JPH07104309B2 - Gas sensor manufacturing method - Google Patents

Gas sensor manufacturing method

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JPH07104309B2
JPH07104309B2 JP62064204A JP6420487A JPH07104309B2 JP H07104309 B2 JPH07104309 B2 JP H07104309B2 JP 62064204 A JP62064204 A JP 62064204A JP 6420487 A JP6420487 A JP 6420487A JP H07104309 B2 JPH07104309 B2 JP H07104309B2
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metal oxide
paste
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counter electrode
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Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明はガスセンサの製造方法に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Object of the Invention] (Field of Industrial Application) The present invention relates to a method for manufacturing a gas sensor.

(従来の技術) 従来から感ガス体として金属酸化物半導体を用いたガス
センサの例が数多く提案されている。例えば、酸化亜
鉛、酸化スズ、酸化インジウム等のn型半導体を用いた
場合は、還元性ガスとの接触によりその抵抗が減少する
ことを利用してガスを検知する。逆に、p型半導体を用
いた場合には、還元性ガスとの接触により抵抗が増加す
ることを利用する。しかし、半導体のみではこの抵抗の
減少または増加は起りにくく、たとえば貴金属や金属酸
化物を担持した多孔質の金属酸化物からなる触媒層を半
導体の上に重ねたりして用いられる。この場合、例えば
金属酸化物を担持させたアルミナ微粉体と塩基性塩化ア
ルミニウム水溶液とからペーストを調製し、これを塗
布、焼成するといった方法がとられている。
(Prior Art) Many examples of gas sensors using a metal oxide semiconductor as a gas-sensitive material have been proposed. For example, when an n-type semiconductor such as zinc oxide, tin oxide, or indium oxide is used, the gas is detected by utilizing the fact that its resistance decreases due to contact with a reducing gas. On the contrary, when a p-type semiconductor is used, it is used that the resistance increases due to contact with a reducing gas. However, this resistance is unlikely to decrease or increase only with a semiconductor, and for example, a catalyst layer made of a porous metal oxide supporting a noble metal or a metal oxide is used by being stacked on the semiconductor. In this case, for example, a method is used in which a paste is prepared from alumina fine powder carrying a metal oxide and a basic aluminum chloride aqueous solution, and the paste is applied and fired.

最近、ガスセンサの小形化や、選択性向上と多機能化の
ための集積化、製造工程の自動化、バラツキの低減など
を目的として、厚膜技術を利用した平板形のガスセンサ
が注目されている。ガスセンサの平板化のための要素技
術としては、たとえば下記のような技術が提案されてい
る。
2. Description of the Related Art Recently, a flat-plate gas sensor using a thick film technology has been attracting attention for the purpose of downsizing gas sensors, integration for improving selectivity and multi-functionality, automation of manufacturing process, and reduction of variations. The following technologies have been proposed as elemental technologies for flattening the gas sensor.

(1) 厚膜印刷によりヒータと絶縁膜を形成した発熱
体内蔵セラミック多層基板、 還元性ガスとの接触による半導体の抵抗変化は前記のよ
うな接触層や、増感剤を用いたとしても、常温では小さ
く、しかも緩慢であるので、発熱体により素子を加熱す
ることが不可欠である。平板形の場合、発熱体を基板の
裏面に膜状に形成して一体化することが多いが、熱効果
を高め、量産性を向上させるために、基板表面上に発熱
体、絶縁膜、対向電極、ガス感応膜を積層した構造が提
案されている。
(1) A ceramic multi-layer substrate with a built-in heating element in which a heater and an insulating film are formed by thick film printing, the resistance change of a semiconductor due to contact with a reducing gas, even if the above contact layer or sensitizer is used, Since it is small and slow at room temperature, it is essential to heat the element with a heating element. In the case of the flat plate type, the heating element is often formed in a film shape on the back surface of the substrate to be integrated, but in order to enhance the thermal effect and improve mass productivity, the heating element, the insulating film, and the opposing surface are provided on the substrate surface. A structure in which an electrode and a gas sensitive film are laminated has been proposed.

(2) 還元性ガスに感応する金属酸化物半導体薄膜の
スクリーン印刷による形成。
(2) Forming a metal oxide semiconductor thin film sensitive to a reducing gas by screen printing.

