JPH0691151B2 - Wafer centering positioning device for semiconductor wafer transfer equipment - Google Patents

Wafer centering positioning device for semiconductor wafer transfer equipment

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JPH0691151B2
JPH0691151B2 JP62299053A JP29905387A JPH0691151B2 JP H0691151 B2 JPH0691151 B2 JP H0691151B2 JP 62299053 A JP62299053 A JP 62299053A JP 29905387 A JP29905387 A JP 29905387A JP H0691151 B2 JPH0691151 B2 JP H0691151B2
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wafer
centering
positioning device
holder
guide base
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Japanese (ja)
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志郎 成瀬
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Fuji Electric Co Ltd
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体ウエハに成膜,エッチング等の各種
プロセス処理を行うウエハ処理装置に対してロボット操
作によりウエハカセットから1枚宛取り出したウエハを
前記処理装置へ受け渡しするウエハ搬送機器を対象に、
ウエハ搬送途上でウエハをロボットに装着したウエハ保
持具のセンタリング位置へ正しく修正保持させるための
ウエハセンタリング位置決め装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial application] The present invention relates to a wafer processing apparatus that performs various process processing such as film formation and etching on a semiconductor wafer For wafer transfer equipment that transfers the
The present invention relates to a wafer centering positioning device for correctly correcting and holding a wafer at a centering position of a wafer holder mounted on a robot during wafer transfer.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

まず第5図,第6図により通常使用されている頭記ウエ
ハ搬送用ロボットの構成,並びにウエハカセットとウエ
ハ処理装置との間で行うウエハ搬送動作に付いて説明す
る。図において、1は複数枚のウエハ2を上下段に並べ
て収容したカセット、3はプラズマCVD装置等のプロセ
ス反応室に連なるロードロック室、4はロードロック室
3の前段に設けた中継準備室、5a,5bは中継準備室4の
入口,出口側通路を仕切るゲート弁、6は中継準備室内
に配備して室外より搬入されたウエハを受容保持する中
継トレーである。なお中継トレーに受け渡しされたウエ
ハは図示されてないウエハ搬送装置により反応室内に搬
入される。ここで中継準備室4に入口に対向して室外側
にはウエハ搬送機器としてのロボット7が設置されてい
る。
First, the structure of the above-mentioned initial wafer transfer robot and the wafer transfer operation performed between the wafer cassette and the wafer processing apparatus will be described with reference to FIGS. In the figure, 1 is a cassette in which a plurality of wafers 2 are vertically arranged and accommodated, 3 is a load lock chamber connected to a process reaction chamber such as a plasma CVD apparatus, 4 is a relay preparation chamber provided in the preceding stage of the load lock chamber 3, Gate valves 5a and 5b partition the entrance and exit passages of the relay preparation chamber 4, and a relay tray 6 is provided inside the relay preparation chamber to receive and hold wafers carried in from outside. The wafer transferred to the relay tray is carried into the reaction chamber by a wafer transfer device (not shown). Here, a robot 7 as a wafer transfer device is installed outside the relay preparation chamber 4 facing the entrance.

このロボット7は周知のメカニカルパンタグラフ型ロボ
ットであって、その構成は駆動部71と、駆動部の出力軸
に結合されて上下(Z方向),旋回(θ方向)操作され
るアーム72と、アーム72の上で左右方向に直線移動操作
されるアーム73と、該アーム73の先端に取付けたウエハ
保持具74とから構成されたものであり、かかる構成でア
ーム72,73を移動操作することにより、ウエハ保持具74
をX,Y,Zの座標系上で移動操作することができる。また
該ロボット7はウエハ保持具74におけるウエハ吸着面の
センタ01を基準点として所望の動きを与えるように運転
制御部に与えたプログラム指令による数値制御で移動操
作される。一方、ウエハ保持具74はウエハ吸着トレーと
してそのトレーの面上にウエハ2をフェースアップに吸
着保持する真空吸着機構75の吸引穴が開口している。
This robot 7 is a well-known mechanical pantograph type robot, and its configuration is a drive unit 71, an arm 72 connected to an output shaft of the drive unit and operated up and down (Z direction) and turning (θ direction), and an arm. The arm 73 is configured to be linearly moved in the left-right direction on the 72, and the wafer holder 74 attached to the tip of the arm 73. By operating the arms 72 and 73 with such a configuration, , Wafer holder 74
Can be moved on the X, Y, Z coordinate system. Further, the robot 7 is moved by numerical control according to a program command given to the operation control unit so as to give a desired movement with the center 01 of the wafer suction surface of the wafer holder 74 as a reference point. On the other hand, the wafer holder 74 has a suction hole of a vacuum suction mechanism 75 for sucking and holding the wafer 2 face up as a wafer suction tray on the surface of the tray.

かかる構成でロボット7の操作によりカセット1から所
定の順位で1枚のウエハ2を取り出してウエハ保持具74
の上面に吸着保持させ、矢印Pの搬送経路をたどって開
放したゲート弁5bを通じて中継準備室4内に搬入し、こ
こでウエハ2を中継トレー6に受け渡す。なお中継トレ
ー6は、その中央部がロボット7側のウエハ保持具74と
干渉し合わないように切欠いた2分割の受け皿構造であ
り、その周縁には内周側に傾斜したテーパ付きガイド部
を備えている。ここで中継トレー6へのウエハ受け渡し
が済むと、ロボット7のウエハ保持具74を室外に後退さ
せ,ゲート弁5bを閉じた上で中継準備室4を真空排気す
る。次いでロードロック室3との間のゲート弁5aを開
き、図示されてないロードロック室側に配備のウエハ搬
送装置により中継トレー6上に受容保持されているウエ
ハ2を受取り、ここから図示されてないプロセス反応室
内へ送り込む。ここで所定のウエハ処理が済み、ウエハ
が搬出経路を通じて室外に搬出されると、続いて前記と
同様にロボット7の操作で次に処理するウエハ2がカセ
ット1より取り出されて中継準備室4に送りこまれる。
With this configuration, the wafer 7 is taken out from the cassette 1 in a predetermined order by the operation of the robot 7 and the wafer holder 74
Of the wafer 2 is adsorbed and held on the upper surface of the wafer, and is transferred into the relay preparation chamber 4 through the gate valve 5b opened by following the transfer path of the arrow P, and the wafer 2 is transferred to the relay tray 6 there. The relay tray 6 has a two-part saucer structure in which a central portion thereof is cut out so as not to interfere with the wafer holder 74 on the robot 7 side, and a tapered guide portion inclined toward the inner peripheral side is provided on the peripheral edge thereof. I have it. When the wafer is transferred to the relay tray 6, the wafer holder 74 of the robot 7 is retracted to the outside of the chamber, the gate valve 5b is closed, and the relay preparation chamber 4 is evacuated. Next, the gate valve 5a between the load lock chamber 3 and the load lock chamber 3 is opened, and the wafer 2 received and held on the relay tray 6 is received by the wafer transfer device (not shown) disposed on the side of the load lock chamber. Send into the process reaction chamber that is not present. When the predetermined wafer processing is completed and the wafer is carried out of the room through the carry-out path, the next wafer 2 to be processed next is taken out from the cassette 1 by the operation of the robot 7 in the relay preparation room 4 as described above. It is sent.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

ところで前記のウエハ搬送過程では、ウエハ搬送機器と
してのロボット7による中継トレー6への受け渡しの際
にしばしば中継トレー6に対するウエハ2の受け渡し位
置がずれ、ここに中継トレー6のテーパガイド面滑り具
合の不安定さ等が加わってウエハが中継トレー6上で斜
め姿勢に引っ掛かる等の受け渡しミスの生じることがあ
る。なおこのようなウエハ受け渡し位置のずれ発生の原
因は、ウエハ外径寸法の公差等の他にカセット1内での
ウエハ2の収容位置のずれ,ロボット7のウエハ保持具
74でカセット1からウエハ2を吸着して取り出す際の滑
り等でウエハ保持具74に対してウエハ2が正しいセンタ
リング位置に保持されないことが要因となるもので、こ
のようなセンタリング位置にずれがあるとロボット7の
動作精度が如何に高くても中継トレー6への受け渡し位
置にずれが生じるようになる。しかもこのような移し替
えミスが生じると後段でのウエハ搬送工程に支障を来す
ので、その都度装置の運転を停止して作業員によるウエ
ハ位置修正をしなければならない等、装置全体でのスル
ープットの低下をもたらす。
By the way, in the wafer transfer process, when the robot 7 serving as a wafer transfer device transfers the wafer 2 to the relay tray 6, the transfer position of the wafer 2 with respect to the relay tray 6 is often deviated, and the taper guide surface of the relay tray 6 is slid. Due to instability and the like, a delivery error such as a wafer being caught in an oblique posture on the relay tray 6 may occur. The cause of the deviation of the wafer transfer position is the deviation of the accommodation position of the wafer 2 in the cassette 1 and the wafer holder of the robot 7 in addition to the tolerance of the outer diameter of the wafer.
The reason is that the wafer 2 is not held at the correct centering position with respect to the wafer holder 74 due to slippage when picking up and picking up the wafer 2 from the cassette 1 at 74, and such a centering position is displaced. Therefore, no matter how high the operation accuracy of the robot 7 is, the delivery position to the relay tray 6 is displaced. Moreover, if such a transfer error occurs, it interferes with the wafer transfer process in the subsequent stage, so the operation of the device must be stopped each time and the wafer position must be corrected by the operator. Bring about a decline.

この発明は上記の点にかんがみ成されたものであり、そ
の目的はウエハ搬送機器の操作によりカセットから取り
出したウエハを、プロセス処理装置へ受け渡しする以前
のウエハ搬送途上でウエハ保持具に対し正しいセンタリ
ング位置に修正保持させるようにしたウエハ搬送機器の
ウエハハンドリング位置決め装置を提供することにあ
る。
The present invention has been made in view of the above points, and an object thereof is to perform correct centering for a wafer holder during wafer transfer before transferring a wafer taken out from a cassette by operating a wafer transfer device to a process processing apparatus. It is an object of the present invention to provide a wafer handling positioning device for a wafer transfer device that is corrected and held at a position.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

上記の目的を達成するために、本発明によれば、ロボッ
トアームの先端の上面側に取り付けた吸着式ウエハ保持
具を装備し、ロボットアームの操作によりカセットから
取出したウエハをウエハ処理装置へ受け渡しする半導体
ウエハ搬送機器に対し、ウエハ搬送の途上でウエハをウ
エハ保持具に対してセンタリング位置に修正保持させる
ウエハセンタリング位置決め装置であって、ウエハ保持
具の移動軌跡上に配備した案内基台と、該案内基台のセ
ンタに対して点対象に分散位置して基台面より上方に突
出し起立し、かつ案内基台の半径方向へ可動にガイド支
持された複数本のセンタリングピンと、各センタリング
ピンを同時に同量だけ半径方向へ移動操作する駆動部と
から成り、ウエハ搬送途上でウエハ保持具を前記案内基
台のセンタ位置に移動させ、ここでウエハの吸着を一旦
解除した状態で前記センタリングピンをウエハの周縁に
引き寄せてウエハをウエハ保持具上のセンタリング位置
に修正移動し、この位置でウエハをウエハ保持具へ再度
吸着保持させると共に、前記駆動部が各センタリングピ
ンの基部と嵌合し合うスクロール溝を有する案内基台の
センタに同心配備されたカム板と、該カム板を回転操作
する駆動モータとから成るものとする。
In order to achieve the above object, according to the present invention, a suction type wafer holder mounted on the upper surface side of the tip of a robot arm is provided, and a wafer taken out from a cassette by the operation of the robot arm is transferred to a wafer processing apparatus. A semiconductor wafer transfer device, which is a wafer centering positioning device for correcting and holding a wafer at a centering position with respect to a wafer holder during wafer transfer, and a guide base arranged on a movement trajectory of the wafer holder, A plurality of centering pins, which are point-distributed relative to the center of the guide base, project upward from the base surface, stand upright, and are movably guided in the radial direction of the guide base, and the centering pins are simultaneously formed. It consists of a drive unit that moves the same amount in the radial direction, and moves the wafer holder to the center position of the guide base during wafer transfer. In this state, once the wafer suction is released, the centering pin is pulled to the peripheral edge of the wafer to correct and move the wafer to the centering position on the wafer holder, and at this position the wafer is again sucked and held on the wafer holder. At the same time, the drive unit is composed of a cam plate concentrically arranged at the center of a guide base having a scroll groove that fits with the base of each centering pin, and a drive motor for rotating the cam plate. .

〔作用〕[Action]

上記の構成で、案内基台には例えば4本のセンタリング
ピンが基台上に分散開口した半径方向のガイド溝内にガ
イド支持されており、また駆動部は各センタリングピン
の基部と嵌合し合うスクロール溝を有する案内基台のセ
ンタに同心配備されたカム板と、該カム板を回転操作す
る駆動モータとから成る。
With the above configuration, for example, four centering pins are guided and supported in the radial guide grooves which are dispersed and opened on the base on the guide base, and the drive unit is fitted to the base of each centering pin. It is composed of a cam plate concentrically arranged in the center of a guide base having a matching scroll groove, and a drive motor for rotating the cam plate.

ここでカセットから取り出したウエハをウエハ処理装置
へ受け渡しする搬送途上でウエハ保持具をセンタリング
位置決め装置へ移送し、ここで案内基台のセンタ位置に
ウエハ保持具のセンタを合わせて停止した上でウエハの
吸着を一旦解く。一方、案内基台側ではセンタリングピ
ンが基台の外周側に後退待機しており、ここで駆動モー
タによりカム板を回転操作すると、複数本の各センタリ
ングピンは工作機械のスクロールチャックと同様に同時
に同量だけ案内基台のガイド溝に沿って求心移動し、こ
の過程でセンタリングピンがウエハの外周縁を挟み込ん
で案内基台のセンタ位置へ引き寄せるようになる。これ
によりウエハ保持具上に自由状態に搭載されているウエ
ハはセンタリングピンによる前記の引き寄せ操作でウエ
ハ保持具のセンタリング位置に移動し、カセットからの
取出し過程で生じたセンタリング位置のずれが正しい位
置に修正されることになる。したがってこの修正位置で
ウエハをウエハ保持具に再度吸着保持させ、続いてロボ
ット操作によりウエハ搬送を再開させることにより、ウ
エハを処理装置側の中継トレーへ移し替えミスなしに正
しく受け渡すことができる。しかも前記のセンタリング
ピンの引き寄せ操作により、同じ装置でウエハサイズの
変更,ウエハ外径公差のバラツキ等にもフレキシブルに
対応させることが可能である。
Here, the wafer holder is transferred to the centering positioning device during the transfer of the wafer taken out from the cassette to the wafer processing device, and the wafer holder is stopped by aligning the center of the wafer holder with the center position of the guide base. Once remove the adsorption of. On the other hand, on the side of the guide base, the centering pin is retracted to the outer periphery of the base, and when the cam plate is rotated by the drive motor, the multiple centering pins simultaneously move like the scroll chuck of a machine tool. The centering pin is moved by the same amount along the guide groove of the guide base, and in this process, the centering pin sandwiches the outer peripheral edge of the wafer and is drawn to the center position of the guide base. As a result, the wafer mounted freely on the wafer holder moves to the centering position of the wafer holder by the above-mentioned pulling operation by the centering pin, and the deviation of the centering position caused during the process of taking out from the cassette becomes the correct position. Will be fixed. Therefore, by re-sucking the wafer to the wafer holder at this correction position and then restarting the wafer transfer by the robot operation, the wafer can be transferred to the relay tray of the processing apparatus side correctly without any mistake. Moreover, by the pulling operation of the centering pin, it is possible to flexibly deal with the change of the wafer size, the variation of the outer diameter tolerance of the wafer and the like with the same device.

〔実施例〕〔Example〕

第1図ないし第4図は本発明実施例を示すものであり、
第1図,第2図は装置全体図、第3図,第4図はウエハ
センタリング位置決め装置の詳細構造を示す平面図,お
よび側断面図を示すものであり、第5図,第6図に対応
する同一部材には同じ符号が付してある。
1 to 4 show an embodiment of the present invention,
FIGS. 1 and 2 are a general view of the apparatus, FIGS. 3 and 4 are a plan view and a side sectional view showing the detailed structure of the wafer centering positioning device, and FIGS. Corresponding identical members are designated by the same reference numerals.

すなわち、この発明によりロボット7の側方にはロボッ
トアームに取付けられたウエハ保持具74の移動軌跡上に
符号8で示すウエハセンタリング位置決め装置がロボッ
ト本体に支持具9を介して装着配備されている。このセ
ンタリング位置決め装置8は案内基台10と、基台10の上
面側へ突出するように分散配備して半径方向がガイド支
持された4本のセンタリングピン11と、各センタリング
ピン11を同時に同じ量だけ半径方向に移動操作する駆動
部12とから構成されている。
That is, according to the present invention, a wafer centering positioning device indicated by the reference numeral 8 is mounted and arranged on the robot body via the support 9 on the side of the robot 7 along the movement trajectory of the wafer holder 74 attached to the robot arm. . The centering positioning device 8 includes a guide base 10, four centering pins 11 that are distributedly arranged so as to project to the upper surface side of the base 10 and are supported by guides in the radial direction, and the same amount of each centering pin 11 at the same time. And a drive unit 12 which is moved only in the radial direction.

ここでセンタリング位置決め装置8の詳細構造を第3
図,第4図により説明すると、まず案内基台10はその上
面にセンタ02を中心として90度間隔にセンタリングピン
11が嵌合する4本の半径方向に伸びたガイド溝13が開口
しており、各ガイド溝13に1本ずつセンタリングピン11
がガイド支持されている。また前記した駆動部12は、案
内基台10の下面側にセンタを合わせて同心配備されたカ
ム板14と、該カム板14を回転操作する駆動モータ15との
組合せから成り、かつカム板14にはセンタリングピン11
の基部と嵌合し合う4本のスクロール溝16が形成されて
いる。かかる駆動部の機構は工作機械等に装備のスクロ
ールチャックと同様な機構であり、駆動モータ15でカム
板14を回転操作することにより、その回転方向に応じて
4本のセンタリングピン11が同時に同量だけガイド溝13
に沿って矢印Q方向に前進,後退移動することになる。
またカム板14は駆動モータ15の駆動軸17に対してラジア
ル軸受18,スラストスリップ板19,および押圧付勢ばね20
で構成されるばね付勢式の継手を介して結合されてい
る。この継手を用いることにより、モータ駆動の際にカ
ム板14に所定トルク以上の負荷が掛かると、カム板14は
モータ駆動軸17に対してスリップするようになる。
The detailed structure of the centering positioning device 8 will now be described in the third section.
Explaining with reference to FIG. 4 and FIG. 4, first, the guide base 10 has centering pins on its upper surface at intervals of 90 degrees around the center 02.
Four guide grooves 13 that extend in the radial direction, into which 11 are fitted, are open, and one guide groove 13 is provided for each centering pin 11
Is supported by a guide. The drive unit 12 is composed of a combination of a cam plate 14 concentrically arranged on the lower surface side of the guide base 10 with its center aligned, and a drive motor 15 for rotating the cam plate 14, and the cam plate 14 Has a centering pin 11
Four scroll grooves 16 are formed to fit with the base of the. The mechanism of such a drive unit is the same mechanism as a scroll chuck equipped in a machine tool or the like, and by rotating the cam plate 14 by the drive motor 15, four centering pins 11 are simultaneously moved according to the rotation direction. Guide groove by amount 13
Will move forward and backward in the direction of arrow Q.
Further, the cam plate 14 is mounted on the drive shaft 17 of the drive motor 15 such as a radial bearing 18, a thrust slip plate 19, and a pressing bias spring 20.
Are connected via a spring-biased joint. By using this joint, the cam plate 14 will slip with respect to the motor drive shaft 17 when a load of a predetermined torque or more is applied to the cam plate 14 during motor driving.

次に上記構成によるウエハのセンタリング位置決め動作
に付いて説明する。ウエハ2はロボット7の操作により
ウエハ保持具74を介してカセットより一枚宛取り出さ
れ、続くロボットアームの旋回操作による搬送行程の途
上でプロセス処理装置へ受け渡す以前にウエハセンタリ
ング位置決め装置9へ移送され、ここで後述するセンタ
リング修正操作を行った後にプロセス処理装置側に移送
してその中継トレー6に受け渡しされる。
Next, the centering and positioning operation of the wafer having the above configuration will be described. One wafer 2 is taken out from the cassette through the wafer holder 74 by the operation of the robot 7, and transferred to the wafer centering positioning device 9 before being transferred to the process processing device in the course of the transfer process by the rotating operation of the robot arm. After the centering correction operation described later is performed, the centering correction operation is performed, and the sheet is transferred to the process processing apparatus side and transferred to the relay tray 6.

すなわちカセット1から取り出したウエハ2がロボット
操作によりウエハ保持具74の上面に吸着保持されたまま
ウエハセンタリング位置決め装置8まで移送されると、
ここでウエハ保持具74をそのウエハ吸着面のセンタ01が
案内基台10のセンタ02と一致するように両者を位置合わ
せして停止し、この位置でウエハ2の吸着を一旦釈放す
る。次に駆動モータ15でカム板14を回転操作し、案内基
台10の外周側に待機位置していた4本のセンタリングピ
ン11をガイド溝13に沿って同時に同量だけウエハ2を外
周より挟み込むようにセンタ02に向けて引き寄せ移動操
作する。これによりカセット1からウエハ2を取り出す
過程でウエハ保持具74との間に生じたセンタリング位置
のずれがセンタリングピン11の引き寄せ過程で修正移動
され、ウエハ2はウエハ保持具74の上でそのセンタ01に
正しくセンタリング位置されるようになる。
That is, when the wafer 2 taken out from the cassette 1 is transferred to the wafer centering positioning device 8 while being sucked and held on the upper surface of the wafer holder 74 by the robot operation,
Here, the wafer holder 74 is aligned and stopped so that the center 01 of the wafer suction surface coincides with the center 02 of the guide base 10, and the suction of the wafer 2 is once released at this position. Next, the cam plate 14 is rotated by the drive motor 15 so that the four centering pins 11 which are in the standby position on the outer peripheral side of the guide base 10 are simultaneously sandwiched by the same amount along the guide groove 13 from the outer periphery. And move it toward the center 02. As a result, the deviation of the centering position between the wafer 2 and the wafer holder 74 in the process of taking out the wafer 2 from the cassette 1 is corrected and moved in the process of pulling the centering pin 11, so that the wafer 2 moves to the center 01 on the wafer holder 74. The centering position will be correct.

このようにしてセンタリング位置の修正操作が行われる
と、次にウエハ保持具74でウエハ2を再度吸着保持し、
ここからロボット7を再始動してウエハ保持具74をプロ
セス処理装置側の中継トレー6に対する指定の受け渡し
位置まで移送し、ここでウエハ保持具の吸着を解いてウ
エハ2を中継トレー6へ受け渡しする。しかもこの受け
渡し搬送過程では、当初にカセット1から取出した際に
生じたセンタリング位置のずれ分が前記のセンタリング
操作により修正されており、これによりウエハ2は受け
渡しミスの発生なしに中継トレー6に対してそのセンタ
リング位置に精度よく受け渡すことができる。
When the correction operation of the centering position is performed in this manner, the wafer 2 is again sucked and held by the wafer holder 74,
From here, the robot 7 is restarted to transfer the wafer holder 74 to a designated transfer position for the relay tray 6 on the process processing apparatus side, where the suction of the wafer holder is released and the wafer 2 is transferred to the relay tray 6. . Moreover, in this transfer / conveyance process, the deviation of the centering position that occurs when the wafer 2 is first taken out from the cassette 1 is corrected by the above-mentioned centering operation, so that the wafer 2 is delivered to the relay tray 6 without any transfer error. It can be delivered to the centering position with high accuracy.

なお、前記構成においてセンタリングピン11の移動範囲
をあらかじめ十分大きく設定して置くことにより、直径
の異なる各種サイズのウエハに対してもフレキシブルに
対応させることができる。また先記のセンタリングピン
引き寄せ操作の過程でセンタリングピン11を介してウエ
ハ2に過大な力が加わるとウエハが破損するおそれがあ
るが、かかる点前述のようにカム板14と駆動モータ15の
駆動軸との間をばね付勢式継手を介して結合し、所定値
以上の負荷に対してはカム板がスリップするように構成
したことにより、ウエハ2を4本のセンタリングピン11
で挟持した際に過大な力がウエハに加わるのを巧みに逃
がすことができる。
In addition, by setting the moving range of the centering pin 11 in advance to be sufficiently large in the above structure, it is possible to flexibly deal with wafers of various sizes having different diameters. Further, if an excessive force is applied to the wafer 2 via the centering pin 11 in the process of pulling the centering pin, the wafer may be damaged. However, as described above, the driving of the cam plate 14 and the drive motor 15 is performed. The wafer 2 is connected to the shaft via a spring-biased joint, and the cam plate slips when the load exceeds a predetermined value.
It is possible to skillfully release an excessive force applied to the wafer when sandwiched by.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上述べたようにこの発明によれば、上記の構成を採用
した結果、ロボット操作でカセットよりウエハを取り出
す過程で生じたウエハ保持具に対するウエハの位置のず
れを、そのウエハ搬送経路の途上に配備したセンタリン
グ位置決め装置で正しいセンタリング位置に修正した上
で次の工程へ搬送させることができ、これによりウエハ
をウエハ処理装置側へ受け渡しさせる際にその中継トレ
ーへ受け渡しミスなしに位置精度よく,かつ円滑に受け
渡すことができる。しかもそのセンタリング位置修正を
センタリングピンの引き寄せ操作により行うので、ウエ
ハサイズの変更,ウエハ外径公差のバラツキ等にもフレ
キシブルに対応させることができる。
As described above, according to the present invention, as a result of adopting the above configuration, the displacement of the position of the wafer with respect to the wafer holder caused during the process of taking out the wafer from the cassette by the robot operation is provided on the way of the wafer transfer path. The centering positioning device can correct the centering position and transfer it to the next process. This allows the wafers to be transferred to the wafer processing unit side without any transfer errors to the relay tray with high accuracy and smoothness. Can be handed over to. Moreover, since the centering position is corrected by pulling the centering pin, it is possible to flexibly deal with the change of the wafer size and the variation of the outer diameter tolerance of the wafer.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図,第2図は本発明実施例の全体構成を示す平面配
置図,およびその側面図、第3図,第4図はそれぞれ第
1図におけるウエハセンタリング位置決め装置の詳細構
造を示す平面図,および側断面図、第5図,第6図は従
来実施されているカセットとプロセス処理装置との間の
ウエハ搬送系統図である。各図において、 1:カセット、2:ウエハ、3:ウエハ処理装置のロードロッ
ク室、4:中継準備室、6:中継トレー、7:ウエハ搬送機器
としてのロボット、74:ウエハ保持具、75:ウエハ吸着機
構、8:ウエハセンタリング位置決め装置、10:案内基
台、11:センタリングピン、12:駆動部、13:ガイド溝、1
4:カム板、15:駆動モータ、16:スクロール溝、01:ウエ
ハ保持具のセンタ、02:案内基台のセンタ。
1 and 2 are plan layout views showing the overall construction of an embodiment of the present invention, and side views thereof, and FIGS. 3 and 4 are plan views showing the detailed structure of the wafer centering positioning device in FIG. 1, respectively. , And a side sectional view, and FIGS. 5 and 6 are wafer transfer system diagrams between a conventional cassette and a process processing apparatus. In each figure, 1: cassette, 2: wafer, 3: wafer processing equipment load lock chamber, 4: relay preparation chamber, 6: relay tray, 7: robot as a wafer transfer device, 74: wafer holder, 75: Wafer suction mechanism, 8: Wafer centering positioning device, 10: Guide base, 11: Centering pin, 12: Drive part, 13: Guide groove, 1
4: Cam plate, 15: Drive motor, 16: Scroll groove, 01: Center of wafer holder, 02: Center of guide base.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ロボットアームの先端の上面側に取り付け
た吸着式ウエハ保持具を装備し、ロボットアームの操作
によりカセットから取出したウエハをウエハ処理装置へ
受け渡しする半導体ウエハ搬送機器に対し、ウエハ搬送
の途上でウエハをウエハ保持具に対してセンタリング位
置に修正保持させるウエハセンタリング位置決め装置で
あって、ウエハ保持具の移動軌跡上に配備した案内基台
と、該案内基台のセンタに対して点対象に分散位置して
基台面より上方に突出し起立し、かつ案内基台の半径方
向へ可動にガイド支持された複数本のセンタリングピン
と、各センタリングピンを同時に同量だけ半径方向へ移
動操作する駆動部とから成り、ウエハ搬送途上でウエハ
保持具を前記案内基台のセンタ位置に移動させ、ここで
ウエハの吸着を一旦解除した状態で前記センタリングピ
ンをウエハの周縁に引き寄せてウエハをウエハ保持具上
のセンタリング位置に修正移動し、この位置でウエハを
ウエハ保持具へ再度吸着保持させると共に、前記駆動部
