JPH0695091A - 積層基板製造方法 - Google Patents

積層基板製造方法

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JPH0695091A
JPH0695091A JP4242209A JP24220992A JPH0695091A JP H0695091 A JPH0695091 A JP H0695091A JP 4242209 A JP4242209 A JP 4242209A JP 24220992 A JP24220992 A JP 24220992A JP H0695091 A JPH0695091 A JP H0695091A
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JP
Japan
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adhesive
substrate
masking layer
manufacturing
laminated
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JP4242209A
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Inventor
Hironori Murakami
裕紀 村上
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Fujifilm Business Innovation Corp
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Fuji Xerox Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 高精度かつ導電性接着剤による基板間の導電
接続を確実に得られる積層基板を製造する。 【構成】 第1の基板の所定領域に第1の接着剤(導電
性接着剤)を点付けする工程100と、第1の接着剤を
指触乾燥させた後に第2の接着剤を塗布する工程200
と、第1の基板の接着剤不要部分にマスキング層を形成
するマスキング層設置工程300と、第1の接着剤,第
2の接着剤を覆って第2の基板を貼付する工程400
と、マスキング層を余剰の接着剤と共に除去する工程5
00とを含む。 【効果】 第1の接着剤と第2の接着剤の相溶がなく、
確実な基板間の導電接続を達成できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ガラスあるいはセラミ
ックス基板等の脆性板相互を複数の接着剤を介して接着
して積層基板を形成するための積層基板製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】複写機、やファクシミリ装置におけるイ
メージセンサー、あるいはLCDパネル、ELパネル等
を構成するデバイスは、第1の基板としてのガラス基板
上に形成した光電変換素子を第2の基板としての極薄の
保護用カバーガラス板を接着した積層基板として製造し
ている。
【0003】従来、この種の積層基板は、予め第1の基
板と第2の基板を所定のデバイス形状に切断した後、そ
の外形を基準として位置合わせを行って接着している。
図13は従来技術による積層基板製造方法で製造した積
層基板の構造例を説明する断面図であって、1は第1の
基板、2は第2の基板、3,4は導電体、5は導電性接
着剤(第1の接着剤)、6は第2の接着剤である。
【0004】同図(a)に示したように、予め第1の基
板1と第2の基板2を所定のデバイス形状に切断した
後、その外形を基準として位置合わせを行って複数(一
般的には2種)の接着剤5(第1の接着剤=導電性接着
剤),6(第2の接着剤)を介して接着するものである
ために、一方の接着剤6は例えば印刷により、また他方
の接着剤5は所定のディスペンサを用いて塗布し、両接
着剤が固化する以前に第2の基板を載置して接着してい
る。
【0005】そのため、第1の接着剤5と第2の接着剤
6とが相溶してしまい、それぞれの塗布領域を正確に限
定することができない。このため、第1の接着剤が導電
