JPH07109119A - Composition for forming metal oxide film, its production and formation of metal oxide film - Google Patents

Composition for forming metal oxide film, its production and formation of metal oxide film

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JPH07109119A
JPH07109119A JP5256721A JP25672193A JPH07109119A JP H07109119 A JPH07109119 A JP H07109119A JP 5256721 A JP5256721 A JP 5256721A JP 25672193 A JP25672193 A JP 25672193A JP H07109119 A JPH07109119 A JP H07109119A
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metal
organic
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文生 内田
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Abstract

PURPOSE:To easily produce a single or composite element metal oxide having excellent substrate adhesivity and film-forming property by mixing an organic acid metal salt, an organic compound having a specific number of oxygen atoms as coordinating atoms, an organic polymer compound and a rosin, and an organic solvent at specific ratios. CONSTITUTION:This composition is produced by mixing and heating (1) one or more kinds of organic acid metal salts, (2) one or more kinds of organic compounds having 1-4 oxygen atoms as coordinating atoms, (3) one or more kinds of organic polymer compounds and a rosin and (4) one or more kinds of organic solvents. The amount of each component is 0.5-20wt.% for the component (1) in terms of metal oxide, 0.1-n mol for the component (2) (n is average oxidation number of the metal in the component (1), weighted average in the case of using two or more kinds of metals) based on 1g-atom of the metal in the component (1), 5-80wt.% for the component (3) and 20-80wt.% for the component (4). A uniform and excellent metal oxide film free from defect and having excellent stability can be produced by applying the composition to a substrate and baking the coating layer.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、金属酸化物膜形成用の
組成物及びその製造法並びに金属酸化物膜の形成法に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a composition for forming a metal oxide film, a method for producing the same, and a method for forming a metal oxide film.

【0002】本明細書において、「%」とあるのは、
「重量%」を意味する。
In this specification, "%" means
It means "% by weight".

【0003】[0003]

【従来の技術】金属酸化物膜は、各種機能性膜として従
来から利用されている。これらの膜形成法としては、真
空下あるいはアルゴンガス等の不活性ガス雰囲気下で行
われるスパッタリング法、蒸着法又はイオンビーム法等
の物理学的方法、あるいはCVD法等の化学的方法が主
流になっている。しかしながら、これらの方法は、高価
な設備を必要とする。また、複合酸化物を得る場合に
は、各成分の蒸発速度又は析出速度の違いにより、膜成
分の調整が困難になり、膜が目的の特性を得られない場
合が多い。さらに、大面積の膜形成が技術的に困難な場
合が多い。
2. Description of the Related Art Metal oxide films have been conventionally used as various functional films. The mainstream of these film forming methods is a physical method such as a sputtering method, a vapor deposition method or an ion beam method, or a chemical method such as a CVD method, which is performed under vacuum or in an atmosphere of an inert gas such as argon gas. Has become. However, these methods require expensive equipment. Further, in the case of obtaining a composite oxide, it is difficult to adjust the film components due to the difference in evaporation rate or precipitation rate of each component, and the film often fails to obtain desired characteristics. Further, it is often technically difficult to form a large-area film.

【0004】また、複合金属酸化物の微粉末をスラリー
状にし、基板上に塗布して焼成するドクターブレード法
も知られている。しかしながら、この方法では、膜厚が
酸化物粉末の粒径及びその凝集体としての粒子の大きさ
により影響を受けるため、任意の膜厚のものが得られに
くい。
Also known is a doctor blade method in which a fine powder of a composite metal oxide is made into a slurry, which is applied onto a substrate and baked. However, in this method, the film thickness is affected by the particle size of the oxide powder and the size of the particles as an aggregate thereof, so that it is difficult to obtain an arbitrary film thickness.

【0005】特定の溶媒に可溶な有機金属化合物の溶液
を基板上に塗布する方法がある。この方法は、複合酸化
物膜を形成させる場合にも、二種以上の有機金属化合物
を任意の比率で複合化することができるので、目標とす
る組成及び膜厚が得られやすい。
There is a method of applying a solution of an organometallic compound soluble in a specific solvent onto a substrate. In this method, two or more kinds of organometallic compounds can be compounded in an arbitrary ratio even when forming a composite oxide film, and thus a target composition and film thickness can be easily obtained.

【0006】この様な有機金属酸化物を用いた成膜技術
の一つとして代表的なものには金属アルコキシドを用い
るゾル・ゲル法、及び有機酸の金属塩を原料として、溶
媒に希釈してから基板に塗布し、加熱して金属酸化物を
得る熱分解法等が知られている。
[0006] A typical example of the film forming technique using such an organic metal oxide is a sol-gel method using a metal alkoxide, and a metal salt of an organic acid as a raw material, which is diluted with a solvent. There is known a thermal decomposition method or the like in which a metal oxide is applied to a substrate and heated to obtain a metal oxide.

【0007】ゾル・ゲル法によりTiO2 膜、SiO2
膜、ZrO2 膜等の数種の金属酸化物膜を製造する方法
が開発されている。しかしながら、有機金属酸化物のう
ち金属アルコキシドは、一般的に高価な上、簡単に合成
できないものもあり、種々の配合組成で組み合わせられ
るとは限らない。
TiO 2 film, SiO 2 by sol-gel method
Methods have been developed for producing several types of metal oxide films such as films, ZrO 2 films and the like. However, among the organic metal oxides, metal alkoxides are generally expensive and cannot be easily synthesized, so that they are not necessarily combined in various compounding compositions.

【0008】また、熱分解法では、比較的安価に入手可
能であるナフテン酸塩、オクチル酸塩等を用いてZnO
膜、SnO2 膜を得る方法が提案されている。しかしな
がら、これらについても自由に種々の組み合わせができ
るとは限らない。
Further, in the thermal decomposition method, ZnO is prepared by using naphthenate, octylate, etc., which are relatively inexpensively available.
A method for obtaining a film and a SnO 2 film has been proposed. However, these cannot be freely combined in various ways.

【0009】さらに、有機酸の一種である金属錯体を金
属酸化物の形成原料として用いる試みもある。しかしな
がら、金属錯体は一般的に液体としての保存安定性が悪
く、基板に対する密着性及び平滑性等の成膜性が悪いた
め実用性に欠ける。
Further, there has been an attempt to use a metal complex which is a kind of organic acid as a raw material for forming a metal oxide. However, the metal complex is generally poor in storage stability as a liquid and poor in film-forming properties such as adhesion to the substrate and smoothness, so that it is not practical.

【0010】一方、超伝導材料の複合金属酸化物又は各
種の誘電体等の薄膜を製造するために溶媒に対し可溶性
の有機酸金属塩を使用したり、金属アルコキシドにキレ
ート剤を加え、有機溶媒に対して可溶化して使用するこ
とが試みられている。しかしながら、各有機酸金属塩及
び金属アルコキシド等を含む溶液の不安定であったり、
あるいは一部金属化合物の析出により、目標通りの組成
を有する金属酸化物膜が得られにくい場合がある。ま
た、金属酸化物膜が得られたとしても、被膜が弱かった
り、基板に対する密着性が悪いといった問題点がある。
しかも、有機酸塩及び金属アルコキシド等の有機金属化
合物は、限られたもの以外は市販品として入手不可能で
あり、合成すること自体も困難なものが多い。従って、
この方法により製造できる複合金属酸化物膜の種類は著
しく制限されるので、浸漬法、スプレー法等において比
較的低粘度の溶液が使用されているのみであり、スクリ
ーン印刷に供するような高粘度の液体組成物としては一
般的ではない。
On the other hand, an organic acid metal salt soluble in a solvent is used to produce a thin film of a composite metal oxide of superconducting material or various dielectrics, or a chelating agent is added to a metal alkoxide to prepare an organic solvent. Has been attempted to be solubilized with respect to. However, if the solution containing each organic acid metal salt and metal alkoxide is unstable,
Alternatively, it may be difficult to obtain a metal oxide film having a desired composition due to the deposition of a part of the metal compound. Even if a metal oxide film is obtained, there are problems that the film is weak and the adhesion to the substrate is poor.
Moreover, organic metal compounds such as organic acid salts and metal alkoxides are not available as commercial products except limited ones, and it is often difficult to synthesize them. Therefore,
Since the type of composite metal oxide film that can be produced by this method is significantly limited, only relatively low-viscosity solutions are used in the dipping method, spraying method, etc. It is not common as a liquid composition.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は、従
来技術の問題点を解決し、任意の基板に対し、優れた密
着性を示しつつ、膜形成能に優れた単独又は複合元素の
金属酸化物膜を容易に製造することのできる金属酸化物
膜形成用組成物を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, the present invention solves the problems of the prior art and shows a single or composite element metal which has excellent film-forming ability while exhibiting excellent adhesion to any substrate. An object of the present invention is to provide a composition for forming a metal oxide film, which can easily produce an oxide film.

【0012】また、本発明は、上記の金属酸化物膜形成
用組成物の製造法を提供することを目的とする。
Another object of the present invention is to provide a method for producing the above metal oxide film forming composition.