が各センタリングピンの基部と嵌合し合うスクロール溝
を有する案内基台のセンタに同心配備されたカム板と、
該カム板を回転操作する駆動モータとから成ることを特
徴とする半導体ウエハ搬送機器のウエハセンタリング位
置決め装置。
1. A wafer transfer to a semiconductor wafer transfer device, which is equipped with a suction type wafer holder attached to the upper surface side of the tip of a robot arm and transfers wafers taken out from a cassette to the wafer processing apparatus by the operation of the robot arm. A wafer centering positioning device that corrects and holds a wafer at a centering position with respect to a wafer holder on the way of a wafer, and a guide base arranged on a movement trajectory of the wafer holder and a point with respect to a center of the guide base. Drive to move a plurality of centering pins at the same time in the radial direction at the same time by a plurality of centering pins that are distributed to the object, project upward from the base surface, stand up, and are guided and supported to be movable in the radial direction of the guide base. The wafer holder is moved to the center position of the guide base during the wafer transfer, and the suction of the wafer is In the released state, the centering pin is pulled to the peripheral edge of the wafer to correct and move the wafer to the centering position on the wafer holder, and at this position the wafer is again sucked and held by the wafer holder, and the drive unit causes each centering pin to move. A cam plate concentrically arranged at the center of the guide base having a scroll groove that fits with the base of
A wafer centering positioning device for semiconductor wafer transfer equipment comprising a drive motor for rotating the cam plate.
【請求項2】特許請求の範囲第1項記載のウエハセンタ
リング位置決め装置において、案内基台には4本のセン
タリングピンが基台上に分散開口した半径方向のガイド
溝内にガイド支持されていることを特徴とする半導体ウ
エハ搬送機器のウエハセンタリング位置決め装置。
2. The wafer centering positioning device according to claim 1, wherein the guide base has four centering pins guided and supported in radial guide grooves distributed and opened on the base. A wafer centering positioning device for semiconductor wafer transfer equipment.
【請求項3】特許請求の範囲第1項記載のウエハセンタ
リング位置決め装置において、カム板が駆動モータ軸に
対して所定トルク以上の負荷が加わった際にスリップす
るばね付勢式の継手を介して結合されていることを特徴
とする半導体ウエハ搬送機器のウエハセンタリング位置
決め装置。
3. The wafer centering positioning device according to claim 1, wherein the cam plate slips when a load of a predetermined torque or more is applied to the drive motor shaft via a spring-biased joint. A wafer centering positioning device for semiconductor wafer transfer equipment, characterized in that it is coupled.
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3058289B2 (en) * 1991-03-19 2000-07-04 日立電子エンジニアリング株式会社 Wafer pre-alignment method
US6183189B1 (en) * 1998-11-27 2001-02-06 Chartered Semiconductor Manufacturing, Ltd. Self aligning wafer chuck design for wafer processing tools
JP4603209B2 (en) * 2001-08-23 2010-12-22 株式会社アドバンテスト Positioning and fixing device for wafer transfer
JP3969349B2 (en) 2003-04-18 2007-09-05 ソニー株式会社 Disk centering device
JP5953870B2 (en) * 2012-03-28 2016-07-20 富士通株式会社 Handling apparatus and handling method
JP7034700B2 (en) * 2017-12-21 2022-03-14 Towa株式会社 Conveyor device, resin molding device and resin molded product manufacturing method

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56155451A (en) * 1980-04-30 1981-12-01 Sharp Corp Electronic computer
JPS57134757A (en) * 1981-02-12 1982-08-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd Self-diagnosis system for microcomputer
JPS60205757A (en) * 1984-03-30 1985-10-17 Toshiba Corp Detection for program runaway

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56155451A (en) * 1980-04-30 1981-12-01 Sharp Corp Electronic computer
JPS57134757A (en) * 1981-02-12 1982-08-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd Self-diagnosis system for microcomputer
JPS60205757A (en) * 1984-03-30 1985-10-17 Toshiba Corp Detection for program runaway

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