JPH07113723B2 - Liquid crystal display - Google Patents

Liquid crystal display

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JPH07113723B2
JPH07113723B2 JP62163213A JP16321387A JPH07113723B2 JP H07113723 B2 JPH07113723 B2 JP H07113723B2 JP 62163213 A JP62163213 A JP 62163213A JP 16321387 A JP16321387 A JP 16321387A JP H07113723 B2 JPH07113723 B2 JP H07113723B2
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JP
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insulating film
liquid crystal
amorphous silicon
crystal display
electrode
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育弘 鵜飼
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【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 この発明はアモルファスシリコンの半導体層を有する薄
膜トランジスタをスイッチ素子としたアクテイブ液晶表
示装置に関する。
The present invention relates to an active liquid crystal display device using a thin film transistor having a semiconductor layer of amorphous silicon as a switch element.

「従来の技術」 アクテイブ液晶表示装置は第1図に示すようにガラスの
ような透明基板11及び12が近接対向して設けられ、その
周縁部にはスペーサ13が介在され、これら透明基板11,1
2間に液晶14が封入されている。一方の透明基板11の内
面に表示電極15が複数形成され、これら各表示電極15に
接してそれぞれスイッチング素子として薄膜トランジス
タ16が形成され、その薄膜トランジスタ16のドレインは
表示電極15に接続されている。これら複数の表示電極15
と対向して他方の透明基板12の内面に透明な共通電極17
が形成されている。
"Prior Art" In an active liquid crystal display device, transparent substrates 11 and 12 such as glass are provided in close proximity to each other as shown in FIG. 1, and a spacer 13 is interposed at a peripheral portion thereof. 1
A liquid crystal 14 is enclosed between the two. A plurality of display electrodes 15 are formed on the inner surface of one transparent substrate 11, thin film transistors 16 are formed as switching elements in contact with the respective display electrodes 15, and the drains of the thin film transistors 16 are connected to the display electrodes 15. These plural display electrodes 15
A transparent common electrode 17 on the inner surface of the other transparent substrate 12 facing the
Are formed.

表示電極15は例えば画素電極であって第2図に示すよう
に、透明基板11上に正方形のものが行及び列に、つまり
マトリクス状に近接配置されており、表示電極15の各行
配列と近接し、かつこれに沿ってそれぞれゲートバス18
が形成され、また表示電極15の各列配列と近接してそれ
に沿ってソースバス(データ線)19がそれぞれ形成され
ている。これら各ゲートバス18及びソースバス19の交差
点において薄膜トランジスタ16が設けられ、各薄膜トラ
ンジスタ16のゲートは両バスの交差点位置においてゲー
トバス18に接続され、各ソースはソースバス19にそれぞ
れ接続され、更に各ドレインは表示電極15に接続されて
いる。
The display electrodes 15 are, for example, pixel electrodes, and as shown in FIG. 2, square ones are arranged on the transparent substrate 11 in rows and columns, that is, in a matrix form. Gate bus 18
And a source bus (data line) 19 is formed along and adjacent to each column array of the display electrodes 15. A thin film transistor 16 is provided at the intersection of each gate bus 18 and source bus 19, a gate of each thin film transistor 16 is connected to the gate bus 18 at an intersection position of both buses, and each source is connected to a source bus 19 respectively. The drain is connected to the display electrode 15.

これらゲートバス18とソースバス19との各一つを選択し
てそれら間に電圧を印加し、その電圧が印加された薄膜
トランジスタ16のみが導通し、その導通した薄膜トラン
ジスタ16のドレインに接続された表示電極15に電荷を蓄
積して表示電極15と共通電極17との間の部分の液晶14の
みに電圧を印加し、これによってその表示電極15の部分
のみが光透明或は光遮断となり、選択的な表示が行われ
る。この表示電極15に蓄積した電荷を放電させることに
よって表示を消去させることができる。
Each of the gate bus 18 and the source bus 19 is selected and a voltage is applied between them, and only the thin film transistor 16 to which the voltage is applied becomes conductive, and a display connected to the drain of the conductive thin film transistor 16 is displayed. A charge is accumulated in the electrode 15 and a voltage is applied only to the liquid crystal 14 between the display electrode 15 and the common electrode 17, whereby only the display electrode 15 part becomes transparent or light-shielded, and selective. Is displayed. The display can be erased by discharging the charges accumulated in the display electrode 15.

薄膜トランジスタ16は第3図に示すように、透明基板11
上に画素電極15とソースバスとがITOのような透明導電
膜によって形成され、画素電極15及びソースバス19間に
またがってアモルファスシリコンの半導体層21が形成さ
れ、更にその半導体層21上に窒化シリコンなどのゲート
絶縁膜22が形成される。このゲート絶縁膜22上に半導体
層21を介して画素電極15及びソースバス19とそれぞれ一
部重なってゲート電極23が形成される。このようにして
ゲート電極23とそれぞれ対向した画素電極15、ソースバ
ス19はそれぞれドレイン電極15a、ソース電極19aを構成
し、これら電極15a,19a、半導体層21、ゲート絶縁膜2
2、ゲート電極23によって薄膜トランジスタ16が構成さ
れる。
As shown in FIG. 3, the thin film transistor 16 has a transparent substrate 11
The pixel electrode 15 and the source bus are formed on the transparent conductive film such as ITO, the semiconductor layer 21 of amorphous silicon is formed over the pixel electrode 15 and the source bus 19, and the semiconductor layer 21 is nitrided. A gate insulating film 22 such as silicon is formed. A gate electrode 23 is formed on the gate insulating film 22 so as to partially overlap the pixel electrode 15 and the source bus 19 via the semiconductor layer 21. In this way, the pixel electrode 15 and the source bus 19 that face the gate electrode 23 respectively form the drain electrode 15a and the source electrode 19a, and these electrodes 15a and 19a, the semiconductor layer 21, and the gate insulating film 2 are formed.
2. The gate electrode 23 constitutes the thin film transistor 16.

「発明が解決しようとする問題点」 従来のこの種の液晶表示装置においては温度変化に応じ
てコントラストが変化し、つまり第4図に示すように温
度が上昇するとコントラストが低下する。
"Problems to be Solved by the Invention" In a conventional liquid crystal display device of this type, the contrast changes according to the temperature change, that is, the contrast decreases as the temperature rises as shown in FIG.

また表示面の照度が変化すると第5図に示すようにコン
トラストが変化する。
When the illuminance on the display surface changes, the contrast also changes as shown in FIG.

さらにカラー液晶表示装置の場合は第6図に示すように
表示面の照度が変化すると色度が変化する。
Further, in the case of a color liquid crystal display device, the chromaticity changes as the illuminance on the display surface changes, as shown in FIG.

この発明の目的は周囲温度、照度などの使用条件の変化
に拘らず表示特性が変化しないようにすることを可能と
する液晶表示装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device capable of preventing display characteristics from changing regardless of changes in operating conditions such as ambient temperature and illuminance.

「問題点を解決するための手段」 透明基板上に画素電極とソース電極が形成され、これら
画素電極及びソース電極間にわたって上記透明基板上に
アモルファスシリコンの半導体層が形成され、その半導
体層上にゲート絶縁膜が形成され、そのゲート絶縁膜上
にゲート電極が形成されている薄膜トランジスタを、ス
イッチング素子としたアクティブ液晶表示装置におい
て、 上記画素電極と同一材でこれと同時に上記透明基板上に
形成された一対の電極と、これら電極を覆って上記半導
体層と同一材でこれと同時に形成されたアモルファスシ
リコン層と、上記アモルファスシリコン層を覆って上記
ゲート絶縁膜と同一材でこれと同時に形成された絶縁膜
と、その絶縁膜を覆って上記ゲート電極と同一材でこれ
と同時に形成された遮光層とよりなる温度センサと、 上記画素電極と同一材でこれと同時に上記透明基板上に
形成された一対の電極と、これら電極を覆って上記半導
体層と同一材でこれと同時に形成されたアモルファスシ
リコン層と、そのアモルファスシリコン層を覆って上記
ゲート絶縁膜と同一材でこれと同時に形成された絶縁膜
とよりなる照度センサと、 上記透明基板の上記温度センサ及び上記照度センサと反
対側の面に形成され、これら温度センサ及び照度センサ
をそれぞれ遮光する遮光層とを設ける。
[Means for Solving Problems] A pixel electrode and a source electrode are formed on a transparent substrate, an amorphous silicon semiconductor layer is formed on the transparent substrate between the pixel electrode and the source electrode, and the semiconductor layer is formed on the semiconductor layer. In an active liquid crystal display device in which a thin film transistor in which a gate insulating film is formed and a gate electrode is formed on the gate insulating film is used as a switching element, it is formed on the transparent substrate at the same time with the same material as the pixel electrode. A pair of electrodes, an amorphous silicon layer that covers these electrodes and is made of the same material as the semiconductor layer at the same time, and a pair of electrodes that covers the amorphous silicon layer and is made of the same material as the gate insulating film at the same time It consists of an insulating film and a light-shielding layer that covers the insulating film and is formed of the same material as the gate electrode at the same time. A temperature sensor, a pair of electrodes made of the same material as the pixel electrodes and formed on the transparent substrate at the same time, and an amorphous silicon layer formed of the same material as the semiconductor layer at the same time and covering the electrodes. An illuminance sensor formed of an insulating film that covers the amorphous silicon layer and is made of the same material as the gate insulating film at the same time, and is formed on a surface of the transparent substrate opposite to the temperature sensor and the illuminance sensor. A light-shielding layer that shields each of the temperature sensor and the illuminance sensor is provided.

「実施例」 第7図にこの発明を白黒液晶表示装置に適用した例を示
す。入力端子31からの映像信号はシフトレジスタ32のデ
ータ端子に入力されると共に、クロック発生回路33に入
力される。クロック発生回路33では入力された映像信号
の画素周期と同期したクロックが発生され、このクロッ
クによりシフトレジスタ32がシフトされる。またこのク
ロックは画素カウンタ34で計数され、水平周期のクロッ
クが作られる。画素カウンタ34の出力クロックは水平カ
ウンタ35で計数され、垂直周期のクロックが作られ、こ
のクロックはゲート用シフトレジスタ36のデータ入力端
子へ供給され、このシフトレジスタ36は画素カウンタ34
の出力クロックによりシフト制御される。シフトレジス
タ36の並列出力はゲート駆動回路37によりアクテイブ液
晶表示素子38のゲートバス18(第2図)の対応するもの
がそれぞれ駆動される。一方シフトレジスタ32により直
列並列変換された映像信号は画素カウンタ34の出力クロ
ックによりラッチ回路39にラッチされ、ラッチ回路39の
出力はソース駆動回路41を通じて液晶表示素子38のソー
スバス19(第2図)の対応するものがそれぞれ駆動され
る。ソース駆動回路41の動作電圧は電源42より印加され
る。
[Embodiment] FIG. 7 shows an example in which the present invention is applied to a monochrome liquid crystal display device. The video signal from the input terminal 31 is input to the data terminal of the shift register 32 and the clock generation circuit 33. The clock generation circuit 33 generates a clock synchronized with the pixel period of the input video signal, and the shift register 32 is shifted by this clock. Further, this clock is counted by the pixel counter 34, and a clock having a horizontal cycle is created. The output clock of the pixel counter 34 is counted by the horizontal counter 35 to generate a clock having a vertical cycle, and this clock is supplied to the data input terminal of the gate shift register 36.
The shift control is performed by the output clock of. The parallel outputs of the shift register 36 are driven by the gate drive circuit 37, respectively, corresponding to the gate bus 18 (FIG. 2) of the active liquid crystal display element 38. On the other hand, the video signal serial-parallel converted by the shift register 32 is latched by the latch circuit 39 by the output clock of the pixel counter 34, and the output of the latch circuit 39 is passed through the source drive circuit 41 to the source bus 19 of the liquid crystal display element 38 (see FIG. 2). ) Corresponding ones are respectively driven. The operating voltage of the source drive circuit 41 is applied from the power supply 42.

この液晶表示素子は透過形のものであり、第8図に示す
ように液晶表示素子38は表示装置匣体42の開口を塞ぐよ
うに匣体42に取付けられ、匣体42内に配されたバックラ
イト用光源43よりの光により液晶表示素子38の背面に光
が入射される。光源43から放射される光の輝度は調光器
44により制御される。
This liquid crystal display element is of a transmissive type, and as shown in FIG. 8, the liquid crystal display element 38 is attached to the casing 42 so as to close the opening of the display device casing 42, and is arranged in the casing 42. Light from the light source for backlight 43 is incident on the back surface of the liquid crystal display element 38. The brightness of the light emitted from the light source 43 is a dimmer.
Controlled by 44.

この発明においては第7図,第8図に示すように液晶表
示素子38は周囲温度に応じた信号を出力する温度センサ
45が、液晶表示素子38の薄膜トランジスタ16が形成され
た面に、アモルファスシリコンにより構成される。例え
ば第9図及び第10図に示すように互に噛みあった櫛歯状
電極46,47が、画素電極15、ソースバス19と同時に、同
一材で基板11上に形成され、櫛歯状電極46,47を覆って
アモルファスシリコン層48が、半導体層21と同時に形成
される。アモルファスシリコン層48上に絶縁膜49がゲー
ト絶縁膜22と同時に形成される。更に必要に応じて絶縁
膜49、基板11の温度センサ45と対向する面にそれぞれ遮
光層51,52が形成される。遮光層51はゲート電極23と同
時に形成することができる。
In the present invention, as shown in FIGS. 7 and 8, the liquid crystal display element 38 is a temperature sensor that outputs a signal according to the ambient temperature.
45 is made of amorphous silicon on the surface of the liquid crystal display element 38 on which the thin film transistor 16 is formed. For example, as shown in FIG. 9 and FIG. 10, comb-tooth electrodes 46 and 47 meshed with each other are formed on the substrate 11 at the same time as the pixel electrode 15 and the source bus 19 by the same material. An amorphous silicon layer 48 is formed simultaneously with the semiconductor layer 21 so as to cover 46 and 47. An insulating film 49 is formed on the amorphous silicon layer 48 at the same time as the gate insulating film 22. Further, if necessary, light shielding layers 51 and 52 are formed on the surface of the insulating film 49 and the surface of the substrate 11 facing the temperature sensor 45, respectively. The light shielding layer 51 can be formed simultaneously with the gate electrode 23.

また基板11の薄膜トランジスタ16が形成された面に、液
晶表示素子38に入射される外来光53の照度に応じた信号
を出力する照度センサ54がアモルファスシリコンで形成
される。照度センサ54も温度センサ45とほぼ同様な構造
のものとされる。すなわち櫛歯状電極55,56が互に噛合
って基板11上に形成され、これら電極55,56を覆ってア
モルファスシリコン層57が形成される。アモルファスシ
リコン層57上に絶縁膜58が形成され照度センサ54が得ら
れる。基板11の照度センサ54と対向する面に遮光層59が
形成される。
On the surface of the substrate 11 on which the thin film transistor 16 is formed, an illuminance sensor 54 that outputs a signal according to the illuminance of the external light 53 incident on the liquid crystal display element 38 is formed of amorphous silicon. The illuminance sensor 54 has a structure similar to that of the temperature sensor 45. That is, the comb-teeth electrodes 55 and 56 are formed on the substrate 11 so as to mesh with each other, and the amorphous silicon layer 57 is formed so as to cover these electrodes 55 and 56. The illuminance sensor 54 is obtained by forming the insulating film 58 on the amorphous silicon layer 57. A light shielding layer 59 is formed on the surface of the substrate 11 facing the illuminance sensor 54.

第7図に示すように温度センサ45の出力に応じて電源42
の電圧が制御され、つまりソース駆動回路41の駆動トラ
ンジスタの電源電圧が制御される。アモルファスシリコ
ンの比抵抗は温度が1桁変化すると、1.5桁変化し、温
度の上昇につれて抵抗値は低下する。周囲温度が上昇す
ると画素電極15に印加される実効電圧が低下し、コント
ランストが低下し、輝度も低下するが、温度センサ45の
出力により電源42が制御されて、ソース駆動回路41より
のソース駆動信号振幅が大とされ、液晶のONレベルがほ
ぼ一定に保持される。
As shown in FIG. 7, the power source 42 is output according to the output of the temperature sensor 45.
Is controlled, that is, the power supply voltage of the drive transistor of the source drive circuit 41 is controlled. The specific resistance of amorphous silicon changes by 1.5 digits when the temperature changes by 1 digit, and the resistance value decreases as the temperature rises. When the ambient temperature rises, the effective voltage applied to the pixel electrode 15 drops, the contrast drops, and the brightness also drops, but the power supply 42 is controlled by the output of the temperature sensor 45, and the The source drive signal amplitude is made large, and the ON level of the liquid crystal is kept almost constant.

照度センサ54は外来光53の照度に応じた出力を出す、つ
まりアモルファスシリコンは光導電性を有し、照度が1
桁変化するとアモルファスシリコンの比抵抗は1桁変化
し、照度が高くなるに従って抵抗値は小さくなる。照度
センサ54の出力は制御部61により調光器44が制御され、
外来光53の照度が高くなるとバックライト用光源43の放
射光の照度が高くされる。制御部61としては第8図に示
すように、照度センサ54の出力は必要に応じて増幅器62
で増幅され、その増幅出力は加算器63で基準電源64から
の基準値に加算され、その加算出力により調光器44が制
御される。
The illuminance sensor 54 outputs an output according to the illuminance of the external light 53, that is, the amorphous silicon has photoconductivity and the illuminance is 1
When the digit changes, the resistivity of amorphous silicon changes by one digit, and the resistance value decreases as the illuminance increases. The output of the illuminance sensor 54 controls the dimmer 44 by the control unit 61,
When the illuminance of the extraneous light 53 increases, the illuminance of the emitted light of the backlight light source 43 increases. As shown in FIG. 8, the controller 61 outputs the output of the illuminance sensor 54 to the amplifier 62 as necessary.
The amplified output is added to the reference value from the reference power source 64 by the adder 63, and the dimmer 44 is controlled by the added output.

第11図にこの発明をカラー液晶表示装置に適用した例を
示す。入力端子31からのカラー映像信号はクロマ回路65
により赤色信号R、緑色信号G、青色信号Bの各色信号
と同期信号とに分離される。これら3つの色信号は可変
利得増幅回路66R,66G,66Bでそれぞれ増幅され、ペデス
タルレベル調整回路67を通じて信号反転回路68に入力さ
れる。信号反転回路68から赤色信号R、緑色信号G、青
色信号Bとこれらをそれぞれレベル反転した反転色信号
,,とが出力される。これら6つの色信号は交流
ビデオ信号回路69に入力され、各フィールドごとに赤色
信号R、緑色信号G、青色信号Bと、3つの反転色信号
,,とが交互に取出されてRGBスイッチング回路7
1に入力される。RGBスイッチング回路71はその各3つの
色信号をアクテイブカラー液晶表示素子38の色配列に合
せソース駆動回路41へ供給する。ソース駆動回路41はカ
ラー液晶パネル38の各色配列に合った信号V1,V2,V3
選びソースバスに供給する。
FIG. 11 shows an example in which the present invention is applied to a color liquid crystal display device. The color video signal from the input terminal 31 is the chroma circuit 65.
Thus, the red color signal R, the green color signal G, and the blue color signal B are separated into respective color signals and a synchronizing signal. These three color signals are amplified by the variable gain amplifier circuits 66R, 66G, 66B, respectively, and input to the signal inverting circuit 68 through the pedestal level adjusting circuit 67. The signal inversion circuit 68 outputs a red signal R, a green signal G, a blue signal B, and inverted color signals obtained by respectively inverting the levels of these signals. These six color signals are input to the AC video signal circuit 69, and the red signal R, the green signal G, the blue signal B, and the three inverted color signals are alternately taken out for each field, and the RGB switching circuit 7
Entered in 1. The RGB switching circuit 71 matches each of the three color signals with the color array of the active color liquid crystal display element 38 and supplies it to the source drive circuit 41. The source drive circuit 41 selects signals V 1 , V 2 and V 3 that match each color arrangement of the color liquid crystal panel 38 and supplies them to the source bus.

一方クロマ回路65により分離された同期信号は同期制御
回路72に入力される。同期制御回路72はその入力された
垂直同期信号と同期してそのフィールド信号を交流ビデ
オ信号回路69へ供給し、水平同期信号と同期した水平信
号をRGBスイッチ回路71へ供給し、また画素端子と同期
したクロック信号をソース駆動回路41へ供給し、更に水
平同期信号と同期したクロック信号をゲート駆動回路37
へ供給する。ゲート駆動回路37は液晶表示素子38のゲー
トバスを各ラインごとに順次選択駆動する。
On the other hand, the sync signal separated by the chroma circuit 65 is input to the sync control circuit 72. The synchronization control circuit 72 supplies the field signal to the AC video signal circuit 69 in synchronization with the input vertical synchronization signal, supplies the horizontal signal synchronized with the horizontal synchronization signal to the RGB switch circuit 71, and connects the pixel terminal The synchronized clock signal is supplied to the source drive circuit 41, and the clock signal synchronized with the horizontal sync signal is further supplied to the gate drive circuit 37.
Supply to. The gate drive circuit 37 selectively drives the gate bus of the liquid crystal display element 38 for each line.

この例ではカラー液晶表示素子38の薄膜トランジスタ16
が形成された基板11の面に温度センサ45、照度センサ5
4、更にカラーセンサ73が形成される。温度センサ45、
照度センサ54は第9図に示したものと同様のものを使用
することができる。カラーセンサ73としては例えば第12
図に示すものが使用される。すなわち、基板11の内にア
モルファスシリコンの光センサ75R,75G,75Bが形成され
る。各光センサ75R,75G,75Bは同一構成で、Hpinホトダ
イオードを用いた場合で、透明電極76が共通に形成され
る。電極76は画素電極15と同時に形成できる。電極76上
にアモルファスシリコンのp形層77が形成され、p形層
77の上にアモルファスシリコンのi形層78が形成され、
i形層78上にアモルファスシリコンのn形層79が形成さ
れ、n形層79上に電極81が形成される。これらアモルフ
ァスシリコンの各層は半導体層21の形成時に不純物を制
御して形成することができる。これら各光センサ75R,75
G,75Bと対向して基板12の内面に赤色フィルタ82R、緑色
フィルタ82G、青色フィルタ82Bがそれぞれ形成されてカ
ラーセンサ73が得られる。光センサ75R,75G,75Bの各電
極81から外来光53の赤色成分、緑色成分、青色成分の各
照度と対応した出力が得られ、つまり外来光53の分光特
性が得られる。
In this example, the thin film transistor 16 of the color liquid crystal display element 38 is
The temperature sensor 45 and the illuminance sensor 5 are provided on the surface of the substrate 11 on which the
4. Further, the color sensor 73 is formed. Temperature sensor 45,
As the illuminance sensor 54, the same one as shown in FIG. 9 can be used. As the color sensor 73, for example, the 12th
The one shown is used. That is, the amorphous silicon photosensors 75R, 75G, and 75B are formed in the substrate 11. The photosensors 75R, 75G, and 75B have the same structure, and when the Hpin photodiode is used, the transparent electrode 76 is commonly formed. The electrode 76 can be formed simultaneously with the pixel electrode 15. A p-type layer 77 of amorphous silicon is formed on the electrode 76,
An i-type layer 78 of amorphous silicon is formed on 77
An amorphous silicon n-type layer 79 is formed on the i-type layer 78, and an electrode 81 is formed on the n-type layer 79. Each of these layers of amorphous silicon can be formed by controlling impurities when the semiconductor layer 21 is formed. Each of these optical sensors 75R, 75
A red filter 82R, a green filter 82G, and a blue filter 82B are respectively formed on the inner surface of the substrate 12 so as to face the G and 75B, so that the color sensor 73 is obtained. Outputs corresponding to the respective illuminances of the red component, green component, and blue component of the external light 53 are obtained from the electrodes 81 of the optical sensors 75R, 75G, and 75B, that is, the spectral characteristics of the external light 53 are obtained.

第11図に示した例では温度センサ45の出力により可変利
得増幅回路66R,66G,66Bの各利得を制御してソース駆動
回路41に供給されるソース駆動信号の振幅を制御し、か
つ温度センサ45の出力をペデスタルレベル補償回路83へ
供給し、ペデスタルレベル調整回路67へ供給する基準電
圧を制御し、温度変動にもとずく液晶のOFFレベルの変
動を補償し、そのOFFレベルを一定にして良好なコント
ラストを得る。
In the example shown in FIG. 11, the output of the temperature sensor 45 controls each gain of the variable gain amplification circuits 66R, 66G, 66B to control the amplitude of the source drive signal supplied to the source drive circuit 41, and the temperature sensor The output of 45 is supplied to the pedestal level compensating circuit 83, the reference voltage supplied to the pedestal level adjusting circuit 67 is controlled, the OFF level fluctuation of the liquid crystal is compensated due to the temperature fluctuation, and the OFF level is kept constant. Get good contrast.

照度センサ54の出力によるバックライト用光源に対する
制御は第7図について述べた場合と同一である。
The control of the backlight light source by the output of the illuminance sensor 54 is the same as the case described with reference to FIG.

カラーセンサ73により周囲光、つまり外来光53の分光特
性の平衡がとれてない状態が検出されるとこれに応じて
バックライト光の分光特性を制御して補償する。そのた
めバックライト光用光源43として赤色光源43R、緑色光
源43G、青色光源43Bが設けられ、調光器44の出力は調光
器84R、84G、84Bにそれぞれ供給され、調光器84R,84G、
84Bの各出力で赤色光源43R、緑色光源43G、青色光源43B
がそれぞれ点灯される。調光器84R,84G,84Bがカラーセ
ンサ73の光センサ75R,75G,75Bの各出力でそれぞれ制御
され、外来光53の各色成分の不平衡に応じてカラー液晶
表示素子38の表示着色が補償される。
When the color sensor 73 detects a state where the spectral characteristics of the ambient light, that is, the external light 53 is not balanced, the spectral characteristics of the backlight light are controlled and compensated accordingly. Therefore, a red light source 43R, a green light source 43G, a blue light source 43B are provided as the backlight light source 43, the output of the dimmer 44 is supplied to the dimmers 84R, 84G, 84B, respectively, dimmers 84R, 84G,
Red light source 43R, green light source 43G, blue light source 43B with each output of 84B
Are lit respectively. The dimmers 84R, 84G, 84B are respectively controlled by the outputs of the photosensors 75R, 75G, 75B of the color sensor 73, and the display coloring of the color liquid crystal display element 38 is compensated according to the imbalance of the color components of the external light 53. To be done.

「発明の効果」 以上述べたようにこの発明によればアクテイブ液晶表示
素子の基板の薄膜トランジスタの形成面に、温度セン
サ、照度センサが設けられ、周囲温度の変動によるコン
トラストの変化や外来光の照度変動によるコントラスト
の変化を補償し、常に良好なコントラストを得ることが
可能とされ、しかもこれらセンサは薄膜トランジスタの
形成と同一工程で作ることができる。
[Advantages of the Invention] As described above, according to the present invention, a temperature sensor and an illuminance sensor are provided on the surface of a substrate of an active liquid crystal display element on which a thin film transistor is formed, and a change in contrast due to a change in ambient temperature and an illuminance of external light It is possible to compensate for the change in contrast due to fluctuations and always obtain good contrast, and these sensors can be manufactured in the same step as the formation of the thin film transistor.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は液晶表示素子の一部を示す断面図、第2図は液
晶表示素子の電気的回路図、第3図は薄膜トランジスタ
の構成例を示す断面図、第4図は液晶表示素子のコント
ラスト−周囲温度特性図、第5図はコントラスト−周囲
照度特性図、第6図は周囲光照度による色度変化特性
図、第7図はこの発明を白黒液晶表示装置に適用した例
を示すブロック図、第8図はその断面図、第9図は温度
センサ45、照度センサ54の断面図、第10図は温度センサ
の平面図、第11図はこの発明をカラー液晶表示装置に適
用した例を示すブロック図、第12図はカラーセンサを示
す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing a part of a liquid crystal display element, FIG. 2 is an electric circuit diagram of the liquid crystal display element, FIG. 3 is a sectional view showing a configuration example of a thin film transistor, and FIG. 4 is a contrast of the liquid crystal display element. -Ambient temperature characteristic diagram, Fig. 5 is a contrast-ambient illuminance characteristic diagram, Fig. 6 is a chromaticity change characteristic diagram according to ambient light illuminance, and Fig. 7 is a block diagram showing an example in which the present invention is applied to a monochrome liquid crystal display device, FIG. 8 is a sectional view thereof, FIG. 9 is a sectional view of the temperature sensor 45 and the illuminance sensor 54, FIG. 10 is a plan view of the temperature sensor, and FIG. 11 shows an example in which the present invention is applied to a color liquid crystal display device. A block diagram and FIG. 12 are sectional views showing a color sensor.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】透明基板上に画素電極とソース電極とが形
成され、これら画素電極及びソース電極間にわたって上
記透明基板上にアモルファスシリコンの半導体層が形成
され、その半導体層上にゲート絶縁膜が形成され、その
ゲート絶縁膜上にゲート電極が形成されてなる薄膜トラ
ンジスタを、スイッチング素子としたアクティブ液晶表
示装置において、 上記画素電極と同一材でこれと同時に上記透明基板上に
形成された一対の電極と、これら電極を覆って上記半導
体層と同一材でこれと同時に形成されたアモルファスシ
リコン層と、上記アモルファスシリコン層を覆って上記
ゲート絶縁膜と同一材でこれと同時に形成された絶縁膜
と、その絶縁膜を覆って上記ゲート電極と同一材でこれ
と同時に形成された遮光層とよりなる温度センサと、 上記画素電極と同一材でこれと同時に上記透明基板上に
形成された一対の電極と、これら電極を覆って上記半導
体層と同一材でこれと同時に形成されたアモルファスシ
リコン層と、そのアモルファスシリコン層を覆って上記
ゲート絶縁膜と同一材でこれと同時に形成された絶縁膜
とよりなる照度センサと、 上記透明基板の上記温度センサ及び上記照度センサと反
対側の面に形成され、これら温度センサ及び照度センサ
をそれぞれ遮光する遮光層と、 を具備することを特徴とする液晶表示装置。
1. A pixel electrode and a source electrode are formed on a transparent substrate, an amorphous silicon semiconductor layer is formed on the transparent substrate between the pixel electrode and the source electrode, and a gate insulating film is formed on the semiconductor layer. In the active liquid crystal display device in which a thin film transistor formed by forming a gate electrode on the gate insulating film is used as a switching element, a pair of electrodes made of the same material as the pixel electrode and simultaneously formed on the transparent substrate An amorphous silicon layer formed of the same material as the semiconductor layer at the same time as covering the electrodes, and an insulating film formed of the same material as the gate insulating film at the same time as covering the amorphous silicon layer, A temperature sensor that covers the insulating film and comprises a light-shielding layer formed of the same material as the gate electrode at the same time; A pair of electrodes made of the same material as the pixel electrodes and formed on the transparent substrate at the same time, an amorphous silicon layer formed of the same material as the semiconductor layer at the same time and covering the electrodes, and the amorphous silicon layer. And an illuminance sensor formed of an insulating film formed of the same material as the gate insulating film at the same time as the gate insulating film, and formed on the surface of the transparent substrate opposite to the temperature sensor and the illuminance sensor. A liquid crystal display device, comprising: a light-shielding layer that shields each of the illuminance sensors.
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