JPH07105367B2 - Adhesive sheet for semiconductor wafer dicing - Google Patents

Adhesive sheet for semiconductor wafer dicing

Info

Publication number
JPH07105367B2
JPH07105367B2 JP31521191A JP31521191A JPH07105367B2 JP H07105367 B2 JPH07105367 B2 JP H07105367B2 JP 31521191 A JP31521191 A JP 31521191A JP 31521191 A JP31521191 A JP 31521191A JP H07105367 B2 JPH07105367 B2 JP H07105367B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pressure
sensitive adhesive
film
adhesive sheet
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP31521191A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH05129432A (en
Inventor
敏男 落合
豊 小野瀬
和治 佐々木
Original Assignee
日本加工製紙株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日本加工製紙株式会社 filed Critical 日本加工製紙株式会社
Priority to JP31521191A priority Critical patent/JPH07105367B2/en
Publication of JPH05129432A publication Critical patent/JPH05129432A/en
Publication of JPH07105367B2 publication Critical patent/JPH07105367B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Dicing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はシリコンやガリウムヒ素
などの半導体ウエハをダイシングによりチップ化する時
に使用するウエハダイシング用粘着シートに関するもの
であって、ダイシング時に塩素イオンの発生がなく、エ
キスパンド時に拡張率の均一な伸びを示す半導体ウエハ
ダイシング用粘着シートに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pressure-sensitive adhesive sheet for wafer dicing, which is used when dicing a semiconductor wafer such as silicon or gallium arsenide into chips, and does not generate chlorine ions during dicing and is expanded during expansion. The present invention relates to a pressure-sensitive adhesive sheet for semiconductor wafer dicing, which exhibits uniform elongation.

【0002】[0002]

【従来の技術】シリコンやガリウムヒ素などの半導体ウ
エハをウエハチップに分離するために半導体ウエハをあ
らかじめ粘着シートに貼着固定し、その後にダイシン
グ、洗浄、乾燥、エキスパンド、ピックアップ、マウン
ティングがなされているが、これらの工程中においてウ
エハチップが粘着シートから脱離飛散することが生じて
いる。また、ウエハチップの脱離飛散を抑えるために接
着力を強くすることは容易にできるが、ピックアップ時
にウエハチップが粘着シートから剥がれ難く、近年、集
積度が高くなりウエハチップの面積が大きくなるにつれ
てピックアップが困難になってきている。これらの点を
解決するために紫外線を透過させ得る表面基材とその表
面基材の上に塗布された紫外線照射により架橋硬化し、
接着力が低減する性能を有する粘着剤層を形成した半導
体ウエハ固定用紫外線硬化型粘着シートを使用すること
により、ダイシング、洗浄、乾燥工程中は強接着力を保
ち、その後支持体側から紫外線を照射し紫外線硬化型粘
着剤層を架橋硬化させて接着力を低減させ、ウエハチッ
プのピックアップを容易にできるようにしている。
2. Description of the Related Art In order to separate a semiconductor wafer such as silicon or gallium arsenide into wafer chips, the semiconductor wafer is previously stuck and fixed on an adhesive sheet, and then dicing, washing, drying, expanding, picking up and mounting are performed. However, during these steps, the wafer chips may be detached and scattered from the adhesive sheet. Further, although it is easy to increase the adhesive strength in order to suppress detachment and scattering of the wafer chips, the wafer chips are less likely to be peeled off from the adhesive sheet at the time of pickup, and in recent years, as the degree of integration increases and the area of the wafer chips increases, Picking up is getting difficult. In order to solve these points, cross-linking and curing by a surface base material that can transmit ultraviolet rays and ultraviolet irradiation applied on the surface base material,
By using a UV-curable adhesive sheet for fixing semiconductor wafers that has a pressure-sensitive adhesive layer that has the ability to reduce adhesive strength, strong adhesive strength is maintained during the dicing, washing, and drying processes, and then ultraviolet rays are irradiated from the support side. The UV-curable pressure-sensitive adhesive layer is cross-linked and cured to reduce the adhesive force and facilitate the pick-up of wafer chips.

【0003】これらの紫外線硬化型粘着シートの表面基
材としては、ポリ塩化ビニル及びその共重合体のフィル
ムやポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、エチ
レン−酢酸ビニル共重合体等のポリオレフィンフィルム
が使用されており、このうちポリ塩化ビニル及びその共
重合体のフィルムは塩素を含有するうえ可塑剤が添加さ
れているために種々な問題を引き起こしている。
As the surface substrate of these UV-curable pressure-sensitive adhesive sheets, films of polyvinyl chloride and its copolymers and polyolefin films of polyethylene, polypropylene, polybutene, ethylene-vinyl acetate copolymers, etc. are used. Among them, the films of polyvinyl chloride and its copolymers cause various problems because they contain chlorine and a plasticizer is added.

【0004】まず、塩素はウエハを完全に切断し粘着シ
ートの粘着剤層及び表面基材のフィルム層の一部まで切
断させるいわゆるフルカット方式では、ダイシング時に
回転刃でフィルムを切る時に生じる摩擦熱でポリ塩化ビ
ニル及びその共重合体のフィルムが分解され塩素イオン
が発生し、この塩素イオンがウエハチップに付着し半導
体部品の配線の断線などのトラブルになる。
First of all, chlorine is a so-called full cut system in which the wafer is completely cut and the adhesive layer of the adhesive sheet and a part of the film layer of the surface base material are cut. At this point, the polyvinyl chloride film and its copolymer film are decomposed and chlorine ions are generated, and these chlorine ions adhere to the wafer chips, causing troubles such as disconnection of the wiring of semiconductor parts.

【0005】次に、可塑剤はこれが配合されていること
により、ウエハチップのエキスパンド適正は良好である
が、紫外線を照射した時に粘着剤層中に移行し、また、
粘着剤に含まれている紫外線硬化型化合物と相溶性があ
るため、スムーズに架橋硬化が起こらず、紫外線を照射
させても粘着シートの接着力が低減しなく、ウエハチッ
プに粘着剤が転移付着しピックアップが困難になる。ま
た、粘着シートを保管させておく時に徐々に可塑剤が粘
着剤層中に移行して、保管条件にもよるが4〜6ケ月経
つと紫外線照射前の接着力が半減することもある。この
ためウエハチップ製造工程時、特にダイシング及び洗浄
工程等でウエハチップが脱離飛散し低歩留の原因となっ
ている。また、このためにポリ塩化ビニル及びその共重
合体フィルムと紫外線硬化型粘着剤の界面に、可塑剤の
移行を防止するバリヤー層としてアクリル系、ウレタン
系、塩化ビニル系等の塗料を塗布することがなされてい
るが、可塑剤の移行を完全に遮断することはできず、ま
た、メチルメタクリレート、メラミン及びエポキシ系等
により可塑剤の移行をある程度抑制できてもこれらは一
般に柔軟性に欠け硬く、エキスパンド時に適切な拡張が
できず粘着剤層面のヒビワレ、白化、破けが起きる。ま
た、伸びても不均一になりウエハチップの間隔がバラバ
ラになりピックアップが困難になる。
Next, since the plasticizer is compounded, the expandability of the wafer chip is good, but when it is irradiated with ultraviolet rays, it migrates into the adhesive layer, and
As it is compatible with the UV-curable compound contained in the adhesive, it does not undergo cross-linking and curing smoothly, and the adhesive strength of the adhesive sheet does not decrease even when it is irradiated with ultraviolet light, and the adhesive transfers and adheres to the wafer chip. It becomes difficult to pick up. Further, when the pressure-sensitive adhesive sheet is stored, the plasticizer gradually migrates into the pressure-sensitive adhesive layer, and depending on storage conditions, the adhesive strength before ultraviolet irradiation may be reduced by half after 4 to 6 months. Therefore, the wafer chips are detached and scattered during the wafer chip manufacturing process, especially during the dicing and cleaning processes, which causes a low yield. To this end, apply acrylic, urethane, or vinyl chloride-based paint as a barrier layer to prevent migration of plasticizer at the interface between polyvinyl chloride and its copolymer film and UV-curable adhesive. However, it is not possible to completely block the migration of the plasticizer, and even if it is possible to suppress the migration of the plasticizer to a certain extent by methyl methacrylate, melamine and epoxy, they are generally lacking in flexibility and hard, Proper expansion is not possible during expansion, and the adhesive layer surface is cracked, whitened, and broken. In addition, even if it extends, it becomes non-uniform and the intervals between the wafer chips become uneven, which makes pickup difficult.

