JPH0686341U - 基板保持装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 圧縮バネのバネ力を、慣性力によっても基板
押さえが浮き上がらないような強さとし、しかも基板は
ソフトにかつ確実に保持することができるようにした基
板保持装置を提供する。 【構成】 基板保持台１１と、この基板保持台１１上に
載せられた基板２を押さえる基板押さえ１３とからなる
基板保持装置１において、前記基板押さえ１３の基板押
さえ面１３ａに、導電性ゴム層３を介して金属層４を設
けた。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

この考案は、例えばイオン注入装置、イオンビームエッチング装置、薄膜形成 装置等に用いられるものであって、真空中でウェーハ等の基板を処理する際に当 該基板を保持する基板保持装置に関し、特に、基板を保持する際に、基板が損傷 するのを防止する手段に関する。

【０００２】

【従来の技術】

図３は、従来の基板保持装置の一例を示し、基板押さえ部分のみを断面した概 略正面図である。１は基板保持装置で、図示しない真空容器内に、例えばウェー ハ等の基板２を、基板保持台１１上に載せ、圧縮バネ１２のバネ力をもって基板 押さえ１３によって押さえ、これを保持するようにしたものである。そして、図 示しないイオン源からイオンビームを照射し、当該基板２を処理、例えばイオン 注入するようにしている。なお、１４は前記基板押さえ１３に締結されたガイド シャフト、１５は前記基板押さえ１３と押し上げリング１６とを締結する基板押 さえ支柱、１７は基板押さえ１３の上下動、すなわち基板２の保持および解放時 のガイドシャフト１４の動きをスムースにするためのリニアベアリングである。

【０００３】

【考案が解決しようとする課題】

ところで、前記基板保持装置１は、例えばイオン注入処理のために基板２を図 示のように保持した状態で、矢印Ａのように回転および／または矢印Ｂのように 移動させられるが、前記圧縮バネ１２のバネ力が弱いと、基板２が基板保持装置 １から落下したり、基板保持装置１の中で回転あるいは移動し、好ましくない。 また、前記圧縮バネ１２のバネ力を強くしすぎると、基板２に圧縮力が働き、基 板２が割れたり、欠けたりするなどといった不都合があった。特に、このような 問題は、基板２がＧaＡs 基板や極薄基板の場合にそれが割れやすいので顕著に なる。

【０００４】 しかし、前記圧縮バネ１２のバネ力、すなわち保持力は、イオン注入処理のた め基板保持装置１が矢印Ａのように回転および／または矢印Ｂのように移動する と、押し上げリング１６および基板押さえ支柱１５に慣性力が働き、これら基板 押さえ１３および基板押さえ支柱１５が矢印Ｃ方向に移動する（浮き上がる）た め、どうしてもある程度以上の強さにする必要がある。

【０００５】 そこでこの考案は、前記圧縮バネのバネ力を、前述した慣性力によっても基板 押さえが浮き上がらないような強さとし、しかも基板はソフトにかつ確実に保持 することができるようにした基板保持装置を提供することを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】

上記目的を達成するため、この考案は、基板保持台と、この基板保持台上に載 せられた基板を押さえる基板押さえとからなる基板保持装置において、前記基板 押さえの基板押さえ面に、導電性ゴム層を介して金属層を設けたことを特徴とす る。

【０００７】

【作用】

上記構成によれば、基板保持装置が回転および／または移動によって生じる慣 性力で基板押さえが浮き上がらないような強さのバネ力、すなわち保持力として も、導電性ゴム層の変形によって基板に加わる圧縮力は緩和され、しかも、基板 は導電性ゴム層の変形の反力によって保持され、基板を損傷するのが防止できる 。

【０００８】

【実施例】

図１は、この考案の一実施例に係る基板保持装置の概略構成を示し、基板押さ え部分のみを断面した正面図である。図２は、基板押さえの基板押さえ面部分を 拡大して示す部分断面図である。これら図１、図２において、図３の従来例と同 一または相当する部分には同一符号を付し、以下においては当該従来例との相違 点を主に説明する。

【０００９】 この実施例においては、前述したような基板押さえ１３の基板押さえ面１３ａ の全面に、厚さが０．３〜１ｍｍ程度の導電性ゴム層３を接着剤、好ましくは導 電性接着剤を用いて接着している。そして、この導電性ゴム層３の全面に、金属 層４として厚さが０．０５〜０．１ｍｍ程度のアルミニウム層を導電性ゴム層３ と同様に接着剤、好ましくは導電性接着剤を用いて接着して設けている。

【００１０】 基板２の保持力の調整は、前記導電性ゴム層３の硬度および変形力を適宜選定 することにより行うことができる。この導電性ゴム層３は、例えば弾性および耐 熱性を有するシリコーンゴムに、カーボン、アルミニウム、金などの導電性微粒 子を混合して所望の導電度、硬度および変形力に調整したものを用いればよい。

【００１１】 前記金属層４としては、例えばイオン注入中に導電性ゴム層３に基板２が付着 し、処理後基板２が、基板保持装置１から取り出せなくなるのを防止するためで あり、可能な限り薄く形成するのがよい。したがって、前述したように導電性ゴ ム層３に金属層４を接着する代わりに、導電性ゴム層３の基板保持台１１側の面 に薄膜形成装置などにより金属を蒸着して金属層４を形成してもよいのは勿論で ある。

【００１２】 上記構成によれば、基板２を基板保持台１１の上に載せ、圧縮バネ１２のバネ 力をもって基板押さえ１３によって押さえ、導電性ゴム層３の変形によって基板 ２に加わる圧縮力を緩和するとともに、基板２を導電性ゴム層３の変形の反力に よって確実に保持することができるので、当該基板２を処理、例えばイオン注入 処理のために基板２を図示のように保持した状態で、矢印Ａのように回転および ／または矢印Ｂのように移動時に、押し上げリング１６および基板押さえ支柱１ ５に慣性力が働いても、前記圧縮バネ１２のバネ力によって、これら基板押さえ １３および基板押さえ支柱１５が従来例のように矢印Ｃ方向に移動する（浮き上 がる）ことがない。

【００１３】 したがって、基板２が基板保持装置１から落下したり、基板保持装置１の中で 回転あるいは移動することがない。

【００１４】 また、イオン注入処理を行った場合、基板２の表面に正電荷が溜まり（即ちチ ャージアップし）、これに起因して基板２が絶縁破壊されることがあるが、上記 構成によれば、正電荷は金属層４および導電性ゴム層３を介して基板押さえ１３ に流れるので、チャージアップが生じないという効果も得られる。

【００１５】

【考案の効果】

以上のようにこの考案によれば、基板を基板保持装置の回転および／または移 動によって生じる慣性力に抗する強いバネ力をもって押さえることができるので 、当該基板を処理、例えばイオン注入処理中に、基板押さえおよび基板押さえ支 柱が浮き上がるのを防止することができる。しかも導電性ゴム層の変形によって 、基板に加わる圧縮バネによる圧縮力を緩和するとともに、基板を導電性ゴム層 の変形の反力によってソフトにかつ確実に保持することができるので、基板に強 い圧縮力が加わることがない。

【００１６】 その結果、基板がこれらの処理中に落下したり、従来例のように移動すること がないとともに、基板が圧縮バネの圧縮力によって割れたり、欠けるなどといっ た損傷事故を防止することができる。

【００１７】 また、イオン注入等に伴う基板表面のチャージアップ現象が防止でき、基板の 絶縁破壊による損傷がなくなるなどといった種々の実用的効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】 この考案の一実施例に係る基板保持装置の概
略構成を示し、基板押さえ部分のみを断面した正面図で
ある。

【図２】 図１の基板押さえの基板押さえ面部分を拡大
して示す部分断面図である。

【図３】 従来の基板保持装置の一例を示し、基板押さ
え部分のみを断面した概略正面図である。

【符号の説明】

１ 基板保持装置 １１ 基板保持台 １３ 基板押さえ １３ａ 基板押さえ面 ２ 基板 ３ 導電性ゴム層 ４ 金属層

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板保持台と、この基板保持台上に載せ
   られた基板を押さえる基板押さえとからなる基板保持装
   置において、前記基板押さえの基板押さえ面に、導電性
   ゴム層を介して金属層を設けたことを特徴とする基板保
   持装置。