性である場合には第1の基板1側と第2の基板2側間の
導電接続が不確実となる。この接着剤間の相溶を回避す
るために各接着剤の塗布領域を離間させると、接着後に
当該接着剤間に空隙が形成されてしまい、製品の歩留り
の低下と信頼性の低下をもたらす。
【0006】同図(b)は第1の接着剤5を導電性とし
た場合の上記導電接続性能の劣化を回避するための1手
段の説明図であって、第1の基板1の導電体3と第2の
基板2の導電体4との間の導通を確実にするために、第
2の基板の導体4を第2基板2の裏側に回り込ませて外
部で導電接続するという別途に導通手段を付加する必要
がある。
【0007】なお、このような積層基板に関する従来技
術は、例えば特開昭64−71173号公報に開示され
ている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】従来の技術において
は、上記したように、予め第1の基板と第2の基板を所
定のデバイス形状に切断した後、その外形を基準として
位置合わせを行って複数(一般的には2種)の接着剤を
介して接着するものであるために、 (1)一方の接着剤は例えば印刷により、また他方の接
着剤は所定のディスペンサを用いて塗布するというよう
に、各接着剤に対してその塗布方法を変える必要があ
り、塗布膜厚を均一にすることが困難である。 (2)第1の接着剤と第2の接着剤とが相溶してしま
い、それぞれの塗布領域を正確に限定することができな
い。 (3)上記第1の接着剤と第2の接着剤とが相溶するこ
とにより導電粒子が分散し導通がとれない。また、デバ
イスの信頼性の低下を回避するために各接着剤の塗布領
域を離間させると、接着後に当該接着剤間に空隙が形成
されてしまい、製品の歩留りの低下と、信頼性の低下を
もたらす。 (4)接着剤の塗布領域を正確に規定することが困難で
ある。すなわち、接着剤の塗布デザインの自由度が低
い。 (5)第1の接着剤を導電性とした場合、第1の基板側
と第2の基板側との間の確実な導通を計ることが難し
く、別途に上記導通手段を付加する必要があって、コス
ト高となる。 等の欠点があった。
【0009】本発明の目的は、上記従来技術の欠点を解
消し、少なくとも2種の接着剤を介して第1の基板と第
2の基板を接着して積層基板を製造する際に、上記各接
着剤が相溶せずにそれぞれの機能を保持し、かつ均一な
膜厚の接着剤層を形成して高精度の積層基板を製造する
ことができる積層基板製造方法を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、第1の基板の所定部分に第1の接着剤を
スクリーン印刷等で塗布し、これを半硬化(表面のみ指
触硬化=仮硬化)させた後に第2の接着剤をスクリーン
印刷等で塗布することによって、2種の接着剤の相溶を
防止する。
【0011】また接着剤の塗布時に当該接着剤の付着を
望まない第1の基板部分にマスキング層を形成して、第
2の基板のプレスあるいはローラプレスによる貼付時に
はみ出す余剰の接着剤を上記マスキング層上に保持さ
せ、マスキング層と共に上記余剰の接着剤を除去するよ
うにする。そして、第1の接着剤(導電性接着剤)部分
に加圧あるいは加熱加圧を施すことで第1の基板側と第
2の基板側との導電接続を確実とし、また第1の接着剤
を主として加熱により、第2の接着剤を加熱あるいは紫
外線の照射によりそれぞれ硬化させるようにしたもので
ある。
【0012】すなわち、本発明は、図1に示したよう
に、第1の基板に第2の基板を接着して積層基板を形成
するための積層基板製造方法において、前記第1の基板
の所定部分に第1の接着剤をスクリーン印刷等で塗布す
る第1接着剤塗布工程100と、前記第1の接着剤の表
面が半硬化した状態で前記第1の基板の前記所定部分と
は異なる所定領域に第2の接着剤を塗布する第2接着剤
塗布工程200と、前記第1の基板1の接着不要部分に
接着剤の侵入を阻止するマスキング層を設けるマスキン
グ層設置工程300と、前記第1の接着剤,第2の接着
剤およびマスキング層の上にプレスまたは加圧ローラの
何れかを用いて第2の基板を貼り付ける基板貼付工程4
00と、前記マスキング層を余剰の前記第2の接着剤と
共に除去するマスキング層除去工程500とをこの順序
で含むことを特徴とする。
