JPH0694908A - Production of color filter - Google Patents

Production of color filter

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Publication number
JPH0694908A
JPH0694908A JP24378292A JP24378292A JPH0694908A JP H0694908 A JPH0694908 A JP H0694908A JP 24378292 A JP24378292 A JP 24378292A JP 24378292 A JP24378292 A JP 24378292A JP H0694908 A JPH0694908 A JP H0694908A
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JP
Japan
Prior art keywords
substrate
pattern
electrodeposition
black matrix
electrodeposited
Prior art date
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Application number
JP24378292A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigeki Hatori
茂喜 羽鳥
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
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Priority to JP24378292A priority Critical patent/JPH0694908A/en
Publication of JPH0694908A publication Critical patent/JPH0694908A/en
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Abstract

PURPOSE:To produce a high-precision color filter at a low cost and with high throughput by transferring a substance electrodeposited on the conductive surface of a substrate to a coating layer to obtain a corrosion-resistant material. CONSTITUTION:A coloring material in which a red pigment is dispersed is applied on a black-matrix substrate 12 having a black matrix 14 on a transparent substrate 13, heat-treated and cured to form a coating layer 7R contg. the red pigment. An adhesive or tacky coating film 9 is then formed on the coating layer 7R, a substrate 2 coated with an electrodeposition substance 6 for a red pattern is brought into contact with the coating film 9 to transfer the substance 6 to a specified position on the coating film 9. The coating film 9 and coating layer 7R are etched off with the substance 6 transferred on the coating film 9 as a corrosion-resistant material, and the substance 6 is then released to form a red pattern 16R. Similarly, a green pattern and a blue pattern are formed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はカラーフィルタの製造方
法に係り、特に液晶ディスプレイ等に用いられるカラー
フィルタの製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a color filter, and more particularly to a method for manufacturing a color filter used in a liquid crystal display or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、フラットディスプレイとして、モ
ノクロあるいはカラーの液晶ディスプレイ(LCD)が
注目されている。カラーの液晶ディスプレイには、3原
色の制御を行うためにアクティブマトリックス方式およ
び単純マトリックス方式とがあり、いずれの方式におい
てもカラーフィルタが用いられている。そして、液晶デ
ィスプレイは、構成画素部を3原色(R,G,B)と
し、液晶の電気的スイッチングにより3原色の各光の透
過を制御してカラー表示が行われる。
2. Description of the Related Art In recent years, a monochrome or color liquid crystal display (LCD) has attracted attention as a flat display. Color liquid crystal displays include an active matrix system and a simple matrix system for controlling three primary colors, and a color filter is used in each system. In the liquid crystal display, the constituent pixel portions are set to the three primary colors (R, G, B), and transmission of each light of the three primary colors is controlled by electrical switching of the liquid crystal to perform color display.

【0003】このカラーフィルタは、透明基板上にR,
G,Bの各着色パターンからなる着色層と、各画素の境
界部分に位置するブラックマトリックスと、保護層およ
び透明電極層とを備えている。
This color filter has R,
The colored layer of each of G and B is provided, the black matrix located at the boundary of each pixel, the protective layer, and the transparent electrode layer.

【0004】従来、カラーフィルタの製造方法として
は、染色基材を塗布し、フォトマスクを介して露光・現
像して形成したパターンを染色する染色法、感光性レジ
スト内に予め着色顔料を分散させておき、フォトマスク
を介して露光・現像する顔料分散法、あるいは印刷イン
キで各色を印刷する印刷法、基板上の導電膜をフォトマ
スクを介して露光してパターニングし、電気泳動的に着
色層を形成する電着法等が挙げられる。そして、液晶カ
ラーテレビやコンピュータ用液晶表示体のように大衆性
が求められる製品では、品質と共にその価格の低廉化が
最も大きな問題であり、このため製造コストの低減が望
まれている。
Conventionally, as a method of manufacturing a color filter, a dyeing method is applied in which a dyeing base material is applied and a pattern formed by exposing and developing through a photomask is dyed, and a color pigment is dispersed in advance in a photosensitive resist. In addition, a pigment dispersion method of exposing and developing through a photomask, a printing method of printing each color with a printing ink, a conductive film on a substrate is exposed through a photomask and patterned, and an electrophoretic coloring layer is formed. And the like. In products such as liquid crystal color televisions and liquid crystal displays for computers, which are required to be popular, quality and cost reduction are the most important problems, and therefore reduction in manufacturing cost is desired.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
カラーフィルタの製造方法では、印刷法を除いていずれ
もフォトプロセスが繰り返し用いられるため、大面積の
カラーフィルタを製造する場合には大型露光装置が多数
必要となり、製造コストが高く、またスループット(処
理速度)が低いという問題があった。また、印刷法は工
程が簡略であることから製造コスト低減が期待されてい
たが、品質が劣り薄膜トランジスタ(TFT)型液晶デ
ィスプレイには用いることができず、また製造時の良品
歩留まりが低く、期待されたほどの製造コスト低減が得
られなかった。
However, in the color filter manufacturing method described above, the photoprocess is repeatedly used except for the printing method, and therefore, when manufacturing a large area color filter, a large exposure apparatus is required. There are problems that a large number are required, the manufacturing cost is high, and the throughput (processing speed) is low. Further, the printing method has been expected to reduce the manufacturing cost because the process is simple, but it cannot be used for a thin film transistor (TFT) type liquid crystal display due to its poor quality, and the yield of non-defective products at the time of manufacturing is low. The reduction in manufacturing cost was not obtained.

【0006】本発明は、上記のような事情に鑑みてなさ
れたものであり、液晶ディスプレイ等のフラットディス
プレイ、CCD等のイメージャー、あるいはカラーセン
サ等に用いる高精度のカラーフィルタを低い製造コスト
で、かつ高いスループットで製造することのできるカラ
ーフィルタの製造方法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a highly accurate color filter used for a flat display such as a liquid crystal display, an imager such as a CCD, or a color sensor at a low manufacturing cost. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a color filter that can be manufactured with high throughput.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明は透明基板の表面にブラックマトリッ
クスを備えたブラックマトリックス基板上に顔料を分散
させた着色材料を塗布して塗布層を形成し、少なくとも
表面が導電性を有する基板表面に電気絶縁性材料により
所望の着色パターンのマスターパターンを形成してなる
電着基板の導電性表面に析出させた電着物質を前記塗布
層に転写して耐蝕材とし、前記塗布層のうち該耐蝕材が
設けられいない部分を除去して所望の着色パターンを形
成し、この操作を繰り返して所定の色数からなる着色層
を形成するような構成とした。
In order to achieve such an object, the present invention provides a coating layer in which a coloring material in which a pigment is dispersed is applied on a black matrix substrate having a black matrix on the surface of a transparent substrate. And at least the surface of the electrodeposited substance deposited on the conductive surface of the electrodeposited substrate formed by forming a master pattern of a desired colored pattern with an electrically insulating material on the surface of the substrate having electrical conductivity in the coating layer. A transfer is performed as a corrosion resistant material, a portion of the coating layer where the corrosion resistant material is not provided is removed to form a desired colored pattern, and this operation is repeated to form a colored layer having a predetermined number of colors. It was configured.

【0008】また、本発明は透明基板の表面にブラック
マトリックスを備えたブラックマトリックス基板上に染
色基材を塗布して塗布層を形成し、少なくとも表面が導
電性を有する基板表面に電気絶縁性材料により所望の着
色パターンのマスターパターンを形成してなる電着基板
の導電性表面に析出させた電着物質を前記塗布層に転写
して耐蝕材とし、前記塗布層のうち該耐蝕材が設けられ
ていない部分を除去した後、残存する前記塗布層を染色
して所望の着色パターンを形成し、この操作を繰り返し
て所定の色数からなる着色層を形成するような構成とし
た。
In the present invention, a dyeing base material is coated on a black matrix substrate having a black matrix on the surface of a transparent substrate to form a coating layer, and at least the surface of the substrate is electrically conductive on the surface of the substrate. The electrodeposited substance deposited on the conductive surface of the electrodeposited substrate on which a master pattern of a desired coloring pattern is formed is transferred to the coating layer as a corrosion resistant material, and the corrosion resistant material is provided in the coating layer. After removing the unpainted portion, the remaining coating layer was dyed to form a desired coloring pattern, and this operation was repeated to form a coloring layer having a predetermined number of colors.

【0009】また、本発明は少なくとも表面が導電性を
有する基板表面に電気絶縁性材料により所望の着色パタ
ーンのマスターパターンを形成してなる電着基板の導電
性表面に顔料を分散させた電着物質を析出させ、透明基
板の表面にブラックマトリックスを備えたブラックマト
リックス基板上に前記析出電着物質を転写して所望の着
色パターンを形成し、この操作を繰り返して所定の色数
からなる着色層を形成するような構成とした。
Further, the present invention is an electrodeposition in which a pigment is dispersed on the conductive surface of an electrodeposition substrate in which a master pattern having a desired coloring pattern is formed of an electrically insulating material on the surface of a substrate having at least a surface of conductivity. A substance is deposited, the deposited electrodeposition substance is transferred onto a black matrix substrate having a black matrix on the surface of a transparent substrate to form a desired colored pattern, and this operation is repeated to form a colored layer having a predetermined number of colors. Is formed.

【0010】さらに、本発明は少なくとも表面が導電性
を有する基板表面に電気絶縁性材料により所望の着色パ
ターンのマスターパターンを形成してなる電着基板の導
電性表面に染色基材を含有させた電着物質を析出させ、
透明基板の表面にブラックマトリックスを備えたブラッ
クマトリックス基板上に前記析出電着物質を転写し染色
して所望の着色パターンを形成し、この操作を繰り返し
て所定の色数からなる着色層を形成するような構成とし
た。
Further, according to the present invention, a dyed base material is contained in the conductive surface of an electrodeposited substrate having a master pattern of a desired colored pattern formed of an electrically insulating material on at least the surface of the substrate having conductivity. Deposit the electrodeposited material,
The deposited electrodeposition material is transferred and dyed on a black matrix substrate having a black matrix on the surface of a transparent substrate to form a desired colored pattern, and this operation is repeated to form a colored layer having a predetermined number of colors. It was configured like this.

【0011】また、少なくとも表面が導電性を有する基
板表面に電気絶縁性材料により所望の着色パターンのマ
スターパターンを形成してなる電着基板の導電性表面に
染色基材を含有させた電着物質を析出させ染色した後、
透明基板の表面にブラックマトリックスを備えたブラッ
クマトリックス基板上に前記析出電着物質を転写して所
望の着色パターンを形成し、この操作を繰り返して所定
の色数からなる着色層を形成するような構成とした。
Further, an electrodeposition material in which a dyeing base material is contained on the conductive surface of an electrodeposition substrate in which a master pattern having a desired coloring pattern is formed of an electrically insulating material on the surface of a substrate having at least surface conductivity. After depositing and staining,
The above-mentioned deposition electrodeposition material is transferred onto a black matrix substrate having a black matrix on the surface of a transparent substrate to form a desired colored pattern, and this operation is repeated to form a colored layer having a predetermined number of colors. It was configured.

【0012】[0012]

【作用】電着基板に析出された電着物質は、着色材料ま
たは染色基材からなる塗布層上に転写され、この転写さ
れた電着物質を耐蝕材として塗布層が除去されて着色パ
ターンが形成され、あるいは電着基板に析出された顔料
または染色基材を含有する電着物質がブラックマトリッ
クス基板上に転写されて着色パターンが形成され、これ
により、電着基板形成時を除いてフォトプロセスが不要
となる。
The function of the electrodeposition material deposited on the electrodeposition substrate is transferred onto the coating layer made of a coloring material or a dyeing base material, and the transferred electrodeposition material is used as a corrosion-resistant material to remove the coating layer to form a colored pattern. The electrodeposition material containing the pigment or dyeing base material that has been formed or deposited on the electrodeposition substrate is transferred onto the black matrix substrate to form a colored pattern, whereby the photoprocess is performed except when the electrodeposition substrate is formed. Is unnecessary.

【0013】[0013]

【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図1は、本発明により製造されたカラーフ
ィルタを用いたアクティブマトリックス方式による液晶
ディスプレイ(LCD)の一例を示す斜視図であり、図
2は同じく概略断面図である。図1および図2におい
て、LCD1はカラーフィルタ10と透明ガラス基板2
0とをシール部材30を介して対向させ、その間に捩れ
ネマティック(TN)液晶からなる厚さ約5〜10μm
程度の液晶層40を形成し、さらにカラーフィルタ10
と透明ガラス基板20の外側に偏光板50,51が配設
され構成されている。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view showing an example of an active matrix type liquid crystal display (LCD) using a color filter manufactured according to the present invention, and FIG. 2 is a schematic sectional view of the same. 1 and 2, the LCD 1 includes a color filter 10 and a transparent glass substrate 2.
0 is made to face each other via a seal member 30, and a twisted nematic (TN) liquid crystal has a thickness of about 5 to 10 μm therebetween.
The liquid crystal layer 40 is formed to a certain degree, and the color filter 10
The polarizing plates 50 and 51 are arranged outside the transparent glass substrate 20.

【0014】図3はカラーフィルタ10の拡大部分断面
図であり、カラーフィルタ10は透明基板13上に黒色
レリーフ(ブラックマトリックス)14を形成したブラ
ックマトリックス基板12と、このブラックマトリック
ス基板12上のブラックマトリックス14間に形成され
た着色層16と、ブラックマトリックス14と着色層1
6を覆うように設けられた保護層18および透明共通電
極19とを備えている。このカラーフィルタ10は、透
明共通電極19が液晶層40側に位置するように配設さ
れている。そして、着色層16は赤色パターン16R、
緑色パターン16Gおよび青色パターン16Bからな
り、各着色パターンの配列は図1に示されるようにモザ
イク配列となっている。尚、着色パターンの配列はこれ
に限定されるものではなく、三角配列、ストライプ配列
等としてもよい。
FIG. 3 is an enlarged partial cross-sectional view of the color filter 10. The color filter 10 includes a black matrix substrate 12 in which a black relief (black matrix) 14 is formed on a transparent substrate 13, and a black on the black matrix substrate 12. Coloring layer 16 formed between matrices 14, black matrix 14 and coloring layer 1
6 is provided with a protective layer 18 and a transparent common electrode 19. The color filter 10 is arranged such that the transparent common electrode 19 is located on the liquid crystal layer 40 side. The colored layer 16 is a red pattern 16R,
It is composed of green patterns 16G and blue patterns 16B, and the arrangement of each colored pattern is a mosaic arrangement as shown in FIG. The arrangement of the coloring pattern is not limited to this, and may be a triangular arrangement, a stripe arrangement, or the like.

【0015】また、透明ガラス基板20上には表示電極
22が各着色パターン16R,16G,16Bに対応す
るように設けられ、各表示電極22は薄膜トランジスタ
(TFT)24を有している。また、各表示電極22間
にはブラックマトリックス14に対応するように走査線
(ゲート電極母線)26aとデータ線26bが配設され
ている。
Display electrodes 22 are provided on the transparent glass substrate 20 so as to correspond to the colored patterns 16R, 16G, 16B, and each display electrode 22 has a thin film transistor (TFT) 24. Further, a scanning line (gate electrode busbar) 26a and a data line 26b are arranged between the respective display electrodes 22 so as to correspond to the black matrix 14.

【0016】このようなLCD1では、各着色パターン
16R,16G,16Bが画素をなし、偏光板51側か
ら照明光を照射した状態で各画素に対応する表示電極を
ON、OFFさせることで液晶層40がシャッタとして
作動し、各着色パターン16R,16G,16Bのそれ
ぞれの画素を照射光が透過してカラー表示が行われる。
In such an LCD 1, each of the colored patterns 16R, 16G and 16B forms a pixel, and the display electrode corresponding to each pixel is turned on and off in a state where illumination light is irradiated from the polarizing plate 51 side, thereby turning on and off the liquid crystal layer. 40 operates as a shutter, and irradiation light is transmitted through each pixel of each of the colored patterns 16R, 16G, and 16B to perform color display.

【0017】カラーフィルタ10の透明基板13として
は、石英ガラス、低膨脹ガラス、ソーダライムガラス等
の可撓性のないリジット材、あるいは透明樹脂フィル
ム、光学用樹脂板等の可撓性を有するフレキシブル材を
用いることができる。この中で特にコーニング社製70
59ガラスは、熱膨脹率の小さい素材であり、寸法安定
性および高温加熱処理における作業性に優れ、また、ガ
ラス中にアルカリ成分を含まない無アルカリガラスであ
るため、アクティブマトリックス方式によるLCD用の
カラーフィルタに適している。
As the transparent substrate 13 of the color filter 10, a rigid material such as quartz glass, low expansion glass, soda lime glass, or the like, or a flexible material such as a transparent resin film or an optical resin plate is used. Materials can be used. Among them, 70 made by Corning
59 glass is a material with a small coefficient of thermal expansion, has excellent dimensional stability and workability in high-temperature heat treatment, and is a non-alkali glass that does not contain alkali components in the glass, so it is a color for LCDs using the active matrix method Suitable for filters.

【0018】次に、本発明によるカラーフィルタの製造
について図4〜図10を参照して説明する。まず、本発
明によるカラーフィルタの製造において用いる電着基板
の製造について図4を参照して説明する。電着基板2の
製造では、少なくとも表面が導電性を有する基板3上に
電気絶縁性を有するフォトレジストを塗布してレジスト
層4を形成する(図4(A))。次に、所望の着色パタ
ーン、例えば赤色パターンに対応したフォトマスク5R
を介してレジスト層4を露光する(図4(B))。その
後、現像・乾燥して赤色パターンのマスターパターン4
Rを形成して電着基板2が得られる(図4(C))。
尚、必要に応じてマスターパターン4Rに加熱処理を施
し、耐刷性をより高いものとしてもよい。そして、他の
着色パターン(緑色パターン4Gおよび青色パターン4
B(図示せず))についても、同様に電着基板を製造す
る。
Next, the manufacture of the color filter according to the present invention will be described with reference to FIGS. First, the production of the electrodeposition substrate used in the production of the color filter according to the present invention will be described with reference to FIG. In the production of the electrodeposition substrate 2, at least the surface of the substrate 3 having conductivity is coated with an electrically insulating photoresist to form a resist layer 4 (FIG. 4A). Next, a photomask 5R corresponding to a desired colored pattern, for example, a red pattern
The resist layer 4 is exposed through (FIG. 4 (B)). After that, it is developed and dried, and the red master pattern 4
By forming R, the electrodeposited substrate 2 is obtained (FIG. 4 (C)).
If necessary, the master pattern 4R may be subjected to a heat treatment so as to have higher printing durability. Then, other colored patterns (green pattern 4G and blue pattern 4
For B (not shown)), the electrodeposited substrate is similarly manufactured.

【0019】電着基板2に用いる基板3としては、金属
板等の導電性基板を用いてもよく、あるいは非導電性基
板の表面に酸化スズ、酸化インジウムスズ(ITO)、
カーボン等の導電性材料からなる層を形成したものであ
ってもよい。また、基板3の導電性面は、後述する電着
物質の付着と透明基板上への転写を可能とするために、
ある程度鏡面であり電着物質に対する接着力が弱いこと
が好ましい。このため、基板3の導電性面の材質がステ
ンレス、銅等の金属の場合には、基板3の導電性面上に
更にニッケルメッキやクロムメッキを施すことが好まし
い。
As the substrate 3 used for the electrodeposition substrate 2, a conductive substrate such as a metal plate may be used, or tin oxide, indium tin oxide (ITO),
It may have a layer formed of a conductive material such as carbon. In addition, the conductive surface of the substrate 3 enables adhesion of an electrodeposition material described later and transfer onto a transparent substrate,
It is preferable that the film has a mirror surface to some extent and has a weak adhesive force to the electrodeposition material. Therefore, when the material of the conductive surface of the substrate 3 is a metal such as stainless steel or copper, it is preferable that the conductive surface of the substrate 3 is further plated with nickel or chromium.

【0020】また、上述の例では電気絶縁性を有するフ
ォトレジストを用いてマスターパターン4R(4G,4
B)を形成しているが、電気絶縁性材料であるSi
x 、SiO2 等の無機材料からなる絶縁膜あるいはT
i、Ta等を陽極酸化して電気絶縁性を付与した膜を基
板3上に形成し、所望の着色パターンに対応したパター
ニングを行ってマスターパターン4R(4G,4B)を
形成してもよい。
Further, in the above example, the master pattern 4R (4G, 4G) is formed by using the photoresist having the electric insulation property.
B) is formed, but is an electrically insulating material Si
An insulating film made of an inorganic material such as N x or SiO 2 or T
Alternatively, the master pattern 4R (4G, 4B) may be formed by forming a film on the substrate 3 by anodizing i, Ta or the like to provide electrical insulation and performing patterning corresponding to a desired coloring pattern.

【0021】このような電着基板2に電着物質を電着す
るには、電着成分を含有する電着浴中に対向電極ととも
に電着基板2を浸漬し、電着基板を一方の電極として通
電して電着基板のマスターパターン形成部以外の導電性
面に電着物質6を析出させる(図4(D))。また、必
要に応じて電着が完了した電着基板を洗浄・乾燥させ
る。
In order to electrodeposit an electrodeposition material on such an electrodeposition substrate 2, the electrodeposition substrate 2 is immersed together with the counter electrode in an electrodeposition bath containing an electrodeposition component, and the electrodeposition substrate is used as one electrode. As a result, the electrodeposited substance 6 is deposited on the conductive surface of the electrodeposited substrate other than the master pattern forming portion (FIG. 4 (D)). Further, if necessary, the electrodeposited substrate on which electrodeposition has been completed is washed and dried.

【0022】次に、上述のような電着基板を用いた本発
明のカラーフィルタの製造の第1の態様を図5および図
6を参照して説明する。まず、透明基板13上にブラッ
クマトリックス14を形成したブラックマトリックス基
板12に赤色顔料を分散させた着色材料を厚さ0.5〜
2.0μm程度となるように塗布し、熱処理(100〜
200℃、10〜30分間程度)を行い硬化させて赤色
顔料を含有した塗布層7Rを形成する(図5(A))。
次に、この塗布層7R上に接着性または粘着性の被膜9
を形成し(図5(B))、上述のように電着物質6を電
着した電着基板2(赤色パターン用の電着基板)を被膜
9に接触させ(図5(C))、電着物質6を被膜9上の
所定位置(ブラックマトリックス14間の赤色パターン
16Rが形成される位置)に転写する(図5(D))。
そして、被膜9上に転写された電着物質6を耐蝕材とし
て被膜9および塗布層7Rをエッチングにより除去し
(図5(E))、さらに耐蝕材としての電着物質6を剥
離除去して赤色パターン16Rを形成する(図5
(F))。
Next, a first mode of manufacturing the color filter of the present invention using the above electrodeposited substrate will be described with reference to FIGS. First, a coloring material in which a red pigment is dispersed is applied to the black matrix substrate 12 in which the black matrix 14 is formed on the transparent substrate 13 to a thickness of 0.5 to
It is applied so as to have a thickness of about 2.0 μm and heat treated (100 to
The coating layer 7R containing a red pigment is formed by curing at 200 ° C. for about 10 to 30 minutes (FIG. 5A).
Next, an adhesive or tacky coating 9 is formed on the coating layer 7R.
Is formed (FIG. 5 (B)), and the electrodeposition substrate 2 (electrodeposition substrate for red pattern) on which the electrodeposition material 6 is electrodeposited as described above is brought into contact with the coating film 9 (FIG. 5 (C)), The electrodeposited substance 6 is transferred to a predetermined position on the coating film 9 (a position where the red pattern 16R between the black matrices 14 is formed) (FIG. 5D).
Then, the coating 9 and the coating layer 7R are removed by etching using the electrodeposition material 6 transferred onto the coating 9 as a corrosion resistant material (FIG. 5 (E)), and the electrodeposition material 6 as a corrosion resistant material is peeled and removed. The red pattern 16R is formed (see FIG. 5).
(F)).

【0023】次に、赤色パターン16Rが形成されたブ
ラックマトリックス基板12に緑色顔料を分散させた着
色材料を塗布して緑色顔料を含有した塗布層7Gを形成
し、緑色パターン用の電着基板を用いて電着物質6を被
膜9上の所定位置(ブラックマトリックス14間の緑色
パターン16Gが形成される位置)に転写する(図6
(A))。そして、被膜9上に転写された電着物質6を
耐蝕材として被膜9および塗布層7Gをエッチングによ
り除去し、さらに耐蝕材としての電着物質6を剥離除去
して緑色パターン16Gを形成する(図6(B))。
Next, a coloring material in which a green pigment is dispersed is applied to the black matrix substrate 12 having the red pattern 16R formed thereon to form a coating layer 7G containing the green pigment, and an electrodeposition substrate for the green pattern is formed. The electrodeposited material 6 is transferred to a predetermined position on the coating film 9 (a position where the green pattern 16G between the black matrices 14 is formed) by using (FIG. 6).
(A)). Then, the coating 9 and the coating layer 7G are removed by etching using the electrodeposition material 6 transferred onto the coating film 9 as a corrosion resistant material, and the electrodeposition material 6 serving as a corrosion resistant material is peeled off to form a green pattern 16G ( FIG. 6B).

【0024】同様にして、赤色パターン16Rおよび緑
色パターン16Gが形成されたブラックマトリックス基
板12に青色パターン16Bを形成して着色層16を構
成する(図6(C))。
Similarly, the blue pattern 16B is formed on the black matrix substrate 12 on which the red pattern 16R and the green pattern 16G are formed to form the colored layer 16 (FIG. 6C).

【0025】その後、上述のように形成された着色層1
6(赤色パターン16R、緑色パターン16Gおよび青
色パターン16B)とブラックマトリックス14を覆う
ように保護層18、透明共通電極19を設けてカラーフ
ィルタ10とする。
Then, the colored layer 1 formed as described above.
6 (red pattern 16R, green pattern 16G and blue pattern 16B) and the black matrix 14 are covered with a protective layer 18 and a transparent common electrode 19 to form the color filter 10.

【0026】また、本発明によるカラーフィルタの製造
方法の第2の態様を図7を参照して説明する。まず、透
明基板13上にブラックマトリックス14を形成したブ
ラックマトリックス基板12に染色基材を厚さ0.5〜
2.0μm程度となるように塗布し、熱処理(80〜1
20℃、10〜30分間程度)を行い硬化させて被染色
性の塗布層8を形成する(図7(A))。次に、この塗
布層8上に接着性または粘着性の被膜9を形成し、上述
のように電着物質6を電着した電着基板2(赤色パター
ン用の電着基板)を被膜9に接触させ、電着物質6を被
膜9上の所定位置(ブラックマトリックス14間の赤色
パターン16Rが形成される位置)に転写する(図7
(B))。そして、被膜9上に転写された電着物質6を
耐蝕材として被膜9および塗布層8をエッチングにより
除去し、さらに耐蝕材としての電着物質6を剥離除去し
て赤色パターンに対応した被染色パターン8Rを形成す
る(図7(C))。そして、この被染色パターン8Rを
染色した後、タンニン酸等で固定し、赤色パターン16
Rとする。
A second mode of the method for manufacturing a color filter according to the present invention will be described with reference to FIG. First, a dyeing base material having a thickness of 0.5 to 5 is formed on the black matrix substrate 12 in which the black matrix 14 is formed on the transparent substrate 13.
It is applied to a thickness of about 2.0 μm and heat treated (80-1
The coating layer 8 having a dyeability is formed by curing at 20 ° C. for about 10 to 30 minutes (FIG. 7A). Next, an adhesive or tacky coating 9 is formed on the coating layer 8, and the electrodeposition substrate 2 (electrodeposition substrate for red pattern) on which the electrodeposition material 6 is electrodeposited as described above is applied to the coating 9. The electrodeposited material 6 is brought into contact with each other and transferred to a predetermined position on the coating film 9 (position where the red pattern 16R between the black matrices 14 is formed) (FIG. 7).
(B)). Then, the coating 9 and the coating layer 8 are removed by etching using the electrodeposition material 6 transferred onto the coating 9 as a corrosion resistant material, and the electrodeposition material 6 as a corrosion resistant material is peeled off to be dyed corresponding to the red pattern. A pattern 8R is formed (FIG. 7C). Then, after the pattern 8R to be dyed is dyed, it is fixed with tannic acid or the like, and the red pattern 16
Let R.

【0027】同様に、緑色パターン用の電着基板、青色
パターン用の電着基板を用いて緑色パターン16G、青
色パターン16Bを形成して着色層16を構成する(図
7(D))。
Similarly, the green pattern 16G and the blue pattern 16B are formed using the electrodeposited substrate for the green pattern and the electrodeposited substrate for the blue pattern to form the colored layer 16 (FIG. 7D).

【0028】その後、上述のように形成された着色層1
6(赤色パターン16R、緑色パターン16Gおよび青
色パターン16B)とブラックマトリックス14を覆う
ように保護層18、透明共通電極19を設けてカラーフ
ィルタ10とする。
Then, the colored layer 1 formed as described above.
6 (red pattern 16R, green pattern 16G and blue pattern 16B) and the black matrix 14 are covered with a protective layer 18 and a transparent common electrode 19 to form the color filter 10.

【0029】さらに、本発明によるカラーフィルタの製
造方法の第3の態様を図8を参照して説明する。まず、
赤色顔料と電着成分を含む電着浴を用い上述のようにし
て電着基板2(赤色パターン用の電着基板)の導電性面
に赤色顔料を含有した電着物質6Rを析出させる。そし
て、電着基板2を電着浴から引き上げた後、必要に応じ
て電着基板を洗浄・乾燥させ、熱処理(80〜120
℃、10〜30分間程度)を行う(図8(A))。
Further, a third mode of the method for manufacturing a color filter according to the present invention will be described with reference to FIG. First,
As described above, the electrodeposition material 6R containing the red pigment is deposited on the conductive surface of the electrodeposition substrate 2 (the electrodeposition substrate for the red pattern) using the electrodeposition bath containing the red pigment and the electrodeposition component. Then, after pulling up the electrodeposited substrate 2 from the electrodeposition bath, the electrodeposited substrate is washed and dried if necessary, and heat treated (80 to 120).
C., about 10 to 30 minutes) (FIG. 8A).

【0030】一方、透明基板13上にブラックマトリッ
クス14を形成したブラックマトリックス基板12上に
接着性または粘着性の被膜9を形成し、上述のように電
着物質6Rを電着した電着基板2を被膜9に接触させ
(図8(B))、電着物質6Rを被膜9上の所定位置
(ブラックマトリックス14間の赤色パターン16Rが
形成される位置)に転写して赤色パターン16Rを形成
する(図8(C))。
On the other hand, the electrodeposited substrate 2 in which the adhesive or tacky coating 9 is formed on the black matrix substrate 12 in which the black matrix 14 is formed on the transparent substrate 13 and the electrodeposition material 6R is electrodeposited as described above. Is brought into contact with the coating film 9 (FIG. 8B), and the electrodeposited material 6R is transferred to a predetermined position on the coating film 9 (position where the red pattern 16R between the black matrices 14 is formed) to form the red pattern 16R. (FIG. 8C).

【0031】同様に、緑色パターン用の電着基板に緑色
顔料を含有した電着物質6Gを析出させ、また青色パタ
ーン用の電着基板に青色顔料を含有した電着物質6Bを
析出させ、上述のようにして緑色パターン16G、青色
パターン16Bを形成して着色層16を構成する(図8
(D))。
Similarly, the electrodeposition material 6G containing the green pigment is deposited on the electrodeposition substrate for the green pattern, and the electrodeposition material 6B containing the blue pigment is deposited on the electrodeposition substrate for the blue pattern. As described above, the green pattern 16G and the blue pattern 16B are formed to configure the colored layer 16 (see FIG. 8).
(D)).

【0032】その後、上述のように形成された着色層1
6(赤色パターン16R、緑色パターン16Gおよび青
色パターン16B)とブラックマトリックス14を覆う
ように保護層18、透明共通電極19を設けてカラーフ
ィルタ10とする。
Then, the colored layer 1 formed as described above.
6 (red pattern 16R, green pattern 16G and blue pattern 16B) and the black matrix 14 are covered with a protective layer 18 and a transparent common electrode 19 to form the color filter 10.

【0033】また、本発明によるカラーフィルタの製造
方法の第4の態様を図9を参照して説明する。まず、染
色性のある染色基材と電着成分を含む電着浴を用い上述
のようにして電着基板2(赤色パターン用の電着基板)
の導電性面に染色基材を含有した電着物質6′を析出さ
せる。そして、電着基板2を電着浴から引き上げた後、
必要に応じて電着基板を洗浄・乾燥させ、熱処理(80
〜120℃、10〜30分間程度)を行う(図9
(A))。
A fourth mode of the method for manufacturing a color filter according to the present invention will be described with reference to FIG. First, an electrodeposition substrate 2 (electrodeposition substrate for red pattern) is used as described above using an electrodeposition bath containing a dyeing base material and an electrodeposition component.
The electrodeposited material 6'containing the dyeing base material is deposited on the conductive surface of. Then, after pulling up the electrodeposition substrate 2 from the electrodeposition bath,
If necessary, the electrodeposited substrate may be washed and dried, and heat treated (80
~ 120 ° C, about 10-30 minutes) (Fig. 9)
(A)).

【0034】一方、透明基板13上にブラックマトリッ
クス14を形成したブラックマトリックス基板12上に
接着性または粘着性の被膜9を形成し、上述のように電
着物質6′を電着した電着基板2を被膜9に接触させ
(図9(B))、電着物質6′を被膜9上の所定位置
(ブラックマトリックス14間の赤色パターン16Rが
形成される位置)に転写して赤色パターンに対応した被
染色パターン6′Rを形成する(図9(C))。そし
て、この被染色パターン6′Rを染色した後、タンニン
酸等で固定し、赤色パターン16Rとする(図9
(D))。
On the other hand, an electrodeposition substrate in which an adhesive or tacky coating 9 is formed on a black matrix substrate 12 in which a black matrix 14 is formed on a transparent substrate 13 and the electrodeposition material 6'is electrodeposited as described above. 2 is brought into contact with the coating 9 (FIG. 9 (B)), and the electrodeposited material 6'is transferred to a predetermined position on the coating 9 (position where the red pattern 16R between the black matrices 14 is formed) to correspond to the red pattern. The dyed pattern 6'R is formed (FIG. 9C). Then, after this dyed pattern 6'R is dyed, it is fixed with tannic acid or the like to obtain a red pattern 16R (FIG. 9).
(D)).

【0035】このように赤色パターン16Rが形成され
たブラックマトリックス基板12に、上記と同様にして
緑色パターン用の電着基板、青色パターン用の電着基板
を用いて緑色パターン16G、青色パターン16Bを形
成して着色層16を構成する(図9(E))。
On the black matrix substrate 12 on which the red pattern 16R is thus formed, the green pattern 16G and the blue pattern 16B are formed by using the green pattern electrodeposition substrate and the blue pattern electrodeposition substrate in the same manner as described above. Then, the colored layer 16 is formed (FIG. 9E).

【0036】その後、上述のように形成された着色層1
6(赤色パターン16R、緑色パターン16Gおよび青
色パターン16B)とブラックマトリックス14を覆う
ように保護層18、透明共通電極19を設けてカラーフ
ィルタ10とする。
Then, the colored layer 1 formed as described above.
6 (red pattern 16R, green pattern 16G and blue pattern 16B) and the black matrix 14 are covered with a protective layer 18 and a transparent common electrode 19 to form the color filter 10.

【0037】また、本発明によるカラーフィルタの製造
方法の第5の態様を図10を参照して説明する。まず、
染色性のある染色基材と電着成分を含む電着浴を用い上
述のようにして電着基板2(赤色パターン用の電着基
板)の導電性面に染色基材を含有した電着物質6′を析
出させる。そして、電着基板2を電着浴から引き上げた
後、必要に応じて電着基板を洗浄・乾燥させ、熱処理
(80〜120℃、10〜30分間程度)を行う(図1
0(A))。次に、この電着物質6′を染色した後、タ
ンニン酸等で固定して被転写赤色パターン6′Rとする
(図10(B))。
A fifth mode of the method for manufacturing a color filter according to the present invention will be described with reference to FIG. First,
An electrodeposition material containing a dyeing base material on the conductive surface of the electrodeposition substrate 2 (the electrodeposition substrate for the red pattern) as described above using an electrodeposition bath containing a dyeing base material having a dyeing property and an electrodeposition component 6'is deposited. Then, after the electrodeposition substrate 2 is pulled out from the electrodeposition bath, the electrodeposition substrate is washed and dried if necessary, and heat treatment (80 to 120 ° C., about 10 to 30 minutes) is performed (FIG. 1).
0 (A)). Next, this electrodeposited material 6'is dyed and then fixed with tannic acid or the like to form a transferred red pattern 6'R (FIG. 10 (B)).

【0038】一方、透明基板13上にブラックマトリッ
クス14を形成したブラックマトリックス基板12上に
接着性または粘着性の被膜9を形成し、上述のように被
転写赤色パターン6′Rを有する電着基板2を被膜9に
接触させ(図10(C))、被転写赤色パターン6′R
を被膜9上の所定位置(ブラックマトリックス14間の
赤色パターン16Rが形成される位置)に転写して赤色
パターン16Rとする(図10(D))。
On the other hand, an electrodeposition substrate having an adhesive or tacky coating 9 formed on a black matrix substrate 12 in which a black matrix 14 is formed on a transparent substrate 13 and having a transferred red pattern 6'R as described above. 2 is brought into contact with the film 9 (FIG. 10 (C)), and the transferred red pattern 6'R
Is transferred to a predetermined position on the film 9 (a position where the red pattern 16R is formed between the black matrices 14) to form a red pattern 16R (FIG. 10D).

【0039】このように赤色パターン16Rが形成され
たブラックマトリックス基板12に、上記と同様にして
緑色パターン用の電着基板、青色パターン用の電着基板
を用いて緑色パターン16G、青色パターン16Bを形
成して着色層16を構成する(図10(E))。
On the black matrix substrate 12 thus formed with the red pattern 16R, the green pattern 16G and the blue pattern 16B are formed by using the green pattern electrodeposition substrate and the blue pattern electrodeposition substrate in the same manner as described above. The colored layer 16 is formed and formed (FIG. 10E).

【0040】上述の各態様において用いるブラックマト
リックス基板12は、透明基板13上に形成した蒸着ク
ロム膜をエッチングしてレリーフを形成したもの、透明
基板13上に形成した親水性樹脂レリーフを染色したも
の、黒色顔料を分散した感光液を用いて透明基板13上
にレリーフを形成したもの、透明基板13上にブラック
マトリックス用パターンの透明電極を形成し、黒色電着
塗料を電着してレリーフを形成したもの、印刷により透
明基板13上に黒色レリーフを形成したもの等を用いる
ことができる。
The black matrix substrate 12 used in each of the above-mentioned embodiments has a relief formed by etching a vapor-deposited chrome film formed on the transparent substrate 13, and a dyed hydrophilic resin relief formed on the transparent substrate 13. , A relief formed on a transparent substrate 13 using a photosensitive solution in which a black pigment is dispersed, a transparent electrode having a pattern for a black matrix is formed on the transparent substrate 13, and a black electrodeposition paint is electrodeposited to form a relief. It is possible to use the above-mentioned one, the one in which a black relief is formed on the transparent substrate 13 by printing, or the like.

【0041】上記の第1および第2の態様において耐蝕
材として用いられる電着物質は、Ni、Cr、Fe、A
g、Au、Cu、Zn、Sn等の金属、またはこれらの
化合物、合金類等、あるいは天然油脂系、合成油系、ア
ルキド樹脂系、ポリエステル樹脂系、アクリル樹脂系、
エポキシ樹脂系等の種々の有機高分子物質が挙げられ
る。さらに、電極近傍での電気分解成分との反応等によ
り電着基板の導電性面への析出性を有するもの等も同様
に使用できる。
The electrodeposition materials used as the corrosion-resistant material in the above-mentioned first and second modes are Ni, Cr, Fe and A.
Metals such as g, Au, Cu, Zn, Sn, or compounds or alloys thereof, or natural fats / oils, synthetic oils, alkyd resins, polyester resins, acrylic resins,
Examples include various organic polymer substances such as epoxy resin type. Further, those having a depositability on the conductive surface of the electrodeposited substrate due to a reaction with an electrolyzed component in the vicinity of the electrode can be similarly used.

【0042】また、上記の第1の態様において顔料を分
散した着色塗料に用いる樹脂としては、アクリル系樹
脂、ポリアミノ系樹脂(ポリイミド樹脂、ポリアミド樹
脂)、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリカーボネ
ート系樹脂、シリコーン系樹脂等が挙げられる。
Further, as the resin used for the colored coating material in which the pigment is dispersed in the above-mentioned first embodiment, acrylic resin, polyamino resin (polyimide resin, polyamide resin), epoxy resin, urethane resin, polycarbonate resin , Silicone resins and the like.

【0043】本発明において使用する顔料としては、可
溶性アゾ系、不溶性アゾ系、縮合アゾ系等のアゾ系顔
料、フタロシアニン系顔料、インジゴ系、アントラキノ
ン系、ペリレン系、ペリノン系、ジオキサジン系、キナ
クリドン系、イソインドリノン系、フタロン系、メチン
・アゾメチン系、あるいは金属錯体系を含む縮合多環系
顔料、またはこれらの任意の混合物を挙げることができ
る。
The pigments used in the present invention include azo pigments such as soluble azo pigments, insoluble azo pigments, condensed azo pigments, phthalocyanine pigments, indigo pigments, anthraquinone pigments, perylene pigments, perinone pigments, dioxazine pigments, and quinacridone pigments. , Condensed polycyclic pigments including isoindolinone pigments, phthalone pigments, methine / azomethine pigments, or metal complex pigments, or any mixture thereof.

【0044】また、上記の第2および第4の態様におい
て用いられる染色基材は、ポリビニルアルコール、メタ
クリル酸やアクリル酸の共重合体、低分子量ゼラチン、
グリュー、カゼイン等、酸性染料により染色できるもの
である。
The dyeing base material used in the second and fourth embodiments is polyvinyl alcohol, a copolymer of methacrylic acid or acrylic acid, low molecular weight gelatin,
It can be dyed with acid dyes such as glue and casein.

【0045】また、上記の接着性または粘着性の被膜9
は、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体系、天然または合
成ゴム系、各種アクリレート系、エポキシ系、その他の
汎用粘着剤、あるいは熱可塑性の感熱接着剤、光硬化接
着剤等により形成することができる。
Further, the above-mentioned adhesive or tacky coating 9
Can be formed by a vinyl chloride / vinyl acetate copolymer system, a natural or synthetic rubber system, various acrylate systems, epoxy systems, other general-purpose pressure-sensitive adhesives, thermoplastic heat-sensitive adhesives, photocurable adhesives, and the like.

【0046】上記の保護層18は、カラーフィルタ1の
表面平滑化、信頼性の向上および液晶ディスプレイ(L
CD)において使用する際の液晶層への汚染防止等を目
的とするものであり、アクリル系樹脂、エポキシ系樹
脂、ポリイミド系樹脂等の透明樹脂、あるいは二酸化ケ
イ素等の透明無機化合物等を用いて形成することができ
る。このような保護層の厚さは0.5〜50μm程度が
好ましい。
The above-mentioned protective layer 18 is provided for smoothing the surface of the color filter 1, improving the reliability, and for the liquid crystal display (L).
The purpose is to prevent the liquid crystal layer from being contaminated when used in a CD), and a transparent resin such as an acrylic resin, an epoxy resin or a polyimide resin, or a transparent inorganic compound such as silicon dioxide is used. Can be formed. The thickness of such a protective layer is preferably about 0.5 to 50 μm.

【0047】また、透明共通電極19としては、酸化イ
ンジウムスズ(ITO)膜等を用いることができる。I
TO膜は蒸着法、スパッタリング法等の公知の方法によ
り形成することができ、厚さは200〜2000Å程度
が好ましい。
As the transparent common electrode 19, an indium tin oxide (ITO) film or the like can be used. I
The TO film can be formed by a known method such as a vapor deposition method or a sputtering method, and the thickness thereof is preferably about 200 to 2000Å.