【0013】さらに、本発明は、上記の金属酸化物膜形
成用組成物を用いて、欠陥がなく、均質で良好な金属酸
化物膜を形成する方法を提供することを目的とする。
A further object of the present invention is to provide a method for forming a uniform and good metal oxide film free from defects by using the above composition for forming a metal oxide film.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記のよう
な技術の現状に鑑みて鋭意研究を進めた結果、(1)有
機酸金属塩の少なくとも一種、(2)1〜4個の酸素を
配位原子として有する有機化合物の少なくとも一種、
(3)有機高分子化合物の少なくとも一種及びロジン並
びに(4)有機溶媒を特定の割合で配合することにより
得られる組成物により、上記の目的が達成されることを
見出した。即ち、この組成物を使用する場合には、組成
物の塗膜を焼成することにより、基板に対し優れた密着
性を示しつつ、膜形成能に優れた単独又は複合元素の金
属酸化物膜を容易に製造できることを見出した。また、
これらの各成分を同時又は特定の順序で混合し、特定の
段階において加熱還流することにより、欠陥がなく、均
質で良好な金属酸化物膜を製造し得る組成物を形成でき
ることを見出した。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies in view of the current state of the art, the present inventor has (1) at least one kind of organic acid metal salt, and (2) 1 to 4 At least one organic compound having oxygen as a coordinating atom,
It has been found that the above object can be achieved by a composition obtained by mixing (3) at least one kind of organic polymer compound and rosin and (4) an organic solvent in a specific ratio. That is, when using this composition, by baking the coating film of the composition, while exhibiting excellent adhesion to the substrate, a metal oxide film of a single or composite element excellent in film forming ability is formed. It was found that it can be easily manufactured. Also,
It has been found that a composition capable of producing a uniform and good metal oxide film without defects can be formed by mixing these components simultaneously or in a specific order and heating and refluxing at a specific stage.

【0015】即ち、本発明は、以下のものを提供するも
のである。
That is, the present invention provides the following.

【0016】1.金属酸化物膜形成用組成物であって、
(1)有機酸金属塩の少なくとも一種、(2)1〜4個
の酸素を配位原子として有する有機化合物の少なくとも
一種、(3)有機高分子化合物の少なくとも一種とロジ
ン、及び(4)有機溶媒の少なくとも一種を含み、
(5)成分(1)を金属酸化物換算で0.5〜20%含
有し、(6)成分(1)中の金属1グラム原子に対し、
成分(2)を0.1〜nモル(nは成分(1)中の金属
の平均酸化数であり、二種以上の金属を使用する場合に
は加重平均酸化数である)を含み、(7)成分(3)を
5〜80%含有し、(8)成分(4)を20〜80%含
有することを特徴とする金属酸化物膜形成用組成物。
1. A composition for forming a metal oxide film,
(1) at least one kind of organic acid metal salt, (2) at least one kind of organic compound having 1 to 4 oxygen as coordination atoms, (3) at least one kind of organic polymer compound and rosin, and (4) organic Contains at least one solvent,
(5) Component (1) is contained in an amount of 0.5 to 20% in terms of metal oxide, and (6) component (1) contains 1 gram atom of metal,
Component (2) in an amount of 0.1 to n mol (n is the average oxidation number of the metal in component (1), and is a weighted average oxidation number when two or more metals are used); 7) A composition for forming a metal oxide film, which contains 5 to 80% of the component (3) and 20 to 80% of the (8) component (4).

【0017】2.金属酸化物膜形成用組成物の製造方法
において、(1)有機酸金属塩の少なくとも一種、
(2)1〜4個の酸素を配位原子として有する有機化合
物の少なくとも一種、(3)有機高分子化合物の少なく
とも一種とロジン、及び(4)有機溶媒の少なくとも一
種を使用し、形成される組成物中で(5)成分(1)が
金属酸化物換算で0.5〜20%、(6)成分(1)中
の金属1グラム原子に対し、成分(2)が0.1〜nモ
ル(nは成分(1)中の金属の平均酸化数であり、二種
以上の金属を使用する場合には加重平均酸化数であ
る)、(7)成分(3)が5〜80%、及び(8)成分
(4)が20〜80%となる割合で、成分(1)、成分
(2)、成分(3)及び成分(4)を混合して加熱する
ことを特徴とする金属酸化物膜形成用組成物の製造方
法。
2. In the method for producing a composition for forming a metal oxide film, (1) at least one kind of organic acid metal salt,
(2) at least one organic compound having 1 to 4 oxygens as coordinating atoms, (3) at least one organic polymer compound and rosin, and (4) at least one organic solvent. In the composition, (5) component (1) is 0.5 to 20% in terms of metal oxide, and component (2) is 0.1 to n per 1 gram atom of metal in component (1). Mol (n is the average oxidation number of the metal in component (1), and is the weighted average oxidation number when two or more metals are used), (7) component (3) is 5-80%, And (8) a metal oxidation characterized by mixing and heating the component (1), the component (2), the component (3) and the component (4) in a proportion of 20 to 80% of the component (4). A method for producing a composition for forming a physical film.

【0018】3.金属酸化物膜形成用組成物の製造方法
において、(1)有機酸金属塩の少なくとも一種、
(2)1〜4個の酸素を配位原子として有する有機化合
物の少なくとも一種、(3)有機高分子化合物の少なく
とも一種とロジン、及び(4)有機溶媒の少なくとも一
種を使用し、形成される組成物中で(5)成分(1)が
金属酸化物換算で0.5〜20%、(6)成分(1)中
の金属1グラム原子に対し、成分(2)が0.1〜nモ
ル(nは成分(1)中の金属の平均酸化数であり、二種
以上の金属を使用する場合には加重平均酸化数であ
る)、(7)成分(3)が5〜80%、及び(8)成分
(4)が20〜80%となる割合で、成分(1)、成分
(2)及び成分(4)を混合した後、成分(3)を混合
して加熱することを特徴とする金属酸化物膜形成用組成
物の製造方法。
3. In the method for producing a composition for forming a metal oxide film, (1) at least one kind of organic acid metal salt,
(2) at least one organic compound having 1 to 4 oxygens as coordinating atoms, (3) at least one organic polymer compound and rosin, and (4) at least one organic solvent. In the composition, (5) component (1) is 0.5 to 20% in terms of metal oxide, and component (2) is 0.1 to n per 1 gram atom of metal in component (1). Mol (n is the average oxidation number of the metal in component (1), and is the weighted average oxidation number when two or more metals are used), (7) component (3) is 5-80%, And (8) Component (1), Component (2) and Component (4) are mixed at a ratio of 20 to 80% of Component (4), and then Component (3) is mixed and heated. And a method for producing a composition for forming a metal oxide film.

【0019】4.金属酸化物膜形成用組成物の製造方法
において、(1)有機酸金属塩の少なくとも一種、
(2)1〜4個の酸素を配位原子として有する有機化合
物の少なくとも一種、(3)有機高分子化合物の少なく
とも一種とロジン、及び(4)有機溶媒の少なくとも一
種を使用し形成される組成物中で(5)成分(1)が金
属酸化物換算で0.5〜20%、(6)成分(1)中の
金属1グラム原子に対し、成分(2)が0.1〜nモル
(nは成分(1)中の金属の平均酸化数であり、二種以
上の金属を使用する場合には加重平均酸化数である)、
(7)成分(3)が5〜80%、及び(8)成分(4)
が20〜80%となる割合で、成分(1)、成分(3)
及び成分(4)を混合し、加熱した後、成分(2)を混
合することを特徴とする金属酸化物膜形成用組成物の製
造方法。
4. In the method for producing a composition for forming a metal oxide film, (1) at least one kind of organic acid metal salt,
A composition formed by using (2) at least one organic compound having 1 to 4 oxygens as coordinating atoms, (3) at least one organic polymer compound and rosin, and (4) at least one organic solvent. In the product, the component (1) is 0.5 to 20% in terms of metal oxide, and the component (2) is 0.1 to nmole per 1 gram atom of the metal in the component (1). (N is the average oxidation number of the metal in component (1), and is the weighted average oxidation number when two or more metals are used),
(7) Component (3) is 5 to 80%, and (8) Component (4)
Is 20 to 80%, and component (1) and component (3)
And the component (4) are mixed and heated, and then the component (2) is mixed, the method for producing a composition for forming a metal oxide film.

【0020】5.上記1の金属酸化物膜形成用組成物を
基板上に塗布し、400℃以上で焼成することを特徴と
する金属酸化物膜の形成法。
5. A method for forming a metal oxide film, which comprises coating the composition for forming a metal oxide film of the above 1 on a substrate and baking the composition at 400 ° C. or higher.

【0021】本発明で使用される有機酸金属塩(以下M
aということがある)としては、炭素数6〜10の飽和
モノカルボン酸の金属塩及び環状モノカルボン酸の金属
塩が例示される。
The organic acid metal salt used in the present invention (hereinafter referred to as M
Examples of a) include metal salts of saturated monocarboxylic acids having 6 to 10 carbon atoms and metal salts of cyclic monocarboxylic acids.

【0022】Maの有機酸成分としての炭素数6〜10
の飽和モノカルボン酸としては、ヘキサン酸、エナント
酸、オクチル酸、カプリン酸等が例示される。
6 to 10 carbon atoms as an organic acid component of Ma
Examples of the saturated monocarboxylic acid include hexanoic acid, enanthic acid, octylic acid, capric acid and the like.

【0023】環状モノカルボン酸としては、石油酸の主
成分であるナフテン酸並びにロジンの主成分であるアビ
エチン酸、ナフトエ酸等が例示される。
Examples of the cyclic monocarboxylic acid include naphthenic acid which is a main component of petroleum acid and abietic acid and naphthoic acid which are main components of rosin.

【0024】Maの金属成分として使用される金属は、
2A族;Mg、Ca、Sr、Ba、3A族;Y、ランタ
ノイドのLa、Ce、Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、
Dy、Er、Yb、4A族;Ti、Zr、5A族;V、
Nb、Ta、6A族;Cr、7A族;Mn、8族;F
e、Co、Ni、1B族;Cu、2B族;Zn、3B
族;B、Al、Ga、In、4B族;Si、Ge、S
n、Pb、5B族;Sb、Bi等が例示される。
The metal used as the metal component of Ma is
2A group; Mg, Ca, Sr, Ba, 3A group; Y, lanthanoids of La, Ce, Pr, Nd, Sm, Eu, Gd,
Dy, Er, Yb, 4A group; Ti, Zr, 5A group; V,
Nb, Ta, 6A group; Cr, 7A group; Mn, 8 group; F
e, Co, Ni, 1B group; Cu, 2B group; Zn, 3B
Group: B, Al, Ga, In, 4B group: Si, Ge, S
Examples include n, Pb, and 5B groups; Sb, Bi, and the like.

【0025】なお、Maは、公知の化合物であり、容易
に合成し得る。例えば、金属ハロゲン化物、硝酸塩、硫
酸塩、酢酸塩等の水溶液とそれぞれの金属の有機酸塩が
生成するのに必要な化学量論量の1.1倍量の上記有機
酸及びアンモニア水、水酸化ナトリウム溶液等のアルカ
リ溶液とを有機溶媒に溶解又は懸濁させた後、還流する
ことによって有機溶媒中に有機酸塩を抽出し、溶媒相を
分離した後、溶媒を留去する方法が一般的に示される。
Ma is a known compound and can be easily synthesized. For example, an aqueous solution of metal halides, nitrates, sulfates, acetates and the like, and 1.1 times the stoichiometric amount of the above organic acid and ammonia water and water necessary to produce organic acid salts of the respective metals. After dissolving or suspending an alkaline solution such as sodium oxide solution in an organic solvent, the organic acid salt is extracted into the organic solvent by refluxing, the solvent phase is separated, and then the solvent is generally distilled off. Indicated.

【0026】或いは、金属アルコキシドに対し、上記カ
ルボキシル基を有する有機酸の少なくとも一種を選択
し、それぞれの金属の有機酸塩が生成するのに必要な化
学量論量の1/3〜1倍量までの範囲で添加し、有機溶
媒中で還流することにより金属アルコキシドのアルコキ
シル基の一部が有機酸基により置換された有機酸金属塩
を合成することもできる。これは、場合によっては溶媒
を留去せずに使用しても良い。また、未反応の金属アル
コキシドが残留していても、そのまま使用できる。
Alternatively, with respect to the metal alkoxide, at least one kind of the organic acid having the above-mentioned carboxyl group is selected, and 1/3 to 1 times the stoichiometric amount necessary to generate the organic acid salt of each metal. It is also possible to synthesize an organic acid metal salt in which a part of the alkoxyl group of the metal alkoxide is substituted with an organic acid group by adding the above-mentioned compound in the range up to and refluxing in an organic solvent. This may optionally be used without distilling off the solvent. Further, even if unreacted metal alkoxide remains, it can be used as it is.

【0027】本発明において、1〜4個の酸素を配位原
子として有する有機化合物(以下Lbということがあ
る)は、MaのSdへの溶解を促進するとともに、分子
中に含まれる配位原子である酸素とMaとを配位結合さ
せることにより、保存安定性の向上の効果がある。溶液
状態での安定化を高める効果を有効に発揮するために、
Lbは、分子中に酸素原子が少なくとも1個有するもの
であり、かつ金属元素と5員環又は6員環を形成するも
のである必要がある。配位元素として、N、P、As、
S、Seが考えられるが、本発明では、焼成により消失
しやすく、公害がないという理由で酸素を配位原子とし
て有する化合物を使用する。本発明で使用するLbとし
ては、β−ジケトン、β−ケトエステル、多価アルコー
ル及び高級アルコールがある。
In the present invention, the organic compound having 1 to 4 oxygens as coordination atoms (hereinafter sometimes referred to as Lb) promotes the dissolution of Ma in Sd, and the coordination atom contained in the molecule. Coordinatively bonding oxygen and Ma, which is, has the effect of improving storage stability. In order to effectively exert the effect of enhancing the stabilization in the solution state,
Lb must have at least one oxygen atom in the molecule and must form a 5-membered ring or a 6-membered ring with the metal element. As a coordination element, N, P, As,
Although S and Se are conceivable, in the present invention, a compound having oxygen as a coordination atom is used because it easily disappears by firing and does not cause pollution. Examples of Lb used in the present invention include β-diketones, β-ketoesters, polyhydric alcohols and higher alcohols.

【0028】β−ジケトンとしては、アセチルアセト
ン、ジピバロイルメタン等が例示される。
Examples of β-diketone include acetylacetone and dipivaloylmethane.

【0029】β−ケトエステルとしては、アセト酢酸メ
チル、アセト酢酸エチル等が例示される。
Examples of β-ketoesters include methyl acetoacetate and ethyl acetoacetate.

【0030】多価アルコールとしては、エチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、グリセリン、2−エチル
ヘキサン−1,3−ジオール等が例示される。
Examples of the polyhydric alcohol include ethylene glycol, diethylene glycol, glycerin, 2-ethylhexane-1,3-diol and the like.

【0031】高級アルコールとしては、ヘキサノール、
ヘプタノール、n−オクタノール、2−エチルヘキサノ
ール、デカノール等が例示される。
As the higher alcohol, hexanol,
Heptanol, n-octanol, 2-ethylhexanol, decanol, etc. are illustrated.

【0032】これらのLbは、単独でも又は二種以上を
組み合わせても使用可能である。使用されるLb量は、
Maの金属換算量で1グラム原子当たり0.1〜n(n
は当該金属の平均酸化数又は二種以上の金属を使用する
場合には加重平均酸化数)モルである。Lb量が0.1
モル未満では、保存安定性が改善されないのに対し、n
モルを超える場合には、膜形成の際の被膜の平滑性が低
下したり、焼成時に発泡して、膜形成能が低下する。L
b量は、Ma中の金属1グラム原子当たり0.25〜n
/2モルの割合であることが好ましい。
These Lb can be used alone or in combination of two or more kinds. The amount of Lb used is
The metal conversion amount of Ma is 0.1-n (n
Is the average oxidation number of the metal or the weighted average oxidation number) moles when two or more metals are used. Lb amount is 0.1
If it is less than the molar amount, the storage stability is not improved, whereas n
If it exceeds the molar amount, the smoothness of the coating film at the time of film formation is lowered, or foaming occurs at the time of firing to lower the film forming ability. L
The amount of b is 0.25 to n per gram atom of metal in Ma.
The ratio is preferably / 2 mol.

【0033】本発明において、有機高分子化合物の少な
くとも一種及びロジン(以下Rcということがある)
は、Maを可溶化した組成物に対する粘度調節剤として
作用するとともに、膜形成能及び基材への密着性を高め
る作用を有する。
In the present invention, at least one organic polymer compound and rosin (hereinafter sometimes referred to as Rc)
Has a function of acting as a viscosity modifier for the composition in which Ma is solubilized, and a function of enhancing the film-forming ability and the adhesion to the substrate.

【0034】有機高分子化合物としては、セルロース
類、多糖類等の天然高分子化合物及び合成高分子化合物
が挙げられる。
Examples of the organic polymer compound include natural polymer compounds such as celluloses and polysaccharides and synthetic polymer compounds.

【0035】セルロース類としては、メチルセルロー
ス、エチルセルロース、エチルヒドロキシエチルセルロ
ース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシエチ
ルセルロース等が例示される。
Examples of celluloses include methyl cellulose, ethyl cellulose, ethyl hydroxyethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, hydroxyethyl cellulose and the like.

【0036】多糖類としては、キサンタンガム等が例示
される。
Examples of the polysaccharides include xanthan gum and the like.

【0037】合成高分子化合物としては、ポリビニルア
ルコール、ポリビニルピロリドン、ポリメタクリル酸メ
チル等が例示される。
Examples of synthetic polymer compounds include polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, polymethylmethacrylate and the like.

【0038】また、ロジンとしては、ガムロジン、トー
ルロジン、ウッドロジン等が例示される。
Examples of the rosin include gum rosin, tall rosin, wood rosin and the like.

【0039】粘度調節剤として、ロジンを単独で使用す
る場合には、組成物の粘度が1万cpsを超えると、焼
成時に塗膜が発泡することが多い。しかしながら、有機
高分子化合物との併用により、発泡が抑えられ、平滑で
均一な膜が得られる。
When rosin is used alone as a viscosity modifier, if the viscosity of the composition exceeds 10,000 cps, the coating film often foams during firing. However, when used in combination with an organic polymer compound, foaming is suppressed and a smooth and uniform film is obtained.

【0040】有機高分子化合物とロジンとの配合割合
は、両者の合計100重量部中前者:後者=10〜9
0:10〜90とする。
The compounding ratio of the organic polymer compound and rosin is 100 parts by weight of the total of the two, the former: the latter = 10-9.
It is set to 0:10 to 90.

【0041】また、Rcの含有量は、最終的に得られる
組成物中に占める量で5〜80%とする。含有量が5%
未満の場合、膜形成能が悪化する。一方、80%を超え
る場合には、焼成時の発泡を生じる場合があり、また膜
形成能が悪化したり、保存安定性も悪化して沈殿物が生
じることなどがある。Rcの含有量は、最終的に得られ
る組成物中に占める量で10〜70%がより好ましく、
10〜60%が特に好ましい。
The content of Rc in the composition finally obtained is 5 to 80%. 5% content
If it is less than the above, the film forming ability is deteriorated. On the other hand, when it exceeds 80%, foaming may occur during firing, the film forming ability may be deteriorated, and the storage stability may be deteriorated to generate a precipitate. The content of Rc in the composition finally obtained is more preferably 10 to 70%,
10 to 60% is particularly preferable.

【0042】本発明に使用される有機溶媒(以下Sdと
いうことがある)は、一般に有機酸金属塩及び酸素を配
位原子として有する有機化合物に対する溶解度が高く、
かつ水相と分離可能な溶媒であれば良く、これらの中か
ら、膜形成時の作業性(気化性、蒸気圧の大小等)、膜
形成方法(浸漬法、スプレー法、スクリーン印刷法等)
等を考慮して適宜選択される。Sdとしては、テレビン
油、パイン油、リグロイン、アルコール、エーテル、芳
香族炭化水素、ケトン等が例示される。
The organic solvent (hereinafter sometimes referred to as Sd) used in the present invention generally has high solubility in organic acid metal salts and organic compounds having oxygen as a coordination atom,
Any solvent that can be separated from the aqueous phase may be used, and among these, workability during film formation (vaporization, large or small vapor pressure, etc.), film formation method (immersion method, spray method, screen printing method, etc.)
It is appropriately selected in consideration of the above. Examples of Sd include turpentine oil, pine oil, ligroin, alcohol, ether, aromatic hydrocarbon, ketone and the like.

【0043】アルコールとしては、メチルアルコール、
エチルアルコール、テルピネオール、エチレングリコー
ル等が例示される。
As alcohol, methyl alcohol,
Examples include ethyl alcohol, terpineol, ethylene glycol and the like.

【0044】エーテルとしては、メチルエーテル、エチ
ルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等
が例示される。
Examples of the ether include methyl ether, ethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether and the like.

【0045】芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トル
エン、キシレン等が例示される。
Examples of aromatic hydrocarbons include benzene, toluene, xylene and the like.

【0046】ケトンとしては、アセトン、メチルエチル
ケトン等が例示される。
Examples of ketones include acetone and methyl ethyl ketone.

【0047】これら溶媒は、単独でも、二種以上を組み
合わせても使用可能である。Sdの使用量は、最終的に
得られる組成物に占める量で20〜80%とする。20
%未満では、Ma及びLbの溶解が不十分になり、保存
安定性に悪影響を及ぼす。一方、80%を超えると濃度
が低くなり実用的でなくなる。Sdの使用量は、最終的
に得られる組成物中の20〜70%とすることがより好
ましく、10〜60%とすることが特に好ましい。
These solvents may be used alone or in combination of two or more. The amount of Sd used is 20 to 80% based on the amount of the composition finally obtained. 20
If it is less than%, the dissolution of Ma and Lb becomes insufficient, which adversely affects the storage stability. On the other hand, if it exceeds 80%, the concentration becomes too low to be practical. The amount of Sd used is more preferably 20 to 70% in the finally obtained composition, and particularly preferably 10 to 60%.

【0048】本発明の組成物を製造する方法としては、
(a)Ma、Lb、Rc及びSdを混合し、加熱溶解す
る方法、(b)Ma及びLbをSdに添加した後、Rc
を添加して加熱溶解する方法、(c)Ma及びRcをS
dに添加し加熱溶解した後、Lbを混合する方法等があ
る。少なくともSdを混合する段階において、系を60
℃〜110℃、好ましくは、80℃〜110℃に加熱還
流することにより均一な組成物が得られる。
The method for producing the composition of the present invention includes:
(A) A method of mixing Ma, Lb, Rc and Sd and heating and dissolving, (b) adding Ma and Lb to Sd, and then Rc
Method of adding and dissolving by heating (c) Ma and Rc to S
There is a method in which Lb is mixed after being added to d and heated and dissolved. At least at the stage of mixing Sd, the system was adjusted to 60
A uniform composition can be obtained by heating under reflux at a temperature of ℃ to 110 ℃, preferably 80 ℃ to 110 ℃.

【0049】こうして得られる金属酸化物膜形成用組成
物は、空気中に放置したままの状態でも安定であり、長
期にわたり、変質又は不純物の生成等が見られない。ま
た、当該組成物は、例えば25℃において、10cps
〜約2万cpsの範囲で粘度調整可能であり、浸漬法、
スピナー法からスクリーン印刷法まで種々の膜形成法に
適した粘度に調整できる。
The composition for forming a metal oxide film thus obtained is stable even when left in the air, and no alteration or generation of impurities is observed for a long period of time. Further, the composition has, for example, 10 cps at 25 ° C.
~ Viscosity can be adjusted in the range of about 20,000 cps, dipping method,
The viscosity can be adjusted to be suitable for various film forming methods from the spinner method to the screen printing method.

【0050】本発明の組成物には、必要に応じて塗装性
改善のためのレベリング剤としてカチオン系、ノニオン
系又はアニオン系等の界面活性剤を添加したり、消泡剤
等を添加することもできる。
To the composition of the present invention, a cationic, nonionic or anionic surfactant or a defoaming agent may be added as a leveling agent for improving coatability, if necessary. You can also

【0051】本発明の組成物を使用するに際しては、必
要ならば適当な溶媒で希釈して、シリカ、アルミナ、マ
グネシア、ジルコニア等の耐熱基板、ステンレス、アル
ミニウム、銅等の金属基板、ガラス、各種陶磁器等の表
面に任意の方法で塗布し、50℃〜120℃で予備乾燥
した後、又はそのままで400℃〜1200℃、好まし
くは450℃〜850℃の温度で焼成すると金属酸化物
膜を得ることができる。
When the composition of the present invention is used, it may be diluted with a suitable solvent if necessary, and a heat-resistant substrate such as silica, alumina, magnesia or zirconia, a metal substrate such as stainless steel, aluminum or copper, glass, various materials, etc. A metal oxide film is obtained by applying it to the surface of a ceramics or the like by an arbitrary method, predrying it at 50 ° C. to 120 ° C., or baking it at 400 ° C. to 1200 ° C., preferably 450 ° C. to 850 ° C. be able to.

【0052】また、塗布に際しては、組成物中の金属酸
化物換算濃度を0.5〜20%とすることが好ましい。
組成物中の金属酸化物換算含量が0.5%未満では、1
回の塗布によって形成される膜厚が薄すぎるので、膜厚
を厚くするために重ね塗りを必要とし、実用的ではな
い。一方、20%を超えると基板に対する酸化物膜の密
着性が低下したり、又は膜にクラックが入ることがあ
る。金属酸化物換算含量は、1〜10%とすることが好
ましい。組成物中の金属酸化物換算濃度が、10%を超
えたり、粘度が100cps以上である場合には、予備
乾燥を行うことにより、より平滑で均一な酸化物膜が得
られやすい。
In coating, it is preferable that the concentration of metal oxide in the composition is 0.5 to 20%.
When the content of metal oxide in the composition is less than 0.5%, it is 1
Since the film thickness formed by the single coating is too thin, repeated coating is required to increase the film thickness, which is not practical. On the other hand, if it exceeds 20%, the adhesion of the oxide film to the substrate may be lowered, or the film may be cracked. The metal oxide equivalent content is preferably 1 to 10%. When the metal oxide conversion concentration in the composition exceeds 10% or the viscosity is 100 cps or more, a smoother and more uniform oxide film can be easily obtained by performing preliminary drying.

【0053】当該組成物により形成される薄膜の膜厚
は、組成物の種類により異なる。酸化物換算含量5%、
粘度50〜80cpsでは、浸漬法による1回塗布で膜
厚は通常0.1〜0.3μmである。より均一で平滑な
膜であるために膜厚は0.1〜0.2μmが好ましい。
The thickness of the thin film formed by the composition varies depending on the type of composition. Oxide conversion content 5%,
When the viscosity is 50 to 80 cps, the film thickness is usually 0.1 to 0.3 μm by one application by the dipping method. Since the film is more uniform and smooth, the film thickness is preferably 0.1 to 0.2 μm.

【0054】[0054]

【発明の効果】本発明により、任意の基板に対して、優
れた密着性を示し、膜形成能に優れた単独又は複合元素
の金属酸化物膜を容易に製造することのできる金属酸化
物膜形成用組成物が得られる。この組成物を使用するこ
とにより、欠陥がなく、均質で良好な金属酸化物膜を形
成される。また、この組成物は、安定性に優れている。
従って、本発明によって得られる金属酸化物膜形成用組
成物は、紫外線吸収膜、熱線反射膜、誘電体膜、超伝導
体膜、導電性膜、絶縁性膜等の種々の形成材料又は無機
顔料等の各種微粒子粉末の結着剤として有用であり、セ
ンサー材料、超伝導性材料、導電性材料、各種コーティ
ング材料等としての広い利用範囲を有する。
Industrial Applicability According to the present invention, a metal oxide film having excellent adhesion to any substrate and capable of easily forming a metal oxide film of a single element or a composite element having excellent film forming ability. A forming composition is obtained. By using this composition, a uniform and good metal oxide film having no defects can be formed. In addition, this composition has excellent stability.
Therefore, the composition for forming a metal oxide film obtained by the present invention includes various forming materials such as an ultraviolet absorbing film, a heat ray reflecting film, a dielectric film, a superconductor film, a conductive film and an insulating film or an inorganic pigment. It is useful as a binder for various fine particle powders such as, and has a wide application range as a sensor material, a superconducting material, a conductive material, various coating materials, and the like.

【0055】[0055]

【実施例】【Example】

実施例1 オクチル酸40gとタンタルエトキシド54gを加熱還
流し、エトキシル基の一部をオクチル酸で置換したもの
を、予め、ガムロジン75g、重合度1500のポリビ
ニルアルコール10gをテルピネオール200gに加熱
溶解した液に加え、更に、アセト酢酸エチル15gを加
えよく撹拌した。この液にテルピン油130gを加えて
約500gの組成物を得た。この組成物の酸化物(Ta
2 5 )換算含量は、5.2%、粘度は80cps(2
5℃)であり、一年以上安定に保存することができた。
Example 1 A solution in which 40 g of octylic acid and 54 g of tantalum ethoxide were heated and refluxed, and a portion of the ethoxyl group was replaced with octyl acid was dissolved in advance in 75 g of gum rosin and 10 g of polyvinyl alcohol having a polymerization degree of 1500 in 200 g of terpineol. In addition, 15 g of ethyl acetoacetate was added, and the mixture was stirred well. 130 g of terpine oil was added to this liquid to obtain about 500 g of a composition. The oxide of this composition (Ta
2 O 5 ) conversion content is 5.2%, viscosity is 80 cps (2
It was 5 ° C) and could be stably stored for more than one year.

【0056】この組成物を浸漬法(引上げ速度10mm
/分)によってMgO基板に塗布した後、100℃で3
0分間乾燥し、直ちに500℃で30分間焼成して、少
し青味のある透明な酸化タンタルの薄膜を得た。この膜
(膜厚0.3μm)絶縁破壊電圧は、70Vを示した。
また、JIS−K−5400に規定する碁盤目試験法に
準拠して行った。但し、試験片の升目は、ダイヤモンド
ガラス切具を使用して作成し、セロハンテープでの剥離
試験を行ったところ、全く剥離は認められなかった。
This composition was dipped by a dipping method (pulling speed: 10 mm
/ Min) on the MgO substrate and then at 100 ° C for 3
It was dried for 0 minutes and immediately baked at 500 ° C. for 30 minutes to obtain a transparent thin film of tantalum oxide with a slight bluish tint. The dielectric breakdown voltage of this film (film thickness 0.3 μm) was 70V.
In addition, the test was performed in accordance with the cross cut test method defined in JIS-K-5400. However, when the squares of the test piece were prepared using a diamond glass cutting tool and a peeling test with cellophane tape was conducted, no peeling was observed at all.

【0057】実施例2 オクチル酸40gとタンタルエトキシド54gを加熱還
流し、エトキシル基の一部をオクチル酸で置換したもの
を、予め、ガムロジン50g、キサンタンガム100g
をテルピネオールに溶解した液に加え、よく撹拌した。
これにアセト酢酸エチル15gを添加し約500gの組
成物を得た。この組成物の酸化物(Ta2 5 )換算含
量は、5.3%、粘度は、6000cps(25℃)で
あった。
Example 2 40 g of octylic acid and 54 g of tantalum ethoxide were heated under reflux and a part of the ethoxyl group was replaced with octyl acid, which was previously mixed with 50 g of gum rosin and 100 g of xanthan gum.
Was added to the solution dissolved in terpineol and stirred well.
To this, 15 g of ethyl acetoacetate was added to obtain about 500 g of a composition. The oxide (Ta 2 O 5 ) conversion content of this composition was 5.3%, and the viscosity was 6000 cps (25 ° C.).

【0058】この組成物を300メッシュのスクリーン
でガラス基板に印刷した後、100℃の温度で30分間
乾燥し、次いで500℃で30分間焼成して、平滑な酸
化タンタルの薄膜を得た。
This composition was printed on a glass substrate with a 300 mesh screen, dried at a temperature of 100 ° C. for 30 minutes, and then baked at 500 ° C. for 30 minutes to obtain a smooth tantalum oxide thin film.

【0059】比較例1 オクチル酸40gとタンタルエトキシド54gを加熱還
流し、エトキシル基の一部をオクチル基で置換した。こ
れを、予め、ガムロジン310gをテルピネオール80
gに加熱溶解した液に加えよく撹拌した。更に、アセト
酢酸エチル15gを添加して約500gの組成物を得
た。この組成物の酸化物(Ta2 5 )換算含量は、
5.1%、粘度は8000cps(25℃)であった。
Comparative Example 1 40 g of octylic acid and 54 g of tantalum ethoxide were heated to reflux, and part of the ethoxyl group was replaced with an octyl group. In advance, 310 g of gum rosin was added to terpineol 80.
It was added to the solution heated and dissolved in g and stirred well. Further, 15 g of ethyl acetoacetate was added to obtain about 500 g of the composition. The oxide (Ta 2 O 5 ) equivalent content of this composition is
The viscosity was 5.1% and the viscosity was 8000 cps (25 ° C.).

【0060】この組成物を、320メッシュのスクリー
ンでガラス基板に印刷した後、100℃の温度で30分
間乾燥した。次いで500℃で30分間焼成し、一部に
発泡した跡が見られる膜を得た。
This composition was printed on a glass substrate with a 320 mesh screen and then dried at a temperature of 100 ° C. for 30 minutes. Then, it was baked at 500 ° C. for 30 minutes to obtain a film having a trace of foaming.

【0061】実施例3 カプリル酸210gをホウ酸メチル76gに添加し、1
時間加熱還流した。ガムロジン50g及びエチルセルロ
ース30g及びエチレングリコール20gを、予め、テ
ルピネオール80g及びメタノール57gに溶し込み、
先に調製したホウ素の溶液を混合すると約500gの組
成物を得た。この組成物の酸化物(B23 )換算含量
は、4.7%、粘度60cps(25℃)であった。
Example 3 210 g of caprylic acid was added to 76 g of methyl borate to give 1
Heated to reflux for hours. 50 g of gum rosin, 30 g of ethyl cellulose and 20 g of ethylene glycol were dissolved in advance in 80 g of terpineol and 57 g of methanol,
The boron solution prepared above was mixed to obtain about 500 g of the composition. The oxide (B 2 O 3 ) conversion content of this composition was 4.7% and the viscosity was 60 cps (25 ° C.).

【0062】この組成物をガラス基板に浸漬法(引上げ
速度10mm/分)で塗布し、400℃で1時間焼成し
たところ平滑な酸化ホウ素の薄膜を得た。
This composition was applied to a glass substrate by a dipping method (pulling speed: 10 mm / min) and baked at 400 ° C. for 1 hour to obtain a smooth boron oxide thin film.

【0063】実施例4 ナフテン酸銅300gを、予め、ガムロジン40gとポ
リビニルピロリドン10gをテルピン油90gに溶解し
た液に加え入れ、よく混合した。更に、アセト酢酸エチ
ル30gを加えた後、3時間還流した。その後、トルエ
ンで総量を500gとした。この組成物の酸化物(Cu
O)の換算含量は、4.5%、粘度80cps(25
℃)であった。この組成物を、SUS316のステンレ
ス基板に浸漬法(引上げ速度10mm/分)で塗布し、
100℃で15分間乾燥した。次いで700℃で15分
間焼成し、少し青味のある褐色透明なCuO膜を得た。
Example 4 300 g of copper naphthenate was added to a solution prepared by previously dissolving 40 g of gum rosin and 10 g of polyvinylpyrrolidone in 90 g of terpine oil, and mixed well. Further, 30 g of ethyl acetoacetate was added, and the mixture was refluxed for 3 hours. Then, the total amount was adjusted to 500 g with toluene. The oxide of this composition (Cu
The converted content of O) is 4.5% and the viscosity is 80 cps (25
℃). This composition was applied to a stainless steel substrate of SUS316 by a dipping method (pulling speed 10 mm / min),
It was dried at 100 ° C. for 15 minutes. Then, it was baked at 700 ° C. for 15 minutes to obtain a slightly bluish brown transparent CuO film.

【0064】実施例5 チタンテトラn−ブトキシド23gと2−エチルヘキサ
ン酸19g及び2−エチルヘキサノール10gを混合し
た後、2時間還流した。この溶液にアビエチン酸バリウ
ム70gを加え、更に1時間還流した。
Example 5 23 g of titanium tetra-n-butoxide, 19 g of 2-ethylhexanoic acid and 10 g of 2-ethylhexanol were mixed and then refluxed for 2 hours. 70 g of barium abietic acid was added to this solution, and the mixture was further refluxed for 1 hour.

【0065】予め、ガムロジン20g、ポリビニルピロ
リドン10g及びキサンタンガム10gをテルピネオー
ル30gに溶解した。この液に、先に調製したBa、T
i含有の液を混合した後、テルピン油を用いて総量を5
00gとした。この組成物の酸化物(BaO+Ti
2 )換算含量は、4.8%、粘度は、100cps
(25℃)であった。
In advance, 20 g of gum rosin, 10 g of polyvinylpyrrolidone and 10 g of xanthan gum were dissolved in 30 g of terpineol. This solution was added to the previously prepared Ba, T
After mixing the liquid containing i, add terpine oil to a total volume of 5
It was set to 00 g. The oxide of this composition (BaO + Ti
O 2 ) converted content is 4.8%, viscosity is 100 cps
(25 ° C).

【0066】この組成物を、ステンレス基板に浸漬法
(引上げ速度10mm/分)で塗布し、そのまま700
℃で15分間焼成した。得られた(BaO+TiO2
複合膜は、膜厚が約0.2μmの僅かに白い透明なもの
であった。
This composition was applied to a stainless steel substrate by a dipping method (pulling speed: 10 mm / min) and then 700
Baking for 15 minutes at ° C. Obtained (BaO + TiO 2 ).
The composite film was slightly white and transparent with a film thickness of about 0.2 μm.

【0067】この膜のX線回折を測定したところ、回折
角22°、31.5°、38.5°にピークのあるパタ
ーンが得られ、BaTiO3 が生成していることが分か
った。
When X-ray diffraction of this film was measured, patterns having peaks at diffraction angles of 22 °, 31.5 ° and 38.5 ° were obtained, and it was found that BaTiO 3 was produced.

【0068】実施例6 ジルコニウムテトラn−ブトキシド78gとカプリル酸
25g及びn−オクタノール10gを添加し2時間還流
した。予め、ガムロジン30g、重合度1500のポリ
ビニルアルコール30gをテルピン油50gに溶解した
後、先に調製したZrの溶液を入れ、よく混合した。さ
らに、アセト酢酸エチル19gを添加し、パイン油で総
量を300gとした。この組成物は、酸化物(Zr
2 )換算含量6.2%、粘度70cps(25℃)で
あった。
Example 6 78 g of zirconium tetra-n-butoxide, 25 g of caprylic acid and 10 g of n-octanol were added, and the mixture was refluxed for 2 hours. 30 g of gum rosin and 30 g of polyvinyl alcohol having a polymerization degree of 1500 were dissolved in 50 g of terpine oil in advance, and then the previously prepared Zr solution was added and mixed well. Further, 19 g of ethyl acetoacetate was added to make the total amount to 300 g with pine oil. This composition is an oxide (Zr
It had an O 2 -converted content of 6.2% and a viscosity of 70 cps (25 ° C.).

【0069】この組成物を、500℃に加熱したガラス
基板にスプレーガンで塗布すると、瞬時にZrO2 膜が
形成された。
When this composition was applied to a glass substrate heated to 500 ° C. with a spray gun, a ZrO 2 film was instantaneously formed.

【0070】この膜を消しゴム(ライオン製No.6)
により加圧力50gで摩耗試験を行ったところ、100
往復しても、変化がなかった。実施例1と同様にJIS
−K−5400に準拠して剥離試験を行ったところ、全
く剥離は認められなかった。
This film is eraser (No. 6 made by Lion)
When a wear test was performed with a pressing force of 50 g,
There was no change during the round trip. JIS as in Example 1
When a peeling test was performed according to K-5400, no peeling was observed.

【0071】実施例7 実施例6で調製したZr含有組成物に、平均粒径0.1
μmのシリカを20%になるように添加した後、スプレ
ーで白色タイルに塗布し、600℃で焼成し、白色の色
調を持つ膜を得た。
Example 7 An average particle size of 0.1 was added to the Zr-containing composition prepared in Example 6.
After adding 20 μm of silica having a thickness of 20 μm, it was applied to a white tile by spraying and baked at 600 ° C. to obtain a film having a white color tone.

【0072】実施例8 実施例6で調製したZr含有組成物に、平均粒径0.1
μmのベンガラを20%になるように添加した後、スプ
レーで白色タイルに塗布し、600℃で焼成し、赤色の
色調を持つ膜を得た。
Example 8 The Zr-containing composition prepared in Example 6 had an average particle size of 0.1.
After adding red iron oxide of 20 μm to 20%, it was applied to a white tile by spraying and baked at 600 ° C. to obtain a film having a red color tone.

【0073】比較例2 実施例1のタンタルエトキシドを162g、テルピネオ
ールを100gとした以外は全く同様にして組成物を得
た。この組成物の酸化物(Ta2 5 )換算含量は、1
5%、粘度70cps(25℃)であった。
Comparative Example 2 A composition was obtained in exactly the same manner as Example 1 except that 162 g of tantalum ethoxide and 100 g of terpineol were used. The oxide (Ta 2 O 5 ) equivalent content of this composition is 1
The viscosity was 5% and the viscosity was 70 cps (25 ° C.).

【0074】この組成物を浸漬法(引上げ速度10mm
/分)によってMgO基板に塗布し、実施例1と同様に
して焼成したところ、一部に膜の剥離が認められた。
This composition was dipped by a dipping method (pulling speed: 10 mm
/ Min) was applied to the MgO substrate and fired in the same manner as in Example 1. When the film was partially peeled off.

【0075】実施例9 カプリン酸インジウム71g及び2−エチルヘキサン酸
錫5g(重量比In23 :SnO2 =95:5)をガ
ムロジン30g、メチルセルロース10g、n−オクタ
ノール50g、アセチルアセトン30g及びトルエン1
00gを加熱溶解した溶液に添加し、1時間還流した。
次いで、テルピネオール20gを添加し、約300gの
組成物を得た。この組成物の酸化物(In2 3 +Sn
2 )の換算含量4.8%、粘度70cps(25℃)
であった。
Example 9 71 g of indium caprate and 5 g of tin 2-ethylhexanoate (weight ratio In 2 O 3 : SnO 2 = 95: 5) were added to 30 g of gum rosin, 10 g of methylcellulose, 50 g of n-octanol, 30 g of acetylacetone and 1 of toluene.
00 g was added to the heated solution, and the mixture was refluxed for 1 hour.
Then, 20 g of terpineol was added to obtain about 300 g of the composition. The oxide of this composition (In 2 O 3 + Sn
O 2 ) converted content 4.8%, viscosity 70 cps (25 ° C.)
Met.

【0076】この組成物を500℃に加熱したガラス基
板にスプレーガンで塗布し、ほぼ透明な(In2 3
SnO2 )複合膜を得た。この膜シートの抵抗は、約2
×104 Ω/sqであった。さらに、5%の水素ガスを
含む窒素ガス雰囲気下、400℃に5分間放置した後、
膜シートの抵抗は、3×102 Ω/sqであった。
This composition was applied to a glass substrate heated to 500 ° C. with a spray gun to give an almost transparent (In 2 O 3 +
A SnO 2 ) composite film was obtained. The resistance of this membrane sheet is about 2
It was × 10 4 Ω / sq. Furthermore, after leaving at 400 ° C. for 5 minutes in a nitrogen gas atmosphere containing 5% hydrogen gas,
The resistance of the membrane sheet was 3 × 10 2 Ω / sq.

【0077】実施例10 実施例4のナフテン酸銅の代わりにオクチル酸コバルト
300gを使用する以外は同様にして組成物を得た。こ
の組成物の酸化物(CoO)換算含量は、7.4%、粘
度75cps(25℃)であった。
Example 10 A composition was obtained in the same manner except that 300 g of cobalt octylate was used instead of the copper naphthenate of Example 4. The oxide (CoO) conversion content of this composition was 7.4% and the viscosity was 75 cps (25 ° C.).

【0078】この組成物を500℃に加熱したガラス基
板にスプレーガンで塗布し、熱線反射膜として利用でき
る褐色で透きとおったCoO薄膜を得た。
This composition was applied to a glass substrate heated to 500 ° C. by a spray gun to obtain a brown and transparent CoO thin film which can be used as a heat ray reflective film.

【0079】実施例11 酸化亜鉛20gを2−エチルヘキサン酸35g、アビエ
チン酸74gと共にトルエン100g中で2時間還流し
た。還流後、アセト酢酸メチル30gを添加し、トール
ロジン15g、重合度500のポリビニルアルコール2
0gを添加し、さらに加熱溶解した。溶解した後、エチ
レングリコールモノエチルエーテルを添加して約400
gの組成物を得た。この組成物の酸化物(ZnO)の換
算含量は、4.7%、粘度60cps(25℃)であっ
た。この組成物を石英ガラスに塗布し(引上げ速度10
mm/分)、500℃で15分間焼成し、紫外線吸収膜
として使用できる透明なZnO薄膜を得た。この膜の紫
外・可視スペクトルは、可視部で95%以上の透過率を
示し、波長380nm以下の紫外線を吸収した。
Example 11 20 g of zinc oxide was refluxed with 35 g of 2-ethylhexanoic acid and 74 g of abietic acid in 100 g of toluene for 2 hours. After the reflux, 30 g of methyl acetoacetate was added, and 15 g of tall rosin and polyvinyl alcohol 2 having a degree of polymerization of 500
0 g was added and further dissolved by heating. After dissolving, add ethylene glycol monoethyl ether to about 400
g of composition was obtained. The oxide (ZnO) equivalent content of this composition was 4.7% and the viscosity was 60 cps (25 ° C.). This composition was applied to quartz glass (pulling speed: 10
mm / min), and baked at 500 ° C. for 15 minutes to obtain a transparent ZnO thin film that can be used as an ultraviolet absorbing film. The ultraviolet-visible spectrum of this film showed a transmittance of 95% or more in the visible region and absorbed ultraviolet rays having a wavelength of 380 nm or less.

【0080】実施例12 オクチル酸イットリウム100gとガムロジン50g、
エチルセルロース5gをテルピン油50gと共に2時間
還流した。熱時、アセチルアセトン10gを添加し、ト
ルエンで300gにした。この組成物の酸化物(Y2
3 )換算含量は、4.8%、粘度85cps(25℃)
であった。
Example 12 Yttrium octylate 100 g and gum rosin 50 g,
5 g of ethyl cellulose was refluxed with 50 g of terpine oil for 2 hours. At the time of heating, 10 g of acetylacetone was added, and the amount was adjusted to 300 g with toluene. The oxide of this composition (Y 2 O
3 ) Converted content is 4.8%, viscosity 85cps (25 ℃)
Met.

【0081】この組成物と実施例6のZr含有の組成物
を重量比ZrO2 :Y2 3 =95:5になるように調
製し組成物を製造した。
This composition and the Zr-containing composition of Example 6 were prepared in a weight ratio of ZrO 2 : Y 2 O 3 = 95: 5 to prepare a composition.

【0082】この組成物を石英ガラスに浸漬法(引上げ
速度10mm/分)で塗布し、1100℃で2時間焼成
した。イットリア安定化ジルコニア膜として利用可能で
ある弱白色の膜を得た。
This composition was applied to quartz glass by a dipping method (pulling rate: 10 mm / min) and baked at 1100 ° C. for 2 hours. A weak white film that can be used as a yttria-stabilized zirconia film was obtained.

【0083】実施例13 実施例12のオクチル酸イットリウムをオクチル酸バリ
ウム50g、アセチルアセトン10gをn−オクタノー
ル20gに代えて、同様にして組成物を得た。この組成
物の酸化物(BaO)換算含量は、5.1%、粘度50
cps(25℃)であった。
Example 13 A composition was obtained in the same manner as in Example 12 except that yttrium octylate was replaced with 50 g of barium octylate and 10 g of acetylacetone was replaced with 20 g of n-octanol. The oxide (BaO) equivalent content of this composition was 5.1%, and the viscosity was 50.
It was cps (25 ° C).

【0084】次いで、実施例4のCu含有組成物、実施
例12のY含有組成物及び本実施例のBa含有組成物を
モル比Y:Ba:Cu=1:2:3になるように分取
し、混合して溶液を得た。
Then, the Cu-containing composition of Example 4, the Y-containing composition of Example 12 and the Ba-containing composition of this Example were divided so that the molar ratio was Y: Ba: Cu = 1: 2: 3. It was taken and mixed to obtain a solution.

【0085】この組成物を石英ガラスに浸漬法(引上げ
速度10mm/分)で塗布し、850℃で焼成し、黒色
の膜を得た。この膜のX線回折を測定したところ、ペロ
ブスカイト型YBa2 Cu3 7-X (斜方晶系)のパタ
ーンが得られ、更に抵抗値の温度依存性を測定したとこ
ろ、105Kで抵抗値0を示し、超伝導体が形成されて
いることが分かった。
This composition was applied to quartz glass by a dipping method (pulling speed: 10 mm / min) and baked at 850 ° C. to obtain a black film. When X-ray diffraction of this film was measured, a pattern of perovskite type YBa 2 Cu 3 O 7-X (orthorhombic system) was obtained. Further, when the temperature dependence of the resistance value was measured, the resistance value was 0 at 105K. It was found that a superconductor was formed.

【0086】実施例14 ケイ酸エチル100g、2−エチルヘキサノール122
g及びオクチル酸68gを混合し、p−トルエンスルホ
ン酸0.1gを添加し2時間還流した。還流後、ガムロ
ジン30g、キサンタンガム30gを添加し、加熱溶解
した後、エチルアルコール:エチレングリコール=1:
1混合溶液150gを添加し、約550gの組成物を得
た。この組成物の酸化物(SiO2 )換算含量は、5.
1%、粘度50cps(25℃)であった。
Example 14 100 g of ethyl silicate, 122 of 2-ethylhexanol
g and 68 g of octyl acid were mixed, 0.1 g of p-toluenesulfonic acid was added, and the mixture was refluxed for 2 hours. After refluxing, 30 g of gum rosin and 30 g of xanthan gum were added and dissolved by heating, and then ethyl alcohol: ethylene glycol = 1: 1.
150 g of 1 mixed solution was added to obtain about 550 g of the composition. The oxide (SiO 2 ) equivalent content of this composition is 5.
The viscosity was 1% and the viscosity was 50 cps (25 ° C.).

【0087】この組成物及び実施例3で得たホウ素含有
組成物を重量比SiO2 :B2 3=1:1になるよう
に混合し、ステンレス基板に浸漬法(引上げ速度10m
m/分)で塗布し、500℃で焼成したところ透明な膜
を得た。次いで、水中で一昼夜浸漬した。乾燥後電子顕
微鏡での観察により、細孔のあるSiO2 膜であること
が確認できた。
This composition and the boron-containing composition obtained in Example 3 were mixed in a weight ratio of SiO 2 : B 2 O 3 = 1: 1 and immersed in a stainless steel substrate by a dipping method (pulling speed: 10 m
m / min) and baked at 500 ° C. to obtain a transparent film. Then, it was immersed in water for 24 hours. After drying, it was confirmed by an electron microscope that the SiO 2 film had pores.

【0088】実施例15 ナフテン酸ユウロピウム100g及びガムロジン30
g、ポリビニルアルコール20gをトルエン:エタノー
ル=1:1混合溶液60gに添加し、1時間還流した。
次いで、アセト酢酸エチル30gを添加し、トルエンで
300gにした。この組成物の酸化物(Eu2 3 )換
算含量は、4.2%、粘度50cps(25℃)であっ
た。
Example 15 100 g of europium naphthenate and gum rosin 30
g and polyvinyl alcohol 20 g were added to toluene: ethanol = 1: 1 mixed solution 60 g, and the mixture was refluxed for 1 hour.
Then, 30 g of ethyl acetoacetate was added, and the mixture was made up to 300 g with toluene. The oxide (Eu 2 O 3 ) equivalent content of this composition was 4.2% and the viscosity was 50 cps (25 ° C.).

【0089】この組成物をステンレス基板に浸漬法(引
上げ速度10mm/分)で塗布し、500℃で焼成によ
り、蛍光体への応用が可能な弱桃色の膜を得た。
This composition was applied to a stainless steel substrate by a dipping method (pulling rate: 10 mm / min) and baked at 500 ° C. to obtain a weak pink film applicable to a phosphor.

【0090】実施例16 オクチル酸錫83g、アンチモンエトキシド1.5g及
びオクチル酸3gをリグロイン:アセトン=1:1混合
溶液30gに添加し、2時間還流した。
Example 16 83 g of tin octylate, 1.5 g of antimony ethoxide and 3 g of octyl acid were added to 30 g of a ligroin: acetone = 1: 1 mixed solution, and the mixture was refluxed for 2 hours.

【0091】次いでガムロジン50g及びヒドロキシプ
ロピルセルロース100gを添加し、加熱溶解した。更
に、グリセリン20gを添加し、テルピネオールで30
0gにした。この組成物の酸化物(SnO2 +Sb2
3 )換算含量5.1%、粘度1.3万cps(25℃)
であった。
Next, 50 g of gum rosin and 100 g of hydroxypropyl cellulose were added and dissolved by heating. Further, add 20 g of glycerin, and add 30 g of terpineol.
It was set to 0 g. The oxide of this composition (SnO 2 + Sb 2 O
3 ) Converted content 5.1%, viscosity 13,000 cps (25 ° C)
Met.

【0092】この組成物を、ガラス基板に浸漬法(引上
げ速度10mm/分)で塗布し、550℃で15分間焼
成した。この操作を3回繰り返して膜厚約0.8μmの
少し青味のある膜を得た。この膜のシート抵抗は、4×
103 Ω/sqであった。
This composition was applied to a glass substrate by a dipping method (pulling rate: 10 mm / min) and baked at 550 ° C. for 15 minutes. This operation was repeated 3 times to obtain a slightly bluish film having a film thickness of about 0.8 μm. The sheet resistance of this film is 4 ×
It was 10 3 Ω / sq.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C01G 1/00 S 3/00 ZAA 3/02 9/02 A 15/00 B 19/00 A 23/00 C 25/00 31/02 33/00 A 35/00 D 45/02 C04B 35/49 C23C 18/12 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Office reference number FI technical display location C01G 1/00 S 3/00 ZAA 3/02 9/02 A 15/00 B 19/00 A 23 / 00 C 25/00 31/02 33/00 A 35/00 D 45/02 C04B 35/49 C23C 18/12

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】金属酸化物膜形成用組成物であって、
(1)有機酸金属塩の少なくとも一種、(2)1〜4個
の酸素を配位原子として有する有機化合物の少なくとも
一種、(3)有機高分子化合物の少なくとも一種とロジ
ン、及び(4)有機溶媒の少なくとも一種を含み、
(5)成分(1)を金属酸化物換算で0.5〜20%含
有し、(6)成分(1)中の金属1グラム原子に対し、
成分(2)を0.1〜nモル(nは成分(1)中の金属
の平均酸化数であり、二種以上の金属を使用する場合に
は加重平均酸化数である)を含み、(7)成分(3)を
5〜80%含有し、(8)成分(4)を20〜80%含
有することを特徴とする金属酸化物膜形成用組成物。
1. A composition for forming a metal oxide film, comprising:
(1) at least one kind of organic acid metal salt, (2) at least one kind of organic compound having 1 to 4 oxygen as coordination atoms, (3) at least one kind of organic polymer compound and rosin, and (4) organic Contains at least one solvent,
(5) Component (1) is contained in an amount of 0.5 to 20% in terms of metal oxide, and (6) component (1) contains 1 gram atom of metal,
Component (2) in an amount of 0.1 to n mol (n is the average oxidation number of the metal in component (1), and is a weighted average oxidation number when two or more metals are used); 7) A composition for forming a metal oxide film, which contains 5 to 80% of the component (3) and 20 to 80% of the (8) component (4).
【請求項2】金属酸化物膜形成用組成物の製造方法にお
いて、(1)有機酸金属塩の少なくとも一種、(2)1
〜4個の酸素を配位原子として有する有機化合物の少な
くとも一種、(3)有機高分子化合物の少なくとも一種
とロジン、及び(4)有機溶媒の少なくとも一種を使用
し、形成される組成物中で(5)成分(1)が金属酸化
物換算で0.5〜20%、(6)成分(1)中の金属1
グラム原子に対し、成分(2)が0.1〜nモル(nは
成分(1)中の金属の平均酸化数であり、二種以上の金
属を使用する場合には加重平均酸化数である)、(7)
成分(3)が5〜80%、及び(8)成分(4)が20
〜80%となる割合で、成分(1)、成分(2)、成分
(3)及び成分(4)を混合して加熱することを特徴と
する金属酸化物膜形成用組成物の製造方法。
2. A method for producing a composition for forming a metal oxide film, comprising (1) at least one kind of organic acid metal salt, and (2) 1
A composition formed by using at least one organic compound having 4 to 4 oxygen atoms as coordinating atoms, (3) at least one organic polymer compound and rosin, and (4) at least one organic solvent; (5) The component (1) is 0.5 to 20% in terms of metal oxide, and the metal 1 in the (6) component (1)
The component (2) is 0.1 to n mol per gram atom (n is the average oxidation number of the metal in the component (1), and is the weighted average oxidation number when two or more metals are used. ), (7)
5-80% of component (3), and 20 of component (4) (4)
A method for producing a composition for forming a metal oxide film, which comprises mixing the component (1), the component (2), the component (3) and the component (4) in a proportion of -80% and heating.
【請求項3】金属酸化物膜形成用組成物の製造方法にお
いて、(1)有機酸金属塩の少なくとも一種、(2)1
〜4個の酸素を配位原子として有する有機化合物の少な
くとも一種、(3)有機高分子化合物の少なくとも一種
とロジン、及び(4)有機溶媒の少なくとも一種を使用
し、形成される組成物中で(5)成分(1)が金属酸化
物換算で0.5〜20%、(6)成分(1)中の金属1
グラム原子に対し、成分(2)が0.1〜nモル(nは
成分(1)中の金属の平均酸化数であり、二種以上の金
属を使用する場合には加重平均酸化数である)、(7)
成分(3)が5〜80%、及び(8)成分(4)が20
〜80%となる割合で、成分(1)、成分(2)及び成
分(4)を混合した後、成分(3)を混合して加熱する
ことを特徴とする金属酸化物膜形成用組成物の製造方
法。
3. A method for producing a composition for forming a metal oxide film, wherein (1) at least one kind of organic acid metal salt and (2) 1
In a composition formed by using at least one organic compound having 4 to 4 oxygen atoms as coordinating atoms, (3) at least one organic polymer compound and rosin, and (4) at least one organic solvent. (5) The component (1) is 0.5 to 20% in terms of metal oxide, and the metal 1 in the (6) component (1)
The component (2) is 0.1 to n mol per gram atom (n is the average oxidation number of the metal in the component (1), and is the weighted average oxidation number when two or more metals are used. ), (7)
5-80% of component (3), and 20 of component (4) (4)
The component (1), the component (2), and the component (4) are mixed at a ratio of -80%, and then the component (3) is mixed and heated. Manufacturing method.
【請求項4】金属酸化物膜形成用組成物の製造方法にお
いて、(1)有機酸金属塩の少なくとも一種、(2)1
〜4個の酸素を配位原子として有する有機化合物の少な
くとも一種、(3)有機高分子化合物の少なくとも一種
とロジン、及び(4)有機溶媒の少なくとも一種を使用
し、形成される組成物中で(5)成分(1)が金属酸化
物換算で0.5〜20%、(6)成分(1)中の金属1
グラム原子に対し、成分(2)が0.1〜nモル(nは
成分(1)中の金属の平均酸化数であり、二種以上の金
属を使用する場合には加重平均酸化数である)、(7)
成分(3)が5〜80%、及び(8)成分(4)が20
〜80%となる割合で、成分(1)、成分(3)及び成
分(4)を混合し、加熱した後、成分(2)を混合する
ことを特徴とする金属酸化物膜形成用組成物の製造方
法。
4. A method for producing a composition for forming a metal oxide film, wherein (1) at least one of organic acid metal salts and (2) 1
A composition formed by using at least one organic compound having 4 to 4 oxygen atoms as coordinating atoms, (3) at least one organic polymer compound and rosin, and (4) at least one organic solvent; (5) The component (1) is 0.5 to 20% in terms of metal oxide, and the metal 1 in the (6) component (1)
Component (2) is 0.1 to n mol (n is the average oxidation number of the metal in component (1) with respect to gram atom, and is the weighted average oxidation number when two or more metals are used. ), (7)
5-80% of component (3), and 20 of component (4) (4)
The component (1), the component (3) and the component (4) are mixed at a ratio of ˜80%, the mixture is heated and then the component (2) is mixed, the composition for forming a metal oxide film. Manufacturing method.
【請求項5】請求項1の金属酸化物膜形成用組成物を基
板上に塗布し、400℃〜1200℃で焼成することを
特徴とする金属酸化物膜の形成法。
5. A method for forming a metal oxide film, which comprises coating the composition for forming a metal oxide film according to claim 1 on a substrate and baking at 400 ° C. to 1200 ° C.
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