JPH0685159A - Semiconductor memory device and memory device using same - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、半導体記憶装置とそ
れを用いたメモリ装置に関し、例えば高密度実装のため
に積み重ねられて用いられるものに利用して有効な技術
に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device and a memory device using the same, and more particularly to a technique effective when used in a stacked structure for high-density mounting.
【0002】[0002]
【従来の技術】実装密度を高したメモリモジュールとし
て、EPROMの紫外線透過窓が外側に露出するよう
に、上記EPROMとほぼ同一サイズの他メモリ装置を
積み重ねて実装したものがある。このようなメモリモジ
ュールの例としては、特開昭61−63048号公報が
ある。2. Description of the Related Art As a memory module having a high packaging density, there is a memory module in which another memory device of approximately the same size as the EPROM is stacked and mounted so that the ultraviolet ray transmitting window of the EPROM is exposed to the outside. As an example of such a memory module, there is JP-A-61-63048.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】上記のメモリモジュー
ルでは、高密度実装のためにほぼ同じサイズのパッケー
ジの大きさの半導体記憶装置を単に積み重ねて構成する
ものである。半導体記憶装置は、それがアクセスされる
と電流が流れて必然的に発熱するものとなる。上記のよ
うに単に積み重ねただけでは、熱の発散が十分行われな
くなってチップ温度が上昇する。MOSFET(絶縁ゲ
ート型電界効果トランジスタ)を主体として半導体記憶
装置では、MOSFETが正の温度特性を持つため、温
度の上昇とともに動作電流が減少して最終的には約12
0°Cのような高温度に落ち着くことになる。In the memory module described above, semiconductor memory devices having substantially the same package size are simply stacked for high-density mounting. When the semiconductor memory device is accessed, a current flows and the semiconductor memory device inevitably generates heat. If the chips are simply stacked as described above, heat is not sufficiently dissipated and the chip temperature rises. In a semiconductor memory device mainly composed of a MOSFET (insulated gate type field effect transistor), since the MOSFET has a positive temperature characteristic, the operating current decreases as the temperature rises, and finally about 12
It will settle down to a high temperature such as 0 ° C.
【0004】上記のような温度上昇が生じると、半導体
記憶装置の動作電流が減少するので必然的に動作速度が
遅くされる。それ故、上記のような熱放出の悪い実装方
法を採るものでは、ワーストケースを考慮してメモリア
クセス時間を設定しなければならない。ところが、半導
体記憶装置の規格上限温度は、通常80°C程度である
ので、規格上限値を超える高温度でしようすると当然に
アクセスタイムを満足できなくなり、上記高温度状態に
してメモリアクセスタイムを測定してからメモリアクセ
スタイムを決める等極めて使い勝手が悪くなるととも
に、最も特性の悪い領域で半導体記憶装置を使わねばな
らないという問題を有する。When the temperature rises as described above, the operating current of the semiconductor memory device decreases, so that the operating speed is inevitably slowed down. Therefore, the memory access time must be set in consideration of the worst case in the case of adopting the mounting method in which the heat dissipation is bad as described above. However, since the standard upper limit temperature of the semiconductor memory device is usually about 80 ° C., if the temperature exceeds the standard upper limit value, the access time cannot be satisfied, and the memory access time is measured under the high temperature condition. Then, there is a problem that the usability becomes extremely poor such as determining the memory access time, and the semiconductor memory device must be used in the region having the worst characteristics.
【0005】この発明の目的は、温度制限機能を持つ新
規な半導体記憶装置を提供することにある。この発明の
他の目的は、高密度実装を図りつつ、動作速度を維持し
た使い勝手のよいメモリ装置を提供することにある。こ
の発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、
本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろ
う。An object of the present invention is to provide a novel semiconductor memory device having a temperature limiting function. Another object of the present invention is to provide a memory device which is easy to use and maintains its operation speed while achieving high-density mounting. The above and other objects and novel features of the present invention are
It will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、MOSFETに流れる電流
に対応してほぼ動作速度が律則される回路形式からなる
メモリ回路に、温度検出回路とその検出出力又は外部か
ら入力された制御信号によって動作電圧を絶対値的に小
さな電圧に切り換える降圧回路を設ける。これらの半導
体記憶装置を積み重ねて実装するとともに、自身の温度
検出信号又は積み重ねられた他の半導体記憶装置により
形成された温度検出信号により降圧回路を制御して動作
電圧を絶対値的に小さくする。The outline of a typical one of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, the operating voltage is made small in absolute value by the temperature detecting circuit and its detection output or the control signal input from the outside in the memory circuit having a circuit form in which the operating speed is substantially regulated corresponding to the current flowing in the MOSFET. A step-down circuit that switches to voltage is provided. These semiconductor memory devices are mounted in a stack, and the step-down circuit is controlled by its own temperature detection signal or a temperature detection signal formed by another semiconductor memory device stacked to reduce the operating voltage in absolute value.
【0007】[0007]
【作用】上記した手段によれば、規格上限値に近い高温
度になると降圧回路が作動して動作電圧を絶対値的に小
さくするので動作電流をその分少なくして発熱を抑える
ので、みかけ上低い温度で熱飽和状態となり所定の動作
速度を確保することができる。このような機能を持つ半
導体記憶装置を積み重ねて実装させることにより高密度
実装を図りつつ、動作速度を維持したメモリ装置を得る
ことができる。According to the above-mentioned means, the step-down circuit operates at a high temperature close to the standard upper limit value to reduce the operating voltage in absolute value, so that the operating current is reduced by that amount and heat generation is suppressed. It becomes a heat saturation state at a low temperature and a predetermined operation speed can be secured. By stacking and mounting the semiconductor memory devices having such a function, it is possible to obtain a memory device capable of high-density mounting and maintaining an operation speed.
【0008】[0008]
【実施例】図1には、この発明に係る半導体記憶装置を
用いたメモリ装置の一実施例の概略側面図が示されてい
る。この実施例のメモリ装置は、高密度実装のために、
半導体記憶装置が積み重ねて構成される。ベースとなる
ベース基板上には、コールドプレートが設けられ、その
上に最も下側の半導体記憶装置が載せられる。実装密度
を高くするために、上記半導体記憶装置の上には複数個
の半導体記憶装置が積み重ねられて設けられる。1 is a schematic side view of an embodiment of a memory device using a semiconductor memory device according to the present invention. The memory device of this embodiment has a high-density mounting,
Semiconductor memory devices are stacked and configured. A cold plate is provided on a base substrate serving as a base, and the lowest semiconductor memory device is mounted on the cold plate. To increase the packaging density, a plurality of semiconductor memory devices are stacked and provided on the semiconductor memory device.
【0009】上記ベース基板には、上記半導体記憶装置
のリードに対応して設けられる電極(スルーホール)を
持つ回路基板が取付けられる。この回路基板の実装面
は、上記半導体記憶装置の積み重ね方向に沿った縦方向
にされる。その実装面に設けられたスルーホールに上記
半導体記憶装置のリードが挿入されて半田付け等により
電気的に接続される。この回路基板は、それに実装され
る複数の半導体記憶装置を相互に接続するためのプリン
ト配線が設けられることの他、例えば、他の同様な積み
重ねられた半導体記憶装置と接続するために、同図では
省略されているが下側に電極が設けられ、ベース基板に
設けられるプリント配線に接続される。A circuit board having electrodes (through holes) provided corresponding to the leads of the semiconductor memory device is attached to the base substrate. The mounting surface of this circuit board is arranged in the vertical direction along the stacking direction of the semiconductor memory devices. The leads of the semiconductor memory device are inserted into through holes provided on the mounting surface and electrically connected by soldering or the like. This circuit board is provided with printed wiring for connecting a plurality of semiconductor memory devices mounted thereon to each other, and for example, in order to connect to other similar stacked semiconductor memory devices, Although omitted, an electrode is provided on the lower side and is connected to a printed wiring provided on the base substrate.
【0010】図8には、1つのメモリモジュールの平面
図が示されている。ベース基板には上記一対からなる回
路基板が複数列に設けられ、同図では1つの列に2個の
半導体記憶装置ICがそれぞれ積み重ねられて設けられ
る。ベース基板上にM列の回路基板を設け、それぞれに
N段に積み重ねて半導体記憶装置を実装する場合には、
M×2×N個の半導体記憶装置を設けることが出来る。FIG. 8 shows a plan view of one memory module. A plurality of columns of circuit boards are provided on the base substrate in a plurality of rows, and in the figure, two semiconductor memory device ICs are stacked and provided in one row. In the case where the M rows of circuit boards are provided on the base board and the semiconductor memory devices are mounted by stacking them in N stages respectively,
It is possible to provide M × 2 × N semiconductor memory devices.
【0011】図1において、特に制限されないが、上記
のようなメモリモジュールの組み立てを容易にするた
め、例えば一方の回路基板のスルーホールに半導体記憶
装置のリードを挿入して半田等により電気的に接続し、
他方の回路基板のスルーホールに上記積み重られた状態
の半導体記憶装置の他方のリードを挿入して上記同様に
半田等により電気的に接続する。このようなメモリユニ
ットを形成した後に、ベース基板にコールドプレートが
設けられた上に最下段の半導体記憶装置が乗るようにメ
モリユニットを搭載すればよい。In FIG. 1, although not particularly limited, in order to facilitate the assembly of the memory module as described above, for example, a lead of a semiconductor memory device is inserted into a through hole of one circuit board and electrically connected by soldering or the like. connection,
The other lead of the stacked semiconductor memory device is inserted into the through hole of the other circuit board and electrically connected by soldering or the like as described above. After forming such a memory unit, the memory unit may be mounted so that the cold storage plate is provided on the base substrate and the semiconductor memory device at the lowermost stage is mounted thereon.
【0012】上記コールドプレートは、特に制限されな
いが、熱伝導体である金属板の内部に冷水が流れるパイ
プや他の冷媒が流れるパイプにより冷却作用を持たせる
ようにされる。The cold plate is not particularly limited, but has a cooling effect by a pipe through which cold water flows or a pipe through which another refrigerant flows inside the metal plate which is a heat conductor.
【0013】上記のようなメモリモジュールにおいて
は、半導体記憶装置が複数段に積み重ねられて実装され
るため、放熱効率が悪くなるという問題がある。特に、
内部の半導体記憶装置はその上部と下部の半導体記憶装
置によって挟まれる構造になっているから、放熱がこれ
らの上又は下の半導体記憶装置を介して行われること、
あるいは逆に隣接する半導体記憶装置からの熱を受ける
こととになるので、内部の半導体チップの温度を規格値
以内に保証することが実質的に難しくなる。In the memory module as described above, since the semiconductor memory devices are stacked and mounted in a plurality of stages, there is a problem that heat dissipation efficiency is deteriorated. In particular,
Since the internal semiconductor memory device is structured to be sandwiched between the upper and lower semiconductor memory devices, heat dissipation is performed through the semiconductor memory device above or below these semiconductor memory devices.
On the other hand, on the contrary, it receives heat from the adjacent semiconductor memory device, so that it is substantially difficult to guarantee the temperature of the internal semiconductor chip within the standard value.
【0014】そこで、本願では各半導体記憶装置に温度
検出回路と、降圧回路とを設けてチップ温度が一定の高
温度になると、自身又は隣接する他の半導体記憶装置の
動作電圧を低下させて電流消費量を制限して発熱を抑え
るようにするものである。Therefore, in the present application, each semiconductor memory device is provided with a temperature detecting circuit and a step-down circuit, and when the chip temperature reaches a certain high temperature, the operating voltage of the semiconductor memory device itself or another semiconductor memory device adjacent thereto is lowered to reduce the current. The amount of consumption is limited to suppress heat generation.
【0015】図2には、この発明に係る半導体記憶装置
の一実施例の概略ブロック図が示されている。同図の各
回路ブロックは、公知の半導体技術によって、単結晶シ
リコンのような1個の半導体基板上において形成され
る。FIG. 2 is a schematic block diagram of an embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention. Each circuit block in the figure is formed on a single semiconductor substrate such as single crystal silicon by a known semiconductor technique.
【0016】メモリ回路は、マトリックス配置されたメ
モリセルと、その選択を行うアドレス選択回路、アドレ
ス信号や書き込みデータ及び制御信号を入力する入力バ
ッファ、読み出し信号を出力させる出力バッファから構
成される。特に制限されないが、メモリ回路は、後述す
るようにメモリセルをCMOS回路により構成し、その
周辺回路をCMOS回路とバイポーラ型トランジスタと
を組み合わせたECLインターフェイスのスタティック
型RAM(ランダム・アクセス・メモリ)により構成さ
れる。The memory circuit comprises memory cells arranged in a matrix, an address selection circuit for selecting the cells, an input buffer for inputting address signals, write data and control signals, and an output buffer for outputting read signals. Although not particularly limited, the memory circuit is configured by a static RAM (random access memory) of an ECL interface in which a memory cell is composed of a CMOS circuit and its peripheral circuit is a combination of a CMOS circuit and a bipolar transistor as described later. Composed.
【0017】上記のようなスタティック型RAMが形成
される半導体チップ上に、温度検出回路と、コントロー
ル回路及び降圧電源回路が設けられる。コントロール回
路は、次に説明するようにメモリ回路に内蔵されるコン
トロール回路と併合して構成するものであってもよい。
この実施例では、温度検出回路は、チップの温度が約8
0°Cのような規格上限値になると、検出信号を形成し
てコントロール回路を通して降圧電源回路を制御して、
動作電圧を絶対値的に小さな電圧に下げるようにする。
このような動作電圧の低減によって、必然的に動作電流
も低減されるので半導体チップの発熱を抑えて温度上昇
を防ぐようにするものである。A temperature detecting circuit, a control circuit and a step-down power supply circuit are provided on a semiconductor chip on which the static RAM as described above is formed. The control circuit may be configured in combination with a control circuit incorporated in the memory circuit as described below.
In this embodiment, the temperature detection circuit has a chip temperature of about 8
When the standard upper limit value such as 0 ° C is reached, a detection signal is formed and the step-down power supply circuit is controlled through the control circuit.
Try to reduce the operating voltage to a small voltage in absolute value.
Such a reduction in the operating voltage inevitably reduces the operating current, so that the heat generation of the semiconductor chip is suppressed and the temperature rise is prevented.
【0018】このような温度検出と電源降圧機能が無い
と、半導体チップの温度は上昇して最終的には約120
°Cのような飽和温度に落ち着くものとなる。すなわ
ち、上記のようなMOSFETを主体とした回路では、
MOSFETが正の温度係数を持つために、温度の上昇
とともに動作電流が減少するのでその均衡が採れる上記
のような飽和温度が上限とされる。しかしながら、この
ような高温度においてMOSFETに流れる電流は、大
幅に低減されたものになるので動作速度が極端に遅くな
ってしまう。Without such temperature detection and power down function, the temperature of the semiconductor chip rises and eventually reaches about 120.
It will settle to a saturation temperature such as ° C. That is, in the circuit mainly composed of the MOSFET as described above,
Since the MOSFET has a positive temperature coefficient, the operating current decreases as the temperature rises, so that the above-mentioned saturation temperature at which the balance is taken is the upper limit. However, since the current flowing through the MOSFET at such a high temperature is greatly reduced, the operating speed becomes extremely slow.
【0019】これに対して、上記のような温度検出と電
源降圧機能を付加すると、上記のような高温度に達する
前に動作電源を低くして発熱を抑えて一定の動作電流を
確保することができる。このような発熱の低減は、前記
のように半導体記憶装置を積み重ねて実装する場合、そ
れ自身の発熱を抑えるこの他、隣接する他の半導体記憶
装置の温度の上昇も制限することになる。それ故、メモ
リモジュール全体でみると、その発熱量が制限できるか
ら全体的にみても温度を低く抑えることができ、所望の
動作速度を維持するだけの動作電流を確保することがで
きる。On the other hand, if the temperature detection and power down function as described above is added, the operating power supply is lowered to suppress heat generation and a constant operating current is secured before reaching the above high temperature. You can When the semiconductor memory devices are stacked and mounted as described above, such reduction of heat generation suppresses the heat generation of the semiconductor memory devices themselves, and also limits the temperature rise of other adjacent semiconductor memory devices. Therefore, the heat generation amount of the memory module as a whole can be limited, so that the temperature can be suppressed to a low level as a whole, and an operation current sufficient to maintain a desired operation speed can be secured.
【0020】上記のような半導体記憶装置の温度の制限
は、その規格値を有効に利用する上でも有益である。す
なわち、この実施例のように半導体記憶装置が上限温度
以内に制限できるなら、そのときの降圧電圧により動作
電流も保証できるのでメモリアクセスタイムを逐一測定
することなく、メモリアクサスタイムを決めることがで
きるのでユーザーにおいて使い勝手が良くなる。The limitation of the temperature of the semiconductor memory device as described above is useful for effectively using the standard value. That is, if the semiconductor memory device can be limited within the upper limit temperature as in this embodiment, the operating current can be guaranteed by the step-down voltage at that time, so that the memory access time can be determined without measuring the memory access time one by one. Therefore, it is easy for the user to use.
【0021】図3には、この発明に係る半導体記憶装置
の他の一実施例の概略ブロック図が示されている。この
実施例では、半導体記憶装置に設けられた温度検出回路
の検出信号は、ドライバを通して外部に出力される。ま
た、内部に設けられた降圧電源回路は、外部から入力さ
れた制御信号により電源電圧を降圧電圧に切り換えるよ
うにされる。この実施例では、このような高温度検出信
号を出力させ、外部から入力された制御信号により電源
電圧が降圧された電圧に切り換えられる機能を持つ2つ
の半導体集積回路装置1と2を用いた最も単純な組み合
わせ例が示されており、上記温度検出信号により互いに
他方の降圧電源回路を制御するものである。FIG. 3 is a schematic block diagram of another embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention. In this embodiment, the detection signal of the temperature detection circuit provided in the semiconductor memory device is output to the outside through the driver. Further, the step-down power supply circuit provided inside switches the power supply voltage to the step-down voltage by a control signal input from the outside. In this embodiment, two semiconductor integrated circuit devices 1 and 2 having a function of outputting such a high temperature detection signal and switching the power supply voltage to a voltage stepped down by a control signal input from the outside are most used. A simple combination example is shown, in which the other step-down power supply circuits are controlled by the temperature detection signal.
【0022】この構成では、例えば半導体記憶装置1に
繰り返しアクセスがかかり、その消費電流によりチップ
の温度が上昇すると、温度検出回路がこれを検知してド
ライバを通して他の半導体記憶装置2の降圧電源回路を
作動させて、メモリ回路の動作電圧を降圧したものに切
り換える。これにより、上記高温度になった半導体記憶
装置1に隣接する半導体記憶装置2の動作電圧が降圧さ
れた小さな電圧になることに応じて、その消費電流が小
さくなり、発熱量が抑えられる。これにより、間接的に
アクセスが行われる半導体記憶装置1の放熱効率がよく
なりその温度上昇が抑えられる。In this configuration, for example, when the semiconductor memory device 1 is repeatedly accessed and the temperature of the chip rises due to the consumption current, the temperature detecting circuit detects this and the step-down power supply circuit of another semiconductor memory device 2 through the driver. Is operated to switch the operating voltage of the memory circuit to a reduced one. As a result, as the operating voltage of the semiconductor memory device 2 adjacent to the semiconductor memory device 1 that has reached the high temperature becomes a reduced small voltage, its current consumption is reduced and the amount of heat generation is suppressed. As a result, the heat dissipation efficiency of the semiconductor memory device 1 that is indirectly accessed is improved, and the temperature rise is suppressed.
【0023】前記のようなメモリモジュールでは、3個
以上の多数の半導体記憶装置が積み重ねられて実装され
る。それ故、実際では積み重ね構造にされた半導体記憶
装置のうち、自身を除く他の全ての半導体集記憶装置の
降圧電源回路を制御して、その動作電圧を降圧したもの
に低下させる。この場合、外部端子においてワイヤード
オア構成になるようにするか、あるいはダイオードを用
いた論理によりオア構成に接続する。In the memory module as described above, a large number of semiconductor memory devices of three or more are stacked and mounted. Therefore, in actuality, among the semiconductor memory devices having the stacked structure, the step-down power supply circuits of all the semiconductor memory devices other than the semiconductor memory device are controlled to reduce the operating voltage to the stepped-down one. In this case, the external terminal is configured to have a wired OR configuration, or is connected to the OR configuration by a logic using a diode.
【0024】例えば、N段に積み重ねて半導体記憶装置
が構成される場合、1つの半導体記憶装置の高温度検出
信号は、ダイオードを通して自身を除く他の半導体記憶
装置の制御入力端子にハイレベル又はロウレベルの制御
信号を入力するようにすればよい。この構成では、N個
の積み重ねられた半導体集積回路装置の1つに繰り返し
アクセスがかかり、その消費電流によりチップの温度が
上昇すると、温度検出回路がこれを検知してドライバを
通して他の残りN−1個の半導体記憶装置2の降圧電源
回路を作動させて、それぞれの消費電流を小さくして発
熱を一斉に抑えるのでその分メモリアクセスが行われる
半導体記憶装置の熱放出効率がよくなり、その温度上昇
が抑えられる。For example, when the semiconductor memory devices are formed by stacking in N stages, the high temperature detection signal of one semiconductor memory device is passed through the diode to the control input terminal of the other semiconductor memory device except itself, which is high level or low level. It suffices to input the control signal of. In this configuration, when one of N stacked semiconductor integrated circuit devices is repeatedly accessed, and the temperature of the chip rises due to the current consumption, the temperature detection circuit detects this and the other remaining N- By operating the step-down power supply circuit of one semiconductor memory device 2 to reduce the current consumption of each semiconductor memory device and suppress the heat generation all at once, the heat dissipation efficiency of the semiconductor memory device to which memory access is performed is improved correspondingly, and its temperature The rise is suppressed.
【0025】ドライバとしてオープンドレインの出力M
OSFETを用いるものとして、N段積み重ねられた半
導体記憶装置の温度検出出力を共通に接続し、それを全
ての制御入力に供給して降圧電源回路を一斉に制御する
構成にしてもよい。このとき、コールドプレート上に設
けられる半導体記憶装置は、その熱放出が効率よく行わ
れるから、この半導体記憶装置には上記温度検出回路や
降圧電源回路の無いものを用いるものであっても実際上
は差支えない。Open drain output M as a driver
The OSFET may be used, and the temperature detection outputs of the semiconductor memory devices stacked in N stages may be connected in common and supplied to all control inputs to control the step-down power supply circuits all at once. At this time, since the semiconductor memory device provided on the cold plate efficiently releases heat, even if the semiconductor memory device without the temperature detection circuit or the step-down power supply circuit is used, the semiconductor memory device is practically used. Does not matter.
【0026】メモリモジュールには、そのメモリモジュ
ールに割り当てられたアドレスを識別して、指定された
アドレスに対応した半導体記憶装置にチップセレクト信
号を送出したり、システム上のアドレス信号をメモリモ
ジュールの個々の半導体記憶装置に対応したアドレス信
号に変換するアドレ変換回路等のメモリコントロール回
路が設けられる。このようなメモリコントロール回路が
設けられる場合、個々の半導体記憶装置の高温度検出信
号をメモリコントロール回路に供給し、ここで高温度検
出信号を解析して、どの半導体記憶装置に対して降圧電
源回路を作動させれば良いかを判定させて、メモリモジ
ュール全体としての発熱の均一化を図るようにするもの
であってもよい。この場合には、メモリコントロール回
路により各半導体記憶装置に設けられる降圧電源回路に
対する制御信号が形成される。The memory module identifies the address assigned to the memory module, sends a chip select signal to the semiconductor memory device corresponding to the designated address, and sends an address signal on the system to each memory module. A memory control circuit such as an address conversion circuit for converting an address signal corresponding to the semiconductor memory device is provided. When such a memory control circuit is provided, the high temperature detection signal of each semiconductor memory device is supplied to the memory control circuit, the high temperature detection signal is analyzed here, and the step-down power supply circuit for any semiconductor memory device is analyzed. It is also possible to determine whether or not to activate the above, and to make the heat generation of the memory module as a whole uniform. In this case, the memory control circuit forms a control signal for the step-down power supply circuit provided in each semiconductor memory device.
【0027】図4には、温度検出回路の一実施例の回路
図が示されている。この実施例では、後述するようにE
CLインターフェイスを採るBi−CMOS構造のスタ
ティック型RAMに向けられている。それ故、動作電圧
は負電圧VEEが用いられ、VCCは回路の0Vのよう
な回路の接地電位にされる。FIG. 4 shows a circuit diagram of an embodiment of the temperature detecting circuit. In this embodiment, as will be described later, E
It is directed to a static RAM having a Bi-CMOS structure that employs a CL interface. Therefore, the operating voltage is the negative voltage VEE and VCC is brought to the ground potential of the circuit, such as 0V of the circuit.
【0028】ダイオード(又はベースとコレクタが接続
されてなるダイオード形態のトランジスタ)D1とD2
を直列に接続する。これらのダイオードD1とD2に
は、抵抗R1を通して動作電流が流れるようにされる。
ダイオードD2のカソード側は、電源電圧VEEに接続
される。これらダイオードD1とD2の順方向電圧は、
トランジスタQ1のベースに供給される。このトランジ
スタQ1のエミッタにはエミッタ抵抗R2を介して電源
電圧線VEEに接続され、コレクタは回路の接地線VC
Cに接続される。Diodes (or diode-type transistors in which the base and collector are connected) D1 and D2
Are connected in series. An operating current is made to flow through these diodes D1 and D2 through a resistor R1.
The cathode side of the diode D2 is connected to the power supply voltage VEE. The forward voltage of these diodes D1 and D2 is
It is supplied to the base of the transistor Q1. The emitter of the transistor Q1 is connected to the power supply voltage line VEE via the emitter resistor R2, and the collector is the ground line VC of the circuit.
Connected to C.
【0029】上記2個のダイオードD1,D2の順方向
電圧は、トランジスタQ1のベース,エミッタを介して
出力されるため、ダイオードD1とトランジスタQ1の
ベース,エミッタ間電圧が相殺されるので、エミッタか
らはダイオードD1の順方向電圧に対応した電圧信号V
Tが形成される。周知のようにダイオードの順方向電圧
は、温度の上昇とともに低下するという負の温度依存性
を持つ。それ故、電圧信号VTは、温度の上昇とともに
低下するという温度特性を持ち、それを電圧比較回路V
Cに供給して検出しようとする温度に対応した基準電圧
VREFと比較する。例えば、基準電圧VREFは、温
度80°Cのときのダイオードの順方向電圧に合わせて
設定される。この基準電圧VREFは、温度補償された
高精度の基準電圧であることはいうまでもない。Since the forward voltage of the two diodes D1 and D2 is output via the base and emitter of the transistor Q1, the voltage between the base and emitter of the diode D1 and the transistor Q1 cancels each other. Is a voltage signal V corresponding to the forward voltage of the diode D1.
T is formed. As is well known, the forward voltage of a diode has a negative temperature dependence of decreasing with increasing temperature. Therefore, the voltage signal VT has a temperature characteristic that it decreases as the temperature rises,
It is supplied to C and compared with a reference voltage VREF corresponding to the temperature to be detected. For example, the reference voltage VREF is set according to the forward voltage of the diode when the temperature is 80 ° C. It goes without saying that the reference voltage VREF is a temperature-compensated and highly accurate reference voltage.
【0030】電圧比較回路VCは、温度の上昇に伴い低
下する電圧信号VTが、上記基準電圧VREF以下にな
ると、ロウレベルからハイレベルに変化する検出信号S
Wを形成する。この信号SWにより、前記内蔵された降
圧電源回路又はドライバを通して外部に出力し、他の半
導体記憶装置に設けられた降圧電源回路を作動させて消
費電流を減らすように制御する。The voltage comparison circuit VC detects the detection signal S which changes from low level to high level when the voltage signal VT which decreases with the rise of temperature becomes equal to or lower than the reference voltage VREF.
W is formed. The signal SW is output to the outside through the built-in step-down power supply circuit or driver, and the step-down power supply circuit provided in another semiconductor memory device is operated to control so as to reduce current consumption.
【0031】より高い精度で温度を検出するために、上
記電圧信号VTはN個のダイオードの順方向電圧に対応
したものとしてもよい。すなわち、N+1個のダイオー
ドを直列形態にして、エミッタフォロワトランジスタを
通して出力させるようにすればN倍に大きくされた電圧
信号VTを得ることができる。あるいは、基準電圧VR
EFには、逆に正の温度特性を持たせるようにしてよ
い。これにより、約80°Cのときに電圧VTとVRE
Fのレベルが逆転するようにすればよい。正の温度特性
を持つものとしては、例えばMOSFETのしきい値電
圧を利用することができる。In order to detect the temperature with higher accuracy, the voltage signal VT may correspond to the forward voltage of the N diodes. That is, if N + 1 diodes are connected in series and output through the emitter follower transistor, the voltage signal VT that is N times larger can be obtained. Alternatively, the reference voltage VR
Conversely, the EF may have a positive temperature characteristic. As a result, when the temperature is about 80 ° C, the voltages VT and VRE are
The level of F should be reversed. For example, the threshold voltage of MOSFET can be used as the one having a positive temperature characteristic.
【0032】図5には、この発明が適用されるスタティ
ック型RAMの一実施例のブロック図が示されている。
同図の各回路ブロックは、公知の半導体技術により単結
晶シリコンのような1個の半導体基板上において形成さ
れる。FIG. 5 is a block diagram showing an embodiment of a static RAM to which the present invention is applied.
Each circuit block in the figure is formed on a single semiconductor substrate such as single crystal silicon by a known semiconductor technique.
【0033】Xアドレスバッファは、複数ビットからな
るXアドレス信号AXを取り込んでXデコーダに伝え
る。同図において複数の線により示されたXデコーダ
は、アドレス信号を解読して1つのワード線選択信号を
形成する。このワード線選択信号は、Xドライバを通し
てワード線に伝えられる。The X address buffer takes in the X address signal AX consisting of a plurality of bits and transmits it to the X decoder. The X decoder shown by a plurality of lines in the figure decodes the address signal to form one word line selection signal. This word line selection signal is transmitted to the word line through the X driver.
【0034】Yアドレスバッファは、複数ビットからな
るYアドレス信号AYを取り込んでYデコーダに伝え
る。同図において複数の線により示されたYデコーダ
は、アドレス信号を解読して一対からなる相補データ線
DT,DBの選択信号を形成する。この選択信号は、Y
ドライバを通してYスイッチに伝えられる。Yスイッチ
は、複数対の相補データ線の中から一対の相補データ線
を選択して、コモンデータ線に接続する。このコモンデ
ータ線には、ライトアンプにより形成された書き込みデ
ータが伝えられる。Yスイッチには、相補データ線に対
応して設けられるプリアンプを選択するスイッチMOS
FETも設けられる。同図では、プリアンプは別の回路
ブロックとして示されているが、各相補データ線に対応
して設けられるプリアンプは、リードモードのときにY
スイッチによって選択された相補データ線に対応したも
のが選択される。The Y address buffer takes in the Y address signal AY consisting of a plurality of bits and transmits it to the Y decoder. The Y decoder shown by a plurality of lines in the figure decodes an address signal to form a selection signal for a pair of complementary data lines DT and DB. This selection signal is Y
It is transmitted to the Y switch through the driver. The Y switch selects a pair of complementary data lines from a plurality of pairs of complementary data lines and connects them to the common data line. The write data formed by the write amplifier is transmitted to the common data line. The Y switch is a switch MOS that selects a preamplifier provided corresponding to the complementary data line.
An FET is also provided. Although the preamplifier is shown as a separate circuit block in the figure, the preamplifier provided corresponding to each complementary data line is
The one corresponding to the complementary data line selected by the switch is selected.
【0035】入力バッファは、ライトモードのときに書
き込みデータを取り込んでライトアンプに伝える。この
ライトアンプの出力信号は、コモンデータ線を介してY
スイッチによって選択された相補データ線に伝えられ、
ワード線の選択動作によって選択状態にされているメモ
リセルに書き込まれる。リードモードのときにフリアン
プにより増幅された読み出し信号は、コモンコレクタ線
を通してセンスアンプに入力され、ここでセンスされて
出力バッファを通して外部端子Dout から送出される。The input buffer takes in the write data and transmits it to the write amplifier in the write mode. The output signal of this write amplifier is Y through the common data line.
Is transmitted to the complementary data line selected by the switch,
The data is written in the memory cell that is in the selected state by the word line selection operation. The read signal amplified by the free-amplifier in the read mode is input to the sense amplifier through the common collector line, sensed therein, and transmitted from the external terminal Dout through the output buffer.
【0036】この実施例では、温度検出回路と降圧回路
が設けられ、温度検出回路の出力信号は、コントロール
回路を通して降圧回路の制御を行うようにされる。降圧
回路は、電源電圧VCCとVEEを受けて、通常状態で
は電源電圧VEEと等しい電圧VDDを形成して、内部
回路の各動作電圧として出力する。温度検出回路により
高温度検出信号が形成されると、上記のような電源電圧
VEEを降圧した電圧を形成して動作電圧VDDとして
出力させる。In this embodiment, a temperature detecting circuit and a step-down circuit are provided, and the output signal of the temperature detecting circuit is controlled by the control circuit. The step-down circuit receives the power supply voltages VCC and VEE, forms a voltage VDD equal to the power supply voltage VEE in a normal state, and outputs the voltage VDD as each operating voltage of the internal circuit. When the high temperature detection signal is formed by the temperature detection circuit, a voltage obtained by stepping down the power supply voltage VEE as described above is formed and output as the operating voltage VDD.
【0037】図6には、上記スタティック型RAMにお
ける1つの相補データ線に関連する一実施例の回路図が
示されている。同図には、1本のワード線、1つのワー
ド線選択回路、1つのメモリセル、一対のコモンデータ
線及びその負荷回路、カラム選択回路、カラムスイッチ
回路、ライトリカバリ回路、プリアンプ、センスアンプ
及びライトアンプが例示的に示されている。FIG. 6 shows a circuit diagram of an embodiment related to one complementary data line in the static RAM. In the figure, one word line, one word line selection circuit, one memory cell, a pair of common data lines and their load circuits, column selection circuit, column switch circuit, write recovery circuit, preamplifier, sense amplifier and A write amplifier is shown as an example.
【0038】メモリセルは、Pチャンネル型MOSFE
TとNチャンネル型MOSFETからなるCMOSイン
バータ回路の入力と出力とが交差接続されたCMOSラ
ッチ回路と、その入出力ノードと相補データ線DT,D
Bとの間に設けられたアドレス選択用の伝送ゲートMO
SFETから構成される。メモリセルのハイレベル側の
動作電圧は回路の接地電位とされ、ロウレベル側の動作
電圧は、特に制限されないが、電圧発生回路により形成
された定電圧VEMが用いられる。The memory cell is a P-channel type MOSFE.
A CMOS latch circuit in which the input and output of a CMOS inverter circuit composed of T and N-channel MOSFETs are cross-connected, and its input / output node and complementary data lines DT and D
A transmission gate MO for address selection provided between B and B
It is composed of SFET. The operating voltage on the high level side of the memory cell is set to the ground potential of the circuit, and the operating voltage on the low level side is not particularly limited, but the constant voltage VEM formed by the voltage generating circuit is used.
【0039】この実施例のメモリセルは、完全CMOS
構成のメモリセルを用いるものであるが、Pチャンネル
型MOSFETに代えて、ポリシリコン層等からなる高
抵抗負荷を用いるものであってもよい。この高抵抗負荷
は、Nチャンネル型MOSFETのゲートに蓄積された
記憶レベルが、ドレインリーク電流によって失われない
程度の微小な電流を流すような高抵抗値にされる。それ
故、高抵抗負荷は、通常のレシオ型インバータ回路にお
ける負荷とは随分意味が異なる。このような高抵抗負荷
を用いた場合には、メモリセルのサイズ(専有面積)を
大幅に低減できる。しかしながら、メモリセルのロウレ
ベル側の動作電圧が−3.2V〜−3.3Vのような値
にされると、メモリセルの動作が不安定となる場合があ
るため、完全CMOS型のメモリセルの利用が好まし
い。The memory cell of this embodiment is a complete CMOS.
Although the memory cell having the structure is used, a high resistance load made of a polysilicon layer or the like may be used instead of the P-channel MOSFET. This high resistance load is set to a high resistance value such that the memory level accumulated in the gate of the N-channel MOSFET passes a minute current that is not lost by the drain leak current. Therefore, the high resistance load has a significantly different meaning from the load in the normal ratio type inverter circuit. When such a high resistance load is used, the size (occupied area) of the memory cell can be significantly reduced. However, if the operating voltage on the low level side of the memory cell is set to a value such as -3.2V to -3.3V, the operation of the memory cell may become unstable. Use is preferable.
【0040】メモリセルの伝送ゲートMOSFETのゲ
ートは、対応するワード線に接続される。このワード線
は、後述するような論理機能を持つレベル変換回路によ
り構成されたワード線選択回路NOR1により駆動され
る。同図では、前記のようなデコーダ部とワードドライ
バとを一体化して表現されている。The gate of the transmission gate MOSFET of the memory cell is connected to the corresponding word line. This word line is driven by a word line selection circuit NOR1 composed of a level conversion circuit having a logical function as described later. In the figure, the decoder unit and the word driver as described above are integrally shown.
【0041】相補データ線DT,DBには、Pチャンネ
ル型MOSFETMP1,MP2からなるデータ線負荷
手段が設けられる。これらのMOSFETMP1,MP
2は、そのコンダクタンスが書き込み特性を考慮して比
較的小さく形成され、そのゲートには定電圧VEMが定
常的に供給される。これらのMOSFETMP1,MP
2のソース,ドレインパスには、比較的大きなコンダク
タンスを持つようにされたPチャンネル型MOSFET
MP3,MP4のソース,ドレインパスが並列形態に設
けられる。The complementary data lines DT and DB are provided with data line load means composed of P-channel MOSFETs MP1 and MP2. These MOSFET MP1, MP
2 has its conductance formed relatively small in consideration of the write characteristic, and the constant voltage VEM is constantly supplied to its gate. These MOSFET MP1, MP
P channel type MOSFET with a relatively large conductance in the source and drain paths of 2.
Source and drain paths of MP3 and MP4 are provided in parallel.
【0042】これらのMOSFETMP3,MP4のゲ
ートには、書き込み制御信号WE1が供給されることに
より、書き込み動作以外のときにオン状態にされる。言
い換えるならば、上記MOSFETMP3,MP4は、
MOSFETMP1,MP2とともに読み出し動作のと
きのデータ線負荷を構成する。すなわち、読み出し動作
のときには、相補データ線の信号振幅を制限して高速読
み出しを実現する。これに対して、書き込み動作のとき
には、制御信号WE1により上記比較的大きなコンダク
タンスを持つMOSFETMP3,MP4がオフ状態に
され、相補データ線DT,DBに対する負荷が小さなコ
ンダクタンスしか持たないMOSFETMP1,MP2
で構成されるようにすることにより相補データ線に伝え
られる書き込みデータの信号振幅を大きくすることによ
って高速書き込みを行うようにするものである。By supplying the write control signal WE1 to the gates of the MOSFETs MP3 and MP4, the MOSFETs MP3 and MP4 are turned on at the time other than the write operation. In other words, the MOSFETs MP3 and MP4 are
Together with the MOSFETs MP1 and MP2, they form a data line load during a read operation. That is, at the time of read operation, the signal amplitude of the complementary data line is limited to realize high speed read. On the other hand, during the write operation, the control signals WE1 turn off the MOSFETs MP3 and MP4 having the relatively large conductances, and the loads on the complementary data lines DT and DB have only a small conductance and the MOSFETs MP1 and MP2.
With the above configuration, the high-speed writing is performed by increasing the signal amplitude of the write data transmitted to the complementary data line.
【0043】上記負荷回路には、ダイオード接続された
トランジスタQ3,Q4によりレベルシフトされたバイ
アス電圧が与えられる。すなわち、相補データ線DT,
DBの信号振幅のハイレベルは、−2VBEのような低い
電位にされる。これにより、書き込み動作のときの相補
データ線DT,DBの信号振幅が小さく制限されるか
ら、高速書き込みが可能になる。メモリセルの書き込み
は、相補データ線DT又はDBに伝えられるロウレベル
により支配的に行われるから、この実施例のようにハイ
レベルを−2VBEのように低くしても問題ない。すなわ
ち、メモリセルのオン状態にされた記憶MOSFETの
ゲート電位は、伝送ゲートMOSFETを介してロウレ
ベルにされた相補データ線の電位によって引き抜かれて
オフ状態に切り換えられ、その結果としてオフ状態にあ
った記憶MOSFETがオン状態なって情報の反転書き
込みが行われるからである。A bias voltage level-shifted by the diode-connected transistors Q3 and Q4 is applied to the load circuit. That is, the complementary data lines DT,
The high level of the signal amplitude of DB is set to a low potential such as -2VBE. As a result, the signal amplitudes of the complementary data lines DT and DB at the time of the write operation are limited to a small value, which enables high-speed writing. Since writing to the memory cell is predominantly performed by the low level transmitted to the complementary data line DT or DB, there is no problem even if the high level is lowered to -2VBE as in this embodiment. That is, the gate potential of the storage MOSFET in the ON state of the memory cell is pulled out by the potential of the complementary data line set to the low level via the transmission gate MOSFET and switched to the OFF state, and as a result, it is in the OFF state. This is because the storage MOSFET is turned on and information is inverted and written.
【0044】相補データ線DT,DBは、カラムスイッ
チ用のNチャンネル型MOSFETMN3,MN4を介
して一対のコモンデータ線に接続される。このコモンデ
ータ線には、書き込みデータを形成するライトアンプの
出力端子が接続される。上記カラムスイッチのMOSF
ETMN3,MN4のゲートには、デコーダとYドライ
バを兼ねたノアゲート回路NOR2により形成されたカ
ラム選択信号YSが供給される。The complementary data lines DT and DB are connected to a pair of common data lines via N-channel type MOSFETs MN3 and MN4 for column switches. An output terminal of a write amplifier that forms write data is connected to the common data line. MOSF of the above column switch
The gates of ETMN3 and MN4 are supplied with a column selection signal YS formed by a NOR gate circuit NOR2 which also functions as a decoder and a Y driver.
【0045】相補データ線DT,DBには、プリアンプ
を構成する差動トランジスタQ5,Q6のベースに接続
される。すなわち、このメモリはカラムセンス方式とさ
れる。これらの差動トランジスタQ5,Q6の共通エミ
ッタには、カラム選択信号YSを受けるスイッチMOS
FETMN1を介して定電流MOSFETMN2に接続
される。この定電流MOSFETMN2のゲートには、
前記定電圧VIEが供給されて定電流を形成する。この
定電流MOSFETMN2は、複数ビットの単位でのメ
モリアクセスを行う場合、カラムアドレスに対応した1
つのメモリブロックにおける複数個のプリアンプ用の定
電流MOSFETに対して共通に設けられる。The complementary data lines DT and DB are connected to the bases of differential transistors Q5 and Q6 which form a preamplifier. That is, this memory is of the column sense type. The common emitter of these differential transistors Q5 and Q6 has a switch MOS that receives the column selection signal YS.
It is connected to the constant current MOSFET MN2 via the FET MN1. At the gate of this constant current MOSFET MN2,
The constant voltage VIE is supplied to form a constant current. This constant current MOSFET MN2 corresponds to the column address when performing memory access in units of multiple bits.
It is commonly provided for a plurality of constant current MOSFETs for a preamplifier in one memory block.
【0046】上記差動トランジスタQ5,Q6のコレク
タは、コモンコレクタ線を介して電流/電圧変換動作を
行うセンスアンプに入力される。すなわち、上記トラン
ジスタQ5,Q6のコレクタは、定電圧VIEを受ける
MOSFETにより形成された定電流が流れる抵抗R2
で形成されたバイアス電圧がベースに供給されたトラン
ジスタQ7,Q8のエミッタに接続される。これらのト
ランジスタQ7,Q8のエミッタには、定電圧VIEを
受ける定電流MOSFETMN5,MN7が設けられ、
コレクタには電流/電圧変換用の抵抗R1,R3が設け
られる。The collectors of the differential transistors Q5 and Q6 are input to a sense amplifier which performs a current / voltage conversion operation via a common collector line. That is, the collectors of the transistors Q5 and Q6 have a resistor R2 in which a constant current formed by a MOSFET that receives a constant voltage VIE flows.
The bias voltage formed in (3) is connected to the emitters of the transistors Q7 and Q8 supplied to the bases. Constant current MOSFETs MN5 and MN7 for receiving a constant voltage VIE are provided at the emitters of these transistors Q7 and Q8,
The collector is provided with resistors R1 and R3 for current / voltage conversion.
【0047】相補データ線DT,DBには、選択された
メモリセルの記憶情報に対応したハイレベル/ロウレベ
ルが出力される。このハイレベル/ロウレベルを受けて
センスアンプを構成する差動トランジスタQ5,Q6が
オン/オフ状態にされる。カラム選択信号YSによりオ
ン状態にされたMOSFETMN1等を介して定電流が
上記差動トランジスタのオン/オフ状態に対応して上記
抵抗R1又はR3に流れる。これら抵抗R1とR3によ
り電圧信号に変換された読み出し信号は、トランジスタ
Q9,Q10及びエミッタ抵抗R4,R5からなるエミ
ッタフォロワ回路を介して出力される。A high level / low level corresponding to the storage information of the selected memory cell is output to the complementary data lines DT and DB. Receiving this high level / low level, the differential transistors Q5 and Q6 forming the sense amplifier are turned on / off. A constant current flows through the resistor R1 or R3 corresponding to the ON / OFF state of the differential transistor via the MOSFET MN1 and the like that are turned on by the column selection signal YS. The read signal converted into a voltage signal by the resistors R1 and R3 is output through an emitter follower circuit including transistors Q9 and Q10 and emitter resistors R4 and R5.
【0048】トランジスタQ1とQ2は、ライトリカバ
リ回路を構成し、書き込み終了後に発生されるリカバリ
信号WRCによりオン状態にされ、書き込み信号が伝え
られることにより、比較的大きなレベル差を持つように
された相補データ線DT,DBのリセットを高速に行
う。上記リカバリ信号WRCは、エミッタフォロワ出力
トランジスタを介して出力される。それ故、相補データ
線DT,DBは、トランジスタQ1,Q2が、上記リカ
バリ信号WRCを形成する出力トランジスタとダーリン
トン形態に接続されるため、前記バイアス回路(トラン
ジスタQ3,Q4)回路に対応したバイアスレベル−2
VBEと等しいレベルにされる。The transistors Q1 and Q2 constitute a write recovery circuit, which is turned on by a recovery signal WRC generated after the writing is completed, and the write signal is transmitted, so that the transistors Q1 and Q2 have a relatively large level difference. The complementary data lines DT and DB are reset at high speed. The recovery signal WRC is output via the emitter follower output transistor. Therefore, in the complementary data lines DT and DB, the transistors Q1 and Q2 are connected to the output transistor that forms the recovery signal WRC in the Darlington form, so that the bias level corresponding to the bias circuit (transistors Q3 and Q4) circuit is set. -2
Brought to a level equal to VBE.
【0049】このような半導体記憶装置では、電流源と
してのMOSFETが設けられ、メモリアクセスが行わ
れないときでも一定の電流消費が行われる。それ故、前
記図3の実施例のように、メモリアクセスが行われない
半導体記憶装置の動作電圧を降圧させて、その発熱量を
減らして全体としての温度を下げるようにすることがで
きるものである。In such a semiconductor memory device, a MOSFET as a current source is provided, and constant current consumption is performed even when memory access is not performed. Therefore, as in the embodiment of FIG. 3, it is possible to lower the operating voltage of the semiconductor memory device in which the memory is not accessed, reduce the amount of heat generation thereof, and lower the overall temperature. is there.
【0050】図7には、降圧電源回路の一実施例の回路
図が示されている。同図の回路素子に付された回路記号
は、図3や図6のものと重複しているが、それぞれは別
個の回路機能を持つものであると理解されたい。この実
施例では、Pチャンネル型の差動MOSFETQ1とQ
2のドレインに、Nチャンネル型MOSFETQ3とQ
4を電流ミラー形態にして負荷として設ける。上記差動
MOSFETQ1とQ2のソースと回路の接地電位VC
Cとの間には、Pチャンネル型MOSFETQ5が定電
源として設けられる。FIG. 7 shows a circuit diagram of an embodiment of the step-down power supply circuit. The circuit symbols given to the circuit elements in the figure overlap with those in FIGS. 3 and 6, but it should be understood that each has a separate circuit function. In this embodiment, P-channel type differential MOSFETs Q1 and Q
N-channel MOSFETs Q3 and Q are connected to the drain of 2.
4 is provided as a load in the form of a current mirror. The sources of the differential MOSFETs Q1 and Q2 and the ground potential VC of the circuit
A P-channel MOSFET Q5 is provided as a constant power source between C and C.
【0051】上記のような差動増幅回路の出力信号を
は、Nチャンネル型MOSFETの出力MOSFETQ
6のゲートに伝えられ、そのドレインから出力電圧VD
Dが出力される。出力MOSFETQ6のドレインには
定電流負荷としてのPチャンネル型MOSFETQ7が
設けられる。このような差動増幅回路の出力信号VDD
を反転入力であるMOSFETQ1のゲートに帰還させ
てボルテージフォロワ形態にし、非反転入力であるMO
SFETQ2のゲートに降圧電圧に対応した基準電圧V
Lを供給する。この構成により、定電流MOSFETQ
5とQ7に定電流が流れるような定電圧VDを供給し
て、増幅回路を活性化すると出力電圧VDDは基準電圧
VLに対応した降圧電圧にされる。The output signal of the differential amplifier circuit as described above is supplied to the output MOSFET Q of the N-channel type MOSFET.
It is transmitted to the gate of 6 and the output voltage VD from its drain
D is output. A P-channel MOSFET Q7 as a constant current load is provided at the drain of the output MOSFET Q6. The output signal VDD of such a differential amplifier circuit
Is fed back to the gate of the MOSFET Q1 which is an inverting input to form a voltage follower, and the MO which is a non-inverting input.
Reference voltage V corresponding to the step-down voltage at the gate of SFETQ2
Supply L. With this configuration, the constant current MOSFET Q
When a constant voltage VD that allows a constant current to flow is supplied to 5 and Q7 to activate the amplifier circuit, the output voltage VDD is reduced to a step-down voltage corresponding to the reference voltage VL.
【0052】半導体チップの温度が低いときには、出力
電圧VDDを電源電圧VEEに対応した電圧にする必要
がある。このような電圧切り換え機能は、出力MOSF
ETQ6のスイッチ制御によって行われる。すなわち、
出力MOSFETQ6のゲートと回路の接地電位VCC
の間には、Pチャンネル型MOSFETQ8が設けられ
る。このMOSFETQ8ゲートには、切り換え信号V
Hが供給される。When the temperature of the semiconductor chip is low, it is necessary to set the output voltage VDD to a voltage corresponding to the power supply voltage VEE. Such a voltage switching function is provided by the output MOSF.
It is performed by the switch control of ETQ6. That is,
Output MOSFET Q6 gate and circuit ground potential VCC
A P-channel MOSFET Q8 is provided between them. The switching signal V is applied to the gate of this MOSFET Q8.
H is supplied.
