JPH0688007B2 - 粉粒体の噴出方法及び装置 - Google Patents
粉粒体の噴出方法及び装置Info
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- JPH0688007B2 JPH0688007B2 JP60148538A JP14853885A JPH0688007B2 JP H0688007 B2 JPH0688007 B2 JP H0688007B2 JP 60148538 A JP60148538 A JP 60148538A JP 14853885 A JP14853885 A JP 14853885A JP H0688007 B2 JPH0688007 B2 JP H0688007B2
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- powder
- granular material
- nozzle
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B5/00—Electrostatic spraying apparatus; Spraying apparatus with means for charging the spray electrically; Apparatus for spraying liquids or other fluent materials by other electric means
- B05B5/16—Arrangements for supplying liquids or other fluent material
- B05B5/1683—Arrangements for supplying liquids or other fluent material specially adapted for particulate materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B12/00—Arrangements for controlling delivery; Arrangements for controlling the spray area
- B05B12/02—Arrangements for controlling delivery; Arrangements for controlling the spray area for controlling time, or sequence, of delivery
- B05B12/06—Arrangements for controlling delivery; Arrangements for controlling the spray area for controlling time, or sequence, of delivery for effecting pulsating flow
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05B—SPRAYING APPARATUS; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES
- B05B15/00—Details of spraying plant or spraying apparatus not otherwise provided for; Accessories
- B05B15/50—Arrangements for cleaning; Arrangements for preventing deposits, drying-out or blockage; Arrangements for detecting improper discharge caused by the presence of foreign matter
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Description
【発明の詳細な説明】 イ．産業上の利用分野 本発明は、圧縮気体を利用してエジェクタ装置により粉
粒体を搬送しノズルから噴出する粉粒体の噴出方法とそ
の装置の新規な改良に関するもので、特に粉体塗装等に
効果的な粉粒体の新規な噴出技術に関するものである。
粒体を搬送しノズルから噴出する粉粒体の噴出方法とそ
の装置の新規な改良に関するもので、特に粉体塗装等に
効果的な粉粒体の新規な噴出技術に関するものである。
ロ．従来技術 本出願人らが従来から粉体塗装等の技術分野で一般的に
実施していた粉粒体の噴出方法としては、粉粒体の供給
ホッパの下流に、該供給ホッパに連通して設けたエジェ
クタ装置に圧縮気体を供給し、該エジェクタ装置のエジ
ェクタノズルから噴出する圧縮気体流に、前記供給ホッ
パに貯留されている材料すなわち粉粒体を随伴させて、
前記エジェクタ装置の下流側に設けたノズルから粉粒体
を被塗布物に向けて噴出し、被塗布物の表面に粉粒体の
被膜を形成していた。このとき、エジェクタ装置に供給
する圧縮気体は連続的に供給され、従って、粉粒体もノ
ズルから連続的に噴出されていた。
実施していた粉粒体の噴出方法としては、粉粒体の供給
ホッパの下流に、該供給ホッパに連通して設けたエジェ
クタ装置に圧縮気体を供給し、該エジェクタ装置のエジ
ェクタノズルから噴出する圧縮気体流に、前記供給ホッ
パに貯留されている材料すなわち粉粒体を随伴させて、
前記エジェクタ装置の下流側に設けたノズルから粉粒体
を被塗布物に向けて噴出し、被塗布物の表面に粉粒体の
被膜を形成していた。このとき、エジェクタ装置に供給
する圧縮気体は連続的に供給され、従って、粉粒体もノ
ズルから連続的に噴出されていた。
ハ．発明が解決しようとする課題 前記した粉粒体の噴出方法においては、次のような問題
点があった。すなわち、粉粒体の噴出量が安定せず不規
則な脈動が起り、従って被塗布物の表面に形成される被
膜の厚さにばらつきがあった。これは、エジェクタ装置
のエジェクタノズル周辺における粉粒体の密度が不規則
に変化するためと考えられる。すなわちエジェクタノズ
ルから噴出する圧縮気体に随伴して粉粒体が運ばれ、エ
ジェクタノズル周辺で粉粒体の密度が低くなると、供給
ホッパ内の粉粒体が崩れ落ちるようにエジェクタ装置内
に移動し再びもとの密度に戻るという動作が繰り返され
るからと考えられる。すなわち、粉粒体がホッパーから
エジェクタノズル周辺へ崩れ落ちる時には、ホッパー内
の堆積圧力による粉粒体の落下エネルギーが付加され
て、瞬間的に極めて高濃度の気体と粉粒体の混合流とな
って搬送されるためと考えられ、この混合濃度の変動幅
が不規則で極めて大きいためと思われる。
点があった。すなわち、粉粒体の噴出量が安定せず不規
則な脈動が起り、従って被塗布物の表面に形成される被
膜の厚さにばらつきがあった。これは、エジェクタ装置
のエジェクタノズル周辺における粉粒体の密度が不規則
に変化するためと考えられる。すなわちエジェクタノズ
ルから噴出する圧縮気体に随伴して粉粒体が運ばれ、エ
ジェクタノズル周辺で粉粒体の密度が低くなると、供給
ホッパ内の粉粒体が崩れ落ちるようにエジェクタ装置内
に移動し再びもとの密度に戻るという動作が繰り返され
るからと考えられる。すなわち、粉粒体がホッパーから
エジェクタノズル周辺へ崩れ落ちる時には、ホッパー内
の堆積圧力による粉粒体の落下エネルギーが付加され
て、瞬間的に極めて高濃度の気体と粉粒体の混合流とな
って搬送されるためと考えられ、この混合濃度の変動幅
が不規則で極めて大きいためと思われる。
また、第２図に示すグラフは、エジェクタ圧力（エジェ
クタ装置に供給する圧縮気体圧）と粉粒体の噴出量との
関係を示したグラフの一例であるが、この図で理解され
るように、粉粒体の噴出量は、エジェクタ装置に供給さ
れる圧縮気体の圧力に対し二次曲線的に変化する。即
ち、エジェクタ圧を低下させれば粉粒体の噴出量は減少
し、エジェクタ圧を上げれば粉粒体の噴出量は増加す
る。従って極めて薄い被膜を形成しようとする場合に
は、エジェクタ装置に供給する圧縮気体の圧力を低下さ
せて、粉粒体の搬送量を少なくする必要があるが、粉粒
体の噴出量はエジェクタ圧が低下するに従って不安定状
態となり、さらにエジェクタ圧が1.5kg/cm2以下になる
と粉粒体を噴出する力が不足して連続的な粉粒体の噴出
は得られなくなる。このような現象から薄い被膜を安定
的に得られにくいという問題がある。なお第２図に示し
たグラフは、エジェクタ装置とノズルとの間を接続する
輸送ホースや径や長さ、さらに粉粒体の種類や特性の条
件の違いにより異なったものとなる。
クタ装置に供給する圧縮気体圧）と粉粒体の噴出量との
関係を示したグラフの一例であるが、この図で理解され
るように、粉粒体の噴出量は、エジェクタ装置に供給さ
れる圧縮気体の圧力に対し二次曲線的に変化する。即
ち、エジェクタ圧を低下させれば粉粒体の噴出量は減少
し、エジェクタ圧を上げれば粉粒体の噴出量は増加す
る。従って極めて薄い被膜を形成しようとする場合に
は、エジェクタ装置に供給する圧縮気体の圧力を低下さ
せて、粉粒体の搬送量を少なくする必要があるが、粉粒
体の噴出量はエジェクタ圧が低下するに従って不安定状
態となり、さらにエジェクタ圧が1.5kg/cm2以下になる
と粉粒体を噴出する力が不足して連続的な粉粒体の噴出
は得られなくなる。このような現象から薄い被膜を安定
的に得られにくいという問題がある。なお第２図に示し
たグラフは、エジェクタ装置とノズルとの間を接続する
輸送ホースや径や長さ、さらに粉粒体の種類や特性の条
件の違いにより異なったものとなる。
また、被塗布物の表面における粉粒体の付着効率が悪い
という問題があった。特に複雑な形状、例えば箱の内面
角隅部や溝の内面でなどでは付着効率の低下が顕著に表
れる。これは、噴出された粉粒体が被塗布物の表面に到
達したとき、粉粒体の全量がそのまま表面に付着するの
では無く、一部の粉粒体は被塗布物の表面に突き当たて
はね返り、このはね返った粒子がノズルから噴出される
粉粒体のエネルギーとは逆向きのエネルギーを持ってい
るため、後から飛んでくる粒子と衝突したりあるいは粉
粒体の噴出流が被塗布物の表面で乱流を起こす、いわゆ
る粉粒体のリバウンド層が形成されるためと考えられ
る。従って、前記したように箱の内面角隅部や溝の内面
などでは粉粒体の噴出流が乱流を起し易く、付着性が悪
くなり均一な被膜が得られないという問題があった。
という問題があった。特に複雑な形状、例えば箱の内面
角隅部や溝の内面でなどでは付着効率の低下が顕著に表
れる。これは、噴出された粉粒体が被塗布物の表面に到
達したとき、粉粒体の全量がそのまま表面に付着するの
では無く、一部の粉粒体は被塗布物の表面に突き当たて
はね返り、このはね返った粒子がノズルから噴出される
粉粒体のエネルギーとは逆向きのエネルギーを持ってい
るため、後から飛んでくる粒子と衝突したりあるいは粉
粒体の噴出流が被塗布物の表面で乱流を起こす、いわゆ
る粉粒体のリバウンド層が形成されるためと考えられ
る。従って、前記したように箱の内面角隅部や溝の内面
などでは粉粒体の噴出流が乱流を起し易く、付着性が悪
くなり均一な被膜が得られないという問題があった。
本発明は、前記したような課題を解決するためになされ
たもので、すなわち安定した粉粒体の噴出量が得られ、
またエジェクタ圧を低下させなくても小量の粉粒体の噴
出量が安定して得られ、さらに付着効率の高い粉粒体の
噴出を得られるようにした粉粒体の噴出方法と装置を提
供することを目的とするものである。
たもので、すなわち安定した粉粒体の噴出量が得られ、
またエジェクタ圧を低下させなくても小量の粉粒体の噴
出量が安定して得られ、さらに付着効率の高い粉粒体の
噴出を得られるようにした粉粒体の噴出方法と装置を提
供することを目的とするものである。
ニ．課題を解決するための手段 上記目的を達成するために、本発明の粉粒体の噴出方法
は、次のような構成とした。すなわち、供給ホッパに貯
留された粉粒体材料を、供給ホッパーの下流に設けたエ
ジェクタ装置に圧縮気体を供給し、エジェクタノズルか
ら噴出する圧縮気体流に前記粉粒体を随伴させて、エジ
ェクタ装置の下流側に設けたノズルから噴出する方法に
おいて、エジェクタ装置のエジェクタノズルに供給する
圧縮気体を、あらかじめ制御装置に設定したプログラム
に基づき、エジェクタ装置のエジェクタノズルに供給す
る圧縮気体供給配管上に設けた弁機構を、断続的に開閉
することにより、エジェクタ装置のエジェクタノズルに
供給する圧縮気体を、断続的（パルス状）に供給し、エ
ジェクタ装置の下流側に設けたノズルから粉粒体を噴出
する方法とした。
は、次のような構成とした。すなわち、供給ホッパに貯
留された粉粒体材料を、供給ホッパーの下流に設けたエ
ジェクタ装置に圧縮気体を供給し、エジェクタノズルか
ら噴出する圧縮気体流に前記粉粒体を随伴させて、エジ
ェクタ装置の下流側に設けたノズルから噴出する方法に
おいて、エジェクタ装置のエジェクタノズルに供給する
圧縮気体を、あらかじめ制御装置に設定したプログラム
に基づき、エジェクタ装置のエジェクタノズルに供給す
る圧縮気体供給配管上に設けた弁機構を、断続的に開閉
することにより、エジェクタ装置のエジェクタノズルに
供給する圧縮気体を、断続的（パルス状）に供給し、エ
ジェクタ装置の下流側に設けたノズルから粉粒体を噴出
する方法とした。
また本発明の粉粒体の噴出装置は、粉粒体を供給するた
めの供給ホッパと、該供給ホッパの下流に供給ホッパ内
と連通して設けられたエジェクタ装置と、該エジェクタ
装置に圧縮気体を供給するための圧縮気体供給装置と、
該圧縮気体供給装置と前記エジェクタ装置とを結ぶ配管
の途中に設けた弁機構と、あらかじめ設定したプログラ
ムに基づき、前記弁機構を断続的（パルス状）に開閉作
動させるための制御装置と、からなる構成とした。
めの供給ホッパと、該供給ホッパの下流に供給ホッパ内
と連通して設けられたエジェクタ装置と、該エジェクタ
装置に圧縮気体を供給するための圧縮気体供給装置と、
該圧縮気体供給装置と前記エジェクタ装置とを結ぶ配管
の途中に設けた弁機構と、あらかじめ設定したプログラ
ムに基づき、前記弁機構を断続的（パルス状）に開閉作
動させるための制御装置と、からなる構成とした。
ホ．作用 エジェクタ装置のエジェクタノズルに供給する圧縮気体
を断続的（パルス状）に供給とすることにより、圧縮気
体がエジェクタノズルに給気されているとき、エジェク
タノズルから噴出する圧縮気体流に粉粒体が随伴して運
ばれてノズルから噴出し、また圧縮気体の供給が給止し
ている時に、粉粒体の密度が低下したエジェクタノズル
周辺に、供給ホッパ内の粉粒体が崩れ落ちて再びもとの
密度に復帰するという作用が、圧縮気体の給気と断気の
サイクルに合わせて繰り返されることになる。従って圧
縮気体が給気されて粉粒体が搬送される時点では、供給
ホッパ内からエジェクタノズル周辺に粉粒体が崩れ落ち
ることがなく、崩れ落ちる際の落下エネルギーの付加作
用が軽減され、比較的にエジェクタノズル周辺の粉粒体
密度が一定した状態で粉粒体の噴出が断続的（パルス
状）に行われることになる。従って粉粒体の噴出量は、
圧縮気体の供給のサイクルごとの変動はあるが、塗布作
業の全体でみれば極めてばらつきの少ない安定した噴出
量となり、被塗布物の表面に形成される被膜の厚さも均
一な膜厚が得られる。
を断続的（パルス状）に供給とすることにより、圧縮気
体がエジェクタノズルに給気されているとき、エジェク
タノズルから噴出する圧縮気体流に粉粒体が随伴して運
ばれてノズルから噴出し、また圧縮気体の供給が給止し
ている時に、粉粒体の密度が低下したエジェクタノズル
周辺に、供給ホッパ内の粉粒体が崩れ落ちて再びもとの
密度に復帰するという作用が、圧縮気体の給気と断気の
サイクルに合わせて繰り返されることになる。従って圧
縮気体が給気されて粉粒体が搬送される時点では、供給
ホッパ内からエジェクタノズル周辺に粉粒体が崩れ落ち
ることがなく、崩れ落ちる際の落下エネルギーの付加作
用が軽減され、比較的にエジェクタノズル周辺の粉粒体
密度が一定した状態で粉粒体の噴出が断続的（パルス
状）に行われることになる。従って粉粒体の噴出量は、
圧縮気体の供給のサイクルごとの変動はあるが、塗布作
業の全体でみれば極めてばらつきの少ない安定した噴出
量となり、被塗布物の表面に形成される被膜の厚さも均
一な膜厚が得られる。
また、第２図に示したエジェクタ圧力と粉粒体の噴出量
との関係において、エジェクタ圧力すなわち、エジェク
タ装置に供給する圧縮気体の供給圧力を同一の圧力で比
較した場合、単位時間当りの粉粒体噴出量は、連続噴出
に比べ、断続的（パルス状）の噴出の方が停止している
わずかな時間分だけ少なくなり、従ってエジェクタ圧を
低下させなくても噴出量が減少する。これによって従来
よりも薄い粉流体の被膜を形成することができる。
との関係において、エジェクタ圧力すなわち、エジェク
タ装置に供給する圧縮気体の供給圧力を同一の圧力で比
較した場合、単位時間当りの粉粒体噴出量は、連続噴出
に比べ、断続的（パルス状）の噴出の方が停止している
わずかな時間分だけ少なくなり、従ってエジェクタ圧を
低下させなくても噴出量が減少する。これによって従来
よりも薄い粉流体の被膜を形成することができる。
また、粉粒体の噴出が断続的（パルス状）になることに
より、噴出された粉粒体が被塗布物に到達したとき、被
塗布物の流体ではね返ってくる一部の粒子が持つ逆向き
のエネルギーが失われてから、次の粉粒体粒子が飛んで
くるので、粉粒体が被塗布物の表面で乱流を起こすこと
もなく、いわゆるリバウンド層を形成することもない。
従って高い付着効率が得られる。
より、噴出された粉粒体が被塗布物に到達したとき、被
塗布物の流体ではね返ってくる一部の粒子が持つ逆向き
のエネルギーが失われてから、次の粉粒体粒子が飛んで
くるので、粉粒体が被塗布物の表面で乱流を起こすこと
もなく、いわゆるリバウンド層を形成することもない。
従って高い付着効率が得られる。
ヘ．実施例 以下、本発明の好適な実施例を示す図面に基づいて詳細
に説明する。第１図は本発明の粉粒体の噴出装置を示す
構成図であり、第３図、第４図、第５図及び第６図は、
本発明の粉粒体の噴出方法を実施するときの圧縮気体を
断続的（パルス状）に供給するパターンの一例を示す図
である。
に説明する。第１図は本発明の粉粒体の噴出装置を示す
構成図であり、第３図、第４図、第５図及び第６図は、
本発明の粉粒体の噴出方法を実施するときの圧縮気体を
断続的（パルス状）に供給するパターンの一例を示す図
である。
図において８は供給ホッパであり、該供給ホッパ８の内
部には、本装置で噴出される材料すなわち粉粒体Pdが貯
留される。２は供給されるホッパ８の下流に設けたエジ
ェクタ装置であり、該エジェクタ装置２はエジェクタノ
ズル１と外筒３とから構成される。外筒３は、供給ホッ
パ８の下流部を構成する排出管９によって供給ホッパ８
の内部と連通しており、供給ホッパ８内の下流部の粉粒
体Pd1は、排出管９を経て、順次エジェクタ装置２のエ
ジェクタノズル１の周辺に供給される。
部には、本装置で噴出される材料すなわち粉粒体Pdが貯
留される。２は供給されるホッパ８の下流に設けたエジ
ェクタ装置であり、該エジェクタ装置２はエジェクタノ
ズル１と外筒３とから構成される。外筒３は、供給ホッ
パ８の下流部を構成する排出管９によって供給ホッパ８
の内部と連通しており、供給ホッパ８内の下流部の粉粒
体Pd1は、排出管９を経て、順次エジェクタ装置２のエ
ジェクタノズル１の周辺に供給される。
５は、圧縮気体供給装置であり、例えばエアコンプレッ
サあるいは容器内に圧縮封入された窒素ガス等が用いら
れる。
サあるいは容器内に圧縮封入された窒素ガス等が用いら
れる。
７は、圧縮気体供給装置５のエジェクタ装置２のエジェ
クタノズル１とを結ぶ配管であり、該配管７の菅路の途
中には電磁弁４が設け、該電磁弁４を断続的（パルス
状）に開閉動作させて圧縮気体をエジェクタ装置２へ供
給する。
クタノズル１とを結ぶ配管であり、該配管７の菅路の途
中には電磁弁４が設け、該電磁弁４を断続的（パルス
状）に開閉動作させて圧縮気体をエジェクタ装置２へ供
給する。
６は、電磁弁４を断続的に開閉させるための制御装置で
あり、電磁弁４の断続的開閉時間のサイクルを任意に設
定できるタイマー付きのスイッチあるいはマイクロコン
ピュータ等よりなる。電磁弁４と制御装置６とによって
圧縮気体を断続的（パルス状）に供給する供給手段12が
構成される。
あり、電磁弁４の断続的開閉時間のサイクルを任意に設
定できるタイマー付きのスイッチあるいはマイクロコン
ピュータ等よりなる。電磁弁４と制御装置６とによって
圧縮気体を断続的（パルス状）に供給する供給手段12が
構成される。
11は、エジェクタ装置２の下流側に設けたノズルであ
り、エジェクタ装置２とノズル11との間には、必要に応
じて第１図に仮想線で示すようにホース10を用いて接続
する場合もある。Pd2及びPd2′はノズル11から噴出され
た粉粒体を示す。
り、エジェクタ装置２とノズル11との間には、必要に応
じて第１図に仮想線で示すようにホース10を用いて接続
する場合もある。Pd2及びPd2′はノズル11から噴出され
た粉粒体を示す。
本実施例は、以上のように構成されており、次に本実施
例の作用について説明する。
例の作用について説明する。
圧縮気体供給装置５からエジェクタ装置２に供給される
圧縮気体は、電磁弁４及び制御装置６からなる供給手段
12によって断続的（パルス状）に供給される。一方、供
給ホッパ８内に貯留された粉粒体Pdは順次、供給ホッパ
８の下流部の粉粒体Pd1へと移動し、更にから排出管９
を通ってエジェクタノズル１の周辺部の粉粒体Pd3へと
移動する。従ってエジェクタ装置２に供給される圧縮気
体が給気状態（ON）のとき、エジェクタノズル１から噴
出する圧縮気体流に粉粒体Pd3が随伴して運ばれ、ノズ
ル11から噴出する。このとき、エジェクタ装置２のエジ
ェクタノズル１の周辺部の粉粒体Pd3の密度は、運び去
られた分だけ低下する。また、エジェクタ装置２に供給
される圧縮気体が断気状態（OFF）のとき、粉粒体Pd3の
密度が低下しているエジェクタノズル１の周辺部へ、供
給ホッパ８内の粉粒体Pd1が排出菅９を通って崩れ落ち
るようにして順次移動して、再びもとの密度に復帰す
る。このように、エジェクタ装置２における粉粒体Pd3
の搬送と、供給ホッパー８からの粉粒体Pd1が崩れ落ち
るようにして順次移動する動作とが、圧縮気体の給気と
断気のサイクルに合わせて繰り返されることにより、圧
縮気体が給気されて粉粒体Pd3が搬送される時点では、
供給ホッパー８内からエジェクタノズル１の周辺に粉粒
体Pd1が崩れ落ちる際の落下エネルギーの付加作用が軽
減され、エジェクタノズル１の周辺の粉粒体Pd3の密度
が一定した状態で粉粒体Pd3の噴出が断続的に行われる
ことになる。従って粉粒体Pd2の噴出量は、圧縮気体の
供給のサイクルごとの変動はあるが、塗布作業の全体で
みれば極めてばらつきの少ない安定した噴出量となり、
被塗布物の表面に形成される被膜の厚さも均一な膜厚が
得られる。
圧縮気体は、電磁弁４及び制御装置６からなる供給手段
12によって断続的（パルス状）に供給される。一方、供
給ホッパ８内に貯留された粉粒体Pdは順次、供給ホッパ
８の下流部の粉粒体Pd1へと移動し、更にから排出管９
を通ってエジェクタノズル１の周辺部の粉粒体Pd3へと
移動する。従ってエジェクタ装置２に供給される圧縮気
体が給気状態（ON）のとき、エジェクタノズル１から噴
出する圧縮気体流に粉粒体Pd3が随伴して運ばれ、ノズ
ル11から噴出する。このとき、エジェクタ装置２のエジ
ェクタノズル１の周辺部の粉粒体Pd3の密度は、運び去
られた分だけ低下する。また、エジェクタ装置２に供給
される圧縮気体が断気状態（OFF）のとき、粉粒体Pd3の
密度が低下しているエジェクタノズル１の周辺部へ、供
給ホッパ８内の粉粒体Pd1が排出菅９を通って崩れ落ち
るようにして順次移動して、再びもとの密度に復帰す
る。このように、エジェクタ装置２における粉粒体Pd3
の搬送と、供給ホッパー８からの粉粒体Pd1が崩れ落ち
るようにして順次移動する動作とが、圧縮気体の給気と
断気のサイクルに合わせて繰り返されることにより、圧
縮気体が給気されて粉粒体Pd3が搬送される時点では、
供給ホッパー８内からエジェクタノズル１の周辺に粉粒
体Pd1が崩れ落ちる際の落下エネルギーの付加作用が軽
減され、エジェクタノズル１の周辺の粉粒体Pd3の密度
が一定した状態で粉粒体Pd3の噴出が断続的に行われる
ことになる。従って粉粒体Pd2の噴出量は、圧縮気体の
供給のサイクルごとの変動はあるが、塗布作業の全体で
みれば極めてばらつきの少ない安定した噴出量となり、
被塗布物の表面に形成される被膜の厚さも均一な膜厚が
得られる。
またエジェクタ装置２に供給される圧縮気体の圧力が従
来技術における圧力と同一圧力であるものとするなら
ば、単位時間当りの粉粒体Pd2の噴出量は、連続噴出に
比べ、断続的（パルス状）の噴出の方が停止しているわ
ずかな時間分だけ少なくなり、従ってエジェクタ圧を低
下させなくても粉粒体Pd2の噴出量が減少する。従って
従来よりも薄い粉粒体の被膜を形成することができる。
来技術における圧力と同一圧力であるものとするなら
ば、単位時間当りの粉粒体Pd2の噴出量は、連続噴出に
比べ、断続的（パルス状）の噴出の方が停止しているわ
ずかな時間分だけ少なくなり、従ってエジェクタ圧を低
下させなくても粉粒体Pd2の噴出量が減少する。従って
従来よりも薄い粉粒体の被膜を形成することができる。
また、粉粒体Pd2の噴出が断続的（パルス状）になるこ
とにより、噴出された粉粒体Pd2が被塗布物に到達した
とき、被塗布物の表面ではね返ってくる一部の粒子が持
つ逆向きのエネルギーが失われてから、次の粉粒体粒子
が飛んでくるので、粉粒体Pd2が被塗布物の表面で乱流
を起こすこともなく、いわゆるリバウンド層を形成する
こともない。従って高い付着効率が得られる。
とにより、噴出された粉粒体Pd2が被塗布物に到達した
とき、被塗布物の表面ではね返ってくる一部の粒子が持
つ逆向きのエネルギーが失われてから、次の粉粒体粒子
が飛んでくるので、粉粒体Pd2が被塗布物の表面で乱流
を起こすこともなく、いわゆるリバウンド層を形成する
こともない。従って高い付着効率が得られる。
次に、圧縮気体を断続的（パルス状）に供給するパター
ンについて第３図、第４図、第５図及び第６図により説
明する。
ンについて第３図、第４図、第５図及び第６図により説
明する。
第３図は、本発明の圧縮気体を断続的（パルス状）に供
給するパターンの一例を示すもので、従来の連続的な噴
出条件で粉粒体Pd2の噴出量50g/minが安定的に得られる
圧縮気体の圧力条件のもとで、供給する圧縮気体を本発
明の方法、すなわち断続的（パルス状）に供給したパタ
ーンを示す。その時間分割は、給気を20ms断気を100ms
とし、これの繰り返しを示す。すなわち、噴出時間と中
断時間との割合は１対５となり、本パターンによって単
位時間に噴出される粉粒体Pd2の噴出量は、従来の連続
噴出に比べて1/6となり、およそ8g/minとなる。従って
従来の連続噴出では不可能であった領域、すなわち供給
すべき圧縮気体の圧力が低過ぎて不可能であった領域
（第２図参照）の噴出量を安定して得られることにな
り、薄い被膜が安定して得れる。
給するパターンの一例を示すもので、従来の連続的な噴
出条件で粉粒体Pd2の噴出量50g/minが安定的に得られる
圧縮気体の圧力条件のもとで、供給する圧縮気体を本発
明の方法、すなわち断続的（パルス状）に供給したパタ
ーンを示す。その時間分割は、給気を20ms断気を100ms
とし、これの繰り返しを示す。すなわち、噴出時間と中
断時間との割合は１対５となり、本パターンによって単
位時間に噴出される粉粒体Pd2の噴出量は、従来の連続
噴出に比べて1/6となり、およそ8g/minとなる。従って
従来の連続噴出では不可能であった領域、すなわち供給
すべき圧縮気体の圧力が低過ぎて不可能であった領域
（第２図参照）の噴出量を安定して得られることにな
り、薄い被膜が安定して得れる。
第４図は、本発明における圧縮気体の断続的（パルス
状）供給の時間分割をランダムに分解したパターンの一
例を示したものである。
状）供給の時間分割をランダムに分解したパターンの一
例を示したものである。
第５図は、本発明における断続的（パルス状）に供給す
る圧縮気体の給気（ON）と断気（OFF）の時間分割のパ
ターンの一例を示すもので、それぞれパターンＡからパ
ターンＤまで示したものである。特にパターンＤは、比
較的短時間の給気（ON）と断気（OFF）のある回数を連
続したものを一つのグループGPa、GPa′とし、さらにこ
れら同種のグループGPa、GPa′間を断気（OFF）して、
シリーズに継いだものを示し、ここでは給気（ON）が30
msと断気（OFF）が40msのグループGPaとグループGPa′
との間を300msの断気で継ぎ、これの繰り返しを示すも
のである。
る圧縮気体の給気（ON）と断気（OFF）の時間分割のパ
ターンの一例を示すもので、それぞれパターンＡからパ
ターンＤまで示したものである。特にパターンＤは、比
較的短時間の給気（ON）と断気（OFF）のある回数を連
続したものを一つのグループGPa、GPa′とし、さらにこ
れら同種のグループGPa、GPa′間を断気（OFF）して、
シリーズに継いだものを示し、ここでは給気（ON）が30
msと断気（OFF）が40msのグループGPaとグループGPa′
との間を300msの断気で継ぎ、これの繰り返しを示すも
のである。
第６図は、本発明における断続的（パルス状）に供給す
る圧縮気体の給気（ON）と断気（OFF）の時間分割を、
それぞれ異なった時間分割のグループGPb、GPc及びGPd
とし、その間を断気（OFF）してシリーズに継いだパタ
ーンをパターンＥとして示したものである。
る圧縮気体の給気（ON）と断気（OFF）の時間分割を、
それぞれ異なった時間分割のグループGPb、GPc及びGPd
とし、その間を断気（OFF）してシリーズに継いだパタ
ーンをパターンＥとして示したものである。
第３図から第６図に示す圧縮気体の断続的（パルス状）
供給の時間分割やパターンは、被塗布物の形状、目的と
する噴出量（被膜厚さ）、スプレイノズルと被塗布物と
の距離、粉粒体Pdの特性、さらにコンベアによって運ば
れてくる被塗布物の速度や間隔等の条件によって任意に
選択されるものである。なお本発明者が行った実験によ
れば、圧縮気体の給気時間は１ミリ秒から３秒、断気時
間は１ミリ秒から１分の範囲の任意の組合せにおいて、
従来技術に比べてはるかに良い結果がえられている。
供給の時間分割やパターンは、被塗布物の形状、目的と
する噴出量（被膜厚さ）、スプレイノズルと被塗布物と
の距離、粉粒体Pdの特性、さらにコンベアによって運ば
れてくる被塗布物の速度や間隔等の条件によって任意に
選択されるものである。なお本発明者が行った実験によ
れば、圧縮気体の給気時間は１ミリ秒から３秒、断気時
間は１ミリ秒から１分の範囲の任意の組合せにおいて、
従来技術に比べてはるかに良い結果がえられている。
このように、本実施例によれば、粉粒体が断続的（パル
ス状）に噴出されることにより、粉粒体の塗布作業全体
から見れば、極めて安定した粉粒体の噴出量が得られ、
またエジェクタ圧を低下させなくても小量の粉粒体の噴
出量が安定して得られ、さらに付着効率の高い粉粒体の
噴出が得られる。
ス状）に噴出されることにより、粉粒体の塗布作業全体
から見れば、極めて安定した粉粒体の噴出量が得られ、
またエジェクタ圧を低下させなくても小量の粉粒体の噴
出量が安定して得られ、さらに付着効率の高い粉粒体の
噴出が得られる。
例えば、当社の実験室で得られた実験データによれば、
従来法の連続噴出の場合、供給する圧縮気体の圧力が3.
5〜5kg/cm2の範囲で単位時間当りの噴出量のばらつきが
重量比でおよそ15％であったが、本実施例では同一条件
のもとで、1.5％以下の値が得られた。
従来法の連続噴出の場合、供給する圧縮気体の圧力が3.
5〜5kg/cm2の範囲で単位時間当りの噴出量のばらつきが
重量比でおよそ15％であったが、本実施例では同一条件
のもとで、1.5％以下の値が得られた。
なお、本実施例では、圧縮気体を断続的（パルス状）に
供給する供給手段12として、電磁弁４と制御装置６とを
別体として構成したが、これに限るものではなく、他の
構成によることもできる。例えば、可変設定パルス発生
器と流路のON、OFFを一体的に構成した制御弁や、ある
いは回転数可変型のロータリーバルブ等によって構成し
ても、同様の効果が得られることはいうまでもない。
供給する供給手段12として、電磁弁４と制御装置６とを
別体として構成したが、これに限るものではなく、他の
構成によることもできる。例えば、可変設定パルス発生
器と流路のON、OFFを一体的に構成した制御弁や、ある
いは回転数可変型のロータリーバルブ等によって構成し
ても、同様の効果が得られることはいうまでもない。
ト．効果 本発明は、以上詳述したように粉粒体の噴出方法におい
て、エジェクタ装置に供給する圧縮気体を断続的（パル
ス状）に供給する方法とし、また本方法を実施するため
の装置として、粉粒体を供給するための供給ホッパと、
その供給ホッパの下流に供給ホッパ内と連通して設けた
エジェクタ装置と、該エジェクタ装置に圧縮気体を供給
する圧縮気体供給装置と、該圧縮気体供給装置とエジェ
クタ装置とを継ぐ菅路の途中に圧縮気体を断続的（パル
ス状）に供給する供給手段とにより構成したので、ノズ
ルから噴出される粉粒体は、断続的（パルス状）に噴出
され、従って、粉粒体の噴出作業全体から見れば、極め
て安定た粉粒体の噴出量が得られ、またエジェクタ圧を
低下させなくても従来不可能とされた単位時間当りの小
容量粉粒体の噴出が安定して得られ、さらに、箱などの
内面角隅部や溝の内面などの複雑なところでも付着効率
が高く、しかも付き回りのよい付着が得られる。
て、エジェクタ装置に供給する圧縮気体を断続的（パル
ス状）に供給する方法とし、また本方法を実施するため
の装置として、粉粒体を供給するための供給ホッパと、
その供給ホッパの下流に供給ホッパ内と連通して設けた
エジェクタ装置と、該エジェクタ装置に圧縮気体を供給
する圧縮気体供給装置と、該圧縮気体供給装置とエジェ
クタ装置とを継ぐ菅路の途中に圧縮気体を断続的（パル
ス状）に供給する供給手段とにより構成したので、ノズ
ルから噴出される粉粒体は、断続的（パルス状）に噴出
され、従って、粉粒体の噴出作業全体から見れば、極め
て安定た粉粒体の噴出量が得られ、またエジェクタ圧を
低下させなくても従来不可能とされた単位時間当りの小
容量粉粒体の噴出が安定して得られ、さらに、箱などの
内面角隅部や溝の内面などの複雑なところでも付着効率
が高く、しかも付き回りのよい付着が得られる。
第１図は、本発明の実施例を示す粉粒体の噴出装置の構
成図。 第２図はエジェクタ圧力と粉粒体の噴出量との関係を示
す図。 第３図、第４図、第５図及び第６図は、本願発明の粉粒
体の噴出方法を実施するときの圧縮気体を断続的（パル
ス状）に供給するパターンの一例を示す図である。 主な符号の説明 １……エジェクタノズル、２……エジェクタ装置、３…
…外筒、４……電磁弁、５……圧縮気体供給装置、６…
…制御装置、７……配管、８……供給ホッパ、10……ホ
ース、11……スプレイノズル、12……供給手段、Pd,Pd
1,Pd2,Pd2′,Pd3……粉粒体。
成図。 第２図はエジェクタ圧力と粉粒体の噴出量との関係を示
す図。 第３図、第４図、第５図及び第６図は、本願発明の粉粒
体の噴出方法を実施するときの圧縮気体を断続的（パル
ス状）に供給するパターンの一例を示す図である。 主な符号の説明 １……エジェクタノズル、２……エジェクタ装置、３…
…外筒、４……電磁弁、５……圧縮気体供給装置、６…
…制御装置、７……配管、８……供給ホッパ、10……ホ
ース、11……スプレイノズル、12……供給手段、Pd,Pd
1,Pd2,Pd2′,Pd3……粉粒体。
Claims (2)
- 【請求項１】供給ホッパに貯留された粉粒体材料を、供
給ホッパーの下流に設けたエジェクタ装置に圧縮気体を
供給し、エジェクタノズルから噴出する圧縮気体流に前
記粉粒体を随伴させて、エジェクタ装置の下流側に設け
たノズルから噴出する方法において、エジェクタ装置の
エジェクタノズルに供給する圧縮気体を、あらかじめ制
御装置に設定したプログラムに基づき、エジェクタ装置
のエジェクタノズルに供給する圧縮気体供給配管上に設
けた弁機構を、断続的（パルス状）に開閉することによ
り、エジェクタ装置のエジェクタノズルに供給する圧縮
気体を、断続的（パルス状）に供給し、エジェクタ装置
の下流側に設けたノズルから噴出する粉粒体の噴出方
法。 - 【請求項２】粉粒体を供給するための供給ホッパ（８）
と、該供給ホッパ（８）の下流に供給ホッパ（８）内と
連通して設けられるエジェクタ装置（２）と、該エジェ
クタ装置（２）に圧縮気体を供給するための圧縮気体供
給装置（５）と、該圧縮気体供給装置（５）と前記エジ
ェクタ装置（２）とを結ぶ配管（７）の途中に設けた弁
機構（４）と、あらかじめ設定したプログラムに基づき
前記弁機構を断続的（パルス状）に開閉作動させるため
の制御装置（６）と、からなることを特徴とする粉粒体
の噴出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60148538A JPH0688007B2 (ja) | 1985-07-05 | 1985-07-05 | 粉粒体の噴出方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60148538A JPH0688007B2 (ja) | 1985-07-05 | 1985-07-05 | 粉粒体の噴出方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6211574A JPS6211574A (ja) | 1987-01-20 |
| JPH0688007B2 true JPH0688007B2 (ja) | 1994-11-09 |
Family
ID=15455014
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60148538A Expired - Lifetime JPH0688007B2 (ja) | 1985-07-05 | 1985-07-05 | 粉粒体の噴出方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0688007B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6328104B2 (ja) | 2013-04-20 | 2018-05-23 | エムテックスマート株式会社 | 粉粒体の塗布方法 |
-
1985
- 1985-07-05 JP JP60148538A patent/JPH0688007B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6211574A (ja) | 1987-01-20 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
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