【0048】次に、実験例を示して本発明を更に詳細に
説明する。 (実験例1)まず、赤色パターン用、緑色パターン用お
よび青色パターン用の各電着基板を作成した。すなわ
ち、表面平坦性の高いステンレス板(厚さ=0.2mm)
の表面にフォトレジスト(東京応化(株)製OMR)を
スピンコート法(回転数=1500r.p.m.)により厚さ
1μmとなるように塗布した。そして、所定の着色パタ
ーン用フォトマスクを介して露光し、現像、乾燥処理を
行って各電着基板を作成した。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to experimental examples. (Experimental Example 1) First, electrodeposition substrates for red pattern, green pattern and blue pattern were prepared. That is, a stainless plate with a high surface flatness (thickness = 0.2 mm)
Photoresist (OMR manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.) was applied on the surface of the above by a spin coating method (rotation speed = 1500 rpm) to a thickness of 1 μm. Then, it was exposed through a photomask for a predetermined colored pattern, developed and dried to prepare each electrodeposited substrate.

【0049】次に、上記のように作成した各電着基板の
裏面側全面および表面側の電着不要部分を電気絶縁性テ
ープで覆い、その後洗浄した。そして、電着基板を陽
極、白金電極を陰極とし、電極間隙200mmとなるよう
にしてピロリン酸銅浴に浸漬し通電してCuを電着(厚
さ=1μm)し、更に洗浄を行った。
Next, the entire back surface of the electrodeposited substrate prepared as described above and the portion not requiring electrodeposition on the front surface were covered with an electrically insulating tape and then washed. Then, using the electrodeposited substrate as the anode and the platinum electrode as the cathode, the electrode gap was soaked in a copper pyrophosphate bath that the electrode gap was 200 mm, and current was applied to electrodeposit Cu (thickness = 1 μm), and further cleaning was performed.

【0050】一方、透明ガラス基板上にブラックマトリ
ックスを形成したブラックマトリックス基板と、ポリイ
ミド樹脂に赤色顔料(ナフトールレッド)を分散させた
着色材料を準備し、ローラーコート法によりブラックマ
トリックス基板上に着色材料を塗布し、150℃、15
分間の条件で熱処理を施して硬化させ赤色の塗布層(厚
さ=1μm)を形成した。
On the other hand, a black matrix substrate in which a black matrix is formed on a transparent glass substrate and a coloring material in which a red pigment (naphthol red) is dispersed in a polyimide resin are prepared, and the coloring material is formed on the black matrix substrate by a roller coating method. And apply at 150 ℃ for 15
A heat treatment was applied under the condition of a minute for curing to form a red coating layer (thickness = 1 μm).

【0051】次に、上記の赤色の塗布層上に粘着剤をス
ピンコート法(回転数=3000r.p.m.)により厚さ
1.5μmとなるように塗布して粘着性の薄膜を形成し
た。その後、この粘着性薄膜上に、上記の赤色パターン
用電着基板の電着物質(Cu)を転写した。そして、転
写した電着物質(Cu)を耐蝕材として、まずO2 プラ
ズマによるドライエッチング法でCuパターン以外の非
画線部の粘着性薄膜を除去し、さらにブラックマトリッ
クス基板をエッチング液(水酸化ナトリウム4%水溶
液)に浸漬して非画線部の赤色塗布層を除去した。次
に、塩化第2鉄によりCuパターンを剥離除去して赤色
パターンを形成した。
Next, an adhesive was applied on the above red coating layer by a spin coating method (rotation speed = 3000 rpm) to a thickness of 1.5 μm to form an adhesive thin film. After that, the electrodeposition substance (Cu) of the above electrodeposition substrate for red pattern was transferred onto this adhesive thin film. Then, using the transferred electrodeposition material (Cu) as a corrosion-resistant material, first, the adhesive thin film in the non-image area other than the Cu pattern is removed by a dry etching method using O 2 plasma, and the black matrix substrate is further etched with an etching solution (hydroxide). It was dipped in a 4% aqueous solution of sodium) to remove the red coating layer in the non-image area. Next, the Cu pattern was peeled off and removed with ferric chloride to form a red pattern.

【0052】次に、赤色顔料の代りに緑色顔料:フタロ
シアニングリーンを用いた着色材料を使用し、粘着性薄
膜上に緑色パターン用電着基板の電着物質(Cu)を転
写した他は、上記の赤色パターン形成と同様にして緑色
パターンを形成した。
Next, except that a coloring material using a green pigment: phthalocyanine green was used in place of the red pigment, and the electrodeposition material (Cu) of the electrodeposition substrate for green pattern was transferred onto the adhesive thin film. A green pattern was formed in the same manner as the red pattern formation of.

【0053】さらに、赤色顔料の代りに青色顔料:銅フ
タロシアニンブルーを用いた着色材料を使用し、粘着性
薄膜上に青色パターン用電着基板の電着物質(Cu)を
転写した他は、上記の赤色パターン形成と同様にして青
色パターンを形成した。
Further, a blue pigment: a coloring material using copper phthalocyanine blue was used in place of the red pigment, and the electrodeposition material (Cu) of the electrodeposition substrate for blue pattern was transferred onto the adhesive thin film. A blue pattern was formed in the same manner as the red pattern formation of.

【0054】その後、上述のように形成された赤色パタ
ーン、緑色パターンおよび青色パターンからなる着色層
とブラックマトリックスを覆うように保護層を形成し、
更に、保護層上に透明共通電極(ITO)を形成した。 (実験例2)実験例1と同様にして赤色パターン用、緑
色パターン用および青色パターン用の各電着基板を作成
し、各電着基板にCuを電着した。
After that, a protective layer is formed so as to cover the colored layer formed of the red pattern, the green pattern and the blue pattern formed as described above and the black matrix,
Further, a transparent common electrode (ITO) was formed on the protective layer. (Experimental Example 2) In the same manner as in Experimental Example 1, electrodeposited substrates for red pattern, green pattern and blue pattern were prepared, and Cu was electrodeposited on each electrodeposited substrate.

【0055】次に、実験例1で用いたのと同様のブラッ
クマトリックス基板を準備し、カゼインを主成分とする
染色基材をローラーコート法によりブラックマトリック
ス基板上に塗布し、90℃、15分間の条件で熱処理を
施して染色基材を含有する塗布層(厚さ=1μm)を形
成した。
Next, a black matrix substrate similar to that used in Experimental Example 1 was prepared, and a dyeing base material containing casein as a main component was applied onto the black matrix substrate by a roller coating method, and 90 ° C. for 15 minutes. A heat treatment was performed under the conditions described above to form a coating layer (thickness = 1 μm) containing the dyed substrate.

【0056】次に、上記の塗布層上に粘着剤をスピンコ
ート法(回転数=3000r.p.m.)により厚さ1.5μ
mとなるように塗布して粘着性の薄膜を形成した。その
後、この粘着性薄膜上に、上記の赤色パターン用電着基
板の電着物質(Cu)を転写した。そして、転写した電
着物質(Cu)を耐蝕材として、まずO2 プラズマによ
るドライエッチング法でCuパターン以外の非画線部の
粘着性薄膜を除去し、さらにブラックマトリックス基板
をエッチング液(水酸化ナトリウム4%水溶液)に浸漬
して非画線部の塗布層を除去した。次に、塩化第2鉄に
よりCuパターンを剥離除去して赤色パターン用の被染
色パターンを形成した。
Next, a pressure-sensitive adhesive was applied onto the above coating layer by a spin coating method (rotation speed = 3000 rpm) to a thickness of 1.5 μm.
It was applied so as to have a thickness of m to form an adhesive thin film. After that, the electrodeposition substance (Cu) of the above electrodeposition substrate for red pattern was transferred onto this adhesive thin film. Then, using the transferred electrodeposition material (Cu) as a corrosion-resistant material, first, the adhesive thin film in the non-image area other than the Cu pattern is removed by a dry etching method using O 2 plasma, and the black matrix substrate is further etched with an etching solution (hydroxide). The coating layer in the non-image area was removed by immersing in a 4% aqueous solution of sodium). Next, the Cu pattern was peeled off and removed with ferric chloride to form a dyed pattern for a red pattern.

【0057】その後、ブラックマトリックス基板を下記
の組成の赤色染色液に浸漬して被染色パターンを染色
し、タンニン酸で染色パターンを固定して赤色パターン
を形成した。
Then, the black matrix substrate was immersed in a red dyeing solution having the following composition to dye the pattern to be dyed, and the dyeing pattern was fixed with tannic acid to form a red pattern.

【0058】 (赤色染色液の組成) ・カヤノールミーリングレッドRS(日本化薬(株)製) … 10g ・酢 酸 … 10cc ・純 水 …1000cc 次に、粘着性薄膜上に緑色パターン用電着基板の電着物
質(Cu)を転写し、赤色染色液の代りに下記組成の緑
色染色液を使用した他は、上記の赤色パターン形成と同
様にして緑色パターンを形成した。
(Composition of Red Dyeing Solution) ・ Kayanol Milling Red RS (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)… 10 g ・ Acetic acid… 10 cc ・ Pure water… 1000 cc Next, green pattern electrodeposition on the adhesive thin film A green pattern was formed in the same manner as the above red pattern formation, except that the electrodeposition material (Cu) on the substrate was transferred and the green dyeing solution having the following composition was used instead of the red dyeing solution.

【0059】 (緑色染色液の組成) ・スミノールミーリングブリリアントグリーン5G (日本化薬(株)製) … 5g ・酢 酸 … 10cc ・純 水 …1000cc さらに、粘着性薄膜上に青色パターン用電着基板の電着
物質(Cu)を転写し、赤色染色液の代りに下記組成の
青色染色液を使用した他は、上記の赤色パターン形成と
同様にして青色パターンを形成した。
(Composition of Green Staining Solution) Suminol Milling Brilliant Green 5G (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 5 g Acetic acid 10 cc Pure water 1000 cc Further, electrodeposition for blue pattern on the adhesive thin film A blue pattern was formed in the same manner as the above-mentioned red pattern formation, except that the electrodeposition material (Cu) on the substrate was transferred and a blue dyeing solution having the following composition was used in place of the red dyeing solution.

【0060】 (青色染色液の組成) ・カヤノール・サイアニンG(日本化薬(株)製) … 6g ・酢 酸 … 5cc ・純 水 …1000cc その後、上述のように形成された赤色パターン、緑色パ
ターンおよび青色パターンからなる着色層とブラックマ
トリックスを覆うように保護層を形成し、更に、保護層
上に透明共通電極(ITO)を形成した。 (実験例3)実験例1と同様にして赤色パターン用、緑
色パターン用および青色パターン用の各電着基板を作成
した。
(Composition of blue dyeing solution) -Kayanol-Cyanine G (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) ... 6 g-Acetic acid ... 5 cc-Pure water ... 1000 cc Thereafter, the red pattern and green pattern formed as described above Then, a protective layer was formed so as to cover the colored layer having the blue pattern and the black matrix, and a transparent common electrode (ITO) was further formed on the protective layer. (Experimental Example 3) In the same manner as in Experimental Example 1, electrodeposited substrates for red pattern, green pattern and blue pattern were prepared.

【0061】次に、実験例1と同様にして各電着基板の
裏面側全面および表面側の電着不要部分を電気絶縁性テ
ープで覆い、洗浄した。そして、電着基板を陽極、白金
電極を陰極とし、電極間隙200mmとなるようにして下
記組成の各電解液中に浸漬して通電し、各電着基板に対
応する色の顔料を含有した電着物質を析出(厚さ=1μ
m)させた。更に、電解液から引き上げた電着基板を洗
浄し乾燥させ、熱処理(90℃、15分間)を行った。
但し、顔料は実験例1において使用した赤色顔料、緑色
顔料、青色顔料と同じものを用いた。
Then, in the same manner as in Experimental Example 1, the entire back surface of each electrodeposited substrate and the portion not requiring electrodeposition on the front surface were covered with an electrically insulating tape and washed. Then, the electrodeposited substrate was used as an anode, the platinum electrode was used as a cathode, and the electrode gap was 200 mm. Deposition of deposited material (thickness = 1μ
m) Furthermore, the electrodeposited substrate pulled up from the electrolytic solution was washed, dried, and heat-treated (90 ° C., 15 minutes).
However, the same pigment as the red pigment, green pigment, and blue pigment used in Experimental Example 1 was used.

【0062】 (電解液の組成) ・アニオン性ポリビニルアルコール … 6重量% ・トリエチルアミン … 3重量% ・顔 料 … 5重量% ・純 水 …86重量% 次に、実験例1で用いたのと同様のブラックマトリック
ス基板を用い、このブラックマトリックス基板上に粘着
剤をスピンコート法(回転数=3000r.p.m.)により
厚さ1.5μmとなるように塗布して粘着性の薄膜を形
成した。その後、この粘着性薄膜上に、上記の赤色パタ
ーン用電着基板の赤色顔料含有電着物質、緑色パターン
用電着基板の緑色顔料含有電着物質および青色パターン
用電着基板の青色顔料含有電着物質を順次転写して、赤
色パターン、緑色パターンおよび青色パターンからなる
着色層を形成した。
(Composition of Electrolyte Solution) Anionic polyvinyl alcohol 6 wt% Triethylamine 3 wt% Facial agent 5 wt% Pure water 86 wt% Next, the same as used in Experimental Example 1 The black matrix substrate of No. 1 was used, and an adhesive was applied on the black matrix substrate by a spin coating method (rotational speed = 3000 rpm) so as to have a thickness of 1.5 μm to form an adhesive thin film. Then, on this adhesive thin film, the red pigment-containing electrodeposition material of the above-mentioned red pattern electrodeposition substrate, the green pigment-containing electrodeposition material of the green pattern electrodeposition substrate and the blue pigment-containing electrodeposition material of the blue pattern electrodeposition substrate. The deposited materials were sequentially transferred to form a colored layer having a red pattern, a green pattern and a blue pattern.

【0063】次に、着色層とブラックマトリックスを覆
うように保護層を形成し、更に、保護層上に透明共通電
極(ITO)を形成した。 (実験例4)実験例1と同様にして赤色パターン用、緑
色パターン用および青色パターン用の各電着基板を作成
した。
Next, a protective layer was formed so as to cover the colored layer and the black matrix, and a transparent common electrode (ITO) was further formed on the protective layer. (Experimental Example 4) In the same manner as in Experimental Example 1, electrodeposited substrates for red pattern, green pattern and blue pattern were prepared.

【0064】次に、実験例1と同様にして各電着基板の
裏面側全面および表面側の電着不要部分を電気絶縁性テ
ープで覆い、洗浄した。そして、電着基板を陽極、白金
電極を陰極とし、電極間隙200mmとなるようにして下
記組成の各電解液中に浸漬して通電し、各電極基板に被
染色物質を析出(厚さ=1μm)させた。更に、電解液
から引き上げた電着基板を洗浄し乾燥させ、熱処理(9
0℃、15分間)を行った。
Then, in the same manner as in Experimental Example 1, the entire back surface of each electrodeposited substrate and the portion not requiring electrodeposition on the front surface were covered with an electrically insulating tape and washed. Then, the electrodeposited substrate was used as an anode, the platinum electrode was used as a cathode, and the electrode gap was 200 mm, so that each electrode substrate was immersed in each electrolytic solution of the following composition and energized to deposit a substance to be dyed (thickness = 1 μm). ) Further, the electrodeposited substrate pulled up from the electrolytic solution is washed and dried, and then heat treated (9
(0 ° C., 15 minutes).

【0065】 (電解液の組成) ・アニオン性ポリビニルアルコール … 8重量% ・トリエチルアミン … 4重量% ・純 水 …88重量% 次に、実験例1で用いたのと同様のブラックマトリック
ス基板を用い、このブラックマトリックス基板上に粘着
剤をスピンコート法(回転数=3000r.p.m.)により
厚さ1.5μmとなるように塗布して粘着性の薄膜を形
成した。次に、この粘着性薄膜上に、上記の赤色パター
ン用電着基板の被染色物質を転写して被染色パターンを
形成した。
(Composition of Electrolyte Solution) Anionic polyvinyl alcohol: 8% by weight Triethylamine: 4% by weight Pure water: 88% by weight Next, a black matrix substrate similar to that used in Experimental Example 1 was used, An adhesive was applied on the black matrix substrate by a spin coating method (rotational speed = 3000 rpm) so as to have a thickness of 1.5 μm to form an adhesive thin film. Next, the dyed substance of the electrodeposited substrate for red pattern was transferred onto the adhesive thin film to form a dyed pattern.

【0066】その後、ブラックマトリックス基板を実験
例2で用いた赤色染色液と同じ組成の赤色染色液に浸漬
して被染色パターンを染色し、タンニン酸で染色パター
ンを固定して赤色パターンを形成した。
Then, the black matrix substrate was immersed in a red dyeing solution having the same composition as the red dyeing solution used in Experimental Example 2 to dye the pattern to be dyed, and the dyeing pattern was fixed with tannic acid to form a red pattern. .

【0067】次に、粘着性薄膜上に緑色パターン用電着
基板の被染色物質を転写し、赤色染色液の代りに実験例
2で用いた緑色染色液と同じ組成の緑色染色液を使用し
た他は、上記の赤色パターン形成と同様にして緑色パタ
ーンを形成した。
Next, the substance to be dyed on the electrodeposition substrate for green pattern was transferred onto the adhesive thin film, and a green dyeing solution having the same composition as the green dyeing solution used in Experimental Example 2 was used in place of the red dyeing solution. Otherwise, a green pattern was formed in the same manner as the above red pattern formation.

【0068】さらに、粘着性薄膜上に青色パターン用電
着基板の被染色物質を転写し、赤色染色液の代りに実験
例2で用いた青色染色液と同じ組成の青色染色液を使用
した他は、上記の赤色パターン形成と同様にして青色パ
ターンを形成した。
Further, the dyeing substance of the electrodeposition substrate for blue pattern was transferred onto the adhesive thin film, and instead of the red dyeing liquid, a blue dyeing liquid having the same composition as the blue dyeing liquid used in Experimental Example 2 was used. Formed a blue pattern in the same manner as the above red pattern formation.

【0069】その後、上述のように形成された赤色パタ
ーン、緑色パターンおよび青色パターンからなる着色層
とブラックマトリックスを覆うように保護層を形成し、
更に、保護層上に透明共通電極(ITO)を形成した。
After that, a protective layer is formed so as to cover the colored layer having the red pattern, the green pattern and the blue pattern formed as described above and the black matrix,
Further, a transparent common electrode (ITO) was formed on the protective layer.

【0070】[0070]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によればフ
ォトプロセスが必要なのは電着基板形成時のみであるた
め、従来のフォトプロセスを繰り返し行う製造方法で要
した露光装置が不要となり、さらにフォトリソグラフィ
法に比べてスループットが高いので製造コストの低減が
可能となり、また大面積でありながら高精度のカラーフ
ィルタの製造が可能となる。
As described above in detail, according to the present invention, the photoprocess is required only when the electrodeposited substrate is formed. Therefore, the exposure apparatus required in the conventional manufacturing method in which the photoprocess is repeatedly performed is not required, Further, since the throughput is higher than that of the photolithography method, it is possible to reduce the manufacturing cost, and it is possible to manufacture the color filter with a large area and high accuracy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明により製造されたカラーフィルタを用い
たアクティブマトリックス方式による液晶ディスプレイ
の一例を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an example of an active matrix liquid crystal display using a color filter manufactured according to the present invention.

【図2】図1に示される液晶ディスプレイの概略断面図
である。
FIG. 2 is a schematic sectional view of the liquid crystal display shown in FIG.

【図3】図1に示される液晶ディスプレイに用いられて
いるカラーフィルタの拡大部分断面図である。
FIG. 3 is an enlarged partial sectional view of a color filter used in the liquid crystal display shown in FIG.

【図4】本発明によるカラーフィルタの製造において用
いる電着基板の製造を説明するための工程図である。
FIG. 4 is a process drawing for explaining the production of an electrodeposition substrate used in the production of the color filter according to the present invention.

【図5】本発明によるカラーフィルタの製造方法の一例
を説明するための工程図である。
FIG. 5 is a process drawing for explaining an example of the method for manufacturing the color filter according to the present invention.

【図6】本発明によるカラーフィルタの製造方法の一例
を説明するための工程図である。
FIG. 6 is a process drawing for explaining an example of the method for manufacturing the color filter according to the present invention.

【図7】本発明によるカラーフィルタの製造方法の他の
例を説明するための工程図である。
FIG. 7 is a process drawing for explaining another example of the method for manufacturing a color filter according to the present invention.

【図8】本発明によるカラーフィルタの製造方法の他の
例を説明するための工程図である。
FIG. 8 is a process drawing for explaining another example of the method for manufacturing a color filter according to the present invention.

【図9】本発明によるカラーフィルタの製造方法の他の
例を説明するための工程図である。
FIG. 9 is a process drawing for explaining another example of the color filter manufacturing method according to the present invention.

【図10】本発明によるカラーフィルタの製造方法の他
の例を説明するための工程図である。
FIG. 10 is a process chart for explaining another example of the color filter manufacturing method according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2…電着基板 3…基板 4…電気絶縁性材料 4R,4G,4B…マスターパターン 6…電着物質 6R,6G,6B…顔料を分散させた電着物質 6′…染色基材を含有した電着物質 7…顔料を含有した塗布層 8…被染色性の塗布層 10…カラーフィルタ 12…ブラックマトリックス基板 13…透明基板 14…ブラックマトリックス 16…着色層 16R,16G,16B…着色パターン 2 ... Electrodeposited substrate 3 ... Substrate 4 ... Electrical insulating material 4R, 4G, 4B ... Master pattern 6 ... Electrodeposited material 6R, 6G, 6B ... Pigment-dispersed electrodeposited material 6 '... Containing dyeing base material Electrodeposited substance 7 ... Coating layer containing pigment 8 ... Coating layer having dyeability 10 ... Color filter 12 ... Black matrix substrate 13 ... Transparent substrate 14 ... Black matrix 16 ... Coloring layer 16R, 16G, 16B ... Coloring pattern

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明基板の表面にブラックマトリックス
を備えたブラックマトリックス基板上に顔料を分散させ
た着色材料を塗布して塗布層を形成し、少なくとも表面
が導電性を有する基板表面に電気絶縁性材料により所望
の着色パターンのマスターパターンを形成してなる電着
基板の導電性表面に析出させた電着物質を前記塗布層に
転写して耐蝕材とし、前記塗布層のうち該耐蝕材が設け
られいない部分を除去して所望の着色パターンを形成
し、この操作を繰り返して所定の色数からなる着色層を
形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
1. A transparent substrate is provided with a black matrix on the surface of which a coloring material in which a pigment is dispersed is applied onto a black matrix substrate to form a coating layer, and at least the surface of the substrate having electrical conductivity is electrically insulating. The electrodeposited substance deposited on the conductive surface of the electrodeposition substrate on which a master pattern having a desired coloring pattern is formed by a material is transferred to the coating layer as a corrosion resistant material, and the corrosion resistant material is provided in the coating layer. A method for manufacturing a color filter, which comprises removing a portion not formed to form a desired colored pattern, and repeating this operation to form a colored layer having a predetermined number of colors.
【請求項2】 透明基板の表面にブラックマトリックス
を備えたブラックマトリックス基板上に染色基材を塗布
して塗布層を形成し、少なくとも表面が導電性を有する
基板表面に電気絶縁性材料により所望の着色パターンの
マスターパターンを形成してなる電着基板の導電性表面
に析出させた電着物質を前記塗布層に転写して耐蝕材と
し、前記塗布層のうち該耐蝕材が設けられいない部分を
除去した後、残存する前記塗布層を染色して所望の着色
パターンを形成し、この操作を繰り返して所定の色数か
らなる着色層を形成することを特徴とするカラーフィル
タの製造方法。
2. A black matrix substrate having a black matrix on the surface of a transparent substrate is coated with a dyeing base material to form a coating layer, and at least the surface of the substrate having conductivity is desired to have a desired electrical insulating material. The electrodeposition material deposited on the conductive surface of the electrodeposition substrate on which the master pattern of the colored pattern is formed is transferred to the coating layer as a corrosion resistant material, and a portion of the coating layer where the corrosion resistant material is not provided is After removal, the remaining coating layer is dyed to form a desired colored pattern, and this operation is repeated to form a colored layer having a predetermined number of colors, which is a method for producing a color filter.
【請求項3】 少なくとも表面が導電性を有する基板表
面に電気絶縁性材料により所望の着色パターンのマスタ
ーパターンを形成してなる電着基板の導電性表面に顔料
を分散させた電着物質を析出させ、透明基板の表面にブ
ラックマトリックスを備えたブラックマトリックス基板
上に前記析出電着物質を転写して所望の着色パターンを
形成し、この操作を繰り返して所定の色数からなる着色
層を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方
法。
3. An electrodeposited substance in which a pigment is dispersed is deposited on the conductive surface of an electrodeposited substrate in which a master pattern of a desired colored pattern is formed of an electrically insulating material on the surface of a substrate having at least conductive surface. Then, the deposited electrodeposition material is transferred onto a black matrix substrate having a black matrix on the surface of a transparent substrate to form a desired colored pattern, and this operation is repeated to form a colored layer having a predetermined number of colors. A method for manufacturing a color filter, comprising:
【請求項4】 少なくとも表面が導電性を有する基板表
面に電気絶縁性材料により所望の着色パターンのマスタ
ーパターンを形成してなる電着基板の導電性表面に染色
基材を含有させた電着物質を析出させ、透明基板の表面
にブラックマトリックスを備えたブラックマトリックス
基板上に前記析出電着物質を転写し染色して所望の着色
パターンを形成し、この操作を繰り返して所定の色数か
らなる着色層を形成することを特徴とするカラーフィル
タの製造方法。
4. An electrodeposition material containing a dyeing base material on the conductive surface of an electrodeposition substrate having a master pattern of a desired coloring pattern formed of an electrically insulating material on the surface of a substrate having at least conductive surface. And deposit the electrodeposited substance on a black matrix substrate having a black matrix on the surface of a transparent substrate and dye it to form a desired coloring pattern. A method of manufacturing a color filter, which comprises forming a layer.
【請求項5】 少なくとも表面が導電性を有する基板表
面に電気絶縁性材料により所望の着色パターンのマスタ
ーパターンを形成してなる電着基板の導電性表面に染色
基材を含有させた電着物質を析出させ染色した後、透明
基板の表面にブラックマトリックスを備えたブラックマ
トリックス基板上に前記析出電着物質を転写して所望の
着色パターンを形成し、この操作を繰り返して所定の色
数からなる着色層を形成することを特徴とするカラーフ
ィルタの製造方法。
5. An electrodeposition material containing a dyeing base material on the conductive surface of an electrodeposition substrate having a master pattern of a desired coloring pattern formed of an electrically insulating material on the surface of a substrate having at least conductive surface. After depositing and dyeing, the transparent electrodeposited material is transferred onto a black matrix substrate having a black matrix on the surface of the transparent substrate to form a desired colored pattern, and this operation is repeated to form a predetermined number of colors. A method for producing a color filter, which comprises forming a colored layer.
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