるようになっている。しかして、
リフレッシュ動作中にアドレス信号が入力されると、該
リフレッシュ動作が中断され、入力されたアドレス信号
に基くデータの読出し/書込み処理が行われる。そし
て、この読出し/書込み処理が終了すると、上記フラッ
シュメモリ41に記憶されているメモリ位置から、再
び、リフレッシュ動作が行われる。このようにフラッシ
ュメモリ41に、メモリ位置を記憶させておくことによ
って、従来、リフレッシュ動作のときに禁止されていた
アクセス処理を行うことができるようになる。
Further, in the flash memory 41, when an access is made from the outside (CPU) during the refresh operation, the memory position where the refresh is being performed at that time is stored. . Then,
When an address signal is input during the refresh operation, the refresh operation is interrupted and data read / write processing is performed based on the input address signal. When this read / write processing is completed, the refresh operation is performed again from the memory location stored in the flash memory 41. By storing the memory location in the flash memory 41 in this manner, it becomes possible to perform an access process which is conventionally prohibited during the refresh operation.

【0021】以上説明したように、この第3実施例の半
導体記憶装置によれば、メモリマット毎に設けられたリ
フレッシュ制御回路43が、フラッシュメモリ41に記
憶されているデータに基いてそのリフレッシュ動作を自
動的に行うようになっているので、従来、必要とされて
いたリフレッシュ駆動回路をユーザが用意する必要がな
くなる。又、フラッシュメモリ41の記憶データを、ユ
ーザの使用状況に応じて設定することで、当該使用状況
に応じた適正なリフレッシュ動作を行うことができるよ
うになる。又、DRAM40のリフレッシュ動作中に、
アドレス信号が入力されたとき、その時点でリフレッシ
ュが行われていたメモリ位置をフラッシュメモリ41に
記憶させることができるので、従来、禁止されていたリ
フレッシュ動作中のアクセスが可能となり、DRAMの
処理速度が向上する。
As described above, according to the semiconductor memory device of the third embodiment, the refresh control circuit 43 provided for each memory mat performs its refresh operation based on the data stored in the flash memory 41. Since it is automatically performed, the user does not need to prepare a refresh drive circuit which has been conventionally required. Further, by setting the storage data of the flash memory 41 according to the usage status of the user, it becomes possible to perform an appropriate refresh operation according to the usage status. Also, during the refresh operation of the DRAM 40,
When the address signal is input, the memory location where the refresh is being performed at that time can be stored in the flash memory 41, so that access can be made during the refresh operation, which has been conventionally prohibited, and the processing speed of the DRAM can be increased. Is improved.

【0022】(第4実施例)次に、本発明の第4実施例
について、図5を参照して説明する。この第4実施例で
は、DRAMのメモリ領域が複数のメモリマットに分割
され、更に、各メモリマット内に特種領域が設けられ
て、1つのDRAMが、2つの異なる記憶部として機能
できるようになっている。
(Fourth Embodiment) Next, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the fourth embodiment, the memory area of the DRAM is divided into a plurality of memory mats, and a special area is provided in each memory mat so that one DRAM can function as two different storage units. ing.

【0023】即ち、図5に示すように、本実施例のDR
AM50は16Mビットの記憶容量のメモリ領域51を
有し、そのメモリ領域が、4Mビット宛、4つのメモリ
マット51A,51A,51A,51Aに分割されてい
る。そして、各メモリマットの、1メガ分の記憶領域
が、特種領域51a,51a,51a,51aとして確
保されている。かかる構成のDRAM50においては、
同一チップ上にフラッシュメモリ55が設けられ、当該
DRAM50の読出し/書込み動作を行なうときの制御
態様がフラッシュメモリ55に記憶されたデータに基い
て行われるようになっている。即ち、上記フラッシュメ
モリ55に記憶されているデータは、DRAM50の制
御部52に送られる。上記制御部52は、上記データに
基いて、通常のメモリ領域(3メガ分のメモリ領域)
と、特種領域とを区別して、その読出し/書込み動作を
行なう。その一例としては、上記フラッシュメモリ55
に、上記特定領域51aを示すアドレスデータを記憶し
ておき、この領域に対して上記制御部52による、通常
の読出し/書込み動作を禁止するようにしておく。しか
して、マイクロコンピュータシステムにおいて、当該D
RAM50を、その処理途中の制御データの記憶に用い
るときには、上記通常のメモリ領域が、その記憶処理に
割り当てられる。そして、上記特種領域51a,…に関
しては、例えば、当該マイクロコンピュータに接続され
たハードディスクの記憶内容のうち、その一部を記憶さ
せるようにすれば、当該RRAM50を、制御データを
記憶しておく用途と、ハードディスク内の一部のデータ
を読み出して記憶しておく用途とに分けて用いることが
できるようになる。以上説明したように、第4実施例の
半導体記憶装置では、RAMを従来通りの、制御データ
保持用のRAMとして用いつつ、その一部(特種領域)
を別個の機能に用いることができ、システム全体の高効
率化が達成される。尚、フラッシュメモリは、DRAM
50が形成された半導体チップの空き領域(例えば周辺
回路が形成されている領域内の空き領域)に形成され、
その記憶容量は、1kビット程度で充分である。
That is, as shown in FIG. 5, the DR of this embodiment is
The AM 50 has a memory area 51 with a storage capacity of 16 Mbits, and the memory area is divided into four memory mats 51A, 51A, 51A, 51A for 4M bits. Then, a storage area for 1 mega of each memory mat is secured as the special area 51a, 51a, 51a, 51a. In the DRAM 50 having such a configuration,
The flash memory 55 is provided on the same chip, and the control mode when the read / write operation of the DRAM 50 is performed is performed based on the data stored in the flash memory 55. That is, the data stored in the flash memory 55 is sent to the control unit 52 of the DRAM 50. Based on the above-mentioned data, the control unit 52 uses a normal memory area (a memory area for 3 megabytes)
And the special area are distinguished and the read / write operation is performed. As an example thereof, the flash memory 55
The address data indicating the specific area 51a is stored in advance, and the normal read / write operation by the control section 52 is prohibited in this area. Then, in the microcomputer system, the D
When the RAM 50 is used for storing control data during the processing, the normal memory area is assigned to the storage processing. With regard to the special areas 51a, ..., For example, if a part of the storage contents of the hard disk connected to the microcomputer is stored, the RRAM 50 is used for storing control data. Then, it becomes possible to separately use it for the purpose of reading out and storing a part of the data in the hard disk. As described above, in the semiconductor memory device of the fourth embodiment, the RAM is used as the conventional RAM for holding the control data, and a part (special area) thereof is used.
Can be used for separate functions, and high efficiency of the entire system can be achieved. Flash memory is DRAM
50 is formed in a vacant area of the semiconductor chip (for example, a vacant area in a region where peripheral circuits are formed),
A storage capacity of about 1 kbit is sufficient.

【0024】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない。例えば、本
実施例では、書換え可能な不揮発性メモリをフラッシュ
メモリとした例について説明したが、他のEPROMを
用いてもよい。又、上記した実施例では、主記憶部(D
RAM等)と、副記憶部(フラッシュメモリ)とを同一
半導体チップ上に形成した例について説明したが、異な
るチップに各々を形成して、これらを互いに電気的に接
続してもよい。以上の説明では主として本発明者によっ
てなされた発明をその背景となった利用分野である半導
体記憶装置に適用した場合について説明したが、この発
明はそれに限定されるものでなく、記憶部を有する半導
体集積回路装置一般に利用することができる。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say. For example, in the present embodiment, an example in which the rewritable nonvolatile memory is a flash memory has been described, but another EPROM may be used. Further, in the above-mentioned embodiment, the main memory (D
The example in which the RAM or the like) and the sub storage unit (flash memory) are formed on the same semiconductor chip has been described, but they may be formed on different chips and electrically connected to each other. In the above description, the case where the invention made by the present inventor is mainly applied to the semiconductor memory device which is the background field of application has been described. However, the present invention is not limited to this, and a semiconductor having a memory portion is used. It can be used for general integrated circuit devices.

【0025】[0025]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記
のとおりである。即ち、主記憶部と同一チップ上に形成
された、書換え可能な不揮発性に所望のデータを書き込
むことによって、不良ビットの救済、メモリマットの読
出し/書込み動作に係る標準仕様の設定/変更、DRA
Mのリフレッシュ動作制御等を、適宜行うことができ、
ユーザの負担が軽減される。
The effects obtained by the representative one of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, by writing desired data in a rewritable nonvolatile memory formed on the same chip as the main memory unit, relief of a defective bit, setting / change of standard specifications relating to read / write operation of a memory mat, DRA
M refresh operation control and the like can be appropriately performed,
The burden on the user is reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】第1実施例のDRAMの構造を模式的に示すブ
ロック図である。
FIG. 1 is a block diagram schematically showing a structure of a DRAM of a first embodiment.

【図2】不良ビットのアドレスデータとアドレス信号の
データとを比較する手順を示すブロック図である。
FIG. 2 is a block diagram showing a procedure for comparing address data of a defective bit and data of an address signal.

【図3】フラッシュメモリがDRAMのI/O仕様の決
定に用いられる第2実施例の切換回路の構成例を示すブ
ロック図である。
FIG. 3 is a block diagram showing a configuration example of a switching circuit of a second embodiment in which a flash memory is used for determining I / O specifications of DRAM.

【図4】フラッシュメモリがDRAMのリフレッシュ動
作制御に用いられる第3実施例のリフレッシュ駆動回路
の構成例を示すブロック図である。
FIG. 4 is a block diagram showing a configuration example of a refresh drive circuit of a third embodiment in which a flash memory is used for controlling a refresh operation of DRAM.

【図5】フラッシュメモリを、メモリ領域内に設けられ
た特種領域へのアクセス処理に用いた、第4実施例のD
RAMの構成例を示すブロック図である。
FIG. 5 is a diagram showing a D of a fourth embodiment in which a flash memory is used for access processing to a special area provided in the memory area.
It is a block diagram which shows the structural example of RAM.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体チップ 10 フラッシュメモリ(副記憶部) 20 DRAM 21A 通常エリア 21B 冗長エリア 23 比較回路 23A 第1の比較器 23B 第2の比較器 1 Semiconductor Chip 10 Flash Memory (Sub-Memory) 20 DRAM 21A Normal Area 21B Redundant Area 23 Comparison Circuit 23A First Comparator 23B Second Comparator

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/82 27/10 471 7210−4M 8122−4M H01L 21/82 R ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Office reference number FI technical display location H01L 21/82 27/10 471 7210-4M 8122-4M H01L 21/82 R

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 主記憶部に冗長回路が設けられたアドレ
スマルチプレクス方式の半導体記憶装置において、当該
半導体チップに、書換え可能な不揮発性メモリにて副記
憶部が形成され、不良ビットを特定するための不良アド
レスデータが該副記憶部に記憶され、該不良アドレスデ
ータの一部を、先にアドレス信号の上位ビット(若くは
下位ビット)と比較し、両者が一致したときに、残りの
不良アドレスデータの全て又はその一部を、後で入力さ
れたアドレス信号の下位ビット(若くは上位ビット)と
比較して、不良ビット判定を行なう不良ビット判定手段
を具えることを特徴とする半導体記憶装置。
1. In an address multiplex type semiconductor memory device in which a redundant circuit is provided in a main memory section, a sub memory section is formed in a rewritable non-volatile memory in the semiconductor chip to identify a defective bit. Defective address data for storing the defective address data is stored in the sub storage unit, and a part of the defective address data is first compared with the upper bits (or lower bits) of the address signal. A semiconductor memory characterized by comprising defective bit judging means for judging defective bit by comparing all or a part of address data with a lower bit (younger upper bit) of an address signal inputted later. apparatus.
【請求項2】 半導体チップに形成されたメモリ領域が
複数の領域に分割されるとともに、ワード線の立上げを
行なうための駆動回路が、上記分割された領域毎に設け
られている半導体記憶装置において、当該半導体チップ
に書換え可能な不揮発性メモリが設けられ、該不揮発性
メモリに記憶されたデータに基いて上記駆動回路の動作
制御が行われることを特徴とする半導体記憶装置。
2. A semiconductor memory device in which a memory region formed on a semiconductor chip is divided into a plurality of regions, and a drive circuit for raising a word line is provided for each of the divided regions. In the semiconductor memory device described above, a rewritable non-volatile memory is provided, and operation control of the drive circuit is performed based on data stored in the non-volatile memory.
【請求項3】 主記憶部が読出し/書込み可能な揮発性
メモリにて構成された半導体記憶装置において、当該半
導体チップに書換え可能な不揮発性メモリが設けられる
と共に、上記主記憶部の記憶内容を保持するための記憶
再生動作を一定時間経過毎に行なう記憶再生手段と、該
記憶再生手段による記憶再生動作を一旦停止させ、その
停止されたビット位置を上記不揮発性メモリに記憶さ
せ、その後、当該ビット位置から記憶再生動作を再開さ
せる記憶再生制御手段とを具えることを特徴とする半導
体記憶装置。
3. A semiconductor memory device comprising a volatile memory whose main memory section is readable / writable, wherein a rewritable non-volatile memory is provided in the semiconductor chip, and the stored contents of the main memory section are stored. A storage / reproduction means for performing a storage / reproduction operation for holding every fixed time, a storage / reproduction operation by the storage / reproduction means are temporarily stopped, and the stopped bit position is stored in the nonvolatile memory, and thereafter, A semiconductor memory device, comprising: a memory reproduction control means for restarting a memory reproduction operation from a bit position.
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