JPH0684211A - 光磁気ディスク - Google Patents
光磁気ディスクInfo
- Publication number
- JPH0684211A JPH0684211A JP25745292A JP25745292A JPH0684211A JP H0684211 A JPH0684211 A JP H0684211A JP 25745292 A JP25745292 A JP 25745292A JP 25745292 A JP25745292 A JP 25745292A JP H0684211 A JPH0684211 A JP H0684211A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- protective layer
- magneto
- surface roughness
- peripheral part
- optical disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
(57)【要約】
【目的】 光磁気ディスクに記録用の浮上式磁気ヘッド
の浮上量を一定にする。 【構成】 樹脂保護層の表面粗さを外周部で大きく、内
周部で小さくすることにより、光磁気ディスクと磁気ヘ
ッドとの相対回転速度の変化による外周での浮上量の増
加を防止する。
の浮上量を一定にする。 【構成】 樹脂保護層の表面粗さを外周部で大きく、内
周部で小さくすることにより、光磁気ディスクと磁気ヘ
ッドとの相対回転速度の変化による外周での浮上量の増
加を防止する。
Description
【０００１】
【発明の利用分野】この発明は、磁界変調記録方式の光
磁気ディスクの樹脂保護層に関する。
磁気ディスクの樹脂保護層に関する。
【０００２】
【従来技術】光磁気ディスクの樹脂保護層にフィラーを
添加し保護層表面を粗すことが、特開平４−６４９３６
号公報により知られている。フィラーを添加する目的
は、磁気ヘッドの吸着やヘッドクラッシュの防止であ
る。
添加し保護層表面を粗すことが、特開平４−６４９３６
号公報により知られている。フィラーを添加する目的
は、磁気ヘッドの吸着やヘッドクラッシュの防止であ
る。
【０００３】発明者は、保護層の表面粗さを変えること
により、浮上式磁気ヘッドを使用した場合の浮上量を変
えられることを見い出した。一般に表面が粗いとヘッド
の浮上量は小さくなり、逆に表面粗さが小さいと浮上量
は大きくなる。さらに浮上量はディスクとヘッドとの相
対速度により変化し、回転数一定（ＣＡＶ）で使用した
場合、外周の方が速度が大きくなり浮上量が増加する。
浮上量が増すと磁気ヘッドからの磁界が弱まり、内周部
での磁界を最適値に定めた場合、外周部のＣ／Ｎ比が低
下する。このように浮上量が内外周で異なると、光磁気
記録層に印加される磁界の強さが変化し、均一な記録が
できない。
により、浮上式磁気ヘッドを使用した場合の浮上量を変
えられることを見い出した。一般に表面が粗いとヘッド
の浮上量は小さくなり、逆に表面粗さが小さいと浮上量
は大きくなる。さらに浮上量はディスクとヘッドとの相
対速度により変化し、回転数一定（ＣＡＶ）で使用した
場合、外周の方が速度が大きくなり浮上量が増加する。
浮上量が増すと磁気ヘッドからの磁界が弱まり、内周部
での磁界を最適値に定めた場合、外周部のＣ／Ｎ比が低
下する。このように浮上量が内外周で異なると、光磁気
記録層に印加される磁界の強さが変化し、均一な記録が
できない。
【０００４】
【発明の課題】この発明の課題は、(1) 磁気ヘッドの
浮上量をヘッドの内周部でも外周部でも均一にし、均一
な記録を可能にするとともに、(2) 外周部での浮上量
の増加を防止し、小さな記録磁界で記録できるようにす
ることにある。
浮上量をヘッドの内周部でも外周部でも均一にし、均一
な記録を可能にするとともに、(2) 外周部での浮上量
の増加を防止し、小さな記録磁界で記録できるようにす
ることにある。
【０００５】
【発明の構成】この発明は、透明基板の一方の主面に少
なくとも光磁気記録層と樹脂保護層とを順次積層した光
磁気ディスクにおいて、前記樹脂保護層の表面粗さが前
記ディスクの内周部よりも外周部で粗いことを特徴とす
る。表面粗さを内周部と外周部とで変えるためには、樹
脂保護層の膜厚を外周で小さくする（フィラーを含有さ
せる場合）、あるいは内周部と外周部とで表面粗さの異
なる型を用いてスタンプする等のことを行えば良く、そ
の手法自体は任意である。
なくとも光磁気記録層と樹脂保護層とを順次積層した光
磁気ディスクにおいて、前記樹脂保護層の表面粗さが前
記ディスクの内周部よりも外周部で粗いことを特徴とす
る。表面粗さを内周部と外周部とで変えるためには、樹
脂保護層の膜厚を外周で小さくする（フィラーを含有さ
せる場合）、あるいは内周部と外周部とで表面粗さの異
なる型を用いてスタンプする等のことを行えば良く、そ
の手法自体は任意である。
【０００６】
【発明の作用】磁気ヘッドの浮上量は、ヘッドと光磁気
ディスクとの相対速度と、樹脂保護層の表面粗さとで定
まる。ここで樹脂保護層の表面粗さを外周部で大きく内
周部で小さくすれば、外周部ほど浮上量が小さくなるよ
うに表面粗さの影響が働く。これと相対速度の増加によ
る外周部での浮上量の増加をバランスさせれば、内周／
外周を問わず均一な浮上量が得られる。この結果、ディ
スクの回転数を内周と外周とで変える必要がなく、回転
数を一定にしても均一な記録特性が得られる。
ディスクとの相対速度と、樹脂保護層の表面粗さとで定
まる。ここで樹脂保護層の表面粗さを外周部で大きく内
周部で小さくすれば、外周部ほど浮上量が小さくなるよ
うに表面粗さの影響が働く。これと相対速度の増加によ
る外周部での浮上量の増加をバランスさせれば、内周／
外周を問わず均一な浮上量が得られる。この結果、ディ
スクの回転数を内周と外周とで変える必要がなく、回転
数を一定にしても均一な記録特性が得られる。
【０００７】
【実施例】図１に、実施例の光磁気ディスク１を示す。
図において、２はポリカーボネートやアクリル等の透明
合成樹脂基板で、ここではポリカーボネート基板を用い
た。なお合成樹脂基板に変えてガラス基板も用い得る。
３は光磁気記録層で、公知技術の範囲で任意のものを用
い得る。実施例では、光磁気記録層３を、窒化ケイ素の
第１誘電体層（約１００ｎｍ厚），Ｇｄ−Ｄｙ−Ｆｅ系
の光磁気記録層（約２０ｎｍ厚），窒化ケイ素の第２誘
電体層（約３０ｎｍ厚），及びＡｌ反射層（約４０ｎｍ
厚）を順次積層したものとした。４は樹脂保護層で、ウ
レタンアクリレート系の紫外線硬化樹脂を用い、平均粒
径４μｍのＳｉＯ2フィラーを１ｗｔ％分散させたもの
をスピンコートし、紫外線硬化させた。ここでスピンコ
ートの条件を適当に選び、スピンコート時に樹脂保護層
形成面に空気流を内周から外周に向けて作り、外周程空
気流れを速くすることにより、樹脂保護層４の膜厚を内
周で大きく外周で小さくし、表面粗さを外周部で大きく
内周部で小さくした。用いる紫外線硬化樹脂の材質は任
意で例えばアクリル系やウレタン系等も用い得、フィラ
ーの種類や添加量等も任意である。樹脂保護層４の膜厚
は、ディスク全体の平均膜厚で約５μｍ，光磁気記録層
３の内周部（３．５インチディスクの場合、ディスク中
心から２４ｍｍ）で約５．５μｍ，外周部（ディスク中
心から４０ｍｍ）で約４．５μｍとした。この光磁気デ
ィスクを実施例１とする。なお表面粗さを内外周で変え
る他の方法としては例えば、内周から外周に到る間に樹
脂の吹き出しノズルを複数設け、ノズル毎に樹脂中のフ
ィラーの含有量を変えても良い。
図において、２はポリカーボネートやアクリル等の透明
合成樹脂基板で、ここではポリカーボネート基板を用い
た。なお合成樹脂基板に変えてガラス基板も用い得る。
３は光磁気記録層で、公知技術の範囲で任意のものを用
い得る。実施例では、光磁気記録層３を、窒化ケイ素の
第１誘電体層（約１００ｎｍ厚），Ｇｄ−Ｄｙ−Ｆｅ系
の光磁気記録層（約２０ｎｍ厚），窒化ケイ素の第２誘
電体層（約３０ｎｍ厚），及びＡｌ反射層（約４０ｎｍ
厚）を順次積層したものとした。４は樹脂保護層で、ウ
レタンアクリレート系の紫外線硬化樹脂を用い、平均粒
径４μｍのＳｉＯ2フィラーを１ｗｔ％分散させたもの
をスピンコートし、紫外線硬化させた。ここでスピンコ
ートの条件を適当に選び、スピンコート時に樹脂保護層
形成面に空気流を内周から外周に向けて作り、外周程空
気流れを速くすることにより、樹脂保護層４の膜厚を内
周で大きく外周で小さくし、表面粗さを外周部で大きく
内周部で小さくした。用いる紫外線硬化樹脂の材質は任
意で例えばアクリル系やウレタン系等も用い得、フィラ
ーの種類や添加量等も任意である。樹脂保護層４の膜厚
は、ディスク全体の平均膜厚で約５μｍ，光磁気記録層
３の内周部（３．５インチディスクの場合、ディスク中
心から２４ｍｍ）で約５．５μｍ，外周部（ディスク中
心から４０ｍｍ）で約４．５μｍとした。この光磁気デ
ィスクを実施例１とする。なお表面粗さを内外周で変え
る他の方法としては例えば、内周から外周に到る間に樹
脂の吹き出しノズルを複数設け、ノズル毎に樹脂中のフ
ィラーの含有量を変えても良い。
【０００８】図１に戻り、クランプ０１により光磁気デ
ィスク１をクランプして回転させ、光ピックアップ０２
からレーザー光を照射し、浮上式磁気ヘッド０３で磁界
を加えて記録を行う。
ィスク１をクランプして回転させ、光ピックアップ０２
からレーザー光を照射し、浮上式磁気ヘッド０３で磁界
を加えて記録を行う。
【０００９】フィラー無添加の樹脂保護層４を用い、樹
脂保護装層４が半硬化の状態で、表面の粗さを内外周で
変化させた型を保護樹脂に押し付け、転写することによ
り、樹脂保護層４の表面粗さが内外周で異なる光磁気デ
ィスクを作製した。他の点は実施例１と同様とした。こ
の光磁気ディスクを実施例２とする。
脂保護装層４が半硬化の状態で、表面の粗さを内外周で
変化させた型を保護樹脂に押し付け、転写することによ
り、樹脂保護層４の表面粗さが内外周で異なる光磁気デ
ィスクを作製した。他の点は実施例１と同様とした。こ
の光磁気ディスクを実施例２とする。
【００１０】実施例１と同じ構成で、樹脂保護層４の膜
厚を内外周で一定にした光磁気ディスクを作製した。こ
の光磁気ディスクを比較例１とする。比較例１では、表
面粗さは内周でも外周でも等しい。
厚を内外周で一定にした光磁気ディスクを作製した。こ
の光磁気ディスクを比較例１とする。比較例１では、表
面粗さは内周でも外周でも等しい。
【００１１】以上の３種の光磁気ディスクを回転数２４
００ｒｐｍで回転させ（回転数一定）、浮上式磁気ヘッ
ド０３を用いて記録を行った。記録条件は、 回転数 ２４００ｒｐｍ， 記録レーザーパワー ８ｍＷ， 磁気ヘッド印加電流 ５００ｍＡ， 記録周波数 ｒ＝２４ｍｍ， ３．８７ＭＨｚ， ｒ＝３２ｍｍ， ５．１６ＭＨｚ， ｒ＝４０ｍｍ， ６．４４ＭＨｚ， とし、記録周波数を内，中，外周で変えて、記録ビット
長が同じになるようにした。なおｒはディスク１の中心
からの半径位置を示す。樹脂保護層４の表面粗さは、各
半径位置での平均表面粗さとして定義した。
００ｒｐｍで回転させ（回転数一定）、浮上式磁気ヘッ
ド０３を用いて記録を行った。記録条件は、 回転数 ２４００ｒｐｍ， 記録レーザーパワー ８ｍＷ， 磁気ヘッド印加電流 ５００ｍＡ， 記録周波数 ｒ＝２４ｍｍ， ３．８７ＭＨｚ， ｒ＝３２ｍｍ， ５．１６ＭＨｚ， ｒ＝４０ｍｍ， ６．４４ＭＨｚ， とし、記録周波数を内，中，外周で変えて、記録ビット
長が同じになるようにした。なおｒはディスク１の中心
からの半径位置を示す。樹脂保護層４の表面粗さは、各
半径位置での平均表面粗さとして定義した。
【００１２】図２に示すように、比較例１では外周に行
くほど磁気ヘッドの浮上量が増加し、浮上量が５〜９μ
ｍ程度の範囲で変化する。これに対して実施例１，２で
は、内／外周の浮上量の差が小さく、浮上量は５±１μ
ｍの範囲に収まっている。実験によると、３．５インチ
光磁気ディスクの場合、光磁気記録層の外周部（半径位
置ｒが４０ｍｍ）と内周部（半径位置ｒが２４ｍｍ）と
の表面粗さの比を２：１〜３：１とすると、磁気ヘッド
０３の浮上量を５μｍ±１μｍの範囲に保つことができ
た。この比がこれよりも大きいと外周部での磁気ヘッド
の浮上量が減少し、これよりも小さいと外周部での磁気
ヘッドの浮上量が増加した。なおいずれの光磁気ディス
クでも、樹脂保護層４に充分な表面粗さがあるため、ヘ
ッド吸着やヘッドクラッシュは生じなかった。
くほど磁気ヘッドの浮上量が増加し、浮上量が５〜９μ
ｍ程度の範囲で変化する。これに対して実施例１，２で
は、内／外周の浮上量の差が小さく、浮上量は５±１μ
ｍの範囲に収まっている。実験によると、３．５インチ
光磁気ディスクの場合、光磁気記録層の外周部（半径位
置ｒが４０ｍｍ）と内周部（半径位置ｒが２４ｍｍ）と
の表面粗さの比を２：１〜３：１とすると、磁気ヘッド
０３の浮上量を５μｍ±１μｍの範囲に保つことができ
た。この比がこれよりも大きいと外周部での磁気ヘッド
の浮上量が減少し、これよりも小さいと外周部での磁気
ヘッドの浮上量が増加した。なおいずれの光磁気ディス
クでも、樹脂保護層４に充分な表面粗さがあるため、ヘ
ッド吸着やヘッドクラッシュは生じなかった。
【００１３】実施例と比較例との、Ｃ／Ｎ比に関する結
果を図３に示す。上記の記録条件では、実施例１，２
で、内周から外周にかけてほぼ同一のＣ／Ｎが得られ
る。これに対して比較例１では、光磁気記録層３に印加
される磁界が外周ほど低下するため、外周部でＣ／Ｎが
低下し、均一な特性が得られない。このため回転数を内
周と外周とで変化させるか、ヘッド０３からの記録磁界
を内周と外周とで変化させる必要がある。
果を図３に示す。上記の記録条件では、実施例１，２
で、内周から外周にかけてほぼ同一のＣ／Ｎが得られ
る。これに対して比較例１では、光磁気記録層３に印加
される磁界が外周ほど低下するため、外周部でＣ／Ｎが
低下し、均一な特性が得られない。このため回転数を内
周と外周とで変化させるか、ヘッド０３からの記録磁界
を内周と外周とで変化させる必要がある。
【００１４】
【発明の効果】この発明では、(1) 磁気ヘッドの浮上
量を一定に保つことにより、均一な記録ができ、(2)
外周で磁気ヘッドが必要以上に浮上しないようにするこ
とにより、磁気ヘッドと光磁気ディスクとの間隔を小さ
くし、小さな記録磁界で記録できる。
量を一定に保つことにより、均一な記録ができ、(2)
外周で磁気ヘッドが必要以上に浮上しないようにするこ
とにより、磁気ヘッドと光磁気ディスクとの間隔を小さ
くし、小さな記録磁界で記録できる。
【図１】 実施例の光磁気ディスクの使用状態を示す
断面図
断面図
【図２】 実施例の光磁気ディスクの、表面粗さ（Ｒ
ａ）と磁気ヘッドの浮上量の関係を示す特性図
ａ）と磁気ヘッドの浮上量の関係を示す特性図
【図３】 回転数２４００ｒｐｍ，記録レーザーパワ
ー８ｍＷ，磁気ヘッド印加電流５００ｍＡで記録したと
きの、実施例の光磁気ディスクのＣ／Ｎ比を示す特性図
ー８ｍＷ，磁気ヘッド印加電流５００ｍＡで記録したと
きの、実施例の光磁気ディスクのＣ／Ｎ比を示す特性図
１ 光磁気ディスク ２ 基板 ３ 光磁気記録層 ４ 樹脂保護層 ０１ クランプ ０２ 光ピックアップ ０３ 浮上磁気ヘッド
Claims (1)
- 【請求項１】 透明基板の一方の主面に少なくとも光磁
気記録層と樹脂保護層とを順次積層した光磁気ディスク
において、前記樹脂保護層の表面粗さが前記ディスクの
内周部よりも外周部で粗いことを特徴とする光磁気ディ
スク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25745292A JP3173624B2 (ja) | 1992-08-31 | 1992-08-31 | 光磁気ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25745292A JP3173624B2 (ja) | 1992-08-31 | 1992-08-31 | 光磁気ディスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0684211A true JPH0684211A (ja) | 1994-03-25 |
| JP3173624B2 JP3173624B2 (ja) | 2001-06-04 |
Family
ID=17306541
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25745292A Expired - Fee Related JP3173624B2 (ja) | 1992-08-31 | 1992-08-31 | 光磁気ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3173624B2 (ja) |
-
1992
- 1992-08-31 JP JP25745292A patent/JP3173624B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3173624B2 (ja) | 2001-06-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3918221B2 (ja) | 保護膜形成装置及び保護膜形成方法 | |
| JPH11203724A (ja) | 光ディスク及びその製造方法 | |
| JP3742583B2 (ja) | 光情報記録媒体、および光情報記録媒体の製造方法 | |
| JP3695109B2 (ja) | 光記録媒体の製造装置 | |
| JPH0684211A (ja) | 光磁気ディスク | |
| JP3248309B2 (ja) | 光ディスク | |
| JP3557863B2 (ja) | 保護膜形成装置及び保護膜形成方法 | |
| JP3307689B2 (ja) | 光磁気ディスク | |
| JPH10320850A (ja) | 光記録媒体の製造方法 | |
| JPH0757297A (ja) | 光ディスク | |
| JP3511687B2 (ja) | 光ディスク及びその製造方法 | |
| JPH05159394A (ja) | 光ディスクの製造方法 | |
| JP2569627Y2 (ja) | 光ディスク用基板 | |
| JPH09167382A (ja) | 貼り合わせディスク及びその製造方法 | |
| JPH10199056A (ja) | 保護膜形成装置及び保護膜形成方法 | |
| KR20030052770A (ko) | 역전구조 디스크의 보호층 코팅방법 | |
| JP2981333B2 (ja) | 光情報記録媒体 | |
| JPH0620312A (ja) | 光記録媒体 | |
| JP2789837B2 (ja) | 光ディスク | |
| JPH0863815A (ja) | 光磁気ディスクの製造方法 | |
| JPH0877629A (ja) | 光ディスク及びその製造方法 | |
| JPH06176399A (ja) | 光ディスク基板 | |
| JPH09128805A (ja) | 光ディスク | |
| JPH08203120A (ja) | 光ディスク | |
| JPH0917027A (ja) | 光学的情報記録媒体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |