JPH07106603A - Electronic component - Google Patents

Electronic component

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Publication number
JPH07106603A
JPH07106603A JP5253325A JP25332593A JPH07106603A JP H07106603 A JPH07106603 A JP H07106603A JP 5253325 A JP5253325 A JP 5253325A JP 25332593 A JP25332593 A JP 25332593A JP H07106603 A JPH07106603 A JP H07106603A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor element
solder layer
layer
metal layer
bump
Prior art date
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Pending
Application number
JP5253325A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideaki Yomo
秀明 四方
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rohm Co Ltd
Original Assignee
Rohm Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Rohm Co Ltd filed Critical Rohm Co Ltd
Priority to JP5253325A priority Critical patent/JPH07106603A/en
Publication of JPH07106603A publication Critical patent/JPH07106603A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L24/33Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of a plurality of layer connectors

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Connections Effected By Soldering, Adhesion, Or Permanent Deformation (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide an electronic component having stabilized quality by preventing the solder layer on a semiconductor element and contaminants, e.g. flux, contained therein from adhering to an insulation layer on the semiconductor device thereby preventing the leakage. CONSTITUTION:In an electronic device wherein a semiconductor element having a metal layer, at least on the upper face thereof, is sandwiched by two lead terminals 4 through a solder 3, a bump 7 is formed between the metal layer and the solder layer on the inside of the metal layer forming region.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ダイオード等の電子部
品に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electronic component such as a diode.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、一つの半導体素子に対して、少な
くとも二本のリード端子で、該半導体素子の上下面を挟
むように接続した後、全体を熱硬化性合成樹脂でモール
ド成形してなる電子部品は、ダイオードを例にとると、
次のような構造からなる。
2. Description of the Related Art Conventionally, at least two lead terminals are connected to one semiconductor element so as to sandwich the upper and lower surfaces of the semiconductor element, and then the whole is molded with a thermosetting synthetic resin. For electronic parts, taking a diode as an example,
It has the following structure.

【0003】従来のダイオードは、図6に示すように、
公知の方法によりCu、Au等のリード端子11aへ塗
着されたSn等からなる半田層12aと、該半田層12
a上に従来の方法によりボンディングされた半導体素子
13と、この半導体素子13上面の外周縁に沿って形成
されるSiO2等からなる絶縁層14と、半田層12a
と半導体素子13との密着性をよくするために該半導体
素子13の上面に形成されたアルミニウム等からなるメ
タル層15と、該メタル層15上にSn等からなる半田
層12bを介して接続されたリード端子11bとからな
るものである。
A conventional diode, as shown in FIG.
A solder layer 12a made of Sn or the like applied to the lead terminals 11a of Cu, Au or the like by a known method, and the solder layer 12
a semiconductor element 13 bonded on a by a conventional method, an insulating layer 14 made of SiO 2 or the like formed along the outer peripheral edge of the upper surface of the semiconductor element 13, and a solder layer 12a.
In order to improve the adhesion between the semiconductor element 13 and the semiconductor element 13, a metal layer 15 made of aluminum or the like formed on the upper surface of the semiconductor element 13 is connected to the metal layer 15 via a solder layer 12b made of Sn or the like. And a lead terminal 11b.

【0004】半田層12bは、従来から使用されている
ディップ塗布方法等によりリード端子11bに塗着され
たもので、この塗着後に、半導体素子13を挟むよう
に、半田層12bを介して、リード端子11bとメタル
層15とを接続させている。
The solder layer 12b is applied to the lead terminals 11b by a conventionally used dip application method or the like. After this application, the solder layer 12b is interposed so as to sandwich the semiconductor element 13 therebetween. The lead terminal 11b and the metal layer 15 are connected.

【0005】また、半田層12bには、酸化防止のため
に松ヤニを主成分として少量の導電性物質が含有されて
いるフラックスが含まれいる。
Further, the solder layer 12b contains a flux containing pine resin as a main component and a small amount of a conductive substance for the purpose of preventing oxidation.

【0006】このような構造からなる従来のダイオード
は、恒温槽に保存してキュアすることにより、半田層1
2bを溶融させて半田層12bとメタル層15とを固定
させている。
The conventional diode having such a structure is stored in a constant temperature bath and cured to obtain the solder layer 1
2b is melted and the solder layer 12b and the metal layer 15 are fixed.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図7に
示すように、上記キュア時に、半田層12bの溶融にと
もなって、半田層12bやフラックス等の汚れの付着物
16が、メタル層15上に付着する場合には、通常電流
が流れるべくルート(リード端子11bから半田層12
bおよびメタル層15を介して半導体素子13へ流れる
ルート)と同様のルートで電流が流れ問題ないのだが、
絶縁層14から半導体素子13側面にかけて付着してし
まうことがあった。このため、上記付着物が導電性のも
のであることから、通常の電流が流れるべくルート以外
の、半田層12bから上記付着部を介して半導体素子1
3へ流れるルートで電流が流れてしまい、該付着部でリ
ークが発生して品質不良を生じるといった問題があっ
た。
However, as shown in FIG. 7, as the solder layer 12b is melted at the time of the above-described curing, the deposits 16 of the solder layer 12b and dirt such as flux are deposited on the metal layer 15. In the case of adhesion, a route (a lead terminal 11b to the solder layer 12
There is no problem in that current flows through a route similar to the route that flows to the semiconductor element 13 through the b and the metal layer 15).
In some cases, the insulating layer 14 was attached to the side surface of the semiconductor element 13. Therefore, since the adhered matter is conductive, the semiconductor element 1 does not pass through the solder layer 12b via the adhered part other than the route so that a normal current flows.
There is a problem in that a current flows through the route flowing to No. 3 and a leak occurs at the adhered portion, resulting in poor quality.

【0008】本発明は、以上のような状況下で考え出さ
れたもので、半導体素子上の半田層およびこれに含まれ
るフラックスの汚れ等の付着物が、半導体素子上の絶縁
層に付着することがなくリークを生じない品質の安定し
た電子部品を提供することを目的とする。
The present invention has been devised under the circumstances as described above, and a solder layer on a semiconductor element and deposits such as flux stains contained in the solder layer adhere to the insulating layer on the semiconductor element. It is an object of the present invention to provide a stable electronic component of stable quality that does not cause leakage.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するために、上面にメタル層を有する一つの半導体素
子に対して少なくとも二本のリード端子で該リード端子
にそれぞれ形成した半田層により半導体素子の上下面を
挟着してなる電子部品において、メタル層の外側縁の内
側であってかつ該メタル層と半田層との間にバンプを形
成したことを特徴とする電子部品を提供するものであ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a solder layer having at least two lead terminals for each semiconductor element having a metal layer on the upper surface thereof. Provided is an electronic component in which the upper and lower surfaces of a semiconductor element are sandwiched by the method, wherein a bump is formed inside the outer edge of the metal layer and between the metal layer and the solder layer. To do.

【0010】さらに、バンプの形成領域は、メタル層の
外周縁を含まず、メタル層の外周縁より少なくとも内側
であればよく、これを限定するものでない。
Furthermore, the bump formation region does not include the outer peripheral edge of the metal layer and may be at least inside the outer peripheral edge of the metal layer, and the present invention is not limited to this.

【0011】[0011]

【作用】本発明によれば、電子部品の製造途中におい
て、半田層の溶融時に、半田層およびこれに添加してい
るフラックスの汚れ等の付着物が、この半田層の溶融に
ともなってバンプ表面へ流動するが、このバンプは、半
田層の厚みに比べて厚いために、付着物はバンプの外表
面に流動するにとどまり、絶縁部から半導体素子側面に
まで流動することがほとんどないので、通常の電流が流
れるべくルート(リード端子から半田層、バンプ及びメ
タル層を介して半導体素子へ流れるルート)以外の、半
田層から上記付着部を介して半導体素子へ流れるルート
で電流が流れることがなく、該付着部において、リーク
が生じることがない。
According to the present invention, when a solder layer is melted during the manufacture of an electronic component, an adhered substance such as dirt on the solder layer and flux added to the solder layer is melted on the bump surface. However, since this bump is thicker than the thickness of the solder layer, the adhered substance only flows to the outer surface of the bump, and it hardly flows from the insulating part to the side surface of the semiconductor element. The current does not flow through the route from the solder layer to the semiconductor element through the adhesion part, other than the route through which the current flows (the route from the lead terminal to the semiconductor element through the solder layer, bump and metal layer). No leakage occurs at the adhered portion.

【0012】[0012]

【実施例】以下、本発明の一実施例を、ダイオードを例
にとり、図1および図5を参照しつつ説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below by taking a diode as an example with reference to FIGS.

【0013】図1は、本発明のダイオードの要部断面図
を示す。
FIG. 1 is a sectional view of the essential part of a diode according to the present invention.

【0014】このダイオード1は、半導体素子2と、こ
の半導体素子2の上下面をSnおよびAuからなる半田
層3aおよび半田層3bを介して挟むように形成したC
uからなるリード端子4aおよびリード端子4bと、半
導体素子2上面の外周縁に沿って形成されるSiO2
らなる絶縁層5と、半導体素子2の上面に形成したアル
ミニウムからなるメタル層6と、このメタル層6と半田
層3bとの間に形成したバンプ7とからなるものであ
る。
The diode 1 is formed by sandwiching the semiconductor element 2 and the upper and lower surfaces of the semiconductor element 2 with a solder layer 3a and a solder layer 3b made of Sn and Au interposed therebetween.
a lead terminal 4a and a lead terminal 4b made of u, an insulating layer 5 made of SiO 2 formed along the outer peripheral edge of the upper surface of the semiconductor element 2, and a metal layer 6 made of aluminum formed on the upper surface of the semiconductor element 2. The bumps 7 are formed between the metal layer 6 and the solder layer 3b.

【0015】この本発明のダイオードは、上記構造をな
し得るために、予め、図2に示すような、メタル層6を
上面に形成した半導体素子2を従来の方法によりリード
端子4a上に半田層3aを介してボンディングしたA部
と、半田層3bをリード端子部4b上に形成したB部と
を用意する。上記半田層3bには、酸化防止のために、
松ヤニを主成分として少量の導電性物質を含有した従来
から用いられているフラックスを添加させている。
In order to achieve the above structure, the diode of the present invention has a semiconductor element 2 having a metal layer 6 formed on the upper surface thereof in advance as shown in FIG. An A portion bonded through 3a and a B portion in which the solder layer 3b is formed on the lead terminal portion 4b are prepared. In order to prevent oxidation, the solder layer 3b has
A conventional flux containing a small amount of a conductive substance containing pine tar as the main component is added.

【0016】そして、図3に示すように、上記A部のメ
タル層6上にバンプ7を形成する。このバンプ7は、A
gペーストをスクリーン印刷によりメタル層6上に印刷
し、該印刷されたAgペーストを約 ℃で加熱焼成する
ことにより形成したものである。このバンプの形成方法
は、これを限定するものでなく、スクリーン印刷以外に
パッド印刷等により印刷し、これを加熱焼成する印刷焼
成方法等を広く用いることができる。また、バンプの材
料としては、これを限定するものでなく、主成分として
Ag、Au又はCu等の金属が用いられる。
Then, as shown in FIG. 3, bumps 7 are formed on the metal layer 6 of the portion A. This bump 7 is A
The g paste is printed on the metal layer 6 by screen printing, and the printed Ag paste is heated and baked at about ° C. The method of forming the bumps is not limited to this, and a printing and firing method in which printing is performed by pad printing or the like in addition to screen printing and heating and firing can be widely used. The material of the bump is not limited to this, and a metal such as Ag, Au or Cu is used as the main component.

【0017】さらに、バンプ7の形成領域は、メタル層
6の外周縁より僅かに内側の領域(メタル層6の外周縁
から約50μmm内側の領域)に形成している。バンプ7
の厚みは、該バンプ7の略中央部で最大の厚みを有し、
外周縁にいくにしたがって厚みが小さくなるものであ
る。
Further, the formation area of the bumps 7 is formed in an area slightly inside the outer peripheral edge of the metal layer 6 (area approximately 50 μm inward from the outer peripheral edge of the metal layer 6). Bump 7
Has a maximum thickness at the substantially central portion of the bump 7,
The thickness becomes smaller toward the outer peripheral edge.

【0018】加えて、メタル層の材料としては、従来よ
り使用されている、アルミニウム、銀又は銅等の金属を
広く使用できるものである。
In addition, as the material of the metal layer, conventionally used metals such as aluminum, silver or copper can be widely used.

【0019】また、半田層の材料としては、従来より使
用されている、Sn、Au、Ni等を挙げることができ
る。
As the material of the solder layer, Sn, Au, Ni and the like which have been conventionally used can be cited.

【0020】さらに、絶縁層の材料としては、従来より
使用されているセラミックス等を挙げることができる。
Further, examples of the material of the insulating layer include ceramics and the like which have been conventionally used.

【0021】次いで、図4に示すように、上記A部のバ
ンプ7に、上記B部の半田層3bが接するように、リー
ド端子4aとリード端子4bとにより半導体素子2を挟
んだ状態で保持する。この時、半田層3bはそれ自身が
固化しているために、バンプ7と固着されていない。
Next, as shown in FIG. 4, the semiconductor element 2 is held with the lead terminal 4a and the lead terminal 4b sandwiched so that the bump 7 of the section A is in contact with the solder layer 3b of the section B. To do. At this time, the solder layer 3b is not fixed to the bump 7 because it is solidified.

【0022】そして、リード端子4bに塗着した半田層
3bはバンプ7に塗着させるために、この状態のダイオ
ードを加熱し溶融させる。
The solder layer 3b applied to the lead terminals 4b heats and melts the diode in this state in order to apply it to the bumps 7.

【0023】この上記溶融時に、図4に示すような、半
田層3bおよびこれに添加しているフラックスの汚れ等
の付着物8が、この半田層3bの溶融にともなってバン
プ7外表面へ流動する。しかし、このバンプ7は、半田
層3bの厚みに比べて厚いために、付着物8は、バンプ
7の外表面まで流動するにとどまり、半導体素子2の絶
縁部まで流動することがほとんどないのである。
At the time of the melting, as shown in FIG. 4, the deposit 8 such as the solder layer 3b and the dirt of the flux added thereto flows to the outer surface of the bump 7 as the solder layer 3b melts. To do. However, since the bump 7 is thicker than the thickness of the solder layer 3b, the deposit 8 flows only to the outer surface of the bump 7 and hardly flows to the insulating portion of the semiconductor element 2. .

【0024】また、たとえ導伝性の付着物8がバンプ7
の下方からメタル層6に流動しても、上記説明したよう
に、バンプ7の形成領域は、メタル層6の形成領域に比
べて小さく、且つ、該メタル層6の形成領域周縁から約
50μmm内側にあるために、付着物8が絶縁部から半導
体素子2側面にかけて付着することがなく、通常の電流
が流れるべくルート(リード端子4bから半田層3b、
バンプ7及びメタル層6を介して半導体素子2へ流れる
ルート)以外の、半田層3bから上記付着部8を介して
半導体素子2へ流れるルートで電流が流れることがな
く、該付着部において、リークが生じることがないの
で、品質の安定したダーオードを提供することができ
る。
Further, even if the conductive adhering substance 8 is the bump 7,
Even when flowing from below to the metal layer 6, the formation region of the bump 7 is smaller than the formation region of the metal layer 6 and is about 50 μm inside from the peripheral edge of the formation region of the metal layer 6 as described above. Therefore, the adhered matter 8 does not adhere from the insulating portion to the side surface of the semiconductor element 2, and the route (the lead terminal 4b to the solder layer 3b;
A current does not flow through a route that flows from the solder layer 3b to the semiconductor element 2 through the attachment portion 8 other than the route that flows to the semiconductor element 2 through the bump 7 and the metal layer 6, and a leak occurs at the attachment portion. Therefore, it is possible to provide a stable quality diode.

【0025】本実施例では、半導体素子の上下面を二本
のリード端子で挟み込んでいるが、これに限定するもの
でなく、一本以上のリード端子で挟み込んでいれば良
い。
In the present embodiment, the upper and lower surfaces of the semiconductor element are sandwiched by two lead terminals, but the invention is not limited to this, and it is sufficient if they are sandwiched by one or more lead terminals.

【0026】また、本実施例では、ダイオードを例にと
っているが、これに限定するものでない。
In the present embodiment, the diode is taken as an example, but the present invention is not limited to this.

【0027】[0027]

【発明の効果】本発明は、リード端子に塗着した半田層
を溶融する場合に、該半田層及びこれに添加したフラッ
クスの汚れ物等の付着物が、半導体素子の表面に形成し
たバンプに付着するにとどまり、半導体素子の絶縁部ま
で流動して付着することがなく、リークを生じることが
ないので、品質の安定した電子部品を提供することがで
きる。
According to the present invention, when the solder layer applied to the lead terminals is melted, the solder layer and the adhered substances such as the contaminants of the flux added to the solder layer are applied to the bumps formed on the surface of the semiconductor element. Since it does not adhere to the semiconductor element, it does not flow and adhere to the insulating portion of the semiconductor element, and no leakage occurs, so that an electronic component with stable quality can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明におけるダイオードを示す要部断面図で
ある。
FIG. 1 is a sectional view of an essential part showing a diode according to the present invention.

【図2】本発明に係るダイオードの製造途中において、
A部とB部とが分離されている状態を示す要部断面図で
ある。
FIG. 2 is a view showing a process of manufacturing a diode according to the present invention.
It is a principal part sectional view which shows the state which the A section and the B section are isolate | separated.

【図3】本発明に係るダイオードの製造途中において、
A部のメタル層上にバンプを形成した構造を示す要部断
面図である。
FIG. 3 is a view showing a process of manufacturing a diode according to the present invention.
FIG. 6 is a cross-sectional view of a main part showing a structure in which bumps are formed on a metal layer of part A.

【図4】本発明に係るダイオードの製造途中において、
B部をA部上に接触させた状態の構造を示す要部断面図
である。
FIG. 4 is a view showing a process of manufacturing a diode according to the present invention.
It is a principal part sectional view which shows the structure of the state which made the B section contact the A section.

【図5】本発明に係るダイオードの半田層の溶融状態を
示す要部断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view of essential parts showing a molten state of a solder layer of a diode according to the present invention.

【図6】従来におけるダイオードを示す要部断面図であ
る。
FIG. 6 is a cross-sectional view of an essential part showing a conventional diode.

【図7】従来におけるダイオードの半田層の溶融状態を
示す要部断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view of essential parts showing a molten state of a solder layer of a conventional diode.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ダイオード 2 半導体素子 3 半田層 4 リード端子 5 絶縁部 6 メタル層 7 バンプ 8 付着物 1 diode 2 semiconductor element 3 solder layer 4 lead terminal 5 insulating part 6 metal layer 7 bump 8 adherent

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも上面にメタル層を有する半導
体素子の上下面を二本のリード端子で半田を介して挟着
してなる電子部品において、 メタル層の形成領域の内側であってかつ該メタル層と前
記半田層との間にバンプを形成したことを特徴とする電
子部品。
1. An electronic component in which upper and lower surfaces of a semiconductor element having a metal layer on at least an upper surface are sandwiched by two lead terminals via solder, wherein the metal is inside a region where a metal layer is formed and An electronic component, wherein a bump is formed between a layer and the solder layer.
JP5253325A 1993-10-08 1993-10-08 Electronic component Pending JPH07106603A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5253325A JPH07106603A (en) 1993-10-08 1993-10-08 Electronic component

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5253325A JPH07106603A (en) 1993-10-08 1993-10-08 Electronic component

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