【0006】次に、ポリオレフィンフィルムを使用した
時は可塑剤は添加されていないので粘着剤層への悪影響
はなく、ウエハチップが可塑剤で汚染されるという問題
もなく、また、粘着シートの経時変化も少なく品質も安
定していて保管も容易であるが、エキスパンド工程で均
一に伸びにくい欠点がある。また、低密度ポリエチレン
やエチレン−酢酸ビニル共重合体等の比較的伸ばし易い
ポリオレフィンフィルムを使用すると、エキスパンド時
によく伸びるが周辺部の円形リングに接する部分が特に
伸び易く亀裂や破断が起こり易い。逆にポリブテンや高
密度ポリエチレン等のように比較的伸ばし難いポリオレ
フィンフィルムでは、周辺部をフラットリングに張った
後、収縮する力でフラットリングから浮きめくれが生ず
る。
Next, when a polyolefin film is used, since no plasticizer is added, there is no adverse effect on the pressure-sensitive adhesive layer, there is no problem that the wafer chip is contaminated with the plasticizer, and the pressure-sensitive adhesive sheet ages. Although there is little change and the quality is stable and storage is easy, there is a drawback that it is difficult to uniformly spread in the expanding process. Further, when a polyolefin film such as low-density polyethylene or ethylene-vinyl acetate copolymer which is relatively easy to stretch is used, it stretches well during expansion, but the portion in contact with the circular ring in the peripheral portion is particularly likely to stretch and cracks or breakage easily occur. On the other hand, in the case of a polyolefin film such as polybutene or high-density polyethylene which is relatively difficult to stretch, the peripheral portion is stretched on the flat ring, and the flat ring is lifted by the contracting force.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は前記従来技術
の問題点に着目して、ダイシング時に塩素イオンの発生
がなく、ウエハチップの素子小片の脱離飛散がなく、紫
外線を照射して粘着剤層を架橋硬化し接着力を低減させ
た後にエキスパンド工程で拡張率の均一な伸びを示し、
粘着剤層及び表面基剤フィルム層にヒビワレ、白化、亀
裂、破け等が起こらずピックアップ適正にも優れ、さら
に、必要に応じて表面処理層を施こされ表面基材フィル
ムと粘着剤層の接着が強いため半導体製造工程で粘着剤
がシリコンウエハのチップに転移付着したりダイシング
時の回転刃の表面に付着することを抑制し、しかも可塑
剤の影響がないため紫外線照射後の接着力も適切に低減
し、また、製品の経時変化も少ない半導体ウエハダイシ
ング用粘着シートを提供することを目的としている。
The present invention focuses on the above-mentioned problems of the prior art, does not generate chlorine ions during dicing, does not cause detachment and scattering of element chips of a wafer chip, and irradiates ultraviolet rays for adhesion. After the adhesive layer is cross-linked and hardened to reduce the adhesive strength, it shows a uniform expansion of the expansion rate in the expanding process.
The pressure-sensitive adhesive layer and the surface base film layer are not cracked, whitened, cracked, broken, etc. and are excellent in pick-up suitability. Furthermore, if necessary, a surface treatment layer is applied to bond the surface base film and the pressure-sensitive adhesive layer. Since the adhesive strength is strong, it prevents the adhesive from transferring and adhering to the chips of the silicon wafer in the semiconductor manufacturing process or adhering to the surface of the rotary blade during dicing, and since there is no influence of the plasticizer, the adhesive strength after UV irradiation is also appropriate. It is an object of the present invention to provide a pressure-sensitive adhesive sheet for semiconductor wafer dicing, which reduces the number of products and reduces the change over time of the product.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者は半導体チップ
製造においてダイシングに必要な強度を有し、また、前
述の欠点のないダイシングフィルムの開発に鋭意検討し
た結果、以下に記述するような表面基材が適することを
見い出し本発明を完成させた。即ち、本発明は表面基材
として紫外線を透過させ得る内部可塑化ポリ塩化ビニル
フィルムとポリオレフィンフィルムの少なくとも2つの
層からなる積層体を使用し、そのポリオレフィンフィル
ム側の表面に紫外線硬化型粘着剤層を積層してなる半導
体ウエハダイシング用粘着シートである。
Means for Solving the Problems The present inventor has diligently studied the development of a dicing film which has the strength required for dicing in the manufacture of semiconductor chips and which does not have the above-mentioned drawbacks. The inventors have found that a substrate is suitable and completed the present invention. That is, the present invention uses, as a surface substrate, a laminate comprising at least two layers of an internally plasticized polyvinyl chloride film capable of transmitting ultraviolet rays and a polyolefin film, and an ultraviolet curable pressure-sensitive adhesive layer on the surface of the polyolefin film side. Is a pressure-sensitive adhesive sheet for semiconductor wafer dicing, which is obtained by stacking

【0009】これまでに、ポリ塩化ビニル及びその共重
合体フィルムやポリオレフィンフィルムを使用する旨の
記載は多いが、本発明のような積層体でもって使用し、
塩素イオンを防止し、可塑剤の移行を抑え、ポリ塩化ビ
ニルフィルムのエキスパンド性の良さを兼ね備えた粘着
シートについて具体的に記載されたものは全くない。
Up to now, there have been many mentions that polyvinyl chloride and its copolymer film and polyolefin film are used, but it is also used in the laminate as in the present invention,
There is no concrete description of a pressure-sensitive adhesive sheet that prevents chlorine ions, suppresses migration of a plasticizer, and has good expandability of a polyvinyl chloride film.

【0010】ここでいう内部可塑化ポリ塩化ビニルフィ
ルムとは、ポリ塩化ビニルにDBPやDOPなどの可塑
剤を配合することなく、塩化ビニルと他のモノマーを共
重合することによって可塑性を付与したポリ塩化ビニル
から得られたフィルムを意味するもので、内部可塑化ポ
リ塩化ビニルとしては、自体公知の内部可塑化ポリ塩化
ビニルであれば、いずれも使用することができるが、た
とえば、塩化ビニルと共重合し得るものモノマーを共重
合させて得られる共重合体、特に、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル、塩化ビニル−高級アルキルビニルエーテル、塩化
ビニル−エチレン酢酸ビニル、塩化ビニル−アクリレー
ト、塩化ビニル−エチレン、塩化ビニル−プロピレン等
の共重合体が挙げられる。
The term "internally plasticized polyvinyl chloride film" as used herein means a polycondensed polyvinyl chloride film obtained by copolymerizing polyvinyl chloride and another monomer without blending polyvinyl chloride with a plasticizer such as DBP or DOP. It means a film obtained from vinyl chloride, and as the internal plasticized polyvinyl chloride, any internal plasticized polyvinyl chloride known per se can be used. Copolymers obtained by copolymerizing monomers that can be polymerized, particularly vinyl chloride-vinyl acetate, vinyl chloride-higher alkyl vinyl ether, vinyl chloride-ethylene vinyl acetate, vinyl chloride-acrylate, vinyl chloride-ethylene, vinyl chloride. -Copolymers such as propylene.

【0011】また、ポリオレフィンフィルムの原料であ
るポリオレフィンとしては、オレフィンの単独重合体、
またはオレフィンを主体としそれと共重合し得るモノマ
ーとの共重合体が使用され、好ましいポリオレフィンと
しては、たとえば、低密度ポリエチレン、高密度ポリエ
チレン、ポリプロピレン、プロピレン−エチレン共重合
体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリ
ル酸共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、
エチレン−アクリル酸エチル共重合体、アイオノマー樹
脂、ポリブチレン、ポリブテン等が挙げられる。
The polyolefin as the raw material for the polyolefin film is a homopolymer of olefin,
Alternatively, a copolymer containing an olefin as a main component and a monomer copolymerizable therewith is used, and preferable polyolefins include, for example, low density polyethylene, high density polyethylene, polypropylene, propylene-ethylene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer. Coalesce, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-methyl acrylate copolymer,
Examples thereof include ethylene-ethyl acrylate copolymer, ionomer resin, polybutylene, polybutene and the like.

【0012】本発明における表面基材を構成する前記積
層体は、上層が内部可塑化ポリ塩化ビニルフィルムの層
であって、下層がポリオレフィンフィルムからなる層構
成を基本とするものであるが、その中間層として、紫外
線透過性を損なわない範囲で他の透明な樹脂からなるフ
ィルムの層を介在させることもできる。
The above-mentioned laminate constituting the surface base material of the present invention is basically based on a layer structure in which the upper layer is a layer of an internally plasticized polyvinyl chloride film and the lower layer is a polyolefin film. As the intermediate layer, a layer of a film made of another transparent resin may be interposed as long as the ultraviolet transmittance is not impaired.

【0013】前記積層体は、あらかじめ成形されたそれ
ぞれのフィルムを接着剤によって積層する方法、フィル
ム同士を加熱圧着する方法あるいは、それぞれの溶融樹
脂を共押出しして積層する方法などが適宜採用すること
ができる。
For the laminate, a method of laminating preformed films with an adhesive, a method of thermocompressing the films with each other, a method of coextruding each molten resin and laminating, etc. are appropriately adopted. You can

【0014】なお、以後の説明は、内部可塑化ポリ塩化
ビニルフィルムとポリオレフィンフィルムの2層からな
る積層体についてのものである。前記内部可塑化ポリ塩
化ビニルフィルムとポリオレフィンフィルムの積層体の
厚みは、30ないし160ミクロン、好ましくは、60
ないし130ミクロンである。ここで内部可塑化ポリ塩
化ビニルフィルムの厚みは20ないし100ミクロン、
好ましくは40ないし70ミクロンが良い。20ミクロ
ン以下ではポリオレフィンフィルムの性能に偏るためエ
キスパンドした時に均一に伸びずに、周辺部だけが大き
く伸びたり中央部だけが伸びなかったりし、また、基材
フィルムの復元しようとする力でフラットリングから剥
がれたり、チップ間隔が狭まったりして良好なエキスパ
ンド適性が得られない。一方、100ミクロン以上にな
るとポリオレフィンフィルムが薄くなってしまい、ダイ
シング時に回転刃がポリオレフィンフィルムだけでなく
内部可塑化ポリ塩化ビニルフィルム層まで届いてしま
い、その摩擦熱によって塩素イオンが発生する。
The following description is for a laminate comprising two layers of an internally plasticized polyvinyl chloride film and a polyolefin film. The thickness of the laminate of the internally plasticized polyvinyl chloride film and the polyolefin film is 30 to 160 μm, preferably 60.
To 130 microns. Where the thickness of the internally plasticized polyvinyl chloride film is 20 to 100 microns,
It is preferably 40 to 70 microns. If it is less than 20 microns, the performance of the polyolefin film is biased, so it does not stretch uniformly when expanded, and only the peripheral portion or the central portion does not stretch significantly. Also, the flat ring is pulled by the force to restore the base film. Good expandability cannot be obtained due to peeling from the chip or narrowing of the chip interval. On the other hand, when the thickness is 100 microns or more, the polyolefin film becomes thin, the rotary blade reaches not only the polyolefin film but also the internal plasticized polyvinyl chloride film layer during dicing, and chlorine ions are generated by the friction heat.

【0015】また、ポリオレフィンフィルムの厚みとし
ては10ないし50ミクロン、好ましくは20ないし4
0ミクロンが良い。10ミクロン以下であればダイシン
グ時に回転刃がポリオレフィンフィルムを突切って、内
部可塑化ポリ塩化ビニルフィルムまで切ってしまい、逆
に50ミクロン以上になればポリオレフィンフィルムの
性能に偏るため、エキスパンド時に均一な伸びやエキス
パンド後のフラットリングからの剥がれが生じる。
The thickness of the polyolefin film is 10 to 50 μm, preferably 20 to 4
0 micron is good. If it is 10 microns or less, the rotary blade cuts through the polyolefin film during dicing and cuts even the internal plasticized polyvinyl chloride film. Conversely, if it is 50 microns or more, the performance of the polyolefin film is biased, so that it is uniform during expansion. Stretching or peeling from flat ring after expansion occurs.

【0016】次いで、貼合フィルムのポリオレフィンフ
ィルム側の表面に、直接または表面処理層を介して紫外
線硬化型粘着剤層を設ける。ここでいう表面処理剤を使
用する目的はポリオレフィンフィルムと紫外線硬化型粘
着剤との接着性を向上させ、ダイシング、洗浄、乾燥、
紫外線照射、エキスパンド及びピックアップ工程で粘着
剤がウエハの素子小片に転移付着することを防止してい
る。また、ダイシング時の回転刃の表面に粘着剤が付着
することも抑制している。
Next, an ultraviolet-curable pressure-sensitive adhesive layer is provided on the surface of the laminating film on the polyolefin film side, either directly or via a surface treatment layer. The purpose of using the surface treatment agent here is to improve the adhesiveness between the polyolefin film and the UV-curable adhesive, and dicing, washing, drying,
It prevents the adhesive from transferring and adhering to the element pieces of the wafer during the UV irradiation, expanding and picking up steps. Further, it also suppresses adhesion of the adhesive to the surface of the rotary blade during dicing.

【0017】表面処理剤として使用される塗料として
は、ポリオレフィンフィルムに親和性があるポリマーと
紫外線硬化型粘着剤に親和性のあるポリマーが同じもの
である時は単一で、違うものであるときは混合して使用
することが好ましい。即ち、エチレン−酢酸ビニル共重
合体、イソシアネート化合物、ゴムとアクリル酸のグラ
フト重合体とイソシアネート化合物との混合物、塩素化
ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン等が用いられる。
また、コロナ放電処理を施し粘着剤とフィルムの密着性
を上げることもよく用いられる。
As the paint used as the surface treatment agent, when the polymer having affinity for the polyolefin film and the polymer having affinity for the ultraviolet curable adhesive are the same, they are single, and when they are different. It is preferable to mix and use. That is, an ethylene-vinyl acetate copolymer, an isocyanate compound , a mixture of a graft polymer of rubber and acrylic acid and an isocyanate compound , chlorinated polyethylene, chlorinated polypropylene and the like are used.
Also, it is often used to increase the adhesion between the adhesive and the film by subjecting it to corona discharge treatment.

【0018】次ぎに、紫外線硬化型粘着剤層であるが、
ここでいう紫外線硬化型粘着剤には公知のものが広く使
用され、特にアクリル系粘着剤に紫外線重合性プレポリ
マーそして/もしくは紫外線重合性モノマーを1ないし
150%配合した紫外線硬化型粘着剤が用いられる。即
ち、アクリル系粘着剤に紫外線重合性化合物を混合した
粘着剤が用いられる。アクリル系粘着剤としては炭素数
が2ないし8個のアクリル酸エステル重合物及び酢酸ビ
ニル、塩化ビニリデン、メタクリル酸エステル等のビニ
ル系モノマーとの共重合物を主成分としたものを挙げる
ことができる。
Next, the UV-curable pressure-sensitive adhesive layer,
Well-known UV-curable pressure-sensitive adhesives are widely used here, and in particular, UV-curable pressure-sensitive adhesives prepared by blending an acrylic pressure-sensitive adhesive with a UV-polymerizable prepolymer and / or a UV-polymerizable monomer in an amount of 1 to 150% are used. To be That is, a pressure-sensitive adhesive obtained by mixing an acrylic pressure-sensitive adhesive with an ultraviolet polymerizable compound is used. Examples of the acrylic pressure-sensitive adhesive include those having as a main component an acrylic acid ester polymer having 2 to 8 carbon atoms and a copolymer with a vinyl monomer such as vinyl acetate, vinylidene chloride, or methacrylic acid ester. .

【0019】一方、紫外線重合性プレポリマーとしては
ポリエステルモノアクリレート、ポリエステルジアクリ
レート、ポリエステルトリアクリレート、エポキシアク
リレート、ポリウレタンアクリレート、ポリエーテルア
クリレート、メラミンアクリレート、アルキッドアクリ
レート、シリコンアクリレート等であって、具体的には
イソデシルアクリレート、ステアリルアクリレート、ラ
ウリルアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリ
レート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、ポリ
エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコ
ールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアク
リレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等を
挙げることができる。
On the other hand, examples of the UV-polymerizable prepolymer include polyester monoacrylate, polyester diacrylate, polyester triacrylate, epoxy acrylate, polyurethane acrylate, polyether acrylate, melamine acrylate, alkyd acrylate, and silicon acrylate. Is isodecyl acrylate, stearyl acrylate, lauryl acrylate, 1,3-butanediol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, etc. Can be mentioned.

【0020】また、紫外線重合性モノマーとしては単官
能性モノマーとして、2−エチルヘキシルアクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキ
シプロピルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアク
リレート等があり、二官能性モノマーとしてはジシクロ
ペンタニルジアクリレート、1,3−ブタンジオールジ
アクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジアクリレート等がある。
また、三官能性以上のモノマーとしてはトリメチロール
プロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ
アクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等があ
る。
The UV-polymerizable monomers include monofunctional monomers such as 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate and tetrahydrofurfuryl acrylate, and the difunctional monomers include dicyclohexyl acrylate. Examples include pentanyl diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, and polyethylene glycol diacrylate.
Examples of trifunctional or higher functional monomers include trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol triacrylate, and dipentaerythritol hexaacrylate.

【0021】次に、紫外線硬化型粘着剤には架橋剤が配
合され、さらに紫外線硬化反応を向上させるために、増
感剤を配合することにより効果的である。架橋剤として
は過酸化物、ポリイソシアネート、リン酸金属塩等を挙
げることができる。また、増感剤としてはベンゾイン、
ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエ
ーテル、ジフェニルスルファイド、アントラセン、ベン
ゾフェノン、α−クロロアントラキノン、ジフェニルジ
スルファイド、ジアセチル、ヘキサクロルブタジエン、
ペンタクロルブタジエン、オクタクロロブテン、1−ク
ロルメチルナフタリン等を挙げることができ、0.1な
いし5%配合され通常は3%以下で充分に効果が発揮さ
れる。
Next, a crosslinking agent is added to the UV-curable pressure-sensitive adhesive, and it is effective to add a sensitizer to improve the UV-curing reaction. Examples of the cross-linking agent include peroxides, polyisocyanates, metal phosphates and the like. Also, benzoin as a sensitizer,
Benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, diphenyl sulfide, anthracene, benzophenone, α-chloroanthraquinone, diphenyl disulfide, diacetyl, hexachlorobutadiene,
Pentachlorobutadiene, octachlorobutene, 1-chloromethylnaphthalene and the like can be mentioned, and 0.1 to 5% is compounded and usually 3% or less is sufficient to exert the effect sufficiently.

【0022】上記、紫外線硬化型粘着剤組成物は、トル
エン、酢酸エチル、メチルエチルケトン等の溶剤を用い
粘着剤として調整し、通常の方法により前述の2層構
造体のポリオレフィンフィルム側の表面に塗布して粘着
剤層を設け、半導体ウエハダイシング用粘着シートを得
ることができる。また、必要に応じてこの粘着シートの
粘着剤層は剥離シートと組み合わせて保護される。
The UV-curable pressure-sensitive adhesive composition is prepared as a pressure-sensitive adhesive using a solvent such as toluene, ethyl acetate or methyl ethyl ketone, and is applied to the surface of the above-mentioned two-layer structure on the polyolefin film side by a conventional method. Then, an adhesive layer is provided to obtain an adhesive sheet for semiconductor wafer dicing. The pressure-sensitive adhesive layer of this pressure-sensitive adhesive sheet is optionally combined with a release sheet for protection.

【0023】このようにして得られたウエハダイシング
用粘着シートを用いて半導体チップを製造するには、ま
ず、ウエハダイシング用粘着シートの粘着剤層上に半導
体ウエハを粘着固定する。この場合本発明の紫外線硬化
型粘着剤は接着力が120ないし1000g/25mm
で半導体ウエハを固定することができる。
To manufacture a semiconductor chip using the thus obtained adhesive sheet for wafer dicing, first, the semiconductor wafer is adhesively fixed on the adhesive layer of the adhesive sheet for wafer dicing. In this case, the ultraviolet curable adhesive of the present invention has an adhesive force of 120 to 1000 g / 25 mm.
The semiconductor wafer can be fixed with.

【0024】次にダイシングソーを使って半導体ウエハ
の表面に形成されている素子を囲むように縦横に格子状
に完全カットする。続いて、ウエハダイシング用粘着シ
ートの表面基材側から紫外線源を用い紫外線を照射して
紫外線硬化型粘着剤を架橋反応させ、さらに、エキスパ
ンドさせた後、真空チャックでウエハダイシング用粘着
シートから剥離分離し半導体チップを得ることができ
る。
Next, a dicing saw is used to completely cut the elements formed on the surface of the semiconductor wafer in a grid pattern vertically and horizontally. Then, the surface of the pressure-sensitive adhesive sheet for wafer dicing is irradiated with ultraviolet rays from an ultraviolet source to cross-link the UV-curable pressure-sensitive adhesive, and after expanding, peeled from the pressure-sensitive adhesive sheet for wafer dicing with a vacuum chuck. A semiconductor chip can be obtained by separating.

【0025】本発明に使用する紫外線は200ないし4
00nmの波長範囲で紫外線源としては水銀アーク・低
圧・中圧・高圧水銀ランプ、炭酸アーク等を用いること
ができ、また、紫外線照射時間は0.1ないし10秒間
で充分である。本発明の紫外線硬化型粘着剤は紫外線照
射により接着力は10ないし100g/25mmに低減
し、真空チャックでウエハダイシングシートから容易に
剥離することができる。
The ultraviolet rays used in the present invention are 200 to 4
In the wavelength range of 00 nm, a mercury arc / low pressure / medium pressure / high pressure mercury lamp, a carbonic acid arc or the like can be used as an ultraviolet ray source, and an ultraviolet ray irradiation time of 0.1 to 10 seconds is sufficient. The UV-curable pressure-sensitive adhesive of the present invention has an adhesive force reduced to 10 to 100 g / 25 mm by UV irradiation, and can be easily peeled from a wafer dicing sheet by a vacuum chuck.

【0026】[0026]

【発明の効果】本発明によるウエハダイシング用粘着シ
ートは基材として、内部可塑化ポリ塩化ビニルフィルム
とポリオレフィンフィルムとの少なくとも2つの層から
なり、そのポリオレフィンフィルム側の表面に紫外線硬
化型粘着剤の層が形成され、ダイシング時に回転刃がウ
エハを切り、次に紫外線硬化型の粘着剤層を切り、さら
に、表面基材のフィルムの一部を切る。このダイシング
時に回転刃はポリオレフィンフィルムの層の中間までし
か届かず、内部可塑化ポリ塩化ビニルフィルムの層まで
届かない。そのためダイシング時に回転刃とウエハの間
の摩擦熱が発生しても塩素イオンは発生しない。
The pressure-sensitive adhesive sheet for wafer dicing according to the present invention comprises, as a base material, at least two layers of an internally plasticized polyvinyl chloride film and a polyolefin film, and the surface of the polyolefin film side is coated with an ultraviolet-curable pressure-sensitive adhesive. A layer is formed, and during dicing, the rotary blade cuts the wafer, then cuts the ultraviolet-curable adhesive layer, and further cuts a part of the film of the surface base material. During this dicing, the rotary blade reaches only the middle of the layer of the polyolefin film, and does not reach the layer of the internally plasticized polyvinyl chloride film. Therefore, chlorine ions are not generated even if frictional heat is generated between the rotary blade and the wafer during dicing.

【0027】また、本発明による粘着シートは基材に可
塑剤が添加されていないため、可塑剤が添加されている
ポリ塩化ビニル及びその共重合体フィルムを使用してい
る粘着シートに比較すると製品の接着力の経時変化はな
く、紫外線照射後の接着力の適切な低減が得られる。
Further, since the pressure-sensitive adhesive sheet according to the present invention has no plasticizer added to the base material, the pressure-sensitive adhesive sheet as compared with a pressure-sensitive adhesive sheet using polyvinyl chloride to which a plasticizer is added and a copolymer film thereof is a product. There is no change with time in the adhesive force of, and an appropriate reduction of the adhesive force after ultraviolet irradiation can be obtained.

【0028】さらに、半導体ウエハをダイシングして紫
外線を照射させ接着力を低減させた後にエキスパンド工
程で拡張させる時に、均一な伸びを示しチップ間に充分
な間隔が得られウエハチップのピックアップを確実に行
うことができるものである。
Furthermore, when the semiconductor wafer is diced and irradiated with ultraviolet rays to reduce the adhesive force and then expanded in the expanding step, uniform expansion is achieved and a sufficient interval is obtained between the chips to ensure the pick-up of the wafer chips. Is what you can do.

【0029】[0029]

【実施例1】 アクリル系2液型粘着剤(SW−2B)綜研科学 100重量部 紫外線硬化型化合物(ポリエステルオリゴマー)大日精化 90重量部 架橋剤(コロネートL) 15重量部 増感剤(ベンゾフェノン) 3重量部 上記、配合組成の紫外線硬化型粘着剤を調整し、これを
シリコーン樹脂がコートされている厚さ50ミクロンの
ポリエステルフィルム上に、乾燥後の厚みが10ミクロ
ンになるようにアプリケーターを用いて塗布し、100
℃で2分間乾燥する。乾燥後に内部可塑化ポリ塩化ビニ
ルフィルム(厚さ60ミクロン)とエチレン−酢酸ビニ
ル共重合体フィルム(厚さ40ミクロン)を貼合したフ
ィルムのエチレン−酢酸ビニル共重合体側の表面に前記
の粘着剤がくるように貼合する。
Example 1 Acrylic two-component adhesive (SW-2B) Soken Scientific 100 parts by weight UV curable compound (polyester oligomer) Dainichi Seika 90 parts by weight Crosslinking agent (Coronate L) 15 parts by weight Sensitizer (benzophenone ) 3 parts by weight An ultraviolet-curable adhesive having the above composition was prepared, and an applicator was applied onto a 50-micron-thick polyester film coated with a silicone resin so that the thickness after drying would be 10 microns. Apply using 100
Dry for 2 minutes at ° C. The above-mentioned adhesive is applied to the surface of the ethylene-vinyl acetate copolymer side of the film obtained by laminating the internally plasticized polyvinyl chloride film (thickness 60 microns) and the ethylene-vinyl acetate copolymer film (thickness 40 microns) after drying. Stick together so that

【0030】このようにして得られたウエハダイシング
用粘着シートを用いてダイシングテストを行い、接着
力、塩素イオン量、エキスパンド適正を試験し、結果を
試験結果表に示した。
Using the pressure-sensitive adhesive sheet for wafer dicing thus obtained, a dicing test was conducted to test the adhesive strength, the amount of chloride ions, and the expandability, and the results are shown in the test result table.

【0031】[0031]

【比較例1】実施例1で使用した紫外線硬化型粘着剤を
用いてポリ塩化ビニルフィルム(厚さ80ミクロン:可
塑剤35重量部を含む)に塗布貼合し、実施例1と同様
に各種試験を行い、結果を試験結果表に示した。
Comparative Example 1 Using the UV-curable adhesive used in Example 1, a polyvinyl chloride film (thickness: 80 μm; including 35 parts by weight of a plasticizer) was applied and laminated, and various kinds of adhesives were prepared in the same manner as in Example 1. The test was conducted and the results are shown in the test result table.

【0032】[0032]

【比較例2】実施例1で使用した紫外線硬化型粘着剤を
用いてポリブテンフィルム(厚さ100ミクロン)に貼
合し、実施例1と同様に各種試験を行い、結果を試験結
果表に示した。
[Comparative Example 2] The UV-curable adhesive used in Example 1 was used to adhere to a polybutene film (thickness: 100 µm), various tests were conducted in the same manner as in Example 1, and the results are shown in the test result table. It was

【0033】[0033]

【試験結果】【Test results】 【表】【table】

*1・・・ステンレス板(SUS−#304 1200
メッシュ 仕上げ)への接着力。 *2・・・粘着シートの切込み深さ20ミクロンにダイ
シングした後に、この粘着シートを純水中に入れて10
0℃2時間加熱抽出してイオンクロマトグラフ(ダイオ
ネックスQIC)で分析定量した。 *3・・・シリコンウエハをダイシングソーで2×2m
mにフルカットし紫外線硬化後ウエハ拡張装置で延伸し
た時の結果(外観、チップ間隔)。 上記、試験結果より実施例1ではいずれの項目に対して
も全く問題ない結果であるが、比較例1では接着力の項
の40℃、3カ月後のUV照射前/後の値に、また、比
較例2ではエキスパンド適性に異常が発生していること
が判る。
* 1 ... Stainless steel plate (SUS- # 304 1200
Adhesiveness to mesh finish). * 2 ... After dicing the adhesive sheet to a depth of 20 microns, place the adhesive sheet in pure water for 10
It was heated and extracted at 0 ° C. for 2 hours, and analyzed and quantified by an ion chromatograph (Dionex QIC). * 3: A silicon wafer is 2 x 2 m with a dicing saw.
Results obtained by fully cutting to m, UV curing, and stretching with a wafer expansion device (appearance, chip spacing). From the above test results, in Example 1, there is no problem in any of the items, but in Comparative Example 1, the adhesive strength is 40 ° C., the value before / after UV irradiation after 3 months, and In Comparative Example 2, it can be seen that the expandability is abnormal.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体ウエハダイシング用粘着シートに
おいて、紫外線透過用の表面基材が、内部可塑化ポリ塩
化ビニルフィルムとポリオレフィンフィルムを層構成材
とする少なくとも2層からなる積層フィルムのポリオレ
フィンフィルム側の表面に、紫外線の照射によって接着
力が低減する紫外線硬化型の粘着剤層を形成したことを
特徴とする半導体ウエハダイシング用粘着シート。
1. A pressure-sensitive adhesive sheet for semiconductor wafer dicing, wherein the surface substrate for transmitting ultraviolet light is a polyolefin film side of a laminated film comprising at least two layers including an internal plasticized polyvinyl chloride film and a polyolefin film as a layer constituent material. A pressure-sensitive adhesive sheet for semiconductor wafer dicing, characterized in that a UV-curable pressure-sensitive adhesive layer whose adhesive strength is reduced by irradiation of ultraviolet rays is formed on the surface.
【請求項2】 前記粘着剤層が、表面処理剤の層を介し
てポリオレフィンフィルムの層に形成されている請求項
1記載の半導体ウエハダイシング用粘着シート。
2. The pressure-sensitive adhesive sheet for semiconductor wafer dicing according to claim 1, wherein the pressure-sensitive adhesive layer is formed on a polyolefin film layer with a surface treatment agent layer interposed therebetween.
JP31521191A 1991-11-05 1991-11-05 Adhesive sheet for semiconductor wafer dicing Expired - Lifetime JPH07105367B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP31521191A JPH07105367B2 (en) 1991-11-05 1991-11-05 Adhesive sheet for semiconductor wafer dicing

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP31521191A JPH07105367B2 (en) 1991-11-05 1991-11-05 Adhesive sheet for semiconductor wafer dicing

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05129432A JPH05129432A (en) 1993-05-25
JPH07105367B2 true JPH07105367B2 (en) 1995-11-13

Family

ID=18062741

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP31521191A Expired - Lifetime JPH07105367B2 (en) 1991-11-05 1991-11-05 Adhesive sheet for semiconductor wafer dicing

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH07105367B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2305763A1 (en) 2009-09-30 2011-04-06 Nitto Denko Corporation Pressure-sensitive adhesive sheet for retaining elements and method of producing elements

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4689075B2 (en) * 2001-05-21 2011-05-25 日東電工株式会社 Protective sheet for semiconductor wafer processing
JP2005298600A (en) * 2004-04-08 2005-10-27 Sekisui Chem Co Ltd Adhesive sheet
JP2006282794A (en) * 2005-03-31 2006-10-19 Furukawa Electric Co Ltd:The Adhesive tape for wafer dicing

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2305763A1 (en) 2009-09-30 2011-04-06 Nitto Denko Corporation Pressure-sensitive adhesive sheet for retaining elements and method of producing elements

Also Published As

Publication number Publication date
JPH05129432A (en) 1993-05-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3177149B2 (en) Adhesive tape substrate, adhesive tape using the substrate, and method for producing the substrate
US6010782A (en) Thin adhesive sheet for working semiconductor wafers
EP0157508B1 (en) Thin adhesive sheet for use in working semiconductor wafers
TWI323022B (en) Dicing die-bonding film and method of fixing chipped work
CN101136329B (en) Method of semiconductor wafer back processing, method of substrate back processing
JPS60223139A (en) Bonding sheet for fixing semiconductor wafer
TWI586783B (en) Heat peelable adhesive sheet for use in cutting electronic component and method for cutting electronic component
JPH0156112B2 (en)
JP2002338936A (en) Adhesive sheet for processing semiconductor wafer
JP2004331743A (en) Pressure-sensitive adhesive sheet and method for using the same
JP3889859B2 (en) Adhesive sheet for wafer attachment
JPH0661346A (en) Adhesive sheet for semiconductor wafer dicing use
JPH0242393B2 (en)
EP2471882B1 (en) Radiation-curable adhesive composition and adhesive sheet
TWI809030B (en) Sheet material for workpiece processing and method of manufacturing the processed workpiece
JP5583080B2 (en) Wafer processing tape and semiconductor processing method using the same
JP2002203822A (en) Method for processing brittle member and both-side adhesive sheet
JPH07105367B2 (en) Adhesive sheet for semiconductor wafer dicing
JP3330851B2 (en) Wafer grinding method
JP5583099B2 (en) Adhesive tape for brittle wafer processing
JPS63205383A (en) Tacky sheet for sticking stick wafer
JP4267986B2 (en) Adhesive tape
JP4578600B2 (en) Photosensitive adhesive tape and method for producing the same
JPH0215594B2 (en)
JPH0472386B2 (en)