ガス感応性金属酸化物半導体の薄膜(膜厚1μm以下)
を有機金属化合物の熱分解により形成したガスセンサが
広く実用に供されている。これは、リフトオフ法により
有機金属化合物の薄膜が形成され、しかるのちに熱分解
により金属酸化物薄膜を得たものである。このような薄
膜のパターン形成を容易にするために、スクリーン印刷
可能なペーストが考案され、スクリーン印刷による金属
酸化物薄膜の形成が可能になった。
Gas-sensitive metal oxide semiconductor thin film (film thickness 1 μm or less)
Gas sensors formed by thermal decomposition of organometallic compounds have been widely put into practical use. This is one in which a thin film of an organometallic compound is formed by the lift-off method, and then a metal oxide thin film is obtained by thermal decomposition. In order to facilitate the pattern formation of such a thin film, a screen-printable paste has been devised, and it has become possible to form a metal oxide thin film by screen printing.

上記の技術を利用した平板形のガスセンサでは、前記の
接触層もスクリーン印刷などによってパターンニングす
ることが求められる。しかし、前記のごとくアルミナ微
粉体と塩基性塩化アルミニウム水溶液からなる系は、水
の揮発性が高いためにスクリーン印刷用のペーストとす
るのは適当ではない。また、有機溶剤などを含む有機系
を考えた場合、ペーストの粘度、チキソトロピーや、焼
成後の膜強度、ガス感応性などに難点があった。
In the flat-plate type gas sensor using the above technique, the contact layer is also required to be patterned by screen printing or the like. However, as described above, the system composed of the fine alumina powder and the basic aluminum chloride aqueous solution is not suitable as a paste for screen printing because of its high volatility of water. Further, when considering an organic system including an organic solvent, there are problems in the viscosity of the paste, thixotropy, film strength after firing, gas sensitivity and the like.

(発明が解決しようとする問題点) 本発明は、従来技術では多孔質の金属酸化物からなる触
媒層の印刷形成が困難な点に鑑みてなされたもので、粘
度、チキソトロピーなどのレオロジー特性や、溶剤の揮
発性などの適当なスクリーン印刷可能なペーストを用い
て、多孔質の金属酸化物からなる特性良好な触媒層を印
刷形成できるガスセンサの製造方法を得ることを目的と
するものである。
(Problems to be Solved by the Invention) The present invention has been made in view of the difficulty in print formation of a catalyst layer made of a porous metal oxide in the prior art, and rheological properties such as viscosity and thixotropy and It is an object of the present invention to obtain a method for producing a gas sensor, which can form a catalyst layer of a porous metal oxide having good characteristics by printing using an appropriate screen-printable paste such as solvent volatility.

[発明の構成] (問題を解決するための手段) 本発明に係るガスセンサの製造方法では、平板状をなす
絶縁基板の表面にヒータ材を取付ける工程と、前記絶縁
基板の表面上で前記ヒータ材の配設領域を含む領域上に
絶縁膜を設ける工程と、前記絶縁膜上に対向電極を設け
る工程と、前記絶縁膜上で前記対向電極の配設領域を含
む所定の領域上にガス感応体としての金属酸化物半導体
膜を設ける工程と、前記金属酸化物半導体膜上に、酸化
物の形態で触媒を担持したアルミニウム、ケイ素、ジル
コニウムの群から選ばれた少なくとも1種の酸化物微粉
体,溶媒,セルロース系ポリマーおよび前記群から選ば
れた少なくとも1種の有機金属化合物を含むペーストを
用いて印刷を行った後に上記ペーストを焼成して多孔質
の触媒層を形成する工程とを具備してなることを特徴と
している。
[Configuration of the Invention] (Means for Solving the Problem) In the method for manufacturing a gas sensor according to the present invention, a step of attaching a heater material to the surface of a flat insulating substrate, and the heater material on the surface of the insulating substrate. A step of providing an insulating film on a region including a region where the counter electrode is provided, a step of providing a counter electrode on the insulating film, and a gas sensor on a predetermined region including a region where the counter electrode is provided on the insulating film. A step of providing a metal oxide semiconductor film as described above, and at least one kind of oxide fine powder selected from the group consisting of aluminum, silicon and zirconium in which a catalyst is supported on the metal oxide semiconductor film in the form of an oxide, A step of forming a porous catalyst layer by printing using a paste containing a solvent, a cellulosic polymer and at least one organometallic compound selected from the above group, and then firing the paste. It is characterized by comprising comprises a.

(作用) 本発明は、前記のごとき手段により、印刷性の良好なペ
ーストを用いて、多孔質の金属酸化物からなる膜を印刷
形成でき、したがって小形化された高感度・高選択性の
ガスセンサを高い量産性のもとに提供しうるものであ
る。すなわち、前記のごとき手段によれば、粘度、チキ
ソトロピーなどのレオロジー特性や溶剤の揮発性の適度
な印刷可能なペーストを得ることができ、この金属酸化
物微粉体と有機金属化合物を含むペーストを用いて有機
被膜を印刷し、乾燥ののちに焼成すれば、有機金属化合
物が熱分解して酸化物に変化する。このとき、前記金属
酸化物微粉体と結合をつくってバインダとしてはたら
き、強固な多孔質金属酸化物膜を形成する。この多孔質
金属酸化物膜は、その下層の半導体膜との界面でガスの
吸着・離脱を促進させる触媒として機能するとともに、
半導体膜へのガスの透過に選択性をもたせることによ
り、このガスセンサをして高感度、高選択性にせしめる
ものである。
(Operation) According to the present invention, a film made of a porous metal oxide can be formed by printing by using a paste having good printability by the above-described means, and thus a miniaturized high-sensitivity / high-selectivity gas sensor. Can be provided with high mass productivity. That is, according to the means as described above, it is possible to obtain a printable paste having appropriate viscosity, rheological properties such as thixotropy, and volatility of the solvent, and using a paste containing the metal oxide fine powder and the organometallic compound. When an organic film is printed by using the above method, dried and then baked, the organometallic compound is thermally decomposed and converted into an oxide. At this time, a bond is formed with the fine metal oxide powder to act as a binder to form a strong porous metal oxide film. This porous metal oxide film functions as a catalyst that promotes gas adsorption / desorption at the interface with the underlying semiconductor film,
By making gas permeation into the semiconductor film have selectivity, this gas sensor is made to have high sensitivity and high selectivity.

(実施例) 以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明す
る。
(Example) Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図は、本発明の一実施例の構造の説明図である。例
えば、アルミナ基板等の絶縁基板1の表面には対向電極
6および対向電極用コンタクトパッド9、ならびに発熱
体用コンタクトパッド4が設けられ、前記対向電極6の
上層には例えば酸化スズ系半導体膜等の金属酸化物半導
体薄膜7が形成され、この半導体薄膜7の上層には多孔
質金属酸化物膜8が設けられている。そして、前記発熱
体用コンタクトパッド4には発熱体用リード線10が取り
付けられ、前記対向電極用コンタクトパッド9には対向
電極用リード線11が取り付けられている。
FIG. 1 is an explanatory view of the structure of an embodiment of the present invention. For example, a counter electrode 6, a counter electrode contact pad 9, and a heating element contact pad 4 are provided on the surface of an insulating substrate 1 such as an alumina substrate, and a tin oxide semiconductor film or the like is provided on the counter electrode 6 as an upper layer. The metal oxide semiconductor thin film 7 is formed, and the porous metal oxide film 8 is provided on the semiconductor thin film 7. A heating element lead wire 10 is attached to the heating element contact pad 4, and a counter electrode lead wire 11 is attached to the counter electrode contact pad 9.

つぎに、第2図および第3図を参照しながら前記ガスセ
ンサの製造方法を説明する。第2図は製造工程のフロー
チャート、第3図は、第1図のI−I断面から見た製造
工程の説明図である。
Next, a method of manufacturing the gas sensor will be described with reference to FIGS. 2 and 3. FIG. 2 is a flow chart of the manufacturing process, and FIG. 3 is an explanatory diagram of the manufacturing process seen from the I-I cross section of FIG.

まず、ステップ201で、絶縁基板1の表面に70重量%の
白金および30重量%のタングステンからなる厚膜の発熱
体2に設ける(第3図(a)参照)。
First, in step 201, a thick film heating element 2 made of 70% by weight of platinum and 30% by weight of tungsten is provided on the surface of the insulating substrate 1 (see FIG. 3 (a)).

つぎにステップ202で、その上にはアルミナの絶縁体3
を膜状に設ける。その際に、発熱体の両端上にコンタク
トパッド4を形成するために、絶縁体3の当該箇所には
スルーホール5を設ける(第3図(b)参照)。
Next, in step 202, the insulator 3 of alumina is formed on top of it.
Is provided in a film shape. At that time, in order to form the contact pads 4 on both ends of the heating element, through holes 5 are provided at the corresponding portions of the insulator 3 (see FIG. 3B).

ステップ203で、膜状絶縁体3の上に金の厚膜により一
対の対向電極6を設ける(第3図(c)参照)。
In step 203, a pair of counter electrodes 6 made of a thick gold film are provided on the film insulator 3 (see FIG. 3C).

つづいてステップ204では、前記対向電極6の上に例え
ば酸化スズ系半導体薄膜等の金属酸化物半導体薄膜7を
重ねて形成する(第3図(d)参照)。
Subsequently, in step 204, a metal oxide semiconductor thin film 7 such as a tin oxide semiconductor thin film is formed on the counter electrode 6 (see FIG. 3D).

前記半導体薄膜7は、以下のようにしてスクリーン印刷
により作成される。ヘキソエートスズとニオブレジネー
トの有機金属化合物の混合物(原子数比で100:1)を含
み、エチルヒドロキシエチルセルロースとテレビン油を
含有する均一な溶液系ペーストを調製し、これを所定の
パターンに印刷し、120℃で15分間乾燥したのち、600℃
の電気路で10分間焼成する。上記ペースト中の有機金属
化合物が熱分解して、金属酸化物半導体薄膜7が得られ
る。
The semiconductor thin film 7 is formed by screen printing as follows. A homogeneous solution paste containing a mixture of organometallic compounds of hexoate tin and niobium resinate (100: 1 atomic ratio) and containing ethyl hydroxyethyl cellulose and turpentine oil was prepared and printed in a predetermined pattern at 120 ° C. After drying for 15 minutes at 600 ℃
Bake for 10 minutes on the electric path. The organometallic compound in the paste is thermally decomposed to obtain the metal oxide semiconductor thin film 7.

ステップ205では前記半導体薄膜7の上に酸化物の形態
で触媒を担持したアルミニウム、ケイ素、ジルコニウム
の群から選ばれた少なくとも1種の酸化物微粉体,溶
媒,セルロース系ポリマーおよび前記群から選ばれた少
なくとも1種の有機金属化合物を含むペーストを用いて
印刷を行った後に上記ペーストを焼成して多孔質の触媒
層、つまり多孔質金属酸化膜8を形成する(第3図
(e)参照)。
In step 205, at least one oxide fine powder selected from the group consisting of aluminum, silicon, and zirconium in which a catalyst is supported on the semiconductor thin film 7 in the form of an oxide, a solvent, a cellulosic polymer, and the above group are selected. After printing using a paste containing at least one kind of organometallic compound, the paste is fired to form a porous catalyst layer, that is, a porous metal oxide film 8 (see FIG. 3 (e)). .

この多孔質金属酸化物膜8は以下のようにして作成され
る。まず、アルミナの微粉体を所定量はかりとり、これ
に例えばタングステン酸アンモニウム水溶液を加えペー
スト状とし、一定時間かくはんする。こののち乾燥し、
焼成する。つぎに、これに硫酸銅水溶液を加え、上記と
同様の操作を繰り返す。これでタングステンおよび銅の
酸化物を担持した触媒が得られる(以下これを触媒と称
する)。
This porous metal oxide film 8 is formed as follows. First, a predetermined amount of fine alumina powder is weighed, an aqueous solution of ammonium tungstate, for example, is added thereto to form a paste, and the mixture is stirred for a certain period of time. After this, dry
Bake. Next, an aqueous copper sulfate solution is added to this, and the same operation as above is repeated. As a result, a catalyst supporting oxides of tungsten and copper is obtained (hereinafter referred to as a catalyst).

金属酸化物微粉体を含む前記有機被膜の印刷用のペース
トは、以下のようにして調製される。まず、ペーストの
ベースポリマーであるエチルヒドロキシエチルセルロー
スを、60〜80℃に加熱したテレビン油に加えてかくはん
する。これが十分に溶解したら、アルミニウムレジネー
トを加えて十分に混合し、さらに乳鉢上で前記触媒と混
合してペーストを得る。このペーストの組成は 触媒 30重量% アルミニウムレジネート 20重量% テレビン油 47重量% エチルヒドロキシエチルセルロース 3重量% である。これを所定のパターンに印刷し、120℃で15分
間乾燥したのち、500℃で焼成する。
The paste for printing the organic coating containing fine metal oxide powder is prepared as follows. First, the base polymer of the paste, ethyl hydroxyethyl cellulose, is added to turpentine oil heated to 60 to 80 ° C. and stirred. When it is sufficiently dissolved, aluminum resinate is added and mixed well, and further mixed with the catalyst in a mortar to obtain a paste. The composition of this paste is 30 wt% catalyst, 20 wt% aluminum resinate, 47 wt% turpentine oil, 3 wt% ethyl hydroxyethyl cellulose. This is printed in a predetermined pattern, dried at 120 ° C. for 15 minutes, and then baked at 500 ° C.

以上のごとく多孔質金属酸化物膜8を形成したのち、ス
テップ206では、多数個どりの基板の場合には各チップ
に分割したのち、発熱体用コンパクトパッド4および対
向電極用コンタクトパッド9にそれぞれリード線10およ
び11をとりつけ、チップを実装する(第3図(f)参
照)。
After forming the porous metal oxide film 8 as described above, in step 206, in the case of a large number of substrates, it is divided into each chip, and then the heat generating compact pad 4 and the counter electrode contact pad 9 are respectively divided. The leads 10 and 11 are attached and the chip is mounted (see FIG. 3 (f)).

上記のごとく製造したガスセンサの、各種ガス500ppmに
対する感度(空気中の抵抗値をガス中の抵抗値で除した
値)を第1表に示す。なお、発熱体に印加する電圧を調
節して、素子温度は400℃に設定してある。また、従来
例として、前記と同じ触媒を塩基性塩化アルミニウム水
溶液と混合してなるペーストを用いて製造したセンサの
データを示す。
Table 1 shows the sensitivities (values obtained by dividing the resistance value in the air by the resistance values in the gas) of the gas sensor manufactured as described above with respect to various gases of 500 ppm. The element temperature is set to 400 ° C. by adjusting the voltage applied to the heating element. In addition, as a conventional example, data of a sensor manufactured using a paste obtained by mixing the same catalyst as the above with a basic aluminum chloride aqueous solution is shown.

第1表から、上記本発明の実施例によるセンサは、従来
例のセンサとほぼ同等の感度を有していることが明らか
である。
From Table 1, it is clear that the sensor according to the embodiment of the present invention has substantially the same sensitivity as the conventional sensor.

なお、リード線をボンディングしたのちに、触媒を含む
低粘度のペーストを塗布するという従来例によれば、例
えば多孔質アルミナと前記リード線とが接触するため
に、高湿雰囲気中では酸性のアルミナがリード線の腐食
を促進する恐れがある。
According to the conventional example in which a lead wire is bonded and then a low-viscosity paste containing a catalyst is applied, for example, since porous alumina and the lead wire are in contact with each other, acidic alumina is used in a high humidity atmosphere. May accelerate lead wire corrosion.

印刷により、当該多孔質金属酸化物膜をパターン形成す
れば、この恐れが軽減される。
By patterning the porous metal oxide film by printing, this fear is reduced.

また、多孔質金属酸化物膜を形成する際の有機金属化合
物の量に関して、例えばアルミニウムレジネートの量が
少なすぎると(0.5重量%未満の場合)、多孔質アルミ
ナの膜強度が小さすぎて実用に耐えず、逆に多すぎると
(15重量%以上の場合)、当該アルミナがち密になって
しまうために、センサとしての感度および応答性が低す
ぎるので、いずれの場合も適当ではない。
Regarding the amount of the organometallic compound when forming the porous metal oxide film, for example, when the amount of aluminum resinate is too small (when it is less than 0.5% by weight), the film strength of the porous alumina is too small for practical use. On the contrary, if the amount is too high (15% by weight or more), the alumina becomes dense, and the sensitivity and responsiveness as a sensor are too low. Therefore, neither case is suitable.

[発明の効果] 以上述べたように本発明によれば、多孔質金属酸化膜を
形成するに際し、印刷に用いるペーストのポリマーおよ
び溶剤の選択により、粘度、チキソトロピーなどのレオ
ロジー特性が良好で、溶剤の揮発性が小さい、印刷可能
なペーストを得ることができ、また前記ペーストが有機
金属化合物を含むことから、強固な多孔質の金属酸化物
膜を形成することができる。さらに、前記のごとく形成
された多孔質金属酸化物膜は、このガスセンサをして高
感度、高選択性にせしめられている。さらに、それだけ
ではなく、印刷によって膜厚や細孔分布などの制御が可
能であることから、特性のバラツキが軽減できる。その
ほか、すべての成膜工程が印刷となりうることから、量
産性の著しい向上が可能となる。
[Advantages of the Invention] As described above, according to the present invention, when forming a porous metal oxide film, the rheological properties such as viscosity and thixotropy are good by selecting the polymer and solvent of the paste used for printing, and the solvent It is possible to obtain a printable paste having low volatility, and since the paste contains an organometallic compound, a strong porous metal oxide film can be formed. Further, the porous metal oxide film formed as described above is made to have high sensitivity and high selectivity by using this gas sensor. Furthermore, not only that, but also because the thickness and pore distribution can be controlled by printing, variations in characteristics can be reduced. In addition, since all film forming processes can be performed by printing, mass productivity can be significantly improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明に係る製造方法で製造されたガスセンサ
を示す平面図、第2図は本発明の一実施例の構造工程の
フローチャート、第3図は第1図のI−I断面から見た
各製造工程の断面図である。 1……絶縁基板、2……発熱体、3……絶縁体、4……
発熱体用コンタクトパッド、5……スルーホール、6…
…対向電極、7……金属酸化物半導体薄膜、8……多孔
質金属酸化物膜、9……対向電極用コンタクトパッド、
10……発熱体用リード線、11……対向電極用リード線。
FIG. 1 is a plan view showing a gas sensor manufactured by a manufacturing method according to the present invention, FIG. 2 is a flow chart of structural steps of one embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a sectional view taken along the line I-I of FIG. It is sectional drawing of each manufacturing process. 1 ... Insulating substrate, 2 ... Heating element, 3 ... Insulator, 4 ...
Heater contact pads, 5 ... through holes, 6 ...
... Counter electrode, 7 ... Metal oxide semiconductor thin film, 8 ... Porous metal oxide film, 9 ... Counter electrode contact pad,
10 …… Heating element lead wire, 11 …… Counter electrode lead wire.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】平板状をなす絶縁基板の表面にヒータ材を
取付ける工程と、前記絶縁基板の表面上で前記ヒータ材
の配設領域を含む領域上に絶縁膜を設ける工程と、前記
絶縁膜上に対向電極を設ける工程と、前記絶縁膜上で前
記対向電極の配設領域を含む所定の領域上にガス感応体
としての金属酸化物半導体膜を設ける工程と、前記金属
酸化物半導体膜上に、酸化物の形態で接触を担持したア
ルミニウム、ケイ素、ジルコニウムの群から選ばれた少
なくとも1種の酸化物微粉体,溶媒,セルロース系ポリ
マーおよび前記群から選ばれた少なくとも1種の有機金
属化合物を含むペーストを用いて印刷を行った後に上記
ペーストを焼成して多孔質の触媒層を形成する工程とを
具備してなることを特徴とするガスセンサの製造方法。
1. A step of mounting a heater material on a surface of a flat insulating substrate, a step of providing an insulating film on a surface of the insulating substrate including an area where the heater material is provided, and the insulating film. A step of providing a counter electrode thereon, a step of providing a metal oxide semiconductor film as a gas sensitizer on a predetermined region including a region where the counter electrode is provided on the insulating film; In addition, at least one kind of oxide fine powder selected from the group of aluminum, silicon and zirconium, which is supported in the form of an oxide, a solvent, a cellulosic polymer and at least one kind of organometallic compound selected from the above group And a step of forming a porous catalyst layer by firing the paste after printing using the paste containing the gas sensor.
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