JPH0692530B2 - Polycarbonate resin composition for optical disk - Google Patents
Polycarbonate resin composition for optical diskInfo
- Publication number
- JPH0692530B2 JPH0692530B2 JP61049415A JP4941586A JPH0692530B2 JP H0692530 B2 JPH0692530 B2 JP H0692530B2 JP 61049415 A JP61049415 A JP 61049415A JP 4941586 A JP4941586 A JP 4941586A JP H0692530 B2 JPH0692530 B2 JP H0692530B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polycarbonate resin
- polycarbonate
- weight
- bis
- optical disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光学式記録、再生装置に用いられるコンパクト
デイスク、ビデオデイスク、Write−once用デイスク、
イレーザブルダイレクトリードアフターライテイング
(E−DRAW)用デイスク等のプラスチツク製高密度情報
記録担体用の組成物に関するもので、金属又は金属酸化
物の記録膜又は反射膜とポリカーボネート製デイスク基
板との密着性が良好で同時に帯電防止性の優れた組成物
を提供するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial field of application] The present invention relates to a compact disk, a video disk, a write-once disk used for an optical recording / reproducing apparatus,
The present invention relates to a composition for a plastic high-density information recording carrier such as a disk for erasable direct read after-writing (E-DRAW), which shows the adhesion between a metal or metal oxide recording film or reflective film and a polycarbonate disk substrate. It is intended to provide a composition which is good and at the same time has excellent antistatic properties.
今日、光学式記録、再生装置に用いられるプラスチツク
製の高密度情報記録担体用基板(以下、光デイスク基板
という)の材料として透明性、耐熱性、衝撃強度、吸湿
性等の点からポリカーボネート樹脂が最有力となつてい
る。Today, polycarbonate resin is used as a material for a plastic high-density information recording carrier substrate (hereinafter referred to as an optical disk substrate) used in optical recording and reproducing devices in terms of transparency, heat resistance, impact strength, hygroscopicity, and the like. It is becoming the most powerful.
読取り可能な情報を得るため、かかる光デイスク基板上
に、レーザー光線を反射する、又はレーザー光線により
相変化あるいは蒸散などの物理変化を示す金属又は金属
酸化物などの金属膜が設置されている。In order to obtain readable information, a metal film such as a metal or a metal oxide, which reflects a laser beam or exhibits a physical change such as phase change or evaporation by the laser beam, is provided on the optical disk substrate.
耐久力のある光デイスクを得るためにはポリカーボネー
ト樹脂と金属層との間の密着性が良好であることが重要
である。In order to obtain a durable optical disc, it is important that the adhesion between the polycarbonate resin and the metal layer is good.
また光デイスクにレーザー微細光線を照射し、その反射
光の光量を検出するので、光デイスク表面に付着したホ
コリは反射光などを散乱させるため、埃の付着を防ぐ必
要がある。このためデイスクに帯電による埃の誘引を防
ぐために、帯電した電荷を除電するのが好ましい。Further, since the optical disc is irradiated with a laser fine beam and the light amount of the reflected light is detected, the dust adhering to the surface of the optical disc scatters the reflected light and the like, so it is necessary to prevent the attachment of dust. Therefore, it is preferable to remove the charged electric charge in order to prevent the dust from being attracted to the disk by the electric charge.
帯電防止の方法として帯電防止剤を光デイスク表面に塗
布するのが簡単であるが、その性能が永続きしない欠点
がある。したがつてデイスク基板内部に帯電防止剤が配
合されるようにするのが肝要である。As an antistatic method, it is easy to apply an antistatic agent to the surface of an optical disk, but there is a drawback that its performance is not permanent. Therefore, it is important to incorporate an antistatic agent inside the disk substrate.
