JPH07102314B2 - 触媒充填方法及び触媒充填装置 - Google Patents
触媒充填方法及び触媒充填装置Info
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- JPH07102314B2 JPH07102314B2 JP15433390A JP15433390A JPH07102314B2 JP H07102314 B2 JPH07102314 B2 JP H07102314B2 JP 15433390 A JP15433390 A JP 15433390A JP 15433390 A JP15433390 A JP 15433390A JP H07102314 B2 JPH07102314 B2 JP H07102314B2
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/0015—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor
- B01J8/002—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor with a moving instrument
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Description
媒を充填する触媒充填方法および触媒充填装置に関す
る。
めに触媒が利用されており、その利用にあたっては、例
えば粒状に形成された触媒を円筒状等の反応塔に充填し
ておき、この反応塔内に原料油、反応液、ガスあるいは
これらの混合物等を通過させて触媒表面に接触させるこ
とが一般的である。
な方法があった。
るように、上端に触媒供給手段を接続した伸縮自在の触
媒降下管の下端を触媒充填室中心部に臨ませて、徐々に
充填して行く方法、つまり触媒をストレートに落下供給
させる、いわゆるソック充填方式と言われる方法が知ら
れている。この充填方式では、触媒は比較的粗く、充填
される。
うに、ホッパから円錐形状の分配部材に触媒を供給し、
この分配部材を回転させながら周囲に分散する方法、つ
まり触媒を遠心力によって方向をそろえて詰めていく、
いわゆるデンス(密)充填方式と言われる方法が知られ
ている。
式とも触媒は均一にしか充填されない。
いると、反応塔内の周囲を流れようとする習性がある。
とが困難となり、中央部の触媒は固まる傾向にあった。
態となり、そうすると触媒内で発熱反応がおき、触媒内
の炭素が結晶化する。炭素の結晶化で触媒はますます固
まり、液体は中央部をますます流れにくくなるという悪
循環をくり返していた。
の劣化が速くなる。一方、中央部の触媒は触媒としての
機能を果していない。
時間で触媒の交換を行なわなければならないという問題
があり、交換作業も大変で、触媒の経費も大変であっ
た。
り、完全に有効に使用し得る触媒充填方法および触媒充
填装置を提供することである。
とを利用して、液体が反応塔内を均一に流れるように工
夫したものである。
媒を充填するにあたり、反応塔の中心部に充填される触
媒の密度を、反応塔の周囲に充填される触媒の密度に比
べて小さくした触媒充填方法としたものである。
たり、反応塔中心部への触媒の充填を、反応塔に対し、
上下動可能な触媒供給管により行なうとともに、反応塔
周囲への触媒の充填を、回転自在な触媒分配器の遠心力
により行なう触媒充填方法としてもよい。
媒充填装置において、反応塔内部に、反応塔に対し上下
動可能に設けられ塔外のホッパから供給された触媒を反
応塔内部に供給する触媒供給管と、この触媒供給管先端
に設けられ反応塔中心部に向けて供給する触媒の供給量
を調整する供給量調整手段と、触媒の被供給部を有する
とともに、外方に向けて開放部を有する触媒分配器と、
を具備したことを特徴とする触媒充填装置としたもので
ある。
は、前記触媒供給管の内部と連通するようにしても良
い。
挿入され、塔外に設けられた触媒を貯留するホッパから
触媒が供給される。
されながら、触媒が密度の粗い状態で、触媒供給管から
落下供給される。
りまかれ、密度が密の状態で充填される。
る。第1図において、略円筒状の反応塔1の中心軸部に
は、反応塔1上部に支柱2が立設されている。この支柱
2上には充填制御器3を備えたチェンブロック4等の巻
上機構が設けられ、この巻上機構からチェン5等の巻上
部材を介して鋼管製の触媒供給管6が反応塔1の中心部
に吊下げられている。この触媒供給管6は、反応塔1の
高さが高い場合等には、ディスタンスピース6Bをフラン
ジ結合させて継足してその高さに対応させてゆく。
ように、複数本のリブ7を介してソック充填用の内筒8
が取付けられている。内筒8の外径と触媒供給管6の内
径とには、触媒10が所定量通過し得るだけの被供給部で
ある所定の隙間9が形成されている。
整手段であるフルコントロールのバルブ11(第1図参
照)が設けられる。
設する取付板12がステー27で補強されて固着されてい
る。
けられ、モータ13の主軸にはピニオン14が装着されてい
る。
を介して、回転自在に触媒分配器16が設けられている。
がる側面断面視略八字形に形成された上下のカバー18,1
9が、複数のリブ20で結合された形状となっている。
バー19の内径部は、前記内筒8の外径に近接された状態
である。
17は、内筒8に設けられた軸受26に回転自在に取付けら
れると共に、前記ピニオン14と噛合している。
状の触媒10は、塔外上部のホッパ21内に収納されてお
り、このホッパ21から送出パイプ22を介して触媒供給管
6の入口6Aに送られる。
れ、このセンサー23により、反応塔1内に充填される触
媒10の表面からの触媒分配器16ひいてはバルブ11までの
高さが検出され、この検出信号が前記充填制御器3に送
られ、この信号に基づいて巻上機構4が駆動制御される
ようになっている。
よび触媒支持用のボール状の粗大粒材24が敷かれてお
り、この粗大粒材24上に前記触媒10が散布され、充填さ
れるようになっている。
1内部に静かに降してゆく。
底部近傍まで降され、レベルセンサー23が所定高さを検
知し、その信号を発したら、触媒供給管6の降下が停止
される。
駆動させて触媒分配器16を回転させる。
が触媒供給管6の入口6Aから触媒供給管6に供給され
る。供給管6を通過する触媒10は、供給管6先端で下方
と周囲とに分配される。
て、反応塔1中心部下方に落下される。同時に、回転し
ている触媒分配器16側に落込んだ触媒10は、分配器16の
遠心力によって反応塔1胴側に振りまかれる。
ソック状の充填であり、触媒10の密度としては粗の状態
である。
る充填は、触媒10が詰った状態に充填されるものであ
り、触媒10の密度としては胴側に近づく程、密の状態で
ある。
のソック充填で、周囲をデンス(密)充填で行なうもの
である。そして、この粗・密の分布状態は第1図に示さ
れるように、粗・密のほぼ境界から所定角度αだけ胴側
に立上がる傾斜状に充填されるように制御されると好ま
しい。
ンス(密)充填の効果がなくなるので、触媒の種類等に
より、変ってはくるが、例えば5゜〜10゜位の範囲に収
まるように制御する。
6の大きさや、内筒8と供給管6との隙間寸法、あるい
は触媒分配器16の回転数および開放口25の大きさ等は、
経験値によって決定されている。
10の表面と、バルブ11との高さの差が所定値、たとえば
30cm以下になると、それはレベルセンサ23で検出され、
チェンブロック4等が所定量巻上げられ、前記高さの差
が例えば1m近傍になった時に巻上げが停止される。
開口部の設定高さに達するまで継続され、反応塔1内へ
の触媒10の所定量の充填が行われて充填作業が終了され
るものである。
合、この供給管6を順次巻上げるには、高さに対応させ
て継足して行ったディスタンスピース6Bを逆に取外しな
がらバルブ11等を上昇させる。
内筒8によるソック充填、周囲には触媒分配器16による
デンス充填を、その充填状態を調整しながら行うことが
でき、粗・密の理想的な分布状態を作り出すことができ
る。このような分布状態の触媒内を液体は均一に流れる
ようになり、従って触媒10は万遍なく、有効に完全に使
用され得るようになった。
速に反応塔1内に充填でき、作業能率を向上できる。
いため、並列された反応塔における処理流体の差圧等が
発生することがない。
触媒10を充填させることができ、触媒10の性能を低下さ
せることがない。また、触媒分配器16を回転駆動させる
モータ13等は、分配器16の近傍に設けてあるので装置が
コンパクトにまとまった。また、触媒供給管6はディス
タンスピース6Bで継足して構成されているので、バルブ
11を順次上昇させるには随時ディスタンスピース6Bを取
外せば良く、チェンブロック4高さを必要最小限度に押
えることができる。
次に示すような変形例を含むものである。
端部のみ鋼管にして上部はフレキシブルなチューブに
し、この部分をウインチ等で巻上げるようにしても良
い。また、レベルセンサ23、充填制御器3等はこれを簡
略化または省略して、制御を反応塔1外の作業員に委ね
ても良い。
に代えることができる。
行われているが、内筒8への供給つまり、ソック充填用
の供給と、触媒供給管6から分配器16への供給つまり、
デンス充填用の供給とを別系統のものとしても良い。
充填装置によれば、充填された触媒中の液体は均一に流
れるので、充填された触媒を完全に有効に使用すること
ができる。
面断面図、第2図は内筒及び触媒分配器の詳細一部断面
図である。 1……反応塔、4……チェンブロック、6……触媒供給
管、6B……ディスタンスピース、8……内筒、10……触
媒、11……バルブ(供給量調整手段)、13……エアモー
タ、16……触媒分配器、21……ホッパ、23……レベルセ
ンサ。
Claims (4)
- 【請求項1】反応塔内に触媒を充填するにあたり、反応
塔の中心部に充填される触媒の密度を、反応塔の周囲に
充填される触媒の密度に比べて小さくしたことを特徴と
する触媒充填方法。 - 【請求項2】反応塔内に触媒を充填するにあたり、反応
塔中心部への触媒の充填を、反応塔に対し、上下動可能
な触媒供給管により行なうとともに、反応塔周囲への触
媒の充填を、回転自在な触媒分配器の遠心力により行な
うことを特徴とする触媒充填方法。 - 【請求項3】反応塔内部に触媒を充填する触媒充填装置
において、反応塔内部に、反応塔に対し上下動可能に設
けられ塔外のホッパから供給された触媒を反応塔内部に
供給する触媒供給管と、この触媒供給管先端に設けられ
反応塔中心部に向けて供給する触媒の供給量を調整する
供給量調整手段と、触媒の被供給部を有するとともに、
外方に向けて開放部を有する触媒分配器と、を具備した
ことを特徴とする触媒充填装置。 - 【請求項4】請求項3において、触媒分配器の触媒の被
供給部は、前記触媒供給管の内部と連通することを特徴
とする触媒充填装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15433390A JPH07102314B2 (ja) | 1990-06-13 | 1990-06-13 | 触媒充填方法及び触媒充填装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15433390A JPH07102314B2 (ja) | 1990-06-13 | 1990-06-13 | 触媒充填方法及び触媒充填装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0445839A JPH0445839A (ja) | 1992-02-14 |
JPH07102314B2 true JPH07102314B2 (ja) | 1995-11-08 |
Family
ID=15581860
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15433390A Expired - Lifetime JPH07102314B2 (ja) | 1990-06-13 | 1990-06-13 | 触媒充填方法及び触媒充填装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH07102314B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
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-
1990
- 1990-06-13 JP JP15433390A patent/JPH07102314B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
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JPH0445839A (ja) | 1992-02-14 |
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