JP2583253Y2 - Charged electrostatic discharge device for transport equipment - Google Patents
Charged electrostatic discharge device for transport equipmentInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この考案は磁気浮上搬送車,無人
搬送車,移動ロボット,リニア搬送装置などにより物品
を搬送する搬送システムに備えた補助機構に係り,特
に,この搬送システムの搬送装置と地上設備との間で物
品を移載するときに,搬送装置が走行中に帯電した静電
気を確実安全に放電して,移載する半導体部品等を電気
的に破壊される等の帯電した静電気による影響を防止す
る,安全で信頼性の高い搬送装置の帯電静電気放電装置
に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an auxiliary mechanism provided in a transport system for transporting articles by a magnetic levitation transport vehicle, an unmanned transport vehicle, a mobile robot, a linear transport device, and the like. When transferring goods to and from the ground equipment, the transfer device reliably discharges the static electricity charged while traveling, and the charged static electricity causes the semiconductor components to be transferred to be electrically destroyed. The present invention relates to a safe and reliable charged electrostatic discharge device for a transport device that prevents an influence.
【0002】[0002]
【従来の技術】所定の走行路を物品を積載して走行する
搬送装置は,磁気浮上搬送車においては絶縁物である空
気を介して地上から浮上して走行し,無人搬送車,移動
ロボット,リニア搬送装置などにおいては地上路面との
間に発生する振動を吸収するために,それぞれ弾性を備
えたタイヤが使用されることが多い。このようなタイヤ
は一般にゴム,樹脂等の電気的絶縁物が使用されてい
る。上述のようなタイヤを使用する搬送装置は走行中に
静電気を帯電することがある。また,磁気浮上搬送車の
ように地上とは非接触支持状態で走行する搬送装置にお
いても,搬送物や搬送装置と空気との摩擦によって静電
気が発生して帯電する。搬送物を搬送装置から他の装置
に,あるいは,地上に設備された装置から搬送装置に搬
送物を移載しようとする場合に上述のように帯電して移
載する装置と移載される装置との間の電位が異なると,
搬送物が移載対象装置と接触する瞬間に放電し,瞬間的
に発生する放電電流や電位変化等のために,半導体部品
等の搬送物を破壊したり制御装置が誤動作する場合があ
った。このために,搬送装置から導電性のベルト等を床
に垂らしたり,放電アンテナを搬送装置に装着して帯電
を防止する手段が行われている。このような帯電を防止
する装置には,特開昭62−125903号公報,実開
平1−88499号公報および実開平1−174281
号公報に開示されているものがある。特開昭62−12
5903号公報に記載のものは,非導電性走行路の一部
に導電性部材が露出する走行路を絶縁体で形成された車
輪を持つ搬送車を走行させるものにおいて,搬送車から
下垂された金属製の鎖と,この鎖の先端に装着された走
行面と接触する導電性弾性体からなる接触片とを備えた
ことを特徴としている。また,実開平1−88499号
公報に記載のものは,電子機器箱体の底面部に移動用キ
ャスタを取付けた移動型電子機器箱体の底面部に一端が
電気導通状態に取り付けられ,他端が常に床面に接触す
るひも状の導体を備えたことを特徴としている。さら
に,実開平1−174281号公報に記載のものは,バ
ッテリを搭載した車体に放電アンテナを設けたことを特
徴としている。2. Description of the Related Art In a magnetic levitation carrier, a carrier device that travels while loading articles on a predetermined traveling path floats from the ground via air, which is an insulating material, and travels unmanned carriers, mobile robots, In a linear transfer device and the like, elastic tires are often used to absorb vibration generated between the linear transfer device and the ground surface. Such tires generally use an electrical insulator such as rubber or resin. A transport device using the above-described tires may be charged with static electricity during traveling. Further, even in a transfer device that travels in a non-contact support state with the ground, such as a magnetic levitation transfer vehicle, static electricity is generated due to friction between a transfer object or the transfer device and air, and the device is charged. The above-mentioned charged and transferred device and the device to be transferred when transferring the transferred material from the transfer device to another device or from the device installed on the ground to the transfer device. If the potential between
Discharge occurs at the moment when the conveyed object comes into contact with the transfer target device, and the conveyed object such as a semiconductor component may be destroyed or the control device may malfunction due to an instantaneously generated discharge current or potential change. For this purpose, a means for hanging a conductive belt or the like on the floor from the transfer device or mounting a discharge antenna on the transfer device to prevent charging is used. Apparatuses for preventing such charging include JP-A-62-125903, JP-A-1-88499 and JP-A-1-174281.
Is disclosed in Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2000-205,878. JP-A-62-12
Japanese Patent No. 5903 discloses a method in which a carrier having wheels formed of an insulator is caused to travel on a traveling path where a conductive member is exposed to a part of a non-conductive traveling path. It is characterized by comprising a metal chain and a contact piece made of a conductive elastic body that comes into contact with the running surface mounted on the tip of the chain. Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-88499 discloses an electronic device box in which one end is mounted in an electrically conductive state on the bottom surface of a movable electronic device box in which a transfer caster is mounted on the bottom surface. Is characterized by having a string-shaped conductor that is always in contact with the floor surface. Furthermore, the one disclosed in Japanese Utility Model Laid-Open No. 1-174281 is characterized in that a discharge antenna is provided on a vehicle body on which a battery is mounted.
