JPH069098U - Charging electrostatic discharge device for carrier - Google Patents

Charging electrostatic discharge device for carrier

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JPH069098U
JPH069098U JP5377292U JP5377292U JPH069098U JP H069098 U JPH069098 U JP H069098U JP 5377292 U JP5377292 U JP 5377292U JP 5377292 U JP5377292 U JP 5377292U JP H069098 U JPH069098 U JP H069098U
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正直 村田
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  • Elimination Of Static Electricity (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 搬送装置が稼働中に帯電した静電気を移載作
業前に移載対象設備に確実安全に放電する,安全で信頼
性の高い搬送装置の帯電静電気放電装置を提供する。 【構成】 地上から非導電状態で支持され走行する搬送
装置1によって部品を搬送する搬送システムにおいて,
搬送装置1が所定のステーションに停止した後移載動作
を行う前に,この搬送装置1に帯電した静電気の電位と
移載対象設備の電位とを等電位にするための所定抵抗値
を有するたとえば接触板7,接触子8及び導線7a,8
aより成る導電性接触機構を搬送装置1又は/及び移載
対象設備2に装備するようにした。
(57) [Abstract] [Purpose] Providing a safe and highly reliable electrostatic charging / discharging device for a transfer device that reliably and safely discharges static electricity charged during operation of the transfer device to the equipment to be transferred before transfer work. To do. [Constitution] In a transfer system for transferring parts by a transfer device 1 which is supported and travels from the ground in a non-conductive state
Before the transfer operation is performed after the transfer device 1 has stopped at a predetermined station, the transfer device 1 has a predetermined resistance value for equalizing the electric potential of the static electricity charged on the transfer device 1 and the transfer target equipment, for example. Contact plate 7, contactor 8 and conductors 7a, 8
The conductive contact mechanism consisting of a is installed in the carrier device 1 and / or the equipment 2 to be transferred.

Description

【考案の詳細な説明】[Detailed description of the device]

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】[Industrial applications]

この考案は磁気浮上搬送車,無人搬送車,移動ロボット,リニア搬送装置など により物品を搬送する搬送システムに備えた補助機構に係り,特に,この搬送シ ステムの搬送装置と地上設備との間で物品を移載するときに,搬送装置が走行中 に帯電した静電気を確実安全に放電して,移載する半導体部品等を電気的に破壊 される等の帯電した静電気による影響を防止する,安全で信頼性の高い搬送装置 の帯電静電気放電装置に関する。 The present invention relates to an auxiliary mechanism provided in a transport system for transporting articles by a magnetic levitation transport vehicle, an unmanned transport vehicle, a mobile robot, a linear transport device, etc., and particularly, between the transport system of this transport system and ground equipment. When transferring goods, the static electricity charged while the carrier is running is discharged safely and securely, and the influence of the charged static electricity such as the electrical damage to semiconductor parts to be transferred is prevented. And highly reliable carrier electrostatic charging and discharging device.

【0002】[0002]

【従来の技術】[Prior art]

所定の走行路を物品を積載して走行する搬送装置は,磁気浮上搬送車において は絶縁物である空気を介して地上から浮上して走行し,無人搬送車,移動ロボッ ト,リニア搬送装置などにおいては地上路面との間に発生する振動を吸収するた めに,それぞれ弾性を備えたタイヤが使用されることが多い。このようなタイヤ は一般にゴム,樹脂等の電気的絶縁物が使用されている。 上述のようなタイヤを使用する搬送装置は走行中に静電気を帯電することがあ る。また,磁気浮上搬送車のように地上とは非接触支持状態で走行する搬送装置 においても,搬送物や搬送装置と空気との摩擦によって静電気が発生して帯電す る。 搬送物を搬送装置から他の装置に,あるいは,地上に設備された装置から搬送 装置に搬送物を移載しようとする場合に上述のように帯電して移載する装置と移 載される装置との間の電位が異なると,搬送物が移載対象装置と接触する瞬間に 放電し,瞬間的に発生する放電電流や電位変化等のために,半導体部品等の搬送 物を破壊したり制御装置が誤動作する場合があった。 このために,搬送装置から導電性のベルト等を床に垂らしたり,放電アンテナ を搬送装置に装着して帯電を防止する手段が行われている。 このような帯電を防止する装置には,特開昭62−125903号公報,実開 平1−88499号公報および実開平1−174281号公報に開示されている ものがある。 特開昭62−125903号公報に記載のものは,非導電性走行路の一部に導 電性部材が露出する走行路を絶縁体で形成された車輪を持つ搬送車を走行させる ものにおいて,搬送車から下垂された金属製の鎖と,この鎖の先端に装着された 走行面と接触する導電性弾性体からなる接触片とを備えたことを特徴としている 。また,実開平1−88499号公報に記載のものは,電子機器箱体の底面部に 移動用キャスタを取付けた移動型電子機器箱体の底面部に一端が電気導通状態に 取り付けられ,他端が常に床面に接触するひも状の導体を備えたことを特徴とし ている。 さらに,実開平1−174281号公報に記載のものは,バッテリを搭載した 車体に放電アンテナを設けたことを特徴としている。 In a magnetically levitated vehicle, a vehicle that carries articles traveling along a predetermined traveling path levitates from the ground via air, which is an insulator, and travels, such as an unmanned vehicle, a mobile robot, or a linear vehicle. In order to absorb the vibration generated between the road surface and the ground surface, tires with elasticity are often used. Such tires are generally made of an electrically insulating material such as rubber or resin. A carrier device using a tire as described above may be charged with static electricity while traveling. In addition, even in a transfer device such as a magnetically levitated vehicle that is supported in a state in which it is not in contact with the ground, static electricity is generated due to friction between the transfer object or the transfer device and the air, and it is charged. When transferring a transferred product from a transfer device to another device, or from a device installed on the ground to a transfer device, the device to be charged and transferred as described above and the device to be transferred If the electric potential between the transferred object and the transferred object is different, the transferred object is discharged at the moment of contact with the device to be transferred, and the instantaneously generated discharge current or potential change destroys or controls the transferred object such as semiconductor parts. The device sometimes malfunctioned. For this reason, measures have been taken to prevent electrification by hanging a conductive belt or the like from the carrier device to the floor, or by mounting a discharge antenna on the carrier device. Devices for preventing such electrification include those disclosed in JP-A-62-125903, JP-A-1-88499, and JP-A-1-174281. Japanese Unexamined Patent Publication No. 62-125903 discloses a vehicle in which a vehicle having wheels made of an insulating material travels along a traveling path in which a conductive member is exposed at a part of a non-conductive traveling path. It is characterized by a metal chain hanging from the carrier and a contact piece made of a conductive elastic body that comes into contact with the running surface attached to the tip of this chain. Further, the one described in Japanese Utility Model Laid-Open No. 1-88499 has one end electrically connected to the bottom of a mobile electronic equipment box in which a caster for movement is attached to the bottom of the electronic equipment box, and the other end. Is equipped with a string-shaped conductor that is always in contact with the floor. Further, the one described in Japanese Utility Model Laid-Open No. 1-174281 is characterized in that a discharge antenna is provided in a vehicle body on which a battery is mounted.

【0003】[0003]

【考案が解決しようとする課題】[Problems to be solved by the device]

ところで,上述したような帯電を防止する手段を設けた搬送装置においては, 例えば,導電性のベルトやひもを垂らした手段によると,床の状態,即ち,床の 材質が金属なのか,非導電体に金属でコーティングしてあるのか,導電性の樹脂 であるか,さらに,このような金属や導電体が接地してあるかどうかによってそ の効果が変動する。また,搬送装置に結合された導電性のベルトやひもと接触す べき床面との接触状態,即ち,床面の汚れ具合や接触の仕方によってもその効果 が変動する。 また,放電アンテナを設けた場合は完全に放電することができないので,一定 の電位が搬送装置に残留することになる。 一方,最近の半導体製造設備においては,耐圧の低い半導体が製造されるよう になり,半導体ウェハ−などの移載に関しては搬送装置と地上設備等移載対象装 置間の電位差を少しでも小さくすることが要求されている。 また,搬送装置を駆動制御する制御装置が微小レベルの信号で操作される半導 体によって構成されるようになってきているので,誤動作の原因になる放電パル ス電流等のノイズ源を極力低減することが要求されている。 このような要求に対して,上述したような従来の帯電防止手段では不完全であ って,有効完全な放電手段が望まれている。 本考案は上記従来の問題点を対策して,搬送装置が稼働中に帯電した静電気を 移載作業前に移載対象設備に確実安全に放電する,安全で信頼性の高い搬送装置 の帯電静電気放電装置を提供することを目的(課題)としている。 By the way, in the transfer device provided with the means for preventing electrification as described above, for example, according to the method of hanging the conductive belt or the string, the state of the floor, that is, whether the material of the floor is metal or the non-conductive state is used. The effect varies depending on whether the body is coated with a metal, a conductive resin, or whether such a metal or conductor is grounded. In addition, the effect varies depending on the contact state with the conductive belt connected to the conveyor and the floor to be brought into contact with the cord, that is, the degree of dirt on the floor and the manner of contact. Also, if a discharge antenna is provided, it is not possible to completely discharge, so a constant potential will remain in the carrier. On the other hand, in recent semiconductor manufacturing equipment, semiconductors with low withstand voltage have been manufactured, and with regard to the transfer of semiconductor wafers, the potential difference between the transfer equipment and the equipment to be transferred such as ground equipment is reduced as much as possible. Is required. In addition, since the control device that drives and controls the carrier device is becoming more and more composed of semiconductors that are operated by signals at minute levels, noise sources such as discharge pulse current, which causes malfunctions, are reduced as much as possible. Required to do so. In order to meet such demands, the conventional antistatic means described above are incomplete, and an effective and complete discharge means is desired. The present invention solves the above-mentioned conventional problems, and discharges static electricity charged during the operation of the transfer device to the equipment to be transferred reliably and safely before the transfer work. It is a safe and reliable electrostatic charge of the transfer device. The purpose (problem) is to provide a discharge device.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

上記課題を解決するために本考案に基づく搬送装置の帯電静電気放電装置にお いては,地上から非導電状態で支持され走行する搬送装置によって部品を搬送す る搬送システムにおいて,搬送装置が所定のステーションに停止した後移載動作 を行う前に当該搬送装置に帯電した静電気の電位と移載対象設備の電位とを等電 位にするための所定抵抗値を有する導電性接触機構を搬送装置又は/及び移載対 象設備に装備するようにした。 上述した導電性接触機構は搬送装置または移載対象設備に接触板を装備し,移 載対象設備または搬送装置には除電ブラシを装備して構成すれば良い。 また,上述した導電性接触機構は搬送装置または移載対象設備に接触板を装備 し,移載対象設備または搬送装置には導電性駆動機構を装備して構成しても良い 。 また,上述した導電性接触機構は床面に貼付した中継導電体に移載対象設備を 接続し,搬送装置停止時における該中継導電体上部位置に導電性駆動機構を装備 して構成しても良い。 また,上述した導電性接触機構は移載対象設備の搬送装置に装備した移載機構 接触可能位置に接触棒を装備して構成しても良い。 In order to solve the above-mentioned problems, in the electrostatic charging / discharging device of the transfer device according to the present invention, in the transfer system in which parts are transferred by the transfer device which is supported and travels from the ground in a non-conductive state, the transfer device is a predetermined one. After stopping at the station and before carrying out the transfer operation, a conductive contact mechanism having a predetermined resistance value for making the electric potential of the static electricity charged in the transfer device and the potential of the transfer target equipment equipotential is used. / And equipped to the transfer target equipment. The conductive contact mechanism described above may be configured by equipping the transfer device or the transfer target equipment with a contact plate, and equipping the transfer target equipment or the transfer device with an antistatic brush. The conductive contact mechanism described above may be configured by equipping the transfer device or the transfer target equipment with a contact plate, and by mounting the transfer target equipment or the transfer device with a conductive drive mechanism. The conductive contact mechanism described above may be configured by connecting the equipment to be transferred to the relay conductor attached to the floor surface and equipping the relay conductor with the conductive drive mechanism at the position above the relay conductor when the transport device is stopped. good. Further, the conductive contact mechanism described above may be configured by equipping the transfer mechanism of the transfer target equipment with a contact rod at a contactable position.

【0005】[0005]

【作用】[Action]

本考案は,上述のように,所定抵抗値を有する導電性接触機構を装備するよう にしたので,移載作業の前に所定の搬送装置と移載対象装置等との間でこの導電 性接触機構を接触させることによって搬送装置が帯電した静電気を移載対象装置 に安定確実に放電できるので,搬送装置と移載対象装置とは等電位になり,移載 作業は等電位の装置間で実行される。 従って,移載される半導体部品が電気的破壊されることなく,また,制御装置 が誤動作することはない。 As described above, the present invention is equipped with the conductive contact mechanism having a predetermined resistance value. Therefore, before the transfer work, the conductive contact between the predetermined transfer device and the transfer target device is performed. By contacting the mechanism, the static electricity charged by the transfer device can be discharged to the transfer target device in a stable and reliable manner, so that the transfer device and the transfer target device become equipotential, and the transfer work is performed between the equipotential devices. To be done. Therefore, the transferred semiconductor components are not electrically damaged, and the control device does not malfunction.

【0006】[0006]

【実施例】【Example】

搬送システムにおける本考案に基づく搬送装置の帯電静電気放電装置の詳細を 図を参照して詳細に説明する。 実施例1 図1は搬送装置の一例である移動ロボット1と移載対象装置である半導体製造 装置2との間で半導体ウェハ−・カセット3を移載する例を示している。 移動ロボット1は制御装置(図示せず)の指令により駆動輪4によって床面5 を所定の経路に従って走行し,所定のステーション,例えば,半導体製造装置2 の傍らに停止し,移載機構である所定形状寸法個数の腕部6a,二個の腕部6a を相互に回転可能に連結する関節部6b及びグリップ6c等を備えたロボットア ーム6によって,半導体ウェハ−・カセット3を移載する。移動ロボット1の側 面下部には導電性の接触板7が所定の抵抗値を有する電気的導線7aによってロ ボットアーム6に接続され,ロボットアーム6の先端部グリップ6cと接触板7 とは電気的に導通している。 半導体製造装置2の,移動ロボット1が停止した時に位置する接触板7の対向 位置に詳細を後述する除電ブラシ等の接触子8が装着され,この接触子8は半導 体ウェハ−・カセット3と電気的に接続するように所定の抵抗値を有する導線8 aで接続されている。 除電ブラシ8の1例を図2によって説明する。図2は除電ブラシ8の概要外観 を示していて,除電ブラシ8の板状部8bの側面に多数の弾性を備えた導電性の 針を並べた導電性ブラシ8cが設けられ,板状部8bの他の面からは導電性ブラ シ8cに電気的に接続した所定の抵抗値を備えた電気的導線8aが導き出され, 導線8aは前述したように半導体ウェハ−・カセット3と電気的に接続されるよ うに形成されている。即ち,本実施例では導電性接触機構を接触板7,接触子8 と導線7a,8aで構成したものである。 上述の構成において,走行中に電荷を帯電した移動ロボット1が所定の半導体 製造装置2の側面に設けたステーションに移動し停止すると,除電ブラシ8の導 電性ブラシ8cは接触板7に接触する。従って,上述した構成が導電性接触機構 として機能し移動ロボット1のグリップ6cと半導体ウェハ−・カセット3とは 電気的衝撃なしに同電位になる。 従って,移動ロボット1のグリップ6cが半導体ウェハ−・カセット3を移載 するために接触しても電気的衝撃は発生しない。よって,半導体ウェハ−・カセ ット3内の半導体部品(図示せず)は破壊されず,また,ノイズは発生しない。 上述の構成とは逆に,移動ロボット1に除電ブラシ等の接触子,半導体製造装 置2に接触板を装着しても良いことは当然である。 The details of the charging electrostatic discharge device of the carrier device according to the present invention in the carrier system will be described in detail with reference to the drawings. Embodiment 1 FIG. 1 shows an example in which a semiconductor wafer-cassette 3 is transferred between a mobile robot 1 which is an example of a transfer device and a semiconductor manufacturing apparatus 2 which is a transfer target device. The mobile robot 1 is a transfer mechanism that travels along a predetermined path on the floor surface 5 by the drive wheels 4 according to a command from a control device (not shown), stops at a predetermined station, for example, beside the semiconductor manufacturing device 2. The semiconductor wafer cassette 3 is transferred by a robot arm 6 having a predetermined number of arms 6a, a joint 6b for rotatably connecting the two arms 6a, a grip 6c and the like. . A conductive contact plate 7 is connected to the robot arm 6 at a lower side surface of the mobile robot 1 by an electric wire 7a having a predetermined resistance value, and the tip grip 6c of the robot arm 6 and the contact plate 7 are electrically connected. Are electrically connected. In the semiconductor manufacturing apparatus 2, a contactor 8 such as a destaticizing brush, which will be described in detail later, is mounted at a position facing the contact plate 7 located when the mobile robot 1 is stopped. The contactor 8 is a semiconductor wafer cassette 3. It is connected by a conductive wire 8 a having a predetermined resistance value so as to be electrically connected to. An example of the static elimination brush 8 will be described with reference to FIG. FIG. 2 shows an outline of the static elimination brush 8. The static elimination brush 8 is provided with a conductive brush 8c having a large number of conductive needles provided with elasticity on the side surface of the flat portion 8b. From the other surface, an electric conductor 8a having a predetermined resistance value electrically connected to the conductive brush 8c is led out, and the conductor 8a is electrically connected to the semiconductor wafer cassette 3 as described above. It is formed to be done. That is, in this embodiment, the conductive contact mechanism is composed of the contact plate 7, the contactor 8 and the conductive wires 7a, 8a. In the above-mentioned configuration, when the mobile robot 1 charged with electric charges moves to a station provided on the side surface of the predetermined semiconductor manufacturing apparatus 2 and stops there, the conductive brush 8c of the static elimination brush 8 comes into contact with the contact plate 7. . Therefore, the above-described structure functions as a conductive contact mechanism, and the grip 6c of the mobile robot 1 and the semiconductor wafer cassette 3 have the same potential without electric shock. Therefore, even if the grip 6c of the mobile robot 1 comes into contact with the semiconductor wafer cassette 3 for transferring it, no electrical shock occurs. Therefore, the semiconductor components (not shown) in the semiconductor wafer / cassette 3 are not destroyed and no noise is generated. Contrary to the above-described configuration, it is natural that the mobile robot 1 may be provided with a contact such as a static eliminating brush, and the semiconductor manufacturing apparatus 2 may be provided with a contact plate.

【0007】 実施例2 図3によって移動ロボット1と半導体製造装置2との間で半導体ウェハ−・カ セット3を移載する別の導電性接触機構を使用した実施例2を示す。 図1によって説明した実施例と同一の要素装置は同一の符号を記している。 図3においては半導体製造装置2の下部側面に導電性の接触板17を装着し, 接触板17は半導体ウェハ−・カセット3と電気的に接続するように所定の抵抗 値を備えた導線17aで接続されている。 移動ロボット1には移動ロボット1が半導体製造装置2の傍らのステーション に停止した時に位置する接触板17の対向位置に導電性駆動機構であるピストン 18が装着されている。 ピストン18はピストンシリンダ18bによって支持され空気圧またはリニア モータ等の駆動力によって前後に移動可能にした導電性のピストンロッド18c が設けられ,ピストンロッド18cはロボットアーム6のグリップ6cと電気的 に接続するように所定の抵抗値を備えた導線18aで接続されている。 上述の構成において,走行中に電荷を帯電した移動ロボット1が所定の半導体 製造装置2側面のステーションに移動し停止すると,図示しない制御装置に予め 設定した動作条件によってピストンロッド18cが突出してその先端が接触板1 7に接触する。従って,実施例2では上述した接触板17,ピストン18,及び 導線17a,18aが導電性接触機構として機能し移動ロボット1のグリップ6 cと半導体ウェハ−・カセット3とは電気的衝撃なしに同電位になる。 従って,移動ロボット1のグリップ6cが半導体ウェハ−・カセット3を移載 するために接触しても電気的衝撃は発生しない。よって,半導体ウェハ−・カセ ット3内の半導体部品(図示せず)は破壊されず,また,ノイズは発生しない。 上述したピストンロッド18c自体は非導電性の物体で構成し,ピストンロッ ド18c先端部を導電性物体で構成してこの先端部を導線18aでロボットア− ム6のグリップ6cと電気的に接続するようにしても良い。 また,上述の構成とは逆に,移動ロボット1にロボットア−ム6のグリップ6 cと電気的に接続した接触板,半導体製造装置2に積載する半導体ウェハ−・カ セット3に少なくともその先端部を電気的に接続したピストンを装着しても良い ことは当然である。Embodiment 2 FIG. 3 shows Embodiment 2 using another conductive contact mechanism for transferring the semiconductor wafer-cassette 3 between the mobile robot 1 and the semiconductor manufacturing apparatus 2. The same element devices as those of the embodiment described with reference to FIG. 1 are designated by the same reference numerals. In FIG. 3, a conductive contact plate 17 is attached to the lower side surface of the semiconductor manufacturing apparatus 2, and the contact plate 17 is a conductive wire 17a having a predetermined resistance value so as to be electrically connected to the semiconductor wafer cassette 3. It is connected. The mobile robot 1 is equipped with a piston 18 which is a conductive drive mechanism at a position facing a contact plate 17 located when the mobile robot 1 stops at a station beside the semiconductor manufacturing apparatus 2. The piston 18 is supported by a piston cylinder 18b and is provided with a conductive piston rod 18c which is movable back and forth by a pneumatic force or a driving force of a linear motor or the like. The piston rod 18c is electrically connected to a grip 6c of the robot arm 6. As described above, they are connected by the conductive wire 18a having a predetermined resistance value. In the above-mentioned configuration, when the mobile robot 1 charged with electric charges moves to a predetermined station on the side of the semiconductor manufacturing apparatus 2 and stops while traveling, the piston rod 18c projects and the tip thereof due to the operating condition preset in the controller (not shown). Contacts the contact plate 17. Therefore, in the second embodiment, the contact plate 17, the piston 18, and the conductive wires 17a, 18a described above function as a conductive contact mechanism, and the grip 6c of the mobile robot 1 and the semiconductor wafer cassette 3 are the same without any electrical shock. It becomes a potential. Therefore, even if the grip 6c of the mobile robot 1 comes into contact with the semiconductor wafer cassette 3 for transferring it, no electrical shock occurs. Therefore, the semiconductor components (not shown) in the semiconductor wafer / cassette 3 are not destroyed and no noise is generated. The above-mentioned piston rod 18c itself is composed of a non-conductive object, the tip end portion of the piston rod 18c is composed of a conductive object, and this tip portion is electrically connected to the grip 6c of the robot arm 6 by a conductive wire 18a. You may do it. Contrary to the above configuration, the contact plate electrically connected to the grip 6c of the robot arm 6 of the mobile robot 1 and at least the tip of the semiconductor wafer / cassette 3 mounted on the semiconductor manufacturing apparatus 2 are provided. It goes without saying that a piston whose parts are electrically connected may be mounted.

【0008】 実施例3 図3によって示した移動ロボット1と半導体製造装置2との間で半導体ウェハ −・カセット3を移載する例に対して同様の導電性接触機構を使用して移動ロボ ット1(以下第1の移動ロボットと記す)と別の移動ロボットまたは搬送台車( 以下第2の移動ロボットと記す)10との間で半導体ウェハ−・カセット3を移 載する実施例3を図4によって説明する。 図3によって説明した実施例と同一の要素装置は同一の符号を記している。 図4において,第2の移動ロボット10は制御装置(図示せず)の指令により 駆動輪11によって床面5を所定の経路に従い,例えば半導体ウェハ−・カセッ ト3を搬送して走行し,所定のステーションに停止する。 第2の移動ロボット10の下部側面には導電性の接触板17を装着し,接触板 17は半導体ウェハ−・カセット3と電気的に接続するように所定の抵抗値を備 えた導線17aで接続されている。即ち,実施例3では導電性接触機構が接触板 17,ピストン18,及び導線17a,18aで構成されている。 第1の移動ロボット1には第1の移動ロボット1が第2の移動ロボット2の傍 らのステーションに停止した時に接触板17に対向する位置にピストン18が装 着されている。 第1の移動ロボット1は図3によって示した実施例2と同様である。ただし, ピストンロッド18cの長さ寸法等は必ずしも同一ではなく,第1の移動ロボッ ト1と第2の移動ロボット10とが停止するときの相互関係位置に対応して適切 に設定されている。 上述の構成において,走行中に電荷を帯電した第1の移動ロボット1と第2の 移動ロボット10とがそれぞれ所定の対向位置ステーションに移動し停止すると ,図示しない制御装置に予め設定した動作条件によってピストンロッド18cが 突出してその先端が接触板17に接触する。従って,第1の移動ロボット1のグ リップ6cと半導体ウェハ−・カセット3とは電気的衝撃なしに同電位になる。 従って,第1の移動ロボット1のグリップ6cが半導体ウェハ−・カセット3 を移載するために接触しても電気的衝撃は発生しない。よって,半導体ウェハ− ・カセット3内の半導体部品(図示せず)は破壊されず,また,ノイズは発生し ない。 上述したピストンロッド18c自体は非導電性の物体で構成し,ピストンロッ ド18c先端部を導電性物体で構成してこの先端部を導線18aでロボットア− ム6のグリップ6cと電気的に接続するようにしても良い。 また,上述の構成とは逆に,第1の移動ロボット1にロボットア−ム6のグリ ップ6cと電気的に接続した接触板,第2の移動ロボット10に積載する半導体 ウェハ−・カセット3に少なくともその先端部を電気的に接続したピストンを装 着しても良いことは当然である。Embodiment 3 A mobile robot using a similar conductive contact mechanism to the example of transferring the semiconductor wafer / cassette 3 between the mobile robot 1 and the semiconductor manufacturing apparatus 2 shown in FIG. Example 3 in which a semiconductor wafer / cassette 3 is transferred between a mobile station 1 (hereinafter referred to as a first mobile robot) and another mobile robot or a carrier (hereinafter referred to as a second mobile robot) 10 4 will be described. The same element devices as those of the embodiment described with reference to FIG. 3 are designated by the same reference numerals. In FIG. 4, the second mobile robot 10 is driven by a drive wheel 11 according to a command from a controller (not shown) to move along a predetermined path on the floor surface 5, for example, by carrying a semiconductor wafer / cassette 3 and running. Stop at the station. A conductive contact plate 17 is mounted on the lower side surface of the second mobile robot 10, and the contact plate 17 is connected by a conductive wire 17a having a predetermined resistance value so as to be electrically connected to the semiconductor wafer cassette 3. Has been done. That is, in the third embodiment, the conductive contact mechanism is composed of the contact plate 17, the piston 18, and the conductive wires 17a, 18a. A piston 18 is attached to the first mobile robot 1 at a position facing the contact plate 17 when the first mobile robot 1 stops at a station beside the second mobile robot 2. The first mobile robot 1 is similar to the second embodiment shown in FIG. However, the length and the like of the piston rod 18c are not necessarily the same, and are appropriately set according to the mutual relation position when the first mobile robot 1 and the second mobile robot 10 stop. In the above-mentioned configuration, when the first mobile robot 1 and the second mobile robot 10 charged with electric charges during traveling move to the predetermined opposite position stations and stop, the operating conditions set in advance in the control device (not shown) The piston rod 18c projects and the tip thereof contacts the contact plate 17. Therefore, the grip 6c of the first mobile robot 1 and the semiconductor wafer cassette 3 have the same potential without electrical shock. Therefore, even if the grip 6c of the first mobile robot 1 comes into contact with the semiconductor wafer cassette 3 to transfer it, no electric shock is generated. Therefore, the semiconductor parts in the semiconductor wafer-cassette 3 (not shown) are not destroyed and no noise is generated. The above-mentioned piston rod 18c itself is composed of a non-conductive object, the tip end portion of the piston rod 18c is composed of a conductive object, and this tip portion is electrically connected to the grip 6c of the robot arm 6 by a conductive wire 18a. You may do it. Contrary to the above configuration, a contact plate electrically connected to the grip 6c of the robot arm 6 of the first mobile robot 1 and a semiconductor wafer cassette to be loaded on the second mobile robot 10. It goes without saying that a piston having at least its tip end electrically connected to 3 may be mounted.

【0009】 実施例4 図1,図3によって説明した移動ロボット1と半導体製造装置2との間で半導 体ウェハ−・カセット3を移載する別の導電性接触機構を使用した実施例4を図 5によって説明する。 図1,図3によって説明した実施例と同一の要素装置は同一の符号を記してい る。 図5においては半導体製造装置2の下面に導電性の接続線9を装着し,接続線 9の先端は床面に貼付した,所定形状寸法の金属板によって形成した中継導電体 5aに接続している。また接続線9は半導体ウェハ−・カセット3と電気的に接 続するように所定の抵抗値を備えた導線9aで接続されている。 移動ロボット1には移動ロボット1が半導体製造装置2の傍らのステーション に停止した時に中継導電体5aの上部位置に位置するように導電性駆動機構であ るピストン18が下向きに装着されている。 ピストン18は実施例2と同様にピストンシリンダ18bによって支持され空 気圧その他の駆動力により,また,バネと組み合わせる等の手段によって上下に 移動可能にした導電性のピストンロッド18cが設けられ,ピストンロッド18 cはロボットアーム6のグリップ6cと電気的に接続するように所定の抵抗値を 備えた導線18aで接続されている。即ち,実施例4では導電性接触機構は中継 導電体5a,ピストン18,接続線9,及び導線9a,18aにより構成されて いる。 上述の構成において,走行中に電荷を帯電した移動ロボット1が所定の半導体 製造装置2側面のステーションに移動し停止すると,図示しない制御装置に予め 設定した動作条件によってピストンロッド18cが突出してその先端が中継導電 体5aに接触する。従って,上述した構成が導電性接触機構として機能し移動ロ ボット1のグリップ6cと半導体ウェハ−・カセット3とは電気的衝撃なしに同 電位になる。 従って,移動ロボット1のグリップ6cが半導体ウェハ−・カセット3を移載 するために接触しても電気的衝撃は発生しない。よって,半導体ウェハ−・カセ ット3内の半導体部品(図示せず)は破壊されず,また,ノイズは発生しない。 上述したピストン18は前述した実施例2,実施例3と同様,ピストンロッド 18c自体は非導電性の物体で構成し,ピストンロッド18c先端部を導電性物 体で構成してこの先端部を導線18aでロボットア−ム6のグリップ6cと電気 的に接続するようにしても良い。Example 4 Example 4 using another conductive contact mechanism for transferring the semiconductor wafer cassette 3 between the mobile robot 1 and the semiconductor manufacturing apparatus 2 described with reference to FIGS. Will be described with reference to FIG. The same element devices as those of the embodiment described with reference to FIGS. 1 and 3 are designated by the same reference numerals. In FIG. 5, a conductive connecting wire 9 is attached to the lower surface of the semiconductor manufacturing apparatus 2, and the tip of the connecting wire 9 is connected to a relay conductor 5a formed of a metal plate having a predetermined shape and affixed to the floor surface. There is. The connecting wire 9 is connected to the semiconductor wafer cassette 3 by a conductive wire 9a having a predetermined resistance value so as to be electrically connected. A piston 18, which is a conductive drive mechanism, is mounted downward on the mobile robot 1 so as to be located above the relay conductor 5a when the mobile robot 1 stops at a station beside the semiconductor manufacturing apparatus 2. The piston 18 is provided with a conductive piston rod 18c which is supported by a piston cylinder 18b and is movable up and down by a driving force such as atmospheric pressure or by a combination with a spring as in the second embodiment. 18c is connected to the grip 6c of the robot arm 6 by a conductive wire 18a having a predetermined resistance value so as to be electrically connected. That is, in the fourth embodiment, the conductive contact mechanism is composed of the relay conductor 5a, the piston 18, the connecting wire 9, and the conductive wires 9a, 18a. In the above-mentioned configuration, when the mobile robot 1 charged with electric charges moves to a predetermined station on the side of the semiconductor manufacturing apparatus 2 and stops while traveling, the piston rod 18c projects and the tip thereof due to the operating condition preset in the controller (not shown). Contacts the relay conductor 5a. Therefore, the above-described structure functions as a conductive contact mechanism, and the grip 6c of the moving robot 1 and the semiconductor wafer cassette 3 have the same potential without electrical shock. Therefore, even if the grip 6c of the mobile robot 1 comes into contact with the semiconductor wafer cassette 3 for transferring it, no electrical shock occurs. Therefore, the semiconductor components (not shown) in the semiconductor wafer / cassette 3 are not destroyed and no noise is generated. In the piston 18 described above, the piston rod 18c itself is made of a non-conductive material, and the tip end portion of the piston rod 18c is made of a conductive material, and the tip end portion is made into a conductive wire, as in the second and third embodiments described above. 18a may be electrically connected to the grip 6c of the robot arm 6.

【0010】 実施例5 図1,図3,図5によって説明した移動ロボット1と半導体製造装置2との間 で半導体ウェハ−・カセット3を移載する別の導電性接触機構を使用した実施例 5を図6によって説明する。 図1,図3,図5によって説明した実施例と同一の要素装置は同一の符号を記 している。 図6においては半導体製造装置2の上部所定位置に詳細を後述する接触棒12 が設けられ接触棒12は半導体ウェハ−・カセット3と電気的に接続するように 導線12aで接続されている。 移動ロボット1は標準装備であって,放電のための特別の要素部品は装備して いない。 図7には接触棒12の構造例を示している。図7において,接触棒12は所定 の弾性率を有する導電体棒12bの先端に所定の抵抗係数を有する球形の高抵抗 体12cを設けている。導電体棒12bは前述したように導線12aによって半 導体ウェハ−・カセット3と電気的に接続されている。即ち,実施例5では導電 性接触機構を接触棒12と導線12aで構成した例である。 上述の構成において,走行中に電荷を帯電した移動ロボット1が所定の半導体 製造装置2側面のステーションに移動し停止すると,図示しない制御装置の予め 設定した動作条件によって移動ロボット1のロボットアーム6の先端に装着され たグリップ6cを半導体製造装置2に設けた接触棒12の先端高抵抗体12cに 所定時間接触させる。従って,上述した構成が導電性接触機構として機能し移動 ロボット1のグリップ6cと半導体ウェハ−・カセット3とは電気的衝撃なしに 同電位になる。 従って,移動ロボット1のグリップ6cが半導体ウェハ−・カセット3を移載 するために接触しても電気的衝撃は発生しない。よって,半導体ウェハ−・カセ ット3内の半導体部品(図示せず)は破壊されず,また,ノイズは発生しない。Embodiment 5 An embodiment using another conductive contact mechanism for transferring the semiconductor wafer / cassette 3 between the mobile robot 1 and the semiconductor manufacturing apparatus 2 described with reference to FIGS. 1, 3 and 5. 5 will be described with reference to FIG. The same element devices as those of the embodiment described with reference to FIGS. 1, 3 and 5 are designated by the same reference numerals. In FIG. 6, a contact rod 12 whose details will be described later is provided at a predetermined position above the semiconductor manufacturing apparatus 2, and the contact rod 12 is connected to the semiconductor wafer cassette 3 by a conductive wire 12a so as to be electrically connected. The mobile robot 1 is standard equipment, and is not equipped with special element parts for discharge. FIG. 7 shows an example of the structure of the contact rod 12. In FIG. 7, the contact rod 12 is provided with a spherical high resistance body 12c having a predetermined resistance coefficient at the tip of a conductor rod 12b having a predetermined elastic modulus. The conductor rod 12b is electrically connected to the semiconductor wafer cassette 3 by the conductor wire 12a as described above. That is, the fifth embodiment is an example in which the conductive contact mechanism is composed of the contact rod 12 and the conductive wire 12a. In the above-mentioned configuration, when the mobile robot 1 charged with electric charges moves to a predetermined station on the side of the semiconductor manufacturing apparatus 2 and stops during traveling, the robot arm 6 of the mobile robot 1 moves according to preset operating conditions of a controller (not shown). The grip 6c attached to the tip is brought into contact with the tip high resistance body 12c of the contact rod 12 provided in the semiconductor manufacturing apparatus 2 for a predetermined time. Therefore, the above-described structure functions as a conductive contact mechanism, and the grip 6c of the mobile robot 1 and the semiconductor wafer cassette 3 have the same potential without electric shock. Therefore, even if the grip 6c of the mobile robot 1 comes into contact with the semiconductor wafer cassette 3 for transferring it, no electrical shock occurs. Therefore, the semiconductor components (not shown) in the semiconductor wafer / cassette 3 are not destroyed and no noise is generated.

【0011】 実施例6 図6,図7によって示した移動ロボット1と半導体製造装置2との間で半導体 ウェハ−・カセット3を移載する例と同様の導電性接触機構を使用して図4によ って示した実施例3と同様,第1の移動ロボット1と第2の移動ロボット10と の間で半導体ウェハ−・カセット3を移載する別の実施例6を図8によって説明 する。即ち,実施例6では導電性接触機構を第2のロボット10に設けた接触棒 12とカセット3を接続する導線12aで構成している。 図4,図6及び図7によって説明した実施例と同一の要素装置は同一の符号を 記している。 図8に示す構成において,走行中に電荷を帯電した第1の移動ロボット1と第 2の移動ロボット10とがそれぞれ所定の対向位置ステーションに移動し停止す ると,図示しない制御装置の予め設定した動作条件によって第1の移動ロボット 1のロボットアーム6の先端に装着されたグリップ6cを第2の移動ロボット1 0に設けた接触棒12の先端高抵抗体12cに所定時間接触させる。従って,第 1の移動ロボット1のグリップ6cと半導体ウェハ−・カセット3とは電気的衝 撃なしに同電位になる。 従って,第1の移動ロボット1のグリップ6cが半導体ウェハ−・カセット3 を移載するために接触しても電気的衝撃は発生しない。よって,半導体ウェハ− ・カセット3内の半導体部品(図示せず)は破壊されず,また,ノイズは発生し ない。Embodiment 6 Using the same conductive contact mechanism as the example of transferring the semiconductor wafer cassette 3 between the mobile robot 1 and the semiconductor manufacturing apparatus 2 shown in FIG. 6 and FIG. Similar to the third embodiment described above, another embodiment 6 in which the semiconductor wafer cassette 3 is transferred between the first mobile robot 1 and the second mobile robot 10 will be described with reference to FIG. . That is, in the sixth embodiment, the conductive contact mechanism is composed of the contact rod 12 provided on the second robot 10 and the conductive wire 12a for connecting the cassette 3. The same element devices as those of the embodiment described with reference to FIGS. 4, 6 and 7 are designated by the same reference numerals. In the configuration shown in FIG. 8, when the first mobile robot 1 and the second mobile robot 10, which have been charged with electric charges during traveling, respectively move to a predetermined opposite position station and stop, a controller (not shown) is preset. The grip 6c attached to the tip of the robot arm 6 of the first mobile robot 1 is brought into contact with the high resistance body 12c of the tip of the contact rod 12 provided on the second mobile robot 10 for a predetermined time according to the operating conditions described above. Therefore, the grip 6c of the first mobile robot 1 and the semiconductor wafer cassette 3 have the same electric potential without electric shock. Therefore, even if the grip 6c of the first mobile robot 1 comes into contact with the semiconductor wafer cassette 3 to transfer it, no electric shock is generated. Therefore, the semiconductor parts in the semiconductor wafer-cassette 3 (not shown) are not destroyed and no noise is generated.

【0012】 上述の説明は本考案に関する実施例を示したものであってその他本考案の技術 思想を活かして各種の搬送システムに応用改変することができる。 即ち,移載対象設備は,上述したように地上に固定される設備である半導体製 造装置であっても,搬送装置と同様に移動ロボットのように移動する移動可能設 備であっても良く,また,単なる棚であっても良い。 また,例えば,移載機構として,移動ロボットの作業機として多関節形のロボ ットアームを使用している例について説明したが,その他どのような移載用作業 機や移動機構に対しても適用できることは当然である。 また,各実施例で示したそれぞれの導線7a,8a,9a,17a,18aは 所定の抵抗値を有するように記したが,放電動作の時に半導体部品等に影響を及 ぼすような急激な電流変化を来さないように適切な抵抗値を有する導線を使用し ても良く,導線12aのようにその他の構成条件に対応して抵抗値の小さい通常 の導線を使用するようにしても良いし通常の導線に所定値の抵抗器を接続するよ うにしても良い。また,必要なければ,抵抗値の小さい銅線等を使用するように してもい良いことは当然である。 また,移動ロボット等の移動機構,または,半導体製造装置等の地上設備の構 造と電気的特性に対応して,接触板7,17,除電ブラシ8,接続線9,ピスト ン18,接触棒12はそれぞれ接続される導線を除いても良い。 また,導電性駆動機構としてピストン18を例示したが,導電性駆動機構は所 定の信号によって対向する接触板に接触できる構造であれば,モータ等によって 駆動される任意構造の可動機構に置き換えても良いことは当然である。 この場合もピストンと同様接触板に接触する先端部が導電性であって,放電す べき所定の場所に接続されていれば良い。 また,搬送装置の構造や移載対象装置の構造に対応して適切な構造の導電性接 触機構を適切に装着すれば良いことも当然である。 また,上述の説明ではいずれも搬送装置に移載装置を搭載する場合について説 明したが,各ステ−ションに移載装置を設備する場合についても本考案の技術思 想に従ってそれぞれの装置の構成に対応して適切な構造の放電装置を設ければ良 いことも当然である。The above description shows the embodiments of the present invention, and the technical concept of the present invention can be utilized to apply and modify various transport systems. That is, the equipment to be transferred may be a semiconductor manufacturing equipment that is fixed to the ground as described above, or a movable equipment that moves like a mobile robot like a transfer equipment. , Also, it may be just a shelf. Also, for example, an example in which an articulated robot arm is used as a work machine of a mobile robot as the transfer mechanism has been described, but it can be applied to any other transfer work machine or moving mechanism. Is natural. In addition, although the conductors 7a, 8a, 9a, 17a, and 18a shown in each of the embodiments are described as having a predetermined resistance value, the conductor wires 7a, 8a, 9a, 17a, and 18a have a certain resistance value. A conductive wire having an appropriate resistance value may be used so as not to cause a current change, and a normal conductive wire having a small resistance value may be used such as the conductive wire 12a corresponding to other constitutional conditions. However, a resistor having a predetermined value may be connected to the ordinary conductor. If it is not necessary, it is of course possible to use copper wire with a small resistance value. In addition, depending on the moving mechanism such as a mobile robot or the structure and electrical characteristics of the ground equipment such as semiconductor manufacturing equipment, the contact plates 7 and 17, the static elimination brush 8, the connecting wire 9, the piston 18, the contact rod. 12 may exclude the lead wire connected respectively. Although the piston 18 is illustrated as the conductive drive mechanism, the conductive drive mechanism may be replaced with a movable mechanism of an arbitrary structure driven by a motor or the like as long as the structure can contact the contact plates facing each other by a predetermined signal. Of course it is also good. In this case as well, as with the piston, the tip that contacts the contact plate should be conductive and connected to a predetermined location to be discharged. In addition, it is natural that a conductive contact mechanism having an appropriate structure may be properly mounted according to the structure of the transfer device or the structure of the transfer target device. In addition, in each of the above explanations, the case where the transfer device is mounted on the transfer device has been described. However, when the transfer device is installed in each station, the configuration of each device is in accordance with the technical concept of the present invention. Of course, it is only necessary to provide a discharge device having an appropriate structure corresponding to the above.

【0013】[0013]

【考案の効果】[Effect of device]

本考案は上述したように構成したので移載動作の前に,移載すべき設備装置間 の電位差を無くすことができる。従って,下記に記したような優れた効果が得ら れた。 移載されるべき半導体部品等が電気的破壊を受けたり制御装置がノイズによっ て誤動作をする恐れがない。 搬送装置または移載対象設備に接触板を装備し,移載対象設備または搬送装置 に除電ブラシを装備した場合は,移載動作の前に接触板と除電ブラシが接触し搬 送装置の帯電静電気が放電するので移載される半導体部品が電気的破壊すること なく,また,制御装置が誤動作することはない。 搬送装置または移載対象設備に接触板を装備し,移載対象設備または搬送装置 に導電性駆動機構を装備した場合は,移載動作の前に接触板と導電性駆動機構を 接触させることによって搬送装置の帯電静電気が放電するので移載される半導体 部品が電気的破壊することなく,また,制御装置が誤動作することはない。 床面に貼付した中継導電体に移載対象設備を接続し,搬送装置停止時における 該中継導電体上部位置に導電性駆動機構を装備した場合は,移載動作の前に中継 導電体と導電性駆動機構を接触させることによって搬送装置の帯電静電気が放電 するので移載される半導体部品が電気的破壊されることなく,また,制御装置が 誤動作することはない。 移載対象設備の搬送装置に装備した移載機構接触可能位置に接触棒を装備した 場合は,移載動作の前に移載機構を接触棒に接触させることによって搬送装置の 帯電静電気が放電するので移載される半導体部品が電気的破壊することなく,ま た,制御装置が誤動作することはない。 Since the present invention is configured as described above, it is possible to eliminate the potential difference between the equipments to be transferred before the transfer operation. Therefore, the excellent effects as described below were obtained. There is no risk of electrical damage to semiconductor components that should be transferred or malfunction of the control device due to noise. If the transfer device or transfer target equipment is equipped with a contact plate and the transfer target equipment or transfer device is equipped with a static elimination brush, the contact plate and the static elimination brush come into contact before the transfer operation and the electrostatic charge of the transfer device The transferred semiconductor parts will not be electrically damaged, and the control device will not malfunction. If the transfer device or the transfer target equipment is equipped with a contact plate and the transfer target equipment or transfer device is equipped with a conductive drive mechanism, the contact plate and the conductive drive mechanism are brought into contact before the transfer operation. Since the electrostatic charge of the transfer device is discharged, the transferred semiconductor parts are not electrically damaged, and the control device does not malfunction. If the equipment to be transferred is connected to the relay conductor attached to the floor surface and a conductive drive mechanism is installed at the upper position of the relay conductor when the transfer device is stopped, the relay conductor and the conductive material must be connected before the transfer operation. Since the static electricity of the transfer device is discharged by contacting the sexual drive mechanism, the transferred semiconductor parts are not electrically damaged and the control device does not malfunction. If a contact rod is installed at a position where the transfer mechanism of the transfer target equipment can contact the transfer mechanism, the electrostatic charge of the transfer device is discharged by bringing the transfer mechanism into contact with the contact rod before the transfer operation. Therefore, the transferred semiconductor components are not electrically damaged and the control device does not malfunction.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】搬送システムに本考案を適用した実施例1を説
明する概要構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram illustrating a first embodiment in which the present invention is applied to a transport system.

【図2】図1に示した除電ブラシの構造例を示す概要立
体構造図である。
FIG. 2 is a schematic three-dimensional structural diagram showing a structural example of the static elimination brush shown in FIG.

【図3】搬送システムに本考案を適用した実施例2を説
明する概要構成図である。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram illustrating a second embodiment in which the present invention is applied to a transport system.

【図4】搬送システムに本考案を適用した実施例3を説
明する概要構成図である。
FIG. 4 is a schematic configuration diagram illustrating a third embodiment in which the present invention is applied to a transfer system.

【図5】搬送システムに本考案を適用した実施例4を説
明する概要構成図である。
FIG. 5 is a schematic configuration diagram illustrating a fourth embodiment in which the present invention is applied to a transport system.

【図6】搬送システムに本考案を適用した実施例5を説
明する概要構成図である。
FIG. 6 is a schematic configuration diagram illustrating a fifth embodiment in which the present invention is applied to a transfer system.

【図7】図6に示した接触棒の構造例を示す概要側面図
である。
7 is a schematic side view showing a structural example of the contact rod shown in FIG.

【図8】搬送システムに本考案を適用した実施例6を説
明する概要構成図である。
FIG. 8 is a schematic configuration diagram illustrating a sixth embodiment in which the present invention is applied to a transfer system.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,10:搬送装置(移動ロボット) 2:移載対象装置(半導体製造装置)(ステーション) 3:半導体ウェハ−・カセット 4:駆動輪 5:床面 6:移載機構(ロボットアーム) 7,17:接触板 8:接触子(除電ブラシ) 9:接続線 12:接触棒 18:導電性駆動機構(ピストン) 12a,17a,18a:導線 1, 10: Transfer device (mobile robot) 2: Transfer target device (semiconductor manufacturing device) (station) 3: Semiconductor wafer / cassette 4: Drive wheel 5: Floor surface 6: Transfer mechanism (robot arm) 7, 17: Contact plate 8: Contact element (static elimination brush) 9: Connection wire 12: Contact rod 18: Conductive drive mechanism (piston) 12a, 17a, 18a: Conductor wire

Claims (5)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】 地上から非導電状態で支持され走行する
搬送装置によって部品を搬送する搬送システムにおい
て,搬送装置が所定のステーションに停止した後移載動
作を行う前に当該搬送装置に帯電した静電気の電位と移
載対象設備の電位とを等電位にするための所定抵抗値を
有する導電性接触機構を搬送装置又は/及び移載対象設
備に装備したことを特徴とする搬送装置の帯電静電気放
電装置。
1. A transfer system in which parts are transferred from a ground by a transfer device which is supported and runs in a non-conductive state, and static electricity charged on the transfer device after the transfer device stops at a predetermined station and before a transfer operation is performed. Electrostatic discharge of the carrier device, characterized in that the carrier device and / or the facility to be transferred is equipped with a conductive contact mechanism having a predetermined resistance value for making the potential of the transfer target equipment and the potential of the transfer target equipment equal. apparatus.
【請求項2】 請求項1記載の導電性接触機構は搬送装
置または移載対象設備には接触板を装備し,また移載対
象設備または搬送装置には除電ブラシを装備して構成さ
れる搬送装置の帯電静電気放電装置。
2. The conductive contact mechanism according to claim 1, wherein the transfer device or the transfer target equipment is equipped with a contact plate, and the transfer target equipment or the transfer device is equipped with an antistatic brush. Charging device electrostatic discharge device.
【請求項3】 請求項1記載の導電性接触機構は搬送装
置または移載対象設備には接触板を装備し,また移載対
象設備または搬送装置には導電性駆動機構を装備して構
成される搬送装置の帯電静電気放電装置。
3. The conductive contact mechanism according to claim 1, wherein the transfer device or the transfer target equipment is equipped with a contact plate, and the transfer target equipment or the transfer device is equipped with a conductive drive mechanism. Charging electrostatic discharge device for transport equipment.
【請求項4】 請求項1記載の導電性接触機構は床面に
貼付した中継導電体に移載対象設備を接続し,搬送装置
停止時における該中継導電体上部位置に導電性駆動機構
を装備して構成される搬送装置の帯電静電気放電装置。
4. The conductive contact mechanism according to claim 1, wherein the equipment to be transferred is connected to the relay conductor attached to the floor surface, and the conductive drive mechanism is provided at the upper position of the relay conductor when the transfer device is stopped. The electrostatic charging and discharging device of the transport device configured as described above.
【請求項5】 請求項1記載の導電性接触機構は移載対
象設備の搬送装置に装備した移載機構接触可能位置に接
触棒を装備して構成される搬送装置の帯電静電気放電装
置。
5. The electrostatic charging / discharging device of a transfer device, wherein the conductive contact mechanism according to claim 1 is equipped with a contact rod at a transfer mechanism contactable position provided in the transfer device of the transfer target facility.
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