【0053】特に制限されないが、高電圧検出信号が形
成されないときには、その検出信号により制御信号VH
が電源電圧VDDに対応したロウレベルにされる。これ
により、Pチャンネル型MOSFETQ8がオン状態と
なり、出力MOSFETQ6のゲートに回路の接地電位
のようなハイレベルを供給するので、オン状態となって
電源電圧VEEを出力電圧VDDとして出力させる。こ
のときには、定電圧VDをハイレベルにしてPチャンネ
ル型MOSFETQ5とQ7をオフ状態にして増幅回路
の動作を停止させる。上記信号VHとVDは、相補関係
にあればよいから、制御信号VHをインバータ回路によ
り反転して電圧VDを形成するようにしてもよい。Although not particularly limited, when the high voltage detection signal is not formed, the control signal VH is generated by the detection signal.
Is set to a low level corresponding to the power supply voltage VDD. As a result, the P-channel MOSFET Q8 is turned on and a high level such as the ground potential of the circuit is supplied to the gate of the output MOSFET Q6, so that it is turned on and the power supply voltage VEE is output as the output voltage VDD. At this time, the constant voltage VD is set to the high level to turn off the P-channel MOSFETs Q5 and Q7 to stop the operation of the amplifier circuit. Since the signals VH and VD only need to have a complementary relationship, the control signal VH may be inverted by an inverter circuit to form the voltage VD.
【0054】上記のような増幅回路において、出力MO
SFETQ6の入力であるゲートと出力端子との間に
は、位相補償用のキャパシタを挿入するものであっても
よい。また、出力端子にはキャパシタCと抵抗Rからな
る時定数回路を設けて出力電圧VDDの安定化を図るよ
うにするものである。In the amplifier circuit as described above, the output MO
A capacitor for phase compensation may be inserted between the gate that is the input of the SFET Q6 and the output terminal. Further, a time constant circuit consisting of a capacitor C and a resistor R is provided at the output terminal to stabilize the output voltage VDD.
【0055】降圧電源回路は、上記のような増幅回路の
出力MOSFETにスイッチ機能を持たせるもの他、降
圧回路と電源電圧VEEをそのまま出力させるスイッチ
回路とを高温度検出信号に基づいて形成される制御信号
により、相補的に動作させて電源電圧VEEか又は降圧
された電圧を切り換えて出力させるような回路を用いる
ものであってもよい。The step-down power supply circuit is formed based on the high temperature detection signal, in addition to the output MOSFET of the amplifier circuit having the switch function, as well as the step-down circuit and the switch circuit for outputting the power supply voltage VEE as it is. A circuit that complementarily operates according to the control signal to switch the power supply voltage VEE or the stepped-down voltage and output it may be used.
【0056】上記の実施例から得られる作用効果は、下
記の通りである。すなわち、 (1) MOSFETに流れる電流に対応してほぼ動作
速度が律則される回路形式からなるメモリ回路に、温度
検出回路とその検出出力又は外部から入力された制御信
号によって動作電圧を絶対値的に小さな電圧に切り換え
る降圧回路を設けることにより、規格上限値に近い高温
度になると降圧回路が作動して動作電圧を小さくして発
熱を抑えるので、みかけ上低い温度で熱飽和状態となり
所定の動作速度を確保することができるという効果が得
られる。The operation and effect obtained from the above embodiment are as follows. That is, (1) the operating voltage is absolute value by the temperature detection circuit and its detection output or the control signal input from the outside to the memory circuit which has a circuit form in which the operation speed is substantially regulated in accordance with the current flowing in the MOSFET. By providing a step-down circuit that switches to a small voltage, the step-down circuit operates at a high temperature close to the standard upper limit value to reduce the operating voltage and suppress heat generation. The effect that the operation speed can be secured is obtained.
【0057】(2) 降圧電源回路として差動増幅回路
と出力MOSFETとを含む演算増幅回路をボルテージ
フォロワ形態にして絶対値的に小さな電圧に対応した基
準電圧を出力させ、制御信号により低温度時には上記演
算増幅回路の出力MOSFETをオン状態にして電源電
圧をそのまま出力させることにより、簡単な回路により
2種類の動作電圧を得ることができるという効果が得ら
れる。(2) As a step-down power supply circuit, an operational amplifier circuit including a differential amplifier circuit and an output MOSFET is made into a voltage follower form to output a reference voltage corresponding to a voltage whose absolute value is small. By turning on the output MOSFET of the operational amplifier circuit and outputting the power supply voltage as it is, it is possible to obtain two types of operating voltages with a simple circuit.
【0058】(3) 上記(1)のような機能を持つ半
導体記憶装置を積み重ねて実装させることにより高密度
実装を図りつつ、動作速度を維持したメモリ装置を得る
ことができるという効果が得られる。(3) By stacking and mounting the semiconductor memory devices having the function as described in (1) above, it is possible to obtain the effect that a memory device can be obtained in which the operation speed is maintained while achieving high density mounting. .
【0059】(4) 上記(1)の半導体記憶装置が積
み重ねされて実装され、上記自身の温度検出信号又は積
み重ねられた他の半導体記憶装置により形成された温度
検出信号により降圧電源回路を制御して動作電圧が絶対
値的に小さな電圧に切り換えるようにすることにより、
メモリモジュール全体としての温度上昇を抑えて動作速
度を維持させることができるという効果が得られる。(4) The semiconductor memory devices of (1) above are stacked and mounted, and the step-down power supply circuit is controlled by the temperature detection signal of itself or a temperature detection signal formed by another semiconductor memory device stacked. By switching the operating voltage to a voltage that is small in absolute value,
The effect that the temperature rise of the entire memory module can be suppressed and the operation speed can be maintained is obtained.
【0060】以上本発明者よりなされた発明を実施例に
基づき具体的に説明したが、本願発明は前記実施例に限
定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種
々変更可能であることはいうまでもない。例えば、図1
において、最上段に設けられる半導体記憶装置の上面に
コールドプレートと同様な機能を持つプレートを設ける
ものとしてもよい。この場合には、積み重ねられた半導
体記憶装置が上下から冷却されるので、積み重ね可能な
半導体記憶装置の数を増加させることができる。また、
中間段の半導体記憶装置に間に熱導伝率の大きな金属板
を挟み、それがコールドプレートに接続されるようにし
て冷却効率を高くするようにしてもよい。この場合に
も、積み重ね可能な半導体記憶装置の数を多くすること
ができる。Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the invention of the present application is not limited to the embodiments and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say. For example, in FIG.
In the above, a plate having the same function as the cold plate may be provided on the upper surface of the semiconductor memory device provided at the uppermost stage. In this case, since the stacked semiconductor memory devices are cooled from above and below, the number of stackable semiconductor memory devices can be increased. Also,
It is also possible to sandwich a metal plate having a large heat conductivity between the semiconductor memory devices in the intermediate stage and connect it to the cold plate to enhance the cooling efficiency. Also in this case, the number of stackable semiconductor memory devices can be increased.
【0061】積み重ねられた半導体記憶装置のリードを
回路基板の電極に接続する方法は、前記のような回路基
板のスルーホールにリードを挿入させるもの他、回路基
板の表面に沿って折り曲げられたリードに半田層を形成
しておいて、それを回路基板のプリント配線に設けられ
た半田層と接触させ、熱処理によって半田付けを行うよ
うにする等種々の実施形態を採ることができる。半導体
記憶装置の実装方法は、前記のように積み重ね方式のも
の他、熱放出が悪い条件で使用されるものであれば何で
あってもよい。The method of connecting the leads of the stacked semiconductor memory devices to the electrodes of the circuit board includes the method of inserting the leads into the through holes of the circuit board as described above, and the leads bent along the surface of the circuit board. Various embodiments can be adopted, such as forming a solder layer on the substrate, contacting it with the solder layer provided on the printed wiring of the circuit board, and performing soldering by heat treatment. As the mounting method of the semiconductor memory device, any method other than the stacking method as described above may be used as long as it is used under the condition that heat dissipation is bad.
【0062】スタティック型RAMの構成は、ELCイ
ンターフェイスを持つもの他、TTLインターフェイス
を持つものであってもよい。この場合には、動作電圧と
して正の電源電圧VDDが用いられるから、図7の降圧
回路は、MOSFETの導電型を逆にして構成すればよ
い。The static RAM may have a TTL interface as well as an ELC interface. In this case, since the positive power supply voltage VDD is used as the operating voltage, the step-down circuit of FIG. 7 may be formed by reversing the conductivity type of the MOSFET.
【0063】半導体記憶装置における温度抑制は、スタ
ティック型RAM等では動作速度を維持するために必要
であり、消去動作も電気的に行われるEEPROM等の
ような不揮発性記憶装置では記憶情報が失われてしまう
ことを防ぐために必要である。それ故、EEPROM等
のような半導体記憶装置を前記のように積み重ねて実装
させる等のように熱放出が悪い条件で使用する場合にお
いても同様に利用することができる。The temperature control in the semiconductor memory device is necessary for maintaining the operation speed in the static RAM or the like, and the stored information is lost in the nonvolatile memory device such as the EEPROM in which the erasing operation is electrically performed. It is necessary to prevent the accident. Therefore, the semiconductor memory device such as an EEPROM can be used in the same manner even when it is used under the condition that heat dissipation is bad such as stacking and mounting as described above.
【0064】この発明は、MOSFETに流れる電流に
よって動作速度が律則される半導体記憶装置とそれを用
いたメモリ装置に広く利用できる。The present invention can be widely used for a semiconductor memory device whose operation speed is regulated by a current flowing in a MOSFET and a memory device using the semiconductor memory device.
【0065】[0065]
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、MOSFETに流れる電流
に対応してほぼ動作速度が律則される回路形式からなる
メモリ回路に、温度検出回路とその検出出力又は外部か
ら入力された制御信号によって動作電圧を絶対値的に小
さな電圧に切り換える降圧回路を設けることにより、高
温度での動作電流をその分少なくして発熱を抑えられる
のでみかけ上低い温度で熱飽和状態にすることができ、
所定の動作速度を確保することができる。このような機
能を持つ半導体記憶装置を積み重ねて実装させることに
より高密度実装を図りつつ、動作速度を維持したメモリ
装置を得ることができる。The effects obtained by the typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, the operating voltage is made small in absolute value by the temperature detecting circuit and its detection output or the control signal input from the outside in the memory circuit having a circuit form in which the operating speed is substantially regulated corresponding to the current flowing in the MOSFET. By providing a step-down circuit that switches to voltage, the operating current at high temperature can be reduced by that amount and heat generation can be suppressed, so that it is possible to enter a heat saturation state at an apparently low temperature.
A predetermined operation speed can be secured. By stacking and mounting the semiconductor memory devices having such a function, it is possible to obtain a memory device capable of high-density mounting and maintaining an operation speed.
【図1】この発明に係る半導体記憶装置を用いたメモリ
装置の一実施例を示す概略側面図である。FIG. 1 is a schematic side view showing an embodiment of a memory device using a semiconductor memory device according to the present invention.
【図2】この発明に係る半導体記憶装置の一実施例を示
す概略ブロック図である。FIG. 2 is a schematic block diagram showing an embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention.
【図3】この発明に係る半導体記憶装置の他の一実施例
を示す概略ブロック図である。FIG. 3 is a schematic block diagram showing another embodiment of the semiconductor memory device according to the present invention.
【図4】温度検出回路の一実施例を示す回路図である。FIG. 4 is a circuit diagram showing an embodiment of a temperature detection circuit.
【図5】この発明が適用されるスタティック型RAMの
一実施例を示すブロック図である。FIG. 5 is a block diagram showing an embodiment of a static RAM to which the present invention is applied.
【図6】図5のスタティック型RAMにおける1つの相
補データ線に関連する一実施例を示す回路図である。FIG. 6 is a circuit diagram showing an embodiment related to one complementary data line in the static RAM shown in FIG.
【図7】降圧電源回路の一実施例を示す回路図である。FIG. 7 is a circuit diagram showing an example of a step-down power supply circuit.
【図8】この発明に係るメモリモジュールの一実施例を
示す平面図である。FIG. 8 is a plan view showing an embodiment of a memory module according to the present invention.
VC…電圧比較回路、IC…半導体記憶装置。 VC ... Voltage comparison circuit, IC ... Semiconductor memory device.
Claims (7)
ぼ動作速度が律則される回路形式からなるメモリ回路
と、温度検出回路と、この温度検出回路の出力信号又は
外部から入力された制御信号によって上記メモリ回路に
与えられる動作電圧を絶対値的に小さな電圧に切り換え
る降圧電源回路とを備えてなることを特徴とする半導体
記憶装置。1. A memory circuit having a circuit form in which an operating speed is substantially regulated corresponding to a current flowing through a MOSFET, a temperature detection circuit, and an output signal of the temperature detection circuit or a control signal input from the outside. A semiconductor memory device comprising: a step-down power supply circuit that switches an operating voltage applied to the memory circuit to a voltage whose absolute value is small.
トランジスタ又はPN接合ダイオードの順方向電圧の持
つ温度依存性を利用して規格上限値に対応した高温度を
検出するものであることを特徴とする請求項1の半導体
記憶装置。2. The temperature detecting circuit detects a high temperature corresponding to a standard upper limit value by utilizing temperature dependence of a forward voltage of a diode type transistor or a PN junction diode. The semiconductor memory device according to claim 1.
力MOSFETとを含む演算増幅回路をボルテージフォ
ロワ形態にして絶対値的に小さな電圧に対応した基準電
圧を出力させるとともに、制御信号により低温度時には
上記演算増幅回路の出力MOSFETをオン状態にして
電源電圧をそのまま出力させる機能を持つものであるこ
とを特徴とする請求項1又は請求項2の半導体記憶装
置。3. The step-down power supply circuit uses an operational amplifier circuit including a differential amplifier circuit and an output MOSFET as a voltage follower to output a reference voltage corresponding to a voltage having a small absolute value, and a low voltage according to a control signal. 3. The semiconductor memory device according to claim 1, which has a function of turning on the output MOSFET of the operational amplifier circuit at the time of temperature and outputting the power supply voltage as it is.
がCMOS回路により構成され、その周辺回路はCMO
S回路とバイポーラ型トランジスタとからなる複合回路
によって構成され、MOSFETにより動作電流が形成
されるものであることを特徴とする請求項1、請求項2
又は請求項3の半導体記憶装置。4. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the memory array portion is composed of a CMOS circuit, and the peripheral circuit thereof is a CMO.
3. A composite circuit composed of an S circuit and a bipolar transistor, wherein an operating current is formed by a MOSFET.
Alternatively, the semiconductor memory device according to claim 3.
ぼ動作速度が律則される回路形式からなるメモリ回路
と、温度検出回路と、この温度検出回路の出力信号又は
外部から入力された制御信号によって上記メモリ回路に
与えられる動作電圧を絶対値的に小さな電圧に切り換え
る降圧電源回路とを備えてなる半導体記憶装置が積み重
ねされて実装され、上記自身の温度検出信号又は積み重
ねられた他の半導体記憶装置により形成された温度検出
信号により降圧電源回路を制御して動作電圧が絶対値的
に小さな電圧に切り換えられるものであることを特徴と
するメモリ装置。5. A memory circuit having a circuit form in which an operating speed is substantially regulated corresponding to a current flowing through a MOSFET, a temperature detection circuit, and an output signal of the temperature detection circuit or a control signal input from the outside. A semiconductor memory device including a step-down power supply circuit that switches an operating voltage applied to the memory circuit to a voltage whose absolute value is small is stacked and mounted, and the temperature detection signal of the semiconductor memory device itself or another stacked semiconductor memory device. A memory device characterized in that the operating voltage is switched to a voltage whose absolute value is small by controlling the step-down power supply circuit by the temperature detection signal formed by.
置のうち、最も下に配置される半導体記憶装置は、冷却
機能を持つプレート上に載せられるものであることを特
徴とする請求項5のメモリ装置。6. The memory according to claim 5, wherein the lowest semiconductor memory device among the plurality of stacked semiconductor memory devices is mounted on a plate having a cooling function. apparatus.
は、積み重ね方向に沿って実装面を持つ回路基板に設け
られた電極にリードが接続されるものであることを特徴
とする請求項5又は請求項6のメモリ装置。7. The semiconductor memory device to be stacked has a lead connected to an electrode provided on a circuit board having a mounting surface along the stacking direction. 6 memory devices.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4258980A JPH0685159A (en) | 1992-09-02 | 1992-09-02 | Semiconductor memory device and memory device using same |
KR1019930016444A KR940008090A (en) | 1992-09-02 | 1993-08-24 | Semiconductor integrated circuit device and memory device using same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP (1) | JPH0685159A (en) |
KR (1) | KR940008090A (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100314933B1 (en) * | 1999-12-17 | 2001-12-24 | 최동환 | TEC control circuit |
US7093975B2 (en) | 2003-03-07 | 2006-08-22 | Renesas Technology Corp. | Semiconductor integrated circuit with simply configured temperature detection circuit |
JP2010009674A (en) * | 2008-06-27 | 2010-01-14 | Renesas Technology Corp | Semiconductor device |
JP2014197940A (en) * | 2013-03-29 | 2014-10-16 | ローム株式会社 | Circuit control device and circuit system |
-
1992
- 1992-09-02 JP JP4258980A patent/JPH0685159A/en active Pending
-
1993
- 1993-08-24 KR KR1019930016444A patent/KR940008090A/en not_active Application Discontinuation
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JP2010009674A (en) * | 2008-06-27 | 2010-01-14 | Renesas Technology Corp | Semiconductor device |
US8611166B2 (en) | 2008-06-27 | 2013-12-17 | Renesas Electronics Corporation | Semiconductor device |
JP2014197940A (en) * | 2013-03-29 | 2014-10-16 | ローム株式会社 | Circuit control device and circuit system |
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