一般に使用される帯電防止剤はビス(ヒドロキシエチ
ル)アルキルアミン、アルキルベンゼンスルホン酸ソー
ダなどであるが、ポリカーボネート製の光デイスク基板
を射出成形で製造する際、320〜400℃の樹脂温度でポリ
カーボネートは成形される。このような高温で成形する
と前述の帯電防止剤はそれ自身が分解したり、ポリカー
ボネートを分解したりし、デイスク表面にシルバーなど
の外観不良をおこす。またこれらは耐久テストのため光
デイスクを高温高湿(例えば50℃×95%RH雰囲気)にさ
らすと金属膜を腐蝕させ、ピンホールが発生したり剥離
を起こしたりし、光デイスクの耐久性が低下する。Commonly used antistatic agents are bis (hydroxyethyl) alkylamine, sodium alkylbenzene sulfonate, etc. However, when manufacturing optical disc substrates made of polycarbonate by injection molding, polycarbonate is molded at a resin temperature of 320 to 400 ° C. To be done. When molded at such a high temperature, the above-mentioned antistatic agent decomposes itself or decomposes the polycarbonate and causes a defective appearance such as silver on the disk surface. In addition, these are the durability tests of the optical disc, which exposes the optical disc to high temperature and high humidity (for example, 50 ° C x 95% RH atmosphere) to corrode the metal film, causing pinholes and peeling. descend.
本発明は上記のような事情に鑑み耐久性が優れ、且つ帯
電防止性能の優れた光デイスク用材料を提供しようとす
るものである。In view of the above circumstances, the present invention aims to provide an optical disk material having excellent durability and antistatic performance.
即ち、本発明の要旨は粘度平均分子量10000〜18000のポ
リカーボネート100重量部に、一般式 (R1およびR4はカルボキシル基又はヒドロキシル基を有
する化合物からの有機残基で、R2およびR3はポリエチレ
ングリコール鎖、ポリプロピレングリコール鎖、又はエ
チレングリコールとプロピレングリコールの共重合鎖を
示す。) で示される分子量500〜5000のリン酸エステル化合物を
0.01〜5重量部配合した光デイスク用ポリカーボネート
樹脂組成物である。That is, the gist of the present invention is 100 parts by weight of a polycarbonate having a viscosity average molecular weight of 10,000 to 18,000, the general formula (R 1 and R 4 are organic residues from a compound having a carboxyl group or a hydroxyl group, and R 2 and R 3 represent a polyethylene glycol chain, a polypropylene glycol chain, or a copolymer chain of ethylene glycol and propylene glycol.) A phosphoric acid ester compound having a molecular weight of 500 to 5000
It is a polycarbonate resin composition for optical discs containing 0.01 to 5 parts by weight.
本発明をより詳細に説明すると、本発明で使用する芳香
族ポリカーボネート樹脂は、種々のジヒドロキシジアリ
ール化合物とホスゲンとを反応させるホスゲン法、また
はジヒドロキシジアリール化合物とジフエニルカーボネ
ートなどの炭酸エステルとを反応させるエステル交換法
によつて得られる重合体または共重合体であり、代表的
なものとしては、2,2−ビス(4−ヒドロキシフエニ
ル)プロパン(ビスフエノールA)から製造されたポリ
カーボネート樹脂があげられる。The present invention will be described in more detail. The aromatic polycarbonate resin used in the present invention is obtained by reacting various dihydroxydiaryl compounds with phosgene by a phosgene method, or by reacting dihydroxydiaryl compounds with a carbonic acid ester such as diphenyl carbonate. Polymers or copolymers obtained by the transesterification method, and a typical example thereof is a polycarbonate resin produced from 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane (bisphenol A). To be
上記ジヒドロキシジアリール化合物としては、ビスフエ
ノールAの他、ビス(4−ヒドロキシフエニル)メタ
ン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフエニル)エタン、2,2
−ビス(4−ヒドロキシフエニル)プタン、2,2−ビス
(4−ヒドロキシフエニル)オクタン、ビス(4−ヒド
ロキシフエニル)フエニルメタン、2,2−ビス(4−ヒ
ドロキシ−3−メチルフエニル)プロパン、1,1−ビス
(4−ヒドロキシ−3−第3ブチルフエニル)プロパン
のようなビス(ヒドロキシアリール)アルカン類、1,1
−ビス(4−ヒドロキシフエニル)シクロペンタン、1,
1−ビス(4−ヒドロキシフエニル)シクロヘキサンの
ようなビス(ヒドロキシアリール)シクロアルカン類、
4,4′−ジヒドロキシジフエニルエーテル、4,4′−ジヒ
ドロキシ−3,3′−ジメチルジフエニルエーテルのよう
なジヒドロキシジアリールエーテル類、4,4′−ジヒド
ロキシジフエニルスルフイド、4,4′−ジヒドロキシ−
3,3′−ジメチルジフエニルスルフイドのようなジヒド
ロキシジアリールスルフイド類、4,4′−ジヒドロキシ
ジフエニルスルホキシド、4,4′−ジヒドロキシ−3,3′
−ジメチルジフエニルスルホキシドのようなジヒドロキ
シジアリールスルホキシド類、4,4′−ジヒドロキシジ
フエニルスルホン、4,4′−ジヒドロキシ−3,3′−ジメ
チルジフエニルスルホンのようなジヒドロキシジアリー
ルスルホン類等があげられる。Examples of the dihydroxydiaryl compound include bisphenol A, bis (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) ethane, and 2,2
-Bis (4-hydroxyphenyl) butane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) octane, bis (4-hydroxyphenyl) phenylmethane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane , Bis (hydroxyaryl) alkanes such as 1,1-bis (4-hydroxy-3-tert-butylphenyl) propane, 1,1
-Bis (4-hydroxyphenyl) cyclopentane, 1,
Bis (hydroxyaryl) cycloalkanes such as 1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane,
4,4'-dihydroxydiphenyl ether, dihydroxydiaryl ethers such as 4,4'-dihydroxy-3,3'-dimethyldiphenyl ether, 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfide, 4,4 ' -Dihydroxy-
Dihydroxydiaryl sulfides such as 3,3'-dimethyldiphenyl sulfide, 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfoxide, 4,4'-dihydroxy-3,3 '
-Dihydroxydiaryl sulfoxides such as dimethyldiphenyl sulfoxide, 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone, dihydroxydiaryl sulfones such as 4,4'-dihydroxy-3,3'-dimethyldiphenyl sulfone, etc. .
これらは単独でまたは2種以上混合して使用されるが、
これらの他にピペラジン、ジピペリジル、ハイドロキノ
ン、レゾルシン、4,4′−ジヒドロキシジフエニル等を
混合して使用してもよい。These may be used alone or in combination of two or more,
In addition to these, piperazine, dipiperidyl, hydroquinone, resorcin, 4,4′-dihydroxydiphenyl and the like may be mixed and used.
分子量としては複屈折の点から10000〜18000のものが、
さらに好ましくは11000〜17000のものが好ましい。分子
量がこれより低いと強度が低いし、逆に大きいと複屈折
が低くならない。From the point of birefringence, the molecular weight is 10,000 to 18,000,
It is more preferably 11,000 to 17,000. When the molecular weight is lower than this, the strength is low, and conversely, when the molecular weight is high, the birefringence does not become low.
なお、ポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量は、ポリ
カーボネート樹脂の6.0g/lの塩化メチレン溶液を用い20
℃で測定したηspから、 式 および式 によつて算出した値である。平均分子量は通常ポリカー
ボネート樹脂製造時に、フエノール、p−ターシヤリー
ブチルフエノールのような末端停止剤を添加することに
よつて制御される。The viscosity average molecular weight of the polycarbonate resin is 20 g using a 6.0 g / l methylene chloride solution of the polycarbonate resin.
From ηsp measured at And expression The value calculated by The average molecular weight is usually controlled by adding an end terminating agent such as phenol or p-tert-butylphenol at the time of producing a polycarbonate resin.
本発明で使用するリン酸エステルは一般式 (R1およびR4は有機残基、R2およびR3はポリエチレング
リコール鎖、ポリプロピレングリコール鎖、又はエチレ
ングリコールとプロピレングリコールの共重合鎖を示
す。) で示されるものである。The phosphoric acid ester used in the present invention has the general formula (R 1 and R 4 represent an organic residue, R 2 and R 3 represent a polyethylene glycol chain, a polypropylene glycol chain, or a copolymer chain of ethylene glycol and propylene glycol.).
R1とR2及びR3とR4はエステル結合又は、エーテル結合を
介して結合しているものが好ましく、したがつてR1及び
R4はカルボキシル基又はヒドロオキシ基を有する化合物
からの残基が好ましい。また、R1及びR4は炭素又は酸素
原子の総計が3以上の有機残基が好ましい。したがつて
酢酸、プロピオン酸、アクリル酸、メタクリル酸、安息
香酸、シクロヘキサンカルボン酸、トルイル酸、ラウリ
ン酸、ステアリン酸、メチルアルコール、エチルアルコ
ール、プロピルアルコール、オクチルアルコール、ラウ
リルアルコール、ステアリルアルコール、フエノール、
ブチルフエノール、オクチルフエノール、デシルフエノ
ール、ドデシルフエノールなどから誘導される基が用い
られる。It is preferable that R 1 and R 2 and R 3 and R 4 are bonded via an ester bond or an ether bond, and accordingly R 1 and R 4
R 4 is preferably a residue from a compound having a carboxyl group or a hydroxy group. Further, R 1 and R 4 are preferably organic residues having a total of carbon or oxygen atoms of 3 or more. Therefore, acetic acid, propionic acid, acrylic acid, methacrylic acid, benzoic acid, cyclohexanecarboxylic acid, toluic acid, lauric acid, stearic acid, methyl alcohol, ethyl alcohol, propyl alcohol, octyl alcohol, lauryl alcohol, stearyl alcohol, phenol,
Groups derived from butylphenol, octylphenol, decylphenol, dodecylphenol and the like are used.
リン酸エステル化合物の分子量は500〜5000、さらには7
00〜2500が好ましい。これより小さいと熱安定性が悪
く、成形時にトラブルを発生する。逆に大きいとポリカ
ーボネートとの相溶性が悪くなり透明性を悪化する。エ
チレングリコール等のグリコールの付加モル数は3〜10
0が好ましく、さらには5〜50が好ましい。The molecular weight of the phosphate ester compound is 500-5000, and even 7
00 to 2500 is preferable. If it is smaller than this, the thermal stability is poor and problems occur during molding. On the other hand, if it is large, the compatibility with polycarbonate deteriorates and the transparency deteriorates. The number of added moles of glycol such as ethylene glycol is 3 to 10
0 is preferable, and 5 to 50 is more preferable.
このようなリン酸エステル化合物は第一工業製薬(株)
よりニユーフロンテイア(商品名)として市販されてい
る。Such a phosphoric acid ester compound is manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.
More commercially available as New Frontier (trade name).
なおこれらのリン酸エステル化合物の配合量はポリカー
ボネート100重量部に対し0.01〜5重量部、さらには0.0
5〜2重量部の配合が好ましい。配合量がこれより小さ
いと効果がないし、逆に多いと透明性を悪化する。The blending amount of these phosphate ester compounds is 0.01 to 5 parts by weight, and further 0.0
A blend of 5 to 2 parts by weight is preferred. If the blending amount is smaller than this, there is no effect, and conversely, if the blending amount is large, the transparency is deteriorated.
ポリカーボネート樹脂にリン酸エステル化合物を配合す
る方法としては、最終成形品の成形直前までの任意の段
階で種々の手段によつて行なうことが出来る。最も簡便
な方法はポリカーボネート樹脂とリン酸エステル化合物
をドライブレンドする方法であるが、このドライブレン
ド物を溶融混合押出してペレツトとしてもよい。また所
定量以上の添加量を練込んだマスターペレツトを調製
し、これを希釈用ポリカーボネートペレツトとブレンド
してもよい。As a method of blending the phosphoric acid ester compound with the polycarbonate resin, various methods can be used at any stage until just before the molding of the final molded product. The simplest method is to dry blend a polycarbonate resin and a phosphoric acid ester compound, but this dry blended product may be melt-mixed and extruded to form a pellet. Alternatively, a master pellet prepared by kneading an addition amount of a predetermined amount or more may be prepared and blended with a polycarbonate pellet for dilution.
さらに通常ポリカーボネートに配合され、光デイスク基
板としての性能に悪影響を与えるものでない添加剤は使
用可能である。例えば、トリスノニルフエニルホスフア
イト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフエニル)ホスフ
アイト、サイクリツクネオペンタンテトライルビス(オ
クタデシルホスフアイト)、4,4′−ブチリデン−ビス
(3−メチル−6−t−ブチルフエニル−ジ−トリデシ
ル)ホスフアイトなどのホスフアイト系熱安定剤;1,3,5
−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ベ
ンジル)−S−トリアジン−2,4,6−トリオン、ペンタ
エリスリチルテトラキス〔3−(4′−ヒドロキシ−
3′,5′−ジ−t−ブチルフエニル)プロピオネー
ト〕、オクタデシル−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t
−ブチルフエニル)プロピオネートなどのヒンダードフ
エノール系酸化防止剤;およびグリセリンの脂肪酸エス
テル、脂肪酸と脂肪族アルコールのエステル、パラフイ
ンワツクス、ビスアミド類の離型剤などである。これら
は一般に0.005〜0.5%好ましくは0.01〜0.3%配合すれ
ばよい。Further, additives which are usually blended with polycarbonate and which do not adversely affect the performance as an optical disk substrate can be used. For example, trisnonylphenylphosphite, tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, cyclone neopentanetetraylbis (octadecylphosphite), 4,4'-butylidene-bis (3-methyl-6) -T-butylphenyl-di-tridecyl) phosphite and other phosphite-based heat stabilizers; 1,3,5
-Tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxy-benzyl) -S-triazine-2,4,6-trione, pentaerythrityl tetrakis [3- (4'-hydroxy-
3 ', 5'-di-t-butylphenyl) propionate], octadecyl- (4-hydroxy-3,5-di-t
And hindered phenol type antioxidants such as -butylphenyl) propionate; and fatty acid esters of glycerin, esters of fatty acids and aliphatic alcohols, paraffin wax, and releasing agents for bisamides. These are generally added in an amount of 0.005 to 0.5%, preferably 0.01 to 0.3%.
光デイスク基板の成形方法としては射出成形、射出圧縮
成形が用いられるが、成形温度としては300〜420℃、金
型温度としては(Tg−20)℃から(Tg−90)℃の温度範
囲が好ましい。(Tgはポリカーボネートのガラス転位温
度) 本発明の組成物による光学式記録・再生装置に用いられ
るポリカーボネート製デイスク基板は公知の任意の型式
の記録・再生方式に適用することができる。すなわちコ
ンパクトデイスクやレーザーデイスクのような再生専用
デイスクとして用いる場合には基板面側にアルミニウム
等の反射金属膜が蒸着され、Write-once用デイスクの場
合にはAl、Cr、Pb、Au、Rh、Zn、Cu、Sb、Te、In、Bi、
CS2−Te、Te−C、Te−C、Te−As等が、E−DRAWデイ
スクの場合にはTeOx、Mn−Bi、Gd−Co、Tb−Fe、Tb−Gd
−Fe、Tb−Fe−Co、As−Se−S−Ge等が蒸着、スパツタ
リング、イオンプレーテイング等の方法でコーテイング
される。一般には必要に応じてさらに反射用金属膜や保
護用にケイ素酸化物、エポキシ、アクリル等の膜が形成
され、さらに2枚のデイスクを貼り合せて用いられるこ
ともある。Injection molding and injection compression molding are used as the molding method for the optical disk substrate. The molding temperature is 300 to 420 ° C, and the mold temperature is from (Tg-20) ° C to (Tg-90) ° C. preferable. (Tg is the glass transition temperature of polycarbonate) The polycarbonate disk substrate used in the optical recording / reproducing apparatus of the composition of the present invention can be applied to any known recording / reproducing system. That is, when used as a read-only disc such as a compact disc or a laser disc, a reflective metal film such as aluminum is deposited on the substrate surface side, and in the case of a write-once disc, Al, Cr, Pb, Au, Rh, Zn, Cu, Sb, Te, In, Bi,
CS 2 -Te, Te-C, Te-C, Te-As and the like, TeOx in the case of E-DRAW disks, Mn-Bi, Gd-Co , Tb-Fe, Tb-Gd
-Fe, Tb-Fe-Co, As-Se-S-Ge and the like are coated by a method such as vapor deposition, sputtering and ion plating. Generally, if necessary, a reflective metal film and a film of silicon oxide, epoxy, acrylic or the like are further formed for protection, and two discs may be bonded together.
以下実施例を用いて本発明を説明する。 The present invention will be described below with reference to examples.
尚、実施例中「部」は「重量部」を示す。In addition, "part" in an Example shows a "weight part."
実施例1、比較例1〜3 粘度平均分子量15000の2,2−ビス(4−ヒドロキシフエ
ニル)プロパンのポリカーボネート100重量部に後記構
造式で示されるリン酸エステル化合物0.5重量部及び熱
安定剤としてトリスノニルフエニルホスフアイト(アデ
カアーガス製Mark 1178)0.03重量部を配合し、40φベ
ント押出機で230℃で練込みペレツトとした。そのペレ
ツトを120℃で乾燥後、射出成形機(名機製M−100DM)
で120mmφのコンパクトデイスクの成形を実施した。成
形条件として樹脂温度340℃、金型温度85℃であつた。Example 1, Comparative Examples 1 to 3 0.5 parts by weight of a phosphoric acid ester compound represented by the following structural formula and 100 parts by weight of a polycarbonate of 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane having a viscosity average molecular weight of 15,000 and a heat stabilizer. Was mixed with 0.03 part by weight of trisnonyl phenyl phosphite (Mark 1178 manufactured by ADEKA ARGUS), and kneaded into a pellet at 230 ° C. with a 40φ vent extruder. After drying the pellets at 120 ℃, injection molding machine (M-100DM manufactured by Meiki)
A 120 mmφ compact disk was molded in. The molding conditions were a resin temperature of 340 ° C and a mold temperature of 85 ° C.
このようにして得たデイスク上に厚さ約200nmのアルミ
ニウム層を真空蒸着し、その上にアクリル系のコーテイ
ング層(約15μmの厚み)を施した。An aluminum layer having a thickness of about 200 nm was vacuum-deposited on the disk thus obtained, and an acrylic coating layer (thickness of about 15 μm) was applied thereon.
このデイスクを80℃×95%RH×4hrsと−40℃×4hrsの高
低温高湿度下の雰囲気をくり返してうけるヒートサイク
ルテストを実施し、Al膜とポリカーボネート基板の密着
性を試験した。A heat cycle test was carried out in which the disk was repeatedly subjected to an atmosphere of high temperature and high humidity of 80 ° C. × 95% RH × 4 hrs and −40 ° C. × 4 hrs to test the adhesion between the Al film and the polycarbonate substrate.
またスタチツクネオストメーター((株)宍戸商会)を
用いてデイスクに対し一定の静電場で帯電を与え、その
帯電が1/2に減衰する時間(半減期)を測定しリン酸エ
ステル化合物の帯電防止性能を評価した。In addition, static electricity is applied to the disk in a constant electrostatic field using the Statistic Neostometer (Shishido Shokai Co., Ltd.), and the time (half-life) at which the electrostatic charge decays to 1/2 is measured and the phosphoric acid ester compound is charged. The prevention performance was evaluated.
比較のためリン酸エステル化合物を無配合のもの(比較
例1)、他の帯電防止剤を配合したもの(比較例2、
3)を示す。For comparison, one without a phosphate ester compound (Comparative Example 1) and one with another antistatic agent (Comparative Example 2,
3) is shown.
他の帯電防止剤としてポリオキシエチレンドデシルアミ
ン(日本油脂社製L202)、ドデシルベンゼンスルホン酸
ソーダ(花王石鹸製ネオペレツクス)を用いたが、これ
らの帯電防止剤を配合した時は成形時に分解しデイスク
基板表面にシルバーが発生した。Other antistatic agents such as polyoxyethylene dodecylamine (L202 manufactured by NOF CORPORATION) and sodium dodecylbenzene sulfonate (NeoPerex manufactured by Kao Soap) were used. Silver was generated on the substrate surface.
これらの結果を表−1に示す。The results are shown in Table-1.
〔発明の効果〕 以上のように本発明によるとデイスク基板と記録膜、又
は反射膜との密着性が良好で、かつ帯電防止性の優れた
光デイスクが得られるものである。 [Advantages of the Invention] As described above, according to the present invention, an optical disk having good adhesion between the disk substrate and the recording film or the reflective film and excellent antistatic properties can be obtained.
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B29K 69:00 Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display area B29K 69:00
Claims (1)
ネート100重量部に、一般式 (R1およびR4はカルボキシル基又はヒドロキシル基を有
する化合物からの有機残基で、R2およびR3はポリエチレ
ングリコール鎖、ポリプロピレングリコール鎖、又はエ
チレングリコールとプロピレングリコールの共重合鎖を
示す。)で示される分子量500〜5000のリン酸エステル
化合物を0.01〜5重量部配合した光デイスク用ポリカー
ボネート樹脂組成物。1. A general formula for 100 parts by weight of a polycarbonate having a viscosity average molecular weight of 10,000 to 18,000 (R 1 and R 4 are organic residues from a compound having a carboxyl group or a hydroxyl group, and R 2 and R 3 represent a polyethylene glycol chain, a polypropylene glycol chain, or a copolymer chain of ethylene glycol and propylene glycol.) A polycarbonate resin composition for optical discs, containing 0.01 to 5 parts by weight of a phosphoric acid ester compound having a molecular weight of 500 to 5,000.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61049415A JPH0692530B2 (en) | 1986-03-06 | 1986-03-06 | Polycarbonate resin composition for optical disk |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61049415A JPH0692530B2 (en) | 1986-03-06 | 1986-03-06 | Polycarbonate resin composition for optical disk |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62207358A JPS62207358A (en) | 1987-09-11 |
JPH0692530B2 true JPH0692530B2 (en) | 1994-11-16 |
Family
ID=12830432
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61049415A Expired - Lifetime JPH0692530B2 (en) | 1986-03-06 | 1986-03-06 | Polycarbonate resin composition for optical disk |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0692530B2 (en) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5431367A (en) * | 1992-08-28 | 1995-07-11 | General Electric Company | Multilayer injection molds having improved surface properties |
US5388803A (en) * | 1993-08-17 | 1995-02-14 | General Electric Company | Apparatus for producing textured articles |
US5458818A (en) * | 1993-08-31 | 1995-10-17 | General Electric Co. | Insulated mold structure for injection molding of optical disks |
US5728474A (en) * | 1993-12-14 | 1998-03-17 | General Electric Company | Edge design for insulated mold |
US6339138B1 (en) | 1998-11-04 | 2002-01-15 | General Electric Company | Method of manufacturing polycarbonates |
US6022943A (en) * | 1999-04-07 | 2000-02-08 | General Electric Company | Optical quality polycarbonates with reduced static charge and method for making same |
DE60204746T2 (en) | 2001-10-22 | 2006-05-18 | Mitsubishi Chemical Corp. | A polycarbonate composition, a write-once read-many optical disk substrate, and a write-once-read-many optical disk using this substrate, and a method of manufacturing a write-once-read-many optical disk |
DE102004061714A1 (en) | 2004-12-22 | 2006-07-20 | Bayer Materialscience Ag | Polycarbonates with good wettability |
DE102004061754A1 (en) * | 2004-12-22 | 2006-07-06 | Bayer Materialscience Ag | Substrate materials for transparent injection molded parts |
DE102007022130B4 (en) | 2007-05-11 | 2015-02-19 | Bayer Intellectual Property Gmbh | Process for the preparation of polycarbonate after the melt transesterification process |
DE102007052968A1 (en) | 2007-11-07 | 2009-05-14 | Bayer Materialscience Ag | Process for the preparation of polycarbonate after the melt transesterification process |
-
1986
- 1986-03-06 JP JP61049415A patent/JPH0692530B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62207358A (en) | 1987-09-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0082354B1 (en) | Pc composition containing mold release agent and c14-c36 fatty acid release enhancer | |
US4399251A (en) | Compositions comprising a thermoplastic resin and an olefin mold release agent | |
JPH0692530B2 (en) | Polycarbonate resin composition for optical disk | |
US20080029933A1 (en) | Aromatic Polycarbonate Resin Composition, And Substrate For Optical Information-Recording Media, Transparent Optical Article, Lighting Appliance Cover And Transparent Member For Vehicles Comprising It | |
US5973102A (en) | Static resistant polycarbonate compositions | |
JP4230578B2 (en) | Antistatic polycarbonate composition | |
JPH0739537B2 (en) | Polycarbonate resin composition | |
US7122614B2 (en) | Aromatic polycarbonate resins for optical disk substrates | |
JPS62148559A (en) | Polycarbonate resin composition for use in disc | |
JP2579653B2 (en) | Optical molding materials | |
JP3296036B2 (en) | Polycarbonate resin composition | |
US5350790A (en) | Polycarbonate resin composition for optical use | |
JPH0379660A (en) | Molding material for optical application | |
JP3031401B2 (en) | Molding material for optical recording media | |
JPH0613638B2 (en) | Polycarbonate-polybutylene terephthalate-polydialkyl silicone paint adhesive mixture | |
JP3574720B2 (en) | Use of carbonate as a release agent for thermoplastic polycarbonate. | |
JP2701300B2 (en) | Optical molding materials | |
JPH09176477A (en) | Aromatic polycarbonate resin composition | |
JPH09183894A (en) | Aromatic polycarbonate resin composition | |
JPH01315459A (en) | Optical molding material | |
JPH04253765A (en) | Resin composition and substrate for optical recording medium | |
JPH06228421A (en) | Aromatic polycarbonate resin composition | |
JPH02212550A (en) | Optical molding material | |
JP4902057B2 (en) | Manufacturing method of optical disk substrate | |
JP3380101B2 (en) | Aromatic polycarbonate resin composition |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |