JPH0694651A - Substrate inspector - Google Patents

Substrate inspector

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JPH0694651A
JPH0694651A JP4245135A JP24513592A JPH0694651A JP H0694651 A JPH0694651 A JP H0694651A JP 4245135 A JP4245135 A JP 4245135A JP 24513592 A JP24513592 A JP 24513592A JP H0694651 A JPH0694651 A JP H0694651A
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JP
Japan
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substrate
projection data
image
data
ray source
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP4245135A
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Japanese (ja)
Inventor
Satoshi Iwata
敏 岩田
Shinji Suzuki
伸二 鈴木
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a reconfigured image with less picture quality deterioration by reducing a part where an X-ray source and a rotary substrate are crossing by moving the substrate and then generating the reconfigured screen by compensating an obtained data so that an enlargement rate is aligned. CONSTITUTION:The X rays from an X-ray source 22 are applied to a substrate 26 and the images of transmitted projection data are received by a camera 28 via a fluorescent plate 23 and an image-forming lens 27. The obtained projection data are A/D converted 32 and stored at a frame memory 33 and the line-shaped data through a reconfiguration section are extracted as projection data and are stored in a projection data memory 34. On the other hand, in a dropout part with a rotary angle where the substrate 26 and the X-ray source 22 are crossing, the substrate 26 is moved to the side of the fluorescent plate 23 for reducing it. The distance at this time is detected by an encoder 40 and stored and then is used for calculating the expansion rate of an image processing unit 37. With the projection data which are obtained by reduction along with the move of the substrate 26, the expansion rate is aligned by the unit 37 and stored in the projection data memory 34 as the data of the dropout part. After the projection data over a half periphery or an entire periphery is collected, reconfiguration calculation is made by the image processing unit 37 before displaying at a display 36 as a reconfiguration image.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、X線を用いて基板の断
面観察を行う基板検査装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate inspection apparatus for observing a cross section of a substrate using X-rays.

【0002】近年、実装基板、プリント基板の製造にお
いては、電子部品の微小化、高密度実装が進み、これに
伴い、ハンダ等の接続部分も微小化が進行している。使
用されるハンダ量が少なくなるにつれ、その信頼性試験
も、外観からの良、不良からだけの検査では不十分とな
り、ハンダ内部のボイドの有無、クラックの存在等の品
質やチップと基板間の接続部のバンプ形状等の検査が必
要となってきている。このような部分の検査には、X線
を用いた検査手法が、有効な方法である。
In recent years, in the manufacture of mounting boards and printed circuit boards, miniaturization of electronic parts and high-density mounting have been advanced, and along with this, miniaturization of connection parts such as solder has also progressed. As the amount of solder used decreases, the reliability test is not enough to inspect only from the appearance and defects, and the quality such as the presence or absence of voids inside the solder, the presence of cracks, and the gap between the chip and the board It is necessary to inspect the bump shape of the connection part. An inspection method using X-rays is an effective method for inspecting such a portion.

【0003】特に内部を観察する場合に、CT(Comput
ed Tomography )を用いた手法は断面観察が可能であ
り、高精度に画像取り込みを行うことが望まれている。
Especially when observing the inside, CT (Comput
The method using ed tomography) enables cross-sectional observation, and it is desired to capture images with high accuracy.

【0004】[0004]

【従来の技術】図4に、従来の基板検査装置の構成図を
示す。図4の基板検査装置11は、X線II(イメージ
・インテンシファイア)を用いたCT装置であり、回転
ステージ12のホルダ12a上にサンプルとしての基板
13が搭載されて検査される。
2. Description of the Related Art FIG. 4 is a block diagram of a conventional board inspection apparatus. The substrate inspection apparatus 11 in FIG. 4 is a CT apparatus using X-ray II (image intensifier), and a substrate 13 as a sample is mounted on a holder 12a of a rotary stage 12 for inspection.

【0005】この基板13に、X線源14よりX線が照
射され、その透過X線がX線II15に入射される。こ
のX線源14は、焦点寸法数μm 以下のマイクロフォー
カスのものである。また、X線II15は、簡単に説明
すると、入射したX線を蛍光面により変換した光を、光
電部材により電子に変換し、該電子を電極により加速し
て発生させた電子ビームを出力蛍光面に投射し、該出力
蛍光面に投射された画像をカメラにより受像するもので
ある。このX線II15は、入射面が大きく、感度が良
いことから拡大した画像を得ることができる。
The substrate 13 is irradiated with X-rays from an X-ray source 14, and the transmitted X-rays are incident on X-rays II15. The X-ray source 14 is a micro focus with a focal dimension of several μm or less. Further, the X-ray II15 is briefly described. The light converted from the incident X-ray by the fluorescent screen is converted into an electron by the photoelectric member, and the electron beam generated by accelerating the electron by the electrode is output to the fluorescent screen. The image projected onto the output phosphor screen is received by the camera. Since this X-ray II15 has a large incident surface and high sensitivity, a magnified image can be obtained.

【0006】このような基板検査装置11は、基板13
を搭載した回転ステージ12を所定角度に回転させなが
ら、X線II15に投影データを採取し、図示しない
が、画像再構成を行っていくものである。
The board inspection apparatus 11 as described above is provided with a board 13
While rotating the rotary stage 12 mounted with a predetermined angle, the projection data is collected on the X-ray II 15 and, although not shown, image reconstruction is performed.

【0007】ここで、図5に、図4の投影データを説明
するための図を示す。図5は、基板13における、例え
ば120 度毎のX線減衰量のデータ採取を示したものであ
る。
FIG. 5 shows a diagram for explaining the projection data of FIG. FIG. 5 shows the data collection of the X-ray attenuation amount for every 120 degrees on the substrate 13, for example.

【0008】そこで、図6に、図4の拡大光学系を説明
するための図を示す。図6において、サンプルが基板1
3のバンプ等の微小部分の検知を行う場合には、X線I
I15のセンサ面15aに最大に拡大して投影すること
が望ましい。そのため、X線源14からセンサ面15a
までの距離Lに対して、X線源14から基板13までの
距離Dをできる限り小さくしなければならない。この場
合、センサ面15aへの拡大率Mは、L/Dで表わされ
る。
Therefore, FIG. 6 shows a diagram for explaining the magnifying optical system of FIG. In FIG. 6, the sample is the substrate 1.
When detecting a microscopic portion such as the bump of No. 3, X-ray I
It is desirable to project the image on the sensor surface 15a of I15 with the maximum magnification. Therefore, from the X-ray source 14 to the sensor surface 15a
The distance D from the X-ray source 14 to the substrate 13 must be made as small as possible with respect to the distance L. In this case, the enlargement ratio M to the sensor surface 15a is represented by L / D.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかし、拡大率を上げ
るために基板13をX線源14に近接しすぎると、回転
させたときにホルダ12aがX線源14に当接して回転
できなくなる。
However, if the substrate 13 is placed too close to the X-ray source 14 in order to increase the magnification, the holder 12a abuts the X-ray source 14 and cannot rotate when rotated.

【0010】ここで、図7に、従来の画像欠落を説明す
るための図を示す。図7(A)に示すように、基板13
が回転したときにホルダ12aがX線源14に当接する
ことにより、図7(B)に示すように、X線源14と基
板13とが交錯する投影角度Φが存在する。
Here, FIG. 7 shows a diagram for explaining a conventional image loss. As shown in FIG. 7A, the substrate 13
When the holder 12a abuts the X-ray source 14 when is rotated, there is a projection angle Φ at which the X-ray source 14 and the substrate 13 intersect, as shown in FIG. 7B.

【0011】すなわち、この角度Φにおける投影データ
が検出できずにデータが欠落し、この状態で画像再構成
を行うと得られた画像にはデータ欠落による画質劣化が
生じるという問題がある。
That is, there is a problem that projection data at this angle Φ cannot be detected and data is lost, and if image reconstruction is performed in this state, image quality is deteriorated due to data loss in the obtained image.

【0012】そこで、本発明は上記課題に鑑みなされた
もので、画質劣化の少ない再構成画像を得る基板検査装
置を提供することを目的とする。
Therefore, the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a substrate inspection apparatus for obtaining a reconstructed image with little deterioration in image quality.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記課題は、回転手段に
より回転される基板に、X線源よりX線を照射し、該基
板の拡大された投影データを受像手段により受像し、該
基板の再構成画像を生成する基板検査装置において、前
記回転手段を、前記X線源から前記受像手段まで移動さ
せて拡大率を変化させる移動手段と、該移動手段によ
り、得られる拡大率の異なる前記投影データの拡大率を
揃えて前記再構成画像を生成させるデータ補正手段と、
を有することで解決される。
The above object is to irradiate a substrate rotated by rotating means with X-rays from an X-ray source, receive enlarged projection data of the substrate by image receiving means, and In a substrate inspection apparatus that generates a reconstructed image, a moving unit that moves the rotating unit from the X-ray source to the image receiving unit to change the enlargement ratio, and the projection unit having different enlargement ratios obtained by the moving unit. Data correction means for generating the reconstructed image by matching the data enlargement rate,
Is solved by having.

【0014】[0014]

【作用】上述のように、移動手段により、X線源と回転
される基板とが交錯する部分を、該基板を移動させて画
像縮小するように拡大率を変化させる。また、拡大率の
異なる該基板の投影データは、データ補正手段により拡
大率が揃えられる。そして、拡大率が揃えられた基板の
投影データより再構成画像を生成するものである。
As described above, the moving means changes the enlargement ratio so that the portion where the X-ray source and the rotated substrate intersect is moved to reduce the image. Further, the projection data of the substrate having different enlargement ratios are made uniform in enlargement ratio by the data correction means. Then, the reconstructed image is generated from the projection data of the substrates with the same enlargement ratio.

【0015】これにより、X線源と基板とが交錯する部
分で得られなかった投影データが得られるようになり、
画質劣化の少ない再構成画像を得ることが可能となる。
As a result, projection data which could not be obtained at the intersection of the X-ray source and the substrate can be obtained.
It is possible to obtain a reconstructed image with little deterioration in image quality.

【0016】[0016]

【実施例】図1に、本発明の一実施例の構成図を示す。
図1において、基板検査装置21は、X線源22と蛍光
板23との間に、移動手段である直進ステージ24が配
置され、直進ステージ24上に、回転手段である回転ス
テージ25が設けられる。X線源22には、例えばマイ
クロフォーカスX線源が使用される。回転ステージ25
にはホルダ25aが備え付けられており、該ホルダ25
aに検査対象の基板26が搭載される。この基板26
は、例えばチップにバンプが形成されたもので、バンプ
の形成状態が検査されるものとする。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows a block diagram of an embodiment of the present invention.
In FIG. 1, the substrate inspection apparatus 21 is provided with a linear stage 24 that is a moving unit between the X-ray source 22 and the fluorescent plate 23, and a rotary stage 25 that is a rotating unit is provided on the linear stage 24. As the X-ray source 22, for example, a microfocus X-ray source is used. Rotating stage 25
Is provided with a holder 25a.
The board 26 to be inspected is mounted on a. This board 26
Is a chip having bumps formed thereon, and the state of formation of the bumps is to be inspected.

【0017】また、蛍光板23の後方には結像レンズ2
7を介してカメラ28が設置される。カメラ28は、例
えば画素が一次元又は二次元配列のCCD(電荷結合素
子)で構成される。なお、一次元配列のCCDの場合
は、蛍光板23とカメラ28とを導光プレートのテーパ
で光結合してもよい。この蛍光板23,結像レンズ27
(又はテーパ),及びカメラ28により受像手段を構成
する。なお、受像手段としてX線IIを使用してもよ
い。
An image forming lens 2 is provided behind the fluorescent screen 23.
A camera 28 is installed via 7. The camera 28 is composed of, for example, a CCD (charge coupled device) in which pixels are arranged one-dimensionally or two-dimensionally. In the case of a one-dimensional array CCD, the fluorescent plate 23 and the camera 28 may be optically coupled by the taper of the light guide plate. The fluorescent plate 23 and the imaging lens 27
(Or taper) and the camera 28 constitute an image receiving means. X-ray II may be used as the image receiving means.

【0018】一方、処理回路では、データバス31に、
カメラ28からの投影データをディジタルに変換するA
/D変換器32,全投影データを記憶するフレームメモ
リ33,再構成画像のデータを記憶する投影データメモ
リ34,各種制御を行うCPU(中央演算処理ユニッ
ト)35,表示部36,座標変換、再構成計算、拡大率
補正等を行うデータ補正手段である画像処理ユニット3
7,及び入出力(I/O)インタフェース38がそれぞ
れ接続される。
On the other hand, in the processing circuit, the data bus 31
A for converting the projection data from the camera 28 into digital data
/ D converter 32, frame memory 33 that stores all projection data, projection data memory 34 that stores reconstructed image data, CPU (central processing unit) 35 that performs various controls, display unit 36, coordinate conversion, The image processing unit 3 which is a data correction means for performing configuration calculation, magnification correction, etc.
7 and an input / output (I / O) interface 38 are respectively connected.

【0019】また、I/Oインタフェース38には、X
線源22によるX線量を制御するX線コントローラ3
9,回転ステージ25及び直進ステージ24の位置信号
を検知するエンコーダ40,これらを駆動するステージ
コントローラ41,及び、カメラ28のシャッタ等の駆
動を行うカメラコントローラ42がそれぞれ接続され
る。
The I / O interface 38 has an X
X-ray controller 3 for controlling X-ray dose by the radiation source 22
9, an encoder 40 for detecting the position signals of the rotary stage 25 and the rectilinear stage 24, a stage controller 41 for driving them, and a camera controller 42 for driving the shutter of the camera 28 are connected.

【0020】次に、上記基板検査装置の動作について説
明する。まず、X線源22から照射されたX線を基板2
6に照射し、透過した投影データを蛍光板23,結像レ
ンズ27を介してカメラ28により受像する。得られた
投影データをA/D変換器32によりディジタル化し、
フレームメモリ33に蓄えた後、再構成断面を透過した
ライン状のデータを抽出して投影データとし、投影デー
タメモリ34に蓄える。
Next, the operation of the board inspection apparatus will be described. First, the substrate 2 is irradiated with X-rays emitted from the X-ray source 22.
The projection data that has been radiated to 6 and transmitted is received by the camera 28 via the fluorescent plate 23 and the imaging lens 27. The obtained projection data is digitized by the A / D converter 32,
After being stored in the frame memory 33, the line-shaped data transmitted through the reconstructed cross section is extracted as projection data and stored in the projection data memory 34.

【0021】一方、基板26とX線源が交錯する回転角
度のデータ欠落部分では、直進ステージ24により基板
26を蛍光板23側に移動し縮小を行う。この時の移動
距離をエンコーダ40からの検出により予め記憶してお
き、画像処理ユニット37における拡大率(縮小率)の
計算に用いる。
On the other hand, in the data missing portion of the rotation angle where the substrate 26 and the X-ray source intersect, the substrate 26 is moved to the fluorescent plate 23 side by the rectilinear stage 24 to reduce the size. The moving distance at this time is stored in advance by detection from the encoder 40, and is used for calculation of the enlargement ratio (reduction ratio) in the image processing unit 37.

【0022】縮小で得られた投影データは、画像処理ユ
ニット37において、拡大率が揃えられ、欠落部分のデ
ータとして投影データメモリ34に蓄える。
The projection data obtained by the reduction is made to have the same enlargement ratio in the image processing unit 37 and is stored in the projection data memory 34 as the data of the missing portion.

【0023】そして、これを半周又は全周に亘り投影デ
ータを収集した後、画像処理ユニット37において再構
成計算を行い、再構成画像として表示部36に表示する
ものである。
Then, after the projection data is collected over a half circumference or the entire circumference, reconstruction calculation is performed in the image processing unit 37 and displayed on the display unit 36 as a reconstructed image.

【0024】そこで、図2に図1の処理を説明するため
の図を示し、図3に図2の処理の原理を説明するための
図を示す。図2及び図3において、まず、基板26の通
常の拡大率による投影データを得る。そこで、基板26
の回転中心位置とX線源22のサイズ、基板26の厚み
から投影データの欠落角度を求め(図2ステップ(S
T)1)、投影データを収集する(ST2,図3
(A))。
Therefore, FIG. 2 shows a diagram for explaining the process of FIG. 1, and FIG. 3 shows a diagram for explaining the principle of the process of FIG. In FIGS. 2 and 3, first, projection data of the substrate 26 at a normal magnification is obtained. Therefore, the substrate 26
The missing angle of the projection data is calculated from the rotation center position of X, the size of the X-ray source 22, and the thickness of the substrate 26 (see step (S
T) 1), collecting projection data (ST2, FIG. 3)
(A)).

【0025】続いて、欠落角度部分の投影では、拡大率
を縮小し(ST3)、欠落部データを収集する(ST
4,図3(B))。このとき、直進ステージ24の移動
距離から拡大率を求め、投影データの縮小率を計算によ
り補正して投影データとする(ST5,図3(B))。
Subsequently, in the projection of the missing angle portion, the enlargement ratio is reduced (ST3) and the missing portion data is collected (ST.
4, FIG. 3 (B)). At this time, the enlargement ratio is obtained from the moving distance of the rectilinear stage 24, and the reduction ratio of the projection data is corrected by calculation to obtain the projection data (ST5, FIG. 3B).

【0026】この場合の補正は、式P0 (S)=P
1 (Sx/(x+Δx))に基づいて算出される。なお
0 (S)は補正後の投影データであり、P1 (S)は
欠落部で用いる縮小データ、Sは投影座標である。
The correction in this case is performed by the formula P 0 (S) = P
It is calculated based on 1 (Sx / (x + Δx)). Note that P 0 (S) is the corrected projection data, P 1 (S) is the reduced data used in the missing portion, and S is the projection coordinates.

【0027】そして、得られた投影データを用いて、図
3(C)に示す欠落角度部分を含めた画像再構成を行う
ものである(ST6)。
Then, using the obtained projection data, image reconstruction including the missing angle portion shown in FIG. 3C is performed (ST6).

【0028】これにより、検査に必要な基板26の平面
分布の分解能劣化を最小限にして、投影データ欠落によ
る再構成画像の画質劣化を防止することができるもので
ある。
As a result, the deterioration of the resolution of the plane distribution of the substrate 26 necessary for the inspection can be minimized, and the deterioration of the image quality of the reconstructed image due to the missing projection data can be prevented.

【0029】なお、上記実施例では拡大率補正を画像処
理ユニット37における計算により行った場合を示して
いるが、カメラ28にズーム光学系を設け、画像縮小し
た場合にズーム制御手段としてカメラコントローラ42
によりズーミングし、拡大率を揃えて拡大した投影デー
タを受像することによって、画像再構成を行っても同様
の効果を有するものである。
Although the above embodiment shows the case where the enlargement ratio correction is performed by the calculation in the image processing unit 37, a zoom optical system is provided in the camera 28, and when the image is reduced, the camera controller 42 serves as a zoom control means.
The same effect can be obtained even when image reconstruction is performed by receiving the projection data that has been zoomed in and zoomed in at the same magnification.

【0030】[0030]

【発明の効果】以上のように本発明によれば、X線源と
基板とが交錯する部分を拡大率を変化させて縮小して得
られる投影データを、拡大率を揃えるように補正して再
構成画像を生成することにより、画質劣化の少ない再構
成画像を得ることができるものである。
As described above, according to the present invention, projection data obtained by reducing the portion where the X-ray source and the substrate intersect with each other by changing the enlargement ratio is corrected so as to make the enlargement ratio uniform. By generating a reconstructed image, it is possible to obtain a reconstructed image with little deterioration in image quality.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram of an embodiment of the present invention.

【図2】図1の処理を説明するための図である。FIG. 2 is a diagram for explaining the process of FIG.

【図3】図2の処理の原理を説明するための図である。FIG. 3 is a diagram for explaining the principle of the processing of FIG.

【図4】従来の基板検査装置の構成図である。FIG. 4 is a configuration diagram of a conventional board inspection device.

【図5】図4の投影データを説明するための図である。FIG. 5 is a diagram for explaining the projection data of FIG.

【図6】図4の拡大光学系を説明するための図である。FIG. 6 is a diagram for explaining the magnifying optical system of FIG.

【図7】従来の画像欠落を説明するための図である。FIG. 7 is a diagram for explaining a conventional image loss.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

21 基板検査装置 22 X線源 23 蛍光板 24 直進ステージ 25 回転ステージ 25a ホルダ 26 基板 27 結像レンズ 28 カメラ 31 データバス 33 フレームメモリ 34 投影データメモリ 37 画像処理ユニット 42 カメラコントローラ 21 Substrate Inspection Device 22 X-ray Source 23 Fluorescent Plate 24 Straight Stage 25 Rotating Stage 25a Holder 26 Substrate 27 Imaging Lens 28 Camera 31 Data Bus 33 Frame Memory 34 Projection Data Memory 37 Image Processing Unit 42 Camera Controller

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 回転手段(25)により回転される基板
(26)に、X線源(22)よりX線を照射し、該基板
(26)の拡大された投影データを受像手段(23,2
7,28)により受像し、該基板(26)の再構成画像
を生成する基板検査装置において、 前記回転手段(25)を、前記X線源(22)から前記
受像手段(23,27,28)まで移動させて拡大率を
変化させる移動手段(24)と、 該移動手段(24)により、得られる拡大率の異なる前
記投影データの拡大率を揃えて前記再構成画像を生成さ
せるデータ補正手段(37)と、 を有することを特徴とする基板検査装置。
1. A substrate (26) rotated by a rotating means (25) is irradiated with an X-ray from an X-ray source (22), and enlarged projection data of the substrate (26) is received by an image receiving means (23, 23). Two
In the substrate inspection apparatus for receiving an image by means of an image receiving device (7, 28) and generating a reconstructed image of the substrate (26), the rotating means (25) is connected to the image receiving means (23, 27, 28) from the X-ray source (22). ) And a data correcting means for generating the reconstructed image by aligning the enlargement ratios of the projection data having different enlargement ratios obtained by the moving means (24). (37), and a substrate inspection apparatus comprising:
【請求項2】 前記受像手段(23,27,28)には
ズーム光学系が具備され、前記データ補正手段(37)
は、該ズーム光学系を駆動して前記拡大率を揃えるズー
ム制御手段(42)を備えることを特徴とする請求項1
記載の基板検査装置。
2. The image receiving means (23, 27, 28) is provided with a zoom optical system, and the data correcting means (37).
2. A zoom control means (42) for driving the zoom optical system to equalize the enlargement ratios.
The board inspection apparatus described.
JP4245135A 1992-09-14 1992-09-14 Substrate inspector Withdrawn JPH0694651A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20200326289A1 (en) * 2019-04-11 2020-10-15 Rigaku Corporation Method acquiring projection image, control apparatus, control program, processing apparatus, and processing program
DE102022129970A1 (en) 2022-11-14 2024-05-16 Comet Yxlon Gmbh Method for generating fluoroscopy images for the reconstruction of a volume in a flat object using an X-ray system

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20200326289A1 (en) * 2019-04-11 2020-10-15 Rigaku Corporation Method acquiring projection image, control apparatus, control program, processing apparatus, and processing program
JP2020173175A (en) * 2019-04-11 2020-10-22 株式会社リガク Projection image capturing method, control device, control program, processing device, and processing program
US11543367B2 (en) 2019-04-11 2023-01-03 Rigaku Corporation Method acquiring projection image, control apparatus, control program, processing apparatus, and processing program
DE102022129970A1 (en) 2022-11-14 2024-05-16 Comet Yxlon Gmbh Method for generating fluoroscopy images for the reconstruction of a volume in a flat object using an X-ray system

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