JPH0680895A - Azo-based compound - Google Patents

Azo-based compound

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JPH0680895A
JPH0680895A JP23393092A JP23393092A JPH0680895A JP H0680895 A JPH0680895 A JP H0680895A JP 23393092 A JP23393092 A JP 23393092A JP 23393092 A JP23393092 A JP 23393092A JP H0680895 A JPH0680895 A JP H0680895A
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JP
Japan
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group
compound
formula
represented
coupler
Prior art date
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Pending
Application number
JP23393092A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Mikio Kadoi
幹男 角井
Yasuyuki Hanatani
靖之 花谷
Hirosuke Sakai
博亮 堺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Mita Industrial Co Ltd
Original Assignee
Mita Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Mita Industrial Co Ltd filed Critical Mita Industrial Co Ltd
Priority to JP23393092A priority Critical patent/JPH0680895A/en
Publication of JPH0680895A publication Critical patent/JPH0680895A/en
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  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Abstract

PURPOSE:To obtain a new compound useful as a sensitized material, pigment, solar cell, etc., having high sensitivity and excellent light stability free from extreme reduction in surface potential caused by repeated use. CONSTITUTION:A compound of formula I (A<1> and A<2> are coupler residue; R<1> and R<2> are H, alkyl, etc.; R<3> and R<4> are H, halogen, etc.; (m) and (n) are 0 or 1) such as a compound of formula II. The compound, for example, is obtained by reacting a bis(chloromethyl)benzene-based compound of formula III with a bis(mercaptomethyl)benzene-based compound of formula IV in the presence of a base such as KOH to give a dithio(3,3)metacyclophane-based compound of formula V, successively nitrating the compound, reducing and then diazotizing two amino groups of a prepared diaminodithio(3,3)metacyclophane-based compound with sodium nitrite, respectively, to give a tetrazolium salt and finally coupling the salt with a coupler in an organic solvent.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、電子写真感光体におけ
る電荷発生材料等の種々の感光材料や、顔料、太陽電池
等として好適に使用される、感光材料としてのアゾ系化
合物に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to various photosensitive materials such as charge generating materials for electrophotographic photoreceptors, azo compounds which are preferably used as pigments, solar cells and the like. .

【0002】[0002]

【従来の技術】電子写真感光体における電荷発生材料
や、顔料、太陽電池等に使用される感光材料としては、
従来より、セレンや硫化カドミウム等の無機光導電体が
公知ではあるが、これらは毒性があり、しかも生産コス
トが高く望ましくない。そこで、これらの無機物質に代
えて、加工性に優れ、製造コストの面で有利であるとと
もに、機能設計の自由度が大きい、種々の有機物質が、
感光材料として提案されている。
2. Description of the Related Art As charge generating materials for electrophotographic photoreceptors, photosensitive materials used for pigments, solar cells, etc.,
Conventionally, inorganic photoconductors such as selenium and cadmium sulfide have been known, but these are toxic and are not desirable because of high production cost. Therefore, in place of these inorganic substances, various organic substances having excellent workability and being advantageous in terms of manufacturing cost and having a high degree of freedom in functional design,
Proposed as a photosensitive material.

【0003】上記有機の感光材料としては、フタロシア
ニン系化合物、ペリレン系化合物、キナクリドン系化合
物、アンサンスロン系化合物、アゾ系化合物等多くの化
合物が提案されている。たとえばアゾ系化合物として
は、特開昭47−37543号公報や同57−1957
67号公報に開示のものが知られている。
As the organic photosensitive material, many compounds such as phthalocyanine compounds, perylene compounds, quinacridone compounds, anthanthrone compounds and azo compounds have been proposed. For example, as azo compounds, there are JP-A-47-37543 and JP-A-57-1957.
The one disclosed in Japanese Patent Publication No. 67 is known.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の感光材料は、感光波長領域が狭かったり、感度が低
かったりするという問題があった。また従来の感光材料
は光安定性も充分でなかった。本発明は上記の問題点を
解決するものであり、感光材料として高い感度を有し、
かつ光安定性にもすぐれた新規なアゾ系化合物を提供す
ることを目的とする。
However, the above-mentioned conventional photosensitive materials have problems that the photosensitive wavelength region is narrow and the sensitivity is low. Further, the conventional light-sensitive materials also have insufficient light stability. The present invention solves the above problems and has high sensitivity as a photosensitive material,
Another object of the present invention is to provide a novel azo compound having excellent light stability.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段および作用】上記課題を解
決するための、本発明のアゾ系化合物は、一般式(I) :
Means and Actions for Solving the Problems To solve the above problems, the azo compound of the present invention has the general formula (I):

【0006】[0006]

【化5】 [Chemical 5]

【0007】[式中A1 ,A2 は同一または異なるカッ
プラー残基を示し、R1 ,R2 は同一または異なって水
素原子、アルキル基またはアルコキシ基を示し、R3
4 は同一または異なって水素原子、ハロゲン原子、ア
ルキル基またはアリール基を示す。m,nは0または1
を示す。]で表されることを特徴とする。本発明者らの
検討によれば、上記一般式(I) で表されるアゾ系化合物
は、高感度で、かつ繰返し使用による表面電位の大幅な
低下がない。また、長時間の露光や高温下での露光に対
して、安定的に高感度を維持することができ、光安定性
に優れている。
[Wherein A 1 and A 2 represent the same or different coupler residues, R 1 and R 2 represent the same or different hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, and R 3 and
R 4 is the same or different and represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group or an aryl group. m and n are 0 or 1
Indicates. ] Is represented. According to the studies by the present inventors, the azo compound represented by the general formula (I) has high sensitivity and does not cause a significant decrease in surface potential due to repeated use. In addition, it is possible to stably maintain high sensitivity for long-time exposure or exposure at high temperature, and it is excellent in light stability.

【0008】本発明のアゾ系化合物がこのような高い感
度と光安定性を有