【0003】[0003]
【考案が解決しようとする課題】ところで,上述したよ
うな帯電を防止する手段を設けた搬送装置においては,
例えば,導電性のベルトやひもを垂らした手段による
と,床の状態,即ち,床の材質が金属なのか,非導電体
に金属でコーティングしてあるのか,導電性の樹脂であ
るか,さらに,このような金属や導電体が接地してある
かどうかによってその効果が変動する。また,搬送装置
に結合された導電性のベルトやひもと接触すべき床面と
の接触状態,即ち,床面の汚れ具合や接触の仕方によっ
てもその効果が変動する。また,放電アンテナを設けた
場合は完全に放電することができないので,一定の電位
が搬送装置に残留することになる。一方,最近の半導体
製造設備においては,耐圧の低い半導体が製造されるよ
うになり,半導体ウェハ−などの移載に関しては搬送装
置と地上設備等移載対象装置間の電位差を少しでも小さ
くすることが要求されている。また,搬送装置を駆動制
御する制御装置が微小レベルの信号で操作される半導体
によって構成されるようになってきているので,誤動作
の原因になる放電パルス電流等のノイズ源を極力低減す
ることが要求されている。このような要求に対して,上
述したような従来の帯電防止手段では不完全であって,
有効完全な放電手段が望まれている。本考案は上記従来
の問題点を対策して,搬送装置が稼働中に帯電した静電
気を移載作業前に移載対象設備に確実安全に放電する,
安全で信頼性の高い搬送装置の帯電静電気放電装置を提
供することを目的(課題)としている。However, in a transfer device provided with a means for preventing charging as described above,
For example, according to the means of hanging a conductive belt or string, the condition of the floor, that is, whether the floor material is metal, whether a non-conductive material is coated with metal, whether it is a conductive resin, or not. The effect varies depending on whether such a metal or a conductor is grounded. The effect also varies depending on the state of contact with the conductive belt or the floor surface to be brought into contact with the string, that is, the degree of soiling of the floor surface and the manner of contact. Further, when the discharge antenna is provided, the discharge cannot be completely performed, so that a constant potential remains in the transfer device. On the other hand, in recent semiconductor manufacturing facilities, semiconductors having a low withstand voltage have been manufactured, and for the transfer of semiconductor wafers and the like, it is necessary to minimize the potential difference between the transfer device and the equipment to be transferred such as ground equipment as much as possible. Is required. In addition, since the control device for controlling the drive of the transfer device is configured by a semiconductor that is operated by a minute level signal, it is possible to minimize a noise source such as a discharge pulse current that causes a malfunction. Has been requested. For such a demand, the conventional antistatic means as described above is incomplete,
Effective and complete discharge means are desired. The present invention solves the above-mentioned conventional problems by reliably and safely discharging static electricity charged during the operation of the transfer device to the equipment to be transferred before the transfer operation.
It is an object (problem) to provide a charged electrostatic discharge device for a transport device that is safe and highly reliable.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本考案に基づく搬送装置の帯電静電気放電装置におい
ては,地上から非導電状態で支持され走行する搬送装置
によって移載対象設備に載置される移載対象物を搬送す
る搬送システムにおいて,搬送装置が上記移載対象設備
に備える所定のステーションに停止した後,移載動作を
行う前に当該搬送装置に帯電した静電気の電位と上記移
載対象設備の電位とを等電位にするための所定抵抗値を
有する導電性接触機構を搬送装置又は/及び移載対象設
備に装備ようにした。上述した導電性接触機構は搬送装
置又は移載対象設備に接触板を装備し,また移載対象設
備又は搬送装置には除電ブラシを装備して構成すれば良
い。また,上述した導電性接触機構は搬送装置又は移載
対象設備には接触板を装備し,移載対象設備又は搬送装
置には導電性駆動機構を装備して構成しても良い。ま
た,上述した導電性接触機構は床面貼付の中継導電体を
装備し,搬送装置にはステーションへ停止の際に該中継
導電体と電気的に接続される導電性駆動機構を装備して
構成しても良い。また,上述した導電性接触機構は移載
対象設備の搬送装置に装備した移載機構接触可能位置に
接触棒を装備して構成しても良い。SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, in a charged electrostatic discharge device of a transport device according to the present invention, a transfer device supported in a non-conductive state from the ground and running is mounted on a transfer target facility. In the transfer system for transferring the transfer target object to be transferred, after the transfer device stops at a predetermined station provided in the transfer target facility, before the transfer operation is performed, the potential of the static electricity charged to the transfer device and the transfer potential are changed. A conductive contact mechanism having a predetermined resistance value for making the electric potential of the equipment to be mounted equal to the electric potential of the equipment to be mounted is provided on the transfer device and / or the equipment to be transferred. The above-described conductive contact mechanism may be configured by equipping a transfer device or a transfer target facility with a contact plate, and equipping the transfer target facility or the transfer device with a neutralization brush. Further, the above-mentioned conductive contact mechanism may be configured such that the transfer device or the transfer target equipment is provided with a contact plate, and the transfer target equipment or the transfer device is provided with a conductive drive mechanism. The above-mentioned conductive contact mechanism is equipped with a relay conductor attached to the floor surface, and the transport device is equipped with a conductive drive mechanism that is electrically connected to the relay conductor when stopped at the station. You may. Further, the above-mentioned conductive contact mechanism may be configured by equipping a transfer device of a transfer target facility with a contact rod at a position where the transfer mechanism can be contacted.
【0005】[0005]
【作用】本考案は,上述のように,所定抵抗値を有する
導電性接触機構を装備するようにしたので,移載作業の
前に所定の搬送装置と移載対象装置等との間でこの導電
性接触機構を接触させることによって搬送装置が帯電し
た静電気を移載対象装置に安定確実に放電できるので,
搬送装置と移載対象装置とは等電位になり,移載作業は
等電位の装置間で実行される。従って,移載される半導
体部品が電気的破壊されることなく,また,制御装置が
誤動作することはない。According to the present invention, as described above, the conductive contact mechanism having a predetermined resistance value is provided, so that the transfer between the predetermined transfer device and the device to be transferred is performed before the transfer operation. By bringing the conductive contact mechanism into contact, the static electricity charged by the transfer device can be stably and reliably discharged to the transfer target device.
The transfer device and the transfer target device have the same potential, and the transfer operation is performed between the devices having the same potential. Therefore, the semiconductor component to be transferred is not electrically destroyed, and the control device does not malfunction.
【0006】[0006]
【実施例】搬送システムにおける本考案に基づく搬送装
置の帯電静電気放電装置の詳細を図を参照して詳細に説
明する。 実施例1 図1は搬送装置の一例である移動ロボット1と移載対象
設備である半導体製造装置2に載置される移載対象物で
ある半導体ウェハー・カセット3を移載する例を示して
いる。移動ロボット1は制御装置(図示せず)の指令に
より駆動輪4によって床面5を所定の経路に従って走行
し,所定のステーション,例えば,半導体製造装置2の
傍らに停止し,移載機構である所定形状寸法個数の腕部
6a,二個の腕部6aを相互に回転可能に連結する関節
部6b及びグリップ6c等を備えたロボットアーム6に
よって,半導体ウェハー・カセット3を移載する。移動
ロボット1の側面下部には導電性の接触板7が所定の抵
抗値を有する電気的導線7aによってロボットアーム6
に接続され,ロボットアーム6の先端部グリップ6cと
接触板7とは電気的に導通している。半導体製造装置2
の,移動ロボット1が停止した時に位置する接触板7の
対向位置に詳細を後述する除電ブラシ等の接触子8が装
着され,この接触子8は半導体ウェハー・カセット3と
電気的に接続するように所定の抵抗値を有する導線8a
で接続されている。除電ブラシ8の1例を図2によって
説明する。図2は除電ブラシ8の概要外観を示してい
て,除電ブラシ8の板状部8bの側面に多数の弾性を備
えた導電性の針を並べた導電性ブラシ8cが設けられ,
板状部8bの他の面からは導電性ブラシ8cに電気的に
接続した所定の抵抗値を備えた電気的導線8aが導き出
され,導線8aは前述したように半導体ウェハー・カセ
ット3と電気的に接続されるように形成されている。即
ち,本実施例では導電性接触機構を接触板7,接触子8
と導線7a,8aで構成したものである。上述の構成に
おいて,走行中に電荷を帯電した移動ロボット1が所定
の半導体製造装置2の側面に設けたステーションに移動
し停止すると,除電ブラシ8の導電性ブラシ8cは接触
板7に接触する。従って,上述した構成が導電性接触機
構として機能し移動ロボット1のグリップ6cと半導体
ウェハー・カセット3とは電気的衝撃なしに同電位にな
る。従って,移動ロボット1のグリップ6cが半導体ウ
ェハー・カセット3を移載するために接触しても電気的
衝撃は発生しない。よって,半導体ウェハー・カセット
3内の半導体部品(図示せず)は破壊されず,また,ノ
イズは発生しない。上述の構成とは逆に,移動ロボット
1に除電ブラシ等の接触子,半導体製造装置2に接触板
を装着しても良いことは当然である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The details of a charged electrostatic discharge device of a transfer device according to the present invention in a transfer system will be described in detail with reference to the drawings. First Embodiment FIG. 1 shows an example in which a mobile robot 1 which is an example of a transfer device and a semiconductor wafer cassette 3 which is a transfer target mounted on a semiconductor manufacturing apparatus 2 which is a transfer target facility are transferred. I have. The mobile robot 1 travels on the floor 5 along a predetermined route by driving wheels 4 according to a command from a control device (not shown), stops at a predetermined station, for example, beside the semiconductor manufacturing apparatus 2, and is a transfer mechanism. The semiconductor wafer cassette 3 is transferred by a robot arm 6 having an arm 6a having a predetermined shape and size, a joint 6b for rotatably connecting the two arms 6a to each other, a grip 6c, and the like. A conductive contact plate 7 is provided on the lower part of the side surface of the mobile robot 1 by an electric lead 7a having a predetermined resistance value.
, And the distal end grip 6c of the robot arm 6 and the contact plate 7 are electrically connected. Semiconductor manufacturing equipment 2
A contact 8 such as a static elimination brush, which will be described in detail later, is mounted at a position facing the contact plate 7 which is located when the mobile robot 1 stops, and the contact 8 is electrically connected to the semiconductor wafer cassette 3. 8a having a predetermined resistance value
Connected by One example of the charge removing brush 8 will be described with reference to FIG. FIG. 2 shows a schematic appearance of the static elimination brush 8, and a conductive brush 8c in which a large number of conductive needles having elasticity are arranged on a side surface of a plate-like portion 8b of the static elimination brush 8,
From the other surface of the plate portion 8b, an electrical lead 8a having a predetermined resistance electrically connected to the conductive brush 8c is led out, and the lead 8a is electrically connected to the semiconductor wafer cassette 3 as described above. It is formed so that it may be connected to. That is, in this embodiment, the conductive contact mechanism is constituted by the contact plate 7, the contact 8
And the conductors 7a and 8a. In the above-described configuration, when the mobile robot 1 charged with electric charge while traveling moves to a station provided on a side surface of the predetermined semiconductor manufacturing apparatus 2 and stops, the conductive brush 8c of the neutralization brush 8 comes into contact with the contact plate 7. Accordingly, the above-described configuration functions as a conductive contact mechanism, and the grip 6c of the mobile robot 1 and the semiconductor wafer cassette 3 have the same potential without an electric shock. Therefore, even if the grip 6c of the mobile robot 1 comes into contact with the semiconductor wafer cassette 3 to transfer it, no electric shock is generated. Therefore, semiconductor components (not shown) in the semiconductor wafer cassette 3 are not destroyed, and no noise is generated. Contrary to the above-described configuration, it is natural that the mobile robot 1 may be provided with a contact such as a neutralization brush and the semiconductor manufacturing apparatus 2 may be provided with a contact plate.
【0007】実施例2 図3によって移動ロボット1と移載対象設備である半導
体製造装置2との間で移載対象物である半導体ウェハー
・カセット3を移載する別の導電性接触機構を使用した
実施例2を示す。図1によって説明した実施例と同一の
要素装置は同一の符号を記している。図3においては半
導体製造装置2の下部側面に導電性の接触板17を装着
し,接触板17は半導体ウェハー・カセット3と電気的
に接続するように所定の抵抗値を備えた導線17aで接
続されている。移動ロボット1には移動ロボット1が半
導体製造装置2の傍らのステーションに停止した時に位
置する接触板17の対向位置に導電性駆動機構であるピ
ストン18が装着されている。ピストン18はピストン
シリンダ18bによって支持され空気圧またはリニアモ
ータ等の駆動力によって前後に移動可能にした導電性の
ピストンロッド18cが設けられ,ピストンロッド18
cはロボットアーム6のグリップ6cと電気的に接続す
るように所定の抵抗値を備えた導線18aで接続されて
いる。上述の構成において,走行中に電荷を帯電した移
動ロボット1が所定の半導体製造装置2側面のステーシ
ョンに移動し停止すると,図示しない制御装置に予め設
定した動作条件によってピストンロッド18cが突出し
てその先端が接触板17に接触する。従って,実施例2
では上述した接触板17,ピストン18,及び導線17
a,18aが導電性接触機構として機能し移動ロボット
1のグリップ6cと半導体ウェハー・カセット3とは電
気的衝撃なしに同電位になる。従って,移動ロボット1
のグリップ6cが半導体ウェハー・カセット3を移載す
るために接触しても電気的衝撃は発生しない。よって,
半導体ウェハー・カセット3内の半導体部品(図示せ
ず)は破壊されず,また,ノイズは発生しない。上述し
たピストンロッド18c自体は非導電性の物体で構成
し,ピストンロッド18c先端部を導電性物体で構成し
てこの先端部を導線18aでロボットアーム6のグリッ
プ6cと電気的に接続するようにしても良い。また,上
述の構成とは逆に,移動ロボット1にロボットアーム6
のグリップ6cと電気的に接続した接触板,半導体製造
装置2に積載する半導体ウェハー・カセット3に少なく
ともその先端部を電気的に接続したピストンを装着して
も良いことは当然である。Embodiment 2 Referring to FIG. 3, another conductive contact mechanism for transferring a semiconductor wafer cassette 3 to be transferred between a mobile robot 1 and a semiconductor manufacturing apparatus 2 to be transferred is used. Example 2 is shown. The same elements as those in the embodiment described with reference to FIG. 1 are denoted by the same reference numerals. In FIG. 3, a conductive contact plate 17 is mounted on the lower side surface of the semiconductor manufacturing apparatus 2, and the contact plate 17 is connected by a conductive wire 17a having a predetermined resistance value so as to be electrically connected to the semiconductor wafer cassette 3. Have been. The mobile robot 1 is provided with a piston 18 as a conductive drive mechanism at a position facing the contact plate 17 located when the mobile robot 1 stops at a station beside the semiconductor manufacturing apparatus 2. The piston 18 is provided with a conductive piston rod 18c which is supported by a piston cylinder 18b and which can be moved back and forth by air pressure or driving force of a linear motor or the like.
c is connected to a grip 6c of the robot arm 6 by a conductive wire 18a having a predetermined resistance so as to be electrically connected. In the above-described configuration, when the mobile robot 1 charged with electric charge during traveling moves to a predetermined station on the side of the semiconductor manufacturing apparatus 2 and stops, the piston rod 18c protrudes under the operating conditions set in advance by a control device (not shown) and its tip Contacts the contact plate 17. Therefore, Embodiment 2
Now, the contact plate 17, the piston 18, and the conductor 17 described above are used.
a, 18a function as a conductive contact mechanism, and the grip 6c of the mobile robot 1 and the semiconductor wafer cassette 3 have the same potential without an electric shock. Therefore, mobile robot 1
No electrical shock is generated even if the grip 6c contacts the semiconductor wafer cassette 3 for transfer. Therefore,
The semiconductor components (not shown) in the semiconductor wafer cassette 3 are not destroyed, and no noise is generated. The above-described piston rod 18c itself is made of a non-conductive object, and the tip of the piston rod 18c is made of a conductive object, and this tip is electrically connected to the grip 6c of the robot arm 6 by a conducting wire 18a. May be. In addition, contrary to the above configuration, the mobile robot 1 is provided with the robot arm 6.
It is a matter of course that a contact plate electrically connected to the grip 6c and a piston electrically connected at least at the tip thereof may be mounted on the semiconductor wafer cassette 3 mounted on the semiconductor manufacturing apparatus 2.
【0008】実施例3 図3によって示した移動ロボット1と移載対象設備であ
る半導体製造装置2との間で移載対象物である半導体ウ
ェハー・カセット3を移載する例に対して同様の導電性
接触機構を使用して移動ロボット1(以下第1の移動ロ
ボットと記す)と別の移動ロボットまたは搬送台車(以
下第2の移動ロボットと記す)10との間で半導体ウェ
ハー・カセット3を移載する実施例3を図4によって説
明する。図3によって説明した実施例と同一の要素装置
は同一の符号を記している。図4において,第2の移動
ロボット10は制御装置(図示せず)の指令により駆動
輪11によって床面5を所定の経路に従い,例えば半導
体ウェハー・カセット3を搬送して走行し,所定のステ
ーションに停止する。第2の移動ロボット10の下部側
面には導電性の接触板17を装着し,接触板17は半導
体ウェハー・カセット3と電気的に接続するように所定
の抵抗値を備えた導線17aで接続されている。即ち,
実施例3では導電性接触機構が接触板17,ピストン1
8,及び導線17a,18aで構成されている。第1の
移動ロボット1には第1の移動ロボット1が第2の移動
ロボット2の傍らのステーションに停止した時に接触板
17に対向する位置にピストン18が装着されている。
第1の移動ロボット1は図3によって示した実施例2と
同様である。ただし,ピストンロッド18cの長さ寸法
等は必ずしも同一ではなく,第1の移動ロボット1と第
2の移動ロボット10とが停止するときの相互関係位置
に対応して適切に設定されている。上述の構成におい
て,走行中に電荷を帯電した第1の移動ロボット1と第
2の移動ロボット10とがそれぞれ所定の対向位置ステ
ーションに移動し停止すると,図示しない制御装置に予
め設定した動作条件によってピストンロッド18cが突
出してその先端が接触板17に接触する。従って,第1
の移動ロボット1のグリップ6cと半導体ウェハー・カ
セット3とは電気的衝撃なしに同電位になる。従って,
第1の移動ロボット1のグリップ6cが半導体ウェハー
・カセット3を移載するために接触しても電気的衝撃は
発生しない。よって,半導体ウェハー・カセット3内の
半導体部品(図示せず)は破壊されず,また,ノイズは
発生しない。上述したピストンロッド18c自体は非導
電性の物体で構成し,ピストンロッド18c先端部を導
電性物体で構成してこの先端部を導線18aでロボット
アーム6のグリップ6cと電気的に接続するようにして
も良い。また,上述の構成とは逆に,第1の移動ロボッ
ト1にロボットアーム6のグリップ6cと電気的に接続
した接触板,第2の移動ロボット10に積載する半導体
ウェハー・カセット3に少なくともその先端部を電気的
に接続したピストンを装着しても良いことは当然であ
る。Embodiment 3 The same applies to an example in which a semiconductor wafer cassette 3 as a transfer target is transferred between a mobile robot 1 and a semiconductor manufacturing apparatus 2 as a transfer target facility shown in FIG. The semiconductor wafer cassette 3 is transferred between the mobile robot 1 (hereinafter, referred to as a first mobile robot) and another mobile robot or a carrier (hereinafter, referred to as a second mobile robot) 10 using a conductive contact mechanism. A third embodiment to be transferred will be described with reference to FIG. The same elements as those in the embodiment described with reference to FIG. 3 are denoted by the same reference numerals. In FIG. 4, a second mobile robot 10 travels along a floor 5 by a drive wheel 11 according to a command from a control device (not shown), for example, by transporting a semiconductor wafer cassette 3 to a predetermined station. To stop. A conductive contact plate 17 is mounted on the lower side surface of the second mobile robot 10, and the contact plate 17 is connected to the semiconductor wafer cassette 3 by a conductive wire 17 a having a predetermined resistance so as to be electrically connected to the semiconductor wafer cassette 3. ing. That is,
In the third embodiment, the conductive contact mechanism includes the contact plate 17 and the piston 1
8 and conductors 17a and 18a. A piston 18 is mounted on the first mobile robot 1 at a position facing the contact plate 17 when the first mobile robot 1 stops at a station beside the second mobile robot 2.
The first mobile robot 1 is the same as the second embodiment shown in FIG. However, the length and the like of the piston rod 18c are not necessarily the same, and are appropriately set in accordance with the mutual relationship position when the first mobile robot 1 and the second mobile robot 10 stop. In the above-described configuration, when the first mobile robot 1 and the second mobile robot 10 charged with electric charges while traveling move to predetermined opposing position stations and stop, respectively, according to operating conditions preset in a control device (not shown). The piston rod 18c projects and its tip comes into contact with the contact plate 17. Therefore, the first
The grip 6c of the mobile robot 1 and the semiconductor wafer cassette 3 have the same potential without an electric shock. Therefore,
Even if the grip 6c of the first mobile robot 1 comes into contact for transferring the semiconductor wafer cassette 3, no electric shock is generated. Therefore, semiconductor components (not shown) in the semiconductor wafer cassette 3 are not destroyed, and no noise is generated. The above-described piston rod 18c itself is formed of a non-conductive object, and the tip of the piston rod 18c is formed of a conductive object, and this tip is electrically connected to the grip 6c of the robot arm 6 by a conducting wire 18a. May be. Contrary to the above configuration, the first mobile robot 1 has a contact plate electrically connected to the grip 6c of the robot arm 6, and the semiconductor wafer cassette 3 mounted on the second mobile robot 10 has at least the tip thereof. It goes without saying that a piston whose parts are electrically connected may be mounted.
【0009】実施例4 図1,図3によって説明した移動ロボット1と移載対象
設備である半導体製造装置2との間で移載対象物である
半導体ウェハー・カセット3を移載する別の導電性接触
機構を使用した実施例4を図5によって説明する。図
1,図3によって説明した実施例と同一の要素装置は同
一の符号を記している。図5においては半導体製造装置
2の下面に導電性の接続線9を装着し,接続線9の先端
は床面に貼付した,所定形状寸法の金属板によって形成
した中継導電体5aに接続している。また接続線9は半
導体ウェハー・カセット3と電気的に接続するように所
定の抵抗値を備えた導線9aで接続されている。移動ロ
ボット1には移動ロボット1が半導体製造装置2の傍ら
のステーションに停止した時に中継導電体5aの上部位
置に位置するように導電性駆動機構であるピストン18
が下向きに装着されている。ピストン18は実施例2と
同様にピストンシリンダ18bによって支持され空気圧
その他の駆動力により,また,バネと組み合わせる等の
手段によって上下に移動可能にした導電性のピストンロ
ッド18cが設けられ,ピストンロッド18cはロボッ
トアーム6のグリップ6cと電気的に接続するように所
定の抵抗値を備えた導線18aで接続されている。即
ち,実施例4では導電性接触機構は中継導電体5a,ピ
ストン18,接続線9,及び導線9a,18aにより構
成されている。上述の構成において,走行中に電荷を帯
電した移動ロボット1が所定の半導体製造装置2側面の
ステーションに移動し停止すると,図示しない制御装置
に予め設定した動作条件によってピストンロッド18c
が突出してその先端が中継導電体5aに接触する。従っ
て,上述した構成が導電性接触機構として機能し移動ロ
ボット1のグリップ6cと半導体ウェハー・カセット3
とは電気的衝撃なしに同電位になる。従って,移動ロボ
ット1のグリップ6cが半導体ウェハー・カセット3を
移載するために接触しても電気的衝撃は発生しない。よ
って,半導体ウェハー・カセット3内の半導体部品(図
示せず)は破壊されず,また,ノイズは発生しない。上
述したピストン18は前述した実施例2,実施例3と同
様,ピストンロッド18c自体は非導電性の物体で構成
し,ピストンロッド18c先端部を導電性物体で構成し
てこの先端部を導線18aでロボットアーム6のグリッ
プ6cと電気的に接続するようにしても良い。Embodiment 4 Another conductive member for transferring a semiconductor wafer cassette 3 to be transferred between the mobile robot 1 described with reference to FIGS. 1 and 3 and a semiconductor manufacturing apparatus 2 to be transferred. Embodiment 4 using the sexual contact mechanism will be described with reference to FIG. The same elements as those in the embodiment described with reference to FIGS. 1 and 3 are denoted by the same reference numerals. In FIG. 5, a conductive connection line 9 is mounted on the lower surface of the semiconductor manufacturing apparatus 2, and the end of the connection line 9 is connected to a relay conductor 5a formed of a metal plate having a predetermined shape and size attached to a floor surface. I have. The connection line 9 is connected to the semiconductor wafer cassette 3 by a conductor 9a having a predetermined resistance so as to be electrically connected. The mobile robot 1 has a piston 18 which is a conductive drive mechanism such that the mobile robot 1 is positioned above the relay conductor 5a when the mobile robot 1 stops at a station beside the semiconductor manufacturing apparatus 2.
Is mounted downward. The piston 18 is provided with a conductive piston rod 18c which is supported by a piston cylinder 18b and can be moved up and down by pneumatic pressure or other driving force or by means such as combination with a spring. Is connected by a conducting wire 18a having a predetermined resistance so as to be electrically connected to the grip 6c of the robot arm 6. That is, in the fourth embodiment, the conductive contact mechanism includes the relay conductor 5a, the piston 18, the connection wire 9, and the conductive wires 9a and 18a. In the above-described configuration, when the mobile robot 1 charged with electric charge during traveling moves to a predetermined station on the side of the semiconductor manufacturing apparatus 2 and stops, the piston rod 18c is operated according to operating conditions set in advance by a control device (not shown).
Protrudes and its tip comes into contact with the relay conductor 5a. Accordingly, the above-described configuration functions as a conductive contact mechanism, and the grip 6c of the mobile robot 1 and the semiconductor wafer cassette 3
Is the same potential without electrical shock. Therefore, even if the grip 6c of the mobile robot 1 comes into contact with the semiconductor wafer cassette 3 to transfer it, no electric shock is generated. Therefore, semiconductor components (not shown) in the semiconductor wafer cassette 3 are not destroyed, and no noise is generated. In the piston 18 described above, similarly to the second and third embodiments, the piston rod 18c itself is made of a non-conductive object, the tip of the piston rod 18c is made of a conductive object, and this tip is connected to the conducting wire 18a. May be electrically connected to the grip 6c of the robot arm 6.
【0010】実施例5 図1,図3,図5によって説明した移動ロボット1と移
載対象設備である半導体製造装置2との間で移載対象物
である半導体ウェハー・カセット3を移載する別の導電
性接触機構を使用した実施例5を図6によって説明す
る。図1,図3,図5によって説明した実施例と同一の
要素装置は同一の符号を記している。図6においては半
導体製造装置2の上部所定位置に詳細を後述する接触棒
12が設けられ接触棒12は半導体ウェハー・カセット
3と電気的に接続するように導線12aで接続されてい
る。移動ロボット1は標準装備であって,放電のための
特別の要素部品は装備していない。図7には接触棒12
の構造例を示している。図7において,接触棒12は所
定の弾性率を有する導電体棒12bの先端に所定の抵抗
係数を有する球形の高抵抗体12cを設けている。導電
体棒12bは前述したように導線12aによって半導体
ウェハー・カセット3と電気的に接続されている。即
ち,実施例5では導電性接触機構を接触棒12と導線1
2aで構成した例である。上述の構成において,走行中
に電荷を帯電した移動ロボット1が所定の半導体製造装
置2側面のステーションに移動し停止すると,図示しな
い制御装置の予め設定した動作条件によって移動ロボッ
ト1のロボットアーム6の先端に装着されたグリップ6
cを半導体製造装置2に設けた接触棒12の先端高抵抗
体12cに所定時間接触させる。従って,上述した構成
が導電性接触機構として機能し移動ロボット1のグリッ
プ6cと半導体ウェハー・カセット3とは電気的衝撃な
しに同電位になる。従って,移動ロボット1のグリップ
6cが半導体ウェハー・カセット3を移載するために接
触しても電気的衝撃は発生しない。よって,半導体ウェ
ハー・カセット3内の半導体部品(図示せず)は破壊さ
れず,また,ノイズは発生しない。Embodiment 5 A semiconductor wafer cassette 3 to be transferred is transferred between the mobile robot 1 described with reference to FIGS. 1, 3 and 5 and a semiconductor manufacturing apparatus 2 to be transferred. A fifth embodiment using another conductive contact mechanism will be described with reference to FIG. The same elements as those of the embodiment described with reference to FIGS. 1, 3 and 5 are denoted by the same reference numerals. In FIG. 6, a contact rod 12, which will be described in detail later, is provided at a predetermined position above the semiconductor manufacturing apparatus 2. The contact rod 12 is connected to the semiconductor wafer cassette 3 by a conducting wire 12a so as to be electrically connected thereto. The mobile robot 1 is a standard equipment and does not have any special component parts for electric discharge. FIG.
2 shows an example of the structure. In FIG. 7, a contact rod 12 is provided with a spherical high resistance body 12c having a predetermined resistance coefficient at the tip of a conductive rod 12b having a predetermined elastic modulus. The conductor bar 12b is electrically connected to the semiconductor wafer cassette 3 by the conducting wire 12a as described above. That is, in the fifth embodiment, the conductive contact mechanism includes the contact rod 12 and the conductive wire 1.
2a. In the above-described configuration, when the mobile robot 1 charged with electric charge while traveling moves to a predetermined station on the side of the semiconductor manufacturing apparatus 2 and stops, the robot arm 6 of the mobile robot 1 is operated according to preset operating conditions of a control device (not shown). Grip 6 attached to the tip
The contact c is brought into contact with the tip high-resistance body 12c of the contact rod 12 provided in the semiconductor manufacturing apparatus 2 for a predetermined time. Accordingly, the above-described configuration functions as a conductive contact mechanism, and the grip 6c of the mobile robot 1 and the semiconductor wafer cassette 3 have the same potential without an electric shock. Therefore, even if the grip 6c of the mobile robot 1 comes into contact with the semiconductor wafer cassette 3 to transfer it, no electric shock is generated. Therefore, semiconductor components (not shown) in the semiconductor wafer cassette 3 are not destroyed, and no noise is generated.
【0011】実施例6 図6,図7によって示した移動ロボット1と移載対象設
備である半導体製造装置2との間で移載対象物である半
導体ウェハー・カセット3を移載する例と同様の導電性
接触機構を使用して図4によって示した実施例3と同
様,第1の移動ロボット1と第2の移動ロボット10と
の間で半導体ウェハー・カセット3を移載する別の実施
例6を図8によって説明する。即ち,実施例6では導電
性接触機構を第2のロボット10に設けた接触棒12と
カセット3を接続する導線12aで構成している。図
4,図6及び図7によって説明した実施例と同一の要素
装置は同一の符号を記している。図8に示す構成におい
て,走行中に電荷を帯電した第1の移動ロボット1と第
2の移動ロボット10とがそれぞれ所定の対向位置ステ
ーションに移動し停止すると,図示しない制御装置の予
め設定した動作条件によって第1の移動ロボット1のロ
ボットアーム6の先端に装着されたグリップ6cを第2
の移動ロボット10に設けた接触棒12の先端高抵抗体
12cに所定時間接触させる。従って,第1の移動ロボ
ット1のグリップ6cと半導体ウェハー・カセット3と
は電気的衝撃なしに同電位になる。従って,第1の移動
ロボット1のグリップ6cが半導体ウェハー・カセット
3を移載するために接触しても電気的衝撃は発生しな
い。よって,半導体ウェハー・カセット3内の半導体部
品(図示せず)は破壊されず,また,ノイズは発生しな
い。Embodiment 6 The same as the example of transferring the semiconductor wafer cassette 3 as the transfer target between the mobile robot 1 and the semiconductor manufacturing apparatus 2 as the transfer target equipment shown in FIGS. Another embodiment in which the semiconductor wafer cassette 3 is transferred between the first mobile robot 1 and the second mobile robot 10 in the same manner as the third embodiment shown in FIG. 6 will be described with reference to FIG. That is, in the sixth embodiment, the conductive contact mechanism is configured by the contact rod 12 provided on the second robot 10 and the conducting wire 12 a connecting the cassette 3. The same components as those of the embodiment described with reference to FIGS. 4, 6 and 7 are denoted by the same reference numerals. In the configuration shown in FIG. 8, when the first mobile robot 1 and the second mobile robot 10 charged with electric charges during traveling move to predetermined opposing position stations and stop, respectively, a preset operation of a control device (not shown) is performed. Depending on conditions, the grip 6c attached to the tip of the robot arm 6 of the first mobile robot 1
Of the contact rod 12 provided in the mobile robot 10 of FIG. Therefore, the grip 6c of the first mobile robot 1 and the semiconductor wafer cassette 3 have the same potential without an electric shock. Therefore, even if the grip 6c of the first mobile robot 1 comes in contact with the semiconductor wafer cassette 3 to transfer it, no electric shock is generated. Therefore, semiconductor components (not shown) in the semiconductor wafer cassette 3 are not destroyed, and no noise is generated.
【0012】上述の説明は本考案に関する実施例を示し
たものであってその他本考案の技術思想を活かして各種
の搬送システムに応用改変することができる。即ち,移
載対象設備は,上述したように地上に固定される設備で
ある半導体製造装置であっても,搬送装置と同様に移動
ロボットのように移動する移動可能設備であっても良
く,また,単なる棚であっても良い。また,例えば,移
載機構として,移動ロボットの作業機として多関節形の
ロボットアームを使用している例について説明したが,
その他どのような移載用作業機や移動機構に対しても適
用できることは当然である。また,各実施例で示したそ
れぞれの導線7a,8a,9a,17a,18aは所定
の抵抗値を有するように記したが,放電動作の時に半導
体部品等に影響を及ぼすような急激な電流変化を来さな
いように適切な抵抗値を有する導線を使用しても良く,
導線12aのようにその他の構成条件に対応して抵抗値
の小さい通常の導線を使用するようにしても良いし通常
の導線に所定値の抵抗器を接続するようにしても良い。
また,必要なければ,抵抗値の小さい銅線等を使用する
ようにしてもい良いことは当然である。また,移動ロボ
ット等の移動機構,または,半導体製造装置等の地上設
備の構造と電気的特性に対応して,接触板7,17,除
電ブラシ8,接続線9,ピストン18,接触棒12はそ
れぞれ接続される導線を除いても良い。また,導電性駆
動機構としてピストン18を例示したが,導電性駆動機
構は所定の信号によって対向する接触板に接触できる構
造であれば,モータ等によって駆動される任意構造の可
動機構に置き換えても良いことは当然である。この場合
もピストンと同様接触板に接触する先端部が導電性であ
って,放電すべき所定の場所に接続されていれば良い。
また,搬送装置の構造や移載対象装置の構造に対応して
適切な構造の導電性接触機構を適切に装着すれば良いこ
とも当然である。また,上述の説明ではいずれも搬送装
置に移載装置を搭載する場合について説明したが,各ス
テ−ションに移載装置を設備する場合についても本考案
の技術思想に従ってそれぞれの装置の構成に対応して適
切な構造の放電装置を設ければ良いことも当然である。The above description shows an embodiment relating to the present invention, and can be applied to various transport systems utilizing the technical idea of the present invention. That is, the equipment to be transferred may be a semiconductor manufacturing apparatus that is fixed on the ground as described above, or may be a movable equipment that moves like a mobile robot like a transfer apparatus. , It may be a simple shelf. Also, for example, an example is described in which an articulated robot arm is used as a work machine of a mobile robot as a transfer mechanism.
Naturally, the present invention can be applied to any other transfer working machine or moving mechanism. Although the conductors 7a, 8a, 9a, 17a, and 18a shown in the respective embodiments are described to have a predetermined resistance value, a sudden current change that affects a semiconductor component or the like during a discharging operation is performed. Wire with an appropriate resistance value may be used to prevent
An ordinary conductor having a small resistance value, such as the conductor 12a, may be used according to other configuration conditions, or a resistor having a predetermined value may be connected to the ordinary conductor.
Also, if necessary, a copper wire or the like having a small resistance may be used. Also, according to the structure and electrical characteristics of a moving mechanism such as a mobile robot, or ground equipment such as a semiconductor manufacturing apparatus, the contact plates 7, 17, the static elimination brush 8, the connecting wire 9, the piston 18, and the contact rod 12 are provided. The conductors connected to each other may be omitted. Although the piston 18 has been illustrated as an example of the conductive drive mechanism, the conductive drive mechanism may be replaced with a movable mechanism having an arbitrary structure driven by a motor or the like as long as the conductive drive mechanism can be brought into contact with the opposing contact plate by a predetermined signal. The good is natural. In this case as well, it is only necessary that the tip portion that comes into contact with the contact plate, like the piston, is conductive and is connected to a predetermined place to be discharged.
In addition, it is natural that the conductive contact mechanism having an appropriate structure should be appropriately mounted according to the structure of the transfer device and the structure of the transfer target device. Also, in the above description, the case where the transfer device is mounted on the transfer device has been described. However, the case where the transfer device is installed at each station also corresponds to the configuration of each device according to the technical idea of the present invention. Needless to say, a discharge device having an appropriate structure may be provided.
【0013】[0013]
【考案の効果】本考案は上述したように構成したので移
載動作の前に,移載すべき設備装置間の電位差を無くす
ことができる。従って,下記に記したような優れた効果
が得られた。 移載されるべき半導体部品等が電気的破壊を受けたり
制御装置がノイズによって誤動作をする恐れがない。 搬送装置または移載対象設備に接触板を装備し,移載
対象設備または搬送装置に除電ブラシを装備した場合
は,移載動作の前に接触板と除電ブラシが接触し搬送装
置の帯電静電気が放電するので移載される半導体部品が
電気的破壊することなく,また,制御装置が誤動作する
ことはない。 搬送装置または移載対象設備に接触板を装備し,移載
対象設備または搬送装置に導電性駆動機構を装備した場
合は,移載動作の前に接触板と導電性駆動機構を接触さ
せることによって搬送装置の帯電静電気が放電するので
移載される半導体部品が電気的破壊することなく,ま
た,制御装置が誤動作することはない。 床面に貼付した中継導電体に移載対象設備を接続し,
搬送装置停止時における該中継導電体上部位置に導電性
駆動機構を装備した場合は,移載動作の前に中継導電体
と導電性駆動機構を接触させることによって搬送装置の
帯電静電気が放電するので移載される半導体部品が電気
的破壊されることなく,また,制御装置が誤動作するこ
とはない。 移載対象設備の搬送装置に装備した移載機構接触可能
位置に接触棒を装備した場合は,移載動作の前に移載機
構を接触棒に接触させることによって搬送装置の帯電静
電気が放電するので移載される半導体部品が電気的破壊
することなく,また,制御装置が誤動作することはな
い。Advantages of the Invention Since the present invention is configured as described above, it is possible to eliminate the potential difference between the equipments to be transferred before the transfer operation. Therefore, the following excellent effects were obtained. There is no danger that the semiconductor components or the like to be transferred are electrically damaged or the control device malfunctions due to noise. If the transfer device or the equipment to be transferred is equipped with a contact plate and the equipment to be transferred or the transfer device is equipped with a neutralization brush, the contact plate and the neutralization brush come into contact before the transfer operation, and the charged static electricity of the transfer device will be reduced. Since the discharge occurs, the transferred semiconductor components are not electrically damaged, and the control device does not malfunction. If the transfer equipment or the equipment to be transferred is equipped with a contact plate and the equipment or transfer equipment is equipped with a conductive drive mechanism, the contact plate and the conductive drive mechanism must be brought into contact before the transfer operation. Since the charged static electricity of the transfer device is discharged, the transferred semiconductor component is not electrically destroyed, and the control device does not malfunction. Connect the equipment to be transferred to the relay conductor affixed to the floor,
If a conductive drive mechanism is installed at the upper position of the relay conductor when the transport device stops, the charged static electricity of the transport device is discharged by bringing the relay conductor into contact with the conductive drive mechanism before the transfer operation. The transferred semiconductor component is not electrically destroyed, and the control device does not malfunction. If a contact rod is installed at a position where the transfer mechanism of the equipment to be transferred can contact the transfer mechanism, the charged static electricity of the transfer device is discharged by bringing the transfer mechanism into contact with the contact rod before the transfer operation. Therefore, the transferred semiconductor components are not electrically destroyed, and the control device does not malfunction.
【図1】搬送システムに本考案を適用した実施例1を説
明する概要構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram illustrating a first embodiment in which the present invention is applied to a transport system.
【図2】図1に示した除電ブラシの構造例を示す概要立
体構造図である。FIG. 2 is a schematic three-dimensional structure diagram showing a structural example of a static elimination brush shown in FIG. 1;
【図3】搬送システムに本考案を適用した実施例2を説
明する概要構成図である。FIG. 3 is a schematic configuration diagram illustrating a second embodiment in which the present invention is applied to a transport system.
【図4】搬送システムに本考案を適用した実施例3を説
明する概要構成図である。FIG. 4 is a schematic configuration diagram illustrating a third embodiment in which the present invention is applied to a transport system.
【図5】搬送システムに本考案を適用した実施例4を説
明する概要構成図である。FIG. 5 is a schematic configuration diagram illustrating a fourth embodiment in which the present invention is applied to a transport system.
【図6】搬送システムに本考案を適用した実施例5を説
明する概要構成図である。FIG. 6 is a schematic configuration diagram illustrating a fifth embodiment in which the present invention is applied to a transport system.
【図7】図6に示した接触棒の構造例を示す概要側面図
である。FIG. 7 is a schematic side view showing a structural example of a contact rod shown in FIG. 6;
【図8】搬送システムに本考案を適用した実施例6を説
明する概要構成図である。FIG. 8 is a schematic configuration diagram illustrating a sixth embodiment in which the present invention is applied to a transport system.
1,10:搬送装置(移動ロボット) 2:移載対象装置(半導体製造装置)(ステーション) 3:半導体ウェハ−・カセット 4:駆動輪 5:床面 6:移載機構(ロボットアーム) 7,17:接触板 8:接触子(除電ブラシ) 9:接続線 12:接触棒 18:導電性駆動機構(ピストン) 12a,17a,18a:導線 1, 10: transfer device (mobile robot) 2: transfer target device (semiconductor manufacturing device) (station) 3: semiconductor wafer cassette 4: drive wheel 5: floor surface 6: transfer mechanism (robot arm) 7, 17: Contact plate 8: Contact (static elimination brush) 9: Connection wire 12: Contact rod 18: Conductive drive mechanism (piston) 12a, 17a, 18a: Conductive wire
Claims (5)
搬送装置によって移載対象設備に載置される移載対象物
を搬送する搬送システムにおいて, 搬送装置が上記移載対象設備に備える所定のステーショ
ンに停止した後,移載動作を行う前に当該搬送装置に帯
電した静電気の電位と上記移載対象設備の電位とを等電
位にするための所定抵抗値を有する導電性接触機構を搬
送装置又は/及び移載対象設備に装備したことを特徴と
する搬送装置の帯電静電気放電装置。1. A transfer system for transferring an object to be transferred, which is mounted on a transfer target equipment by a transfer device that is supported and travels in a non-conductive state from the ground, wherein the transfer device includes the transfer target equipment. after stopping the predetermined station provided in, the conveying device charged conductive contact having a predetermined resistance value for the equipotential electrostatic the potential of potential and the transfer target equipment before performing the transfer operation A charging / discharging device for a transfer device, wherein the mechanism is provided in the transfer device or / and the equipment to be transferred.
置又は移載対象設備には接触板を装備し,また移載対象
設備又は搬送装置には除電ブラシを装備して構成される
搬送装置の帯電静電気放電装置。2. The transfer device according to claim 1, wherein the transfer device or the transfer target equipment is provided with a contact plate, and the transfer target equipment or the transfer device is provided with a neutralization brush. Device electrostatic discharge device.
置又は移載対象設備には接触板を装備し,また移載対象
設備又は搬送装置には導電性駆動機構を装備して構成さ
れる搬送装置の帯電静電気放電装置。3. A conductive contact mechanism according to claim 1, wherein is the conveying device or transfer target facility equipped with a contact plate, also the transfer target facilities or transport device is constructed equipped with conductive drive mechanism Electrostatic discharge device for transfer equipment.
付の中継導電体を装備し,搬送装置にはステーションへ
停止の際に該中継導電体と電気的に接続される導電性駆
動機構を装備して構成される搬送装置の帯電静電気放電
装置。4. The conductive contact mechanism according to claim 1, wherein the conductive contact mechanism is attached to a floor surface.
Equipped with a relay conductor attached to the transfer station to the station
A charging / discharging device for a transporting device configured to be equipped with a conductive drive mechanism electrically connected to the relay conductor when stopped .
象設備の搬送装置に装備した移載機構接触可能位置に接
触棒を装備して構成される搬送装置の帯電静電気放電装
置。5. A charged electrostatic discharge device of a transfer device, wherein the conductive contact mechanism according to claim 1 is provided with a contact rod at a position where the transfer mechanism can be brought into contact with the transfer device of the equipment to be transferred.
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JP5377292U JP2583253Y2 (en) | 1992-07-09 | 1992-07-09 | Charged electrostatic discharge device for transport equipment |
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---|---|---|---|
JP5377292U JP2583253Y2 (en) | 1992-07-09 | 1992-07-09 | Charged electrostatic discharge device for transport equipment |
Publications (2)
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JPH069098U JPH069098U (en) | 1994-02-04 |
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