【0013】また、本発明は、前記の積層基板製造方法
において、前記第1の基板の接着不要部分に接着剤の侵
入を阻止するマスキング層を設けるマスキング層設置工
程300を最初に実行し、その後順次、前記第1の基板
の所定部分に第1の接着剤を塗布する第1接着剤塗布工
程100、前記第1の接着剤の表面が半硬化した状態で
前記第1の基板の前記所定部分とは異なる所定領域に第
2の接着剤を塗布する第2接着剤塗布工程200、前記
第1の接着剤,第2の接着剤およびマスキング層の上に
プレスまたは加圧ローラの何れかを用いて第2の基板を
張り付ける基板張り付け工程400、前記マスキング層
を余剰の前記第2の接着剤と共に除去するマスキング層
除去工程500をこの順序で含むことを特徴とする。
【0014】さらに、本発明は、前記第2の基板を前記
第1の基板に塗布した第1の接着剤と第2の接着剤上に
載置すると共に前記第1の接着剤部分を前記第2の基板
の上から加圧,または加熱と共に加圧する熱圧着の何れ
かを施すことによりの前記第1の基板と第2の基板材と
を接着する工程を含むことを特徴とする。またさらに、
本発明は、前記第2の基板材を前記第1の基板に塗布し
た第1の接着剤と第2の接着剤上に載置すると共に前記
第1の接着剤部分を前記第2の基板の上から加熱し、前
記第2の接着剤部分を加熱あるいは紫外線を照射するこ
とにより硬化させて前記第1の基板と第2の基板とを接
着する工程を含むことを特徴とする。
【0015】
【作用】上記の構成とした本発明によれば、第1の接着
剤は第2の接着剤によって完全に隙間なく囲まれ、かつ
第1と第2の接着剤が相溶することがなく、第1の接着
剤を導電性接着剤とした場合に、第1の基板側と第2の
基板側との間の導電性接続性能を確実とすることができ
る。
【0016】また、第2の基板を貼付する際に、当該第
2の基板を第1の基板に載置した後に一様に押圧するプ
レス、あるいはローラを第2の基板材の一端から他端に
スライドさせることによるローラスライドプレスを施す
ことによって、第1の基板と第2の基板材との間に気泡
が残留することがない。さらに、第1の基板にマスキン
グ層を形成することにより、接着剤の付着を望まないI
/Oパッド部分等を確実に露出させることができる。
【0017】
【実施例】以下、本発明の実施例につき、図面を参照し
て詳細に説明する。図2〜図8は本発明による積層基板
製造方法を完全密着型イメージセンサーの製造に適用し
た1実施例を説明する工程図であって、(a)は断面
図、(b)は上面図である。
【0018】図2〜図8において、1は第1の基板であ
る1.1mm厚×340mm×320mmのイメージセ
ンサーガラス基板、1−1はイメージセンサーガラス基
板1に形成された多数のイメージセンサー、2は第2の
基板である0.05厚×268.0mm×166.5m
mのインジウム・錫オキサイド(ITO)膜を一方の面
に形成した薄板ガラス板、5は第1の接着剤である導電
性のAgエポキシ系接着剤、6は第2の接着剤であるエ
ポキシ系透明接着剤、7はマスキング層であるシリコー
ン離型剤、8はローラ貼付機、9は熱圧着ヘッドであ
る。
【0019】まず、76本のイメージセンサー1−1が
形成されたイメージセンサーガラス基板1の入出力パッ
ド部(I/Oパッド部)に離型剤として信越シリコーン
(株)製「KE1604/CAT1604=100/1
0重量部」を混合後、スクリーン印刷にてI/Oパッド
部分を被覆して塗布し、クリーンオーブンで100°C
×2〜3h加熱硬化することにより厚さ25μmの成膜
を行いマスキング層7を形成する。
【0020】・・・・・図2 次に、第1の接着剤としてAgエポキシ系導電性接着剤
5をスクリーン印刷にて厚さ25μmにスクリーン印刷
等で塗布する。・・・・・図3 そして、上記Agエポキシ系導電性接着剤5を塗布した
第1の基板をオーブンで100°C×25min加熱し
てその表面に触れても粘着しない,所謂指触乾燥の状態
に半硬化させる。
【0021】・・・・・図4 Agエポキシ系接着剤が半硬化した状態で、第2の接着
剤であるエポキシ系透明接着剤6を上記Agエポキシ系
接着剤5の印刷部分を除いてスクリーン印刷により塗布
する。・・・・・図5 この上に、ITO付きの薄板ガラス板2をローラ貼付機
8を用いて貼付する。この薄板ガラス板2の貼付はイメ
ージセンサー1−1の配列方向から図示矢印で示したよ
うに個々のイメージセンサーの長手方向と直交する方向
にローラをスライドさせることにより接着剤に内包され
る気泡を追い出しながら貼付する。余剰の接着剤はマス
キング層7上に追い出される。
【0022】・・・・・図6 貼付された薄板ガラス板2の上から熱圧着ヘッド9でA
gエポキシ系接着剤部分を熱圧着する。・・・・・図7 その後、マスキング層7の剥離と共に余剰の接着剤を除
去し、クリーンオーブンにて100°C×3h加熱して
エポキシ系透明接着剤6とAgエポキシ系接着剤5を完
全に硬化させる。
【0023】・・・・・図8 以上の工程(図2〜図8)を経て多数のイメージセンサ
ーを共通基板に形成した積層基板が得られる。この積層
基板を、その個々のイメージセンサー毎に割断すること
により、所要のイメージセンサーとしてのデバイスを製
作する。
【0024】ところで、上記の工程(図4)におけるA
gエポキシ系接着剤の半硬化温度の100°Cは、図9
に示したDSC曲線(示差走査曲線)から明らかなよう
に、エポキシバインダーの線型結合が起こる温度であ
る。しがって、指触乾燥するが、3次元架橋して完全に
硬化するに至らない温度である。なお、同図において、
横軸は温度(°C)を、縦軸は熱流速度差(発吸熱速
度)を示す。
【0025】また、図10はAgエポキシ導電接着剤の
各種仮硬化条件、熱圧着条件における接続抵抗測定値を
示す。同図からも明らかなように、広い仮硬化,熱圧着
条件において安定して低抵抗の導通接続が得られる。図
11は前記工程(図6)のローラ貼付機による薄板ガラ
スの貼付作業を説明する模式図であって、図2〜図8と
同一符号は同一部分に対応し、80はローラ貼付機の真
空吸着ステージ、81は基板の位置決め用の付き当てブ
ロック、82は薄板ガラス板2(カバーガラス)をセン
サーガラス基板1にクランプするクランプブロック、8
3は押圧ローラ、84は押圧ローラに圧力を印加する加
圧スプリング、85はカバーガラスを敷き込むカバーガ
ラス可動ステージである。
【0026】同図において、Agエポキシ系接着剤5と
エポキシ系透明接着剤6およびマスキング層7を形成し
た第1のガラス基板1を真空吸着ステージ80に載置
し、突き当てブロック81に1縁を突き当てて真空吸着
で固定する。次に、カバーガラス2をカバーガラス可動
ステージ85に載置して供給し、1端を突き当てブロッ
ク81に突き当てて位置を決め、クランプブロック82
を下降させてカバーガラス2の1端を固定する。
【0027】この状態で押圧ローラ83をカバーガラス
2上に下降させ、加圧スプリング84で所定の圧力を印
加しながら矢印方向に回転させてスライド移動させる。
このとき、カバーガラス可動ステージ85は押圧ローラ
83と共に移動する。このため、カバーガラス2と第1
のガラス基板1との間にある余剰の接着剤は押圧ローラ
83の移動で最終的にマスキング層7上に押し出され
る。
【0028】この作業により、カバーガラス2と第1の
ガラス基板1が接着され、またカバーガラス2側と第1
のガラス基板1側とはAgエポキシ系接着剤5で導電接
続される。その後は、前記した工程(図7)以下の作業
で所望のイメージセンサーを形成した積層基板が製造さ
れる。
【0029】なお、上記の実施例では、イメージセンサ
ーアレイを2つの領域に分けて第2の基板であるカバー
ガラスを上記実施例で説明した方法で貼付してなる。こ
のイメージセンサは、イメージセンサーガラス1上に形
成したセンサーパターンとカバーガラス2に形成したI
TO透明導電膜4とをAgエポキシ接着剤5で接続して
いる。
【0030】図12は本発明による積層基板製造方法を
イメージセンサーの製造に適用した他の実施例を説明す
る工程図であって、前記図2〜図8と同一符号は同一部
分に対応する。まず、第1の接着剤としてAgエポキシ
系導電性接着剤5をスクリーン印刷にて厚さ25μmに
スクリーン印刷等で塗布する。
【0031】・・・・・(a) そして、上記Agエポキシ系導電性接着剤5を塗布した
第1の基板をオーブンで100°C×25min加熱し
てその表面に触れても粘着しない,所謂指触乾燥の状態
に半硬化させる。・・・・・(b) Agエポキシ系接着剤が半硬化した状態で、第2の接着
剤であるエポキシ系透明接着剤6を上記Agエポキシ系
接着剤の点付部分を除いてスクリーン印刷により塗布す
る。
【0032】・・・・・(c) イメージセンサーガラス基板1のI/Oパッド部にマス
キングテープ7を貼付する。・・・・・(d) この上に、ITO付きの薄板ガラス板2をローラ貼付機
8を用いて貼付する。薄板ガラス2の貼付はイメージセ
ンサー1−1の配列方向から図示矢印で示したように個
々のイメージセンサーの長手方向と直交する方向にロー
ラを前記実施例と同様にスライドさせることにより接着
剤に内包される気泡を追い出しながら貼付する。余剰の
接着剤はマスキングテープ7上に追い出される。なお、
同図(e)は他の(a)(b)(c)(d)(f)
(g)に対してイメージセンサーガラス基板1を同一平
面で90°回転させて示してある。
【0033】・・・・・(e) 貼付された薄板ガラス板2の上から熱圧着ヘッド9でA
gエポキシ系接着剤部分を熱圧着しする。・・・・・
(f) その後、マスキングテープ7の剥離と共に余剰の接着剤
を除去し、クリーンオーブンにて100°C×3h加熱
してエポキシ系透明接着剤6とAgエポキシ系接着剤5
を完全に硬化させる。
【0034】・・・・・(g) 以上の工程(a)〜(g)を経て多数のイメージセンサ
ーを共通基板に形成した積層基板が得られる。この積層
基板を、その個々のイメージセンサー毎に割断すること
により、所要のイメージセンサーとしてのデバイスを製
作する。
【0035】以上の実施例は、完全密着型イメージセン
サーを例として説明したが、この外にLCDパネル、E
Lパネル、その他の積層基板の製造に応用できるもので
ある。なお、上記実施例ではマスキング層を離型剤やマ
スキングテープで形成したが、これに替えて粘着テープ
を張り付けてマスキング層とする方法、あるいは感光性
レジストを成膜してクラック形成後に溶剤で溶解除去し
た後カバーガラスを剥離する方法を採用することもでき
る。
【0036】また、上記実施例では第1の接着剤として
Agエポキシ系接着剤を用いたが、これに替えて所謂異
方性導電フィルムや異方性導電接着剤、あるいはカーボ
ンペースト等の導電部材を使用することができるもので
ある。また、第2の接着剤もエポキシ系透明接着剤に限
らない。
【0037】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
第1の接着剤が第2の接着剤に隙間なく完全に囲まれた
状態で、かつ両接着剤が相溶することもなく第1の基板
と第2の基板を安定な導電接続を確保して接着すること
ができ、信頼性の高い積層基板を製造することができ
る。
【0038】また、接着剤のはみだしでI/Oパッド部
分を汚染させることもないため、従来のようにはみだし
た接着剤を除去する後処理が不要であり、製造工程が簡
略されて低コストで高品質の積層基板を得ることができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明による積層基板製造方法を説明する概
略工程図である。
【図2】 本発明による積層基板製造方法を完全密着型
イメージセンサーの製造に適用した1実施例を説明する
部分工程の説明図である。
【図3】 本発明による積層基板製造方法を完全密着型
イメージセンサーの製造に適用した1実施例を説明する
部分工程の説明図である。
【図4】 本発明による積層基板製造方法を完全密着型
イメージセンサーの製造に適用した1実施例を説明する
部分工程の説明図である。
【図5】 本発明による積層基板製造方法を完全密着型
イメージセンサーの製造に適用した1実施例を説明する
部分工程の説明図である。
【図6】 本発明による積層基板製造方法を完全密着型
イメージセンサーの製造に適用した1実施例を説明する
部分工程の説明図である。
【図7】 本発明による積層基板製造方法を完全密着型
イメージセンサーの製造に適用した1実施例を説明する
部分工程の説明図である。
【図8】 本発明による積層基板製造方法を完全密着型
イメージセンサーの製造に適用した1実施例を説明する
部分工程の説明図である。
【図9】 エポキシ系接着剤の半硬化温度を説明するD
SC曲線である。
【図10】 Agエポキシ系接着剤によるサンプルの接
続抵抗の測定結果を示す説明図である。
【図11】 本発明の実施例におけるローラ貼付機によ
る薄板ガラスの貼付作業を説明する模式図である。
【図12】 本発明による積層基板製造方法をイメージ
センサの製造に適用した他の実施例を説明する工程図で
ある。
【図13】 従来技術による積層基板製造方法で製造し
た積層基板の構造例を説明する断面図である。
【符号の説明】
1・・・・第1の基板であるイメージセンサーガラス基
板、1−1・・・・イメージセンサー、2・・・・第2
の基板である薄板ガラス板、5・・・・第1の接着剤、
6・・・・第2の接着剤、7・・・・マスキング層、8
・・・・ローラ貼付機、9・・・・熱圧着ヘッド。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 23/12 23/14 H05K 1/03 L 7011−4E

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1の基板に第2の基板を接着して積層
    基板を形成するための積層基板製造方法において、 前記第1の基板の所定部分に第1の接着剤を塗布する第
    1接着剤塗布工程と、 前記第1の接着剤の表面が半硬化した状態で前記第1の
    基板の前記所定部分とは異なる所定領域に第2の接着剤
    を塗布する第2接着剤塗布工程と、 前記第1の基板の接着不要部分に接着剤の侵入を阻止す
    るマスキング層を設けるマスキング層設置工程と、 前記第1の接着剤,第2の接着剤およびマスキング層の
    上にプレスまたは加圧ローラの何れかを用いて第2の基
    板を貼り付ける基板貼付工程と、 前記マスキング層を余剰の前記第2の接着剤と共に除去
    するマスキング層除去工程と、をこの順序で含むことを
    特徴とする積層基板製造方法。
  2. 【請求項2】 第1の基板に第2の基板を接着して積層
    基板を形成するための積層基板製造方法において、 前記第1の基板の接着不要部分に接着剤の侵入を阻止す
    るマスキング層を設けるマスキング層設置工程と、 前記第1の基板の所定部分に第1の接着剤を塗布する第
    1接着剤塗布工程と、 前記第1の接着剤の表面が半硬化した状態で前記第1の
    基板の前記所定部分とは異なる所定領域に第2の接着剤
    を塗布する第2接着剤塗布工程と、 前記第1の接着剤,第2の接着剤およびマスキング層の
    上にプレスまたは加圧ローラの何れかを用いて第2の基
    板を貼り付ける基板貼付工程と、 前記マスキング層を余剰の前記第2の接着剤と共に除去
    するマスキング層除去工程と、をこの順序で含むことを
    特徴とする積層基板製造方法。
  3. 【請求項3】 請求項1または2において、前記第2の
    基板を前記第1の基板に塗布した第1の接着剤と第2の
    接着剤上に載置すると共に前記第1の接着剤部分を前記
    第2の基板の上から加圧,または加熱と共に加圧する熱
    圧着の何れかを施すことによりの前記第1の基板と第2
    の基板とを接着する工程を含むことを特徴とする積層基
    板製造方法。
  4. 【請求項4】 請求項3の工程において、さらに前記第
    1と第2の基板間の接着剤を加熱し、あるいは紫外線を
    照射することにより硬化させて前記第1の基板と第2の
    基板とを接着する工程を含むことを特徴とする積層基板
    製造方法。
JP4242209A 1992-09-10 1992-09-10 積層基板製造方法 Pending JPH0695091A (ja)

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JP4242209A Pending JPH0695091A (ja) 1992-09-10 1992-09-10 積層基板製造方法

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20130125865A (ko) * 2012-05-10 2013-11-20 주식회사 엘지화학 유리기판의 평탄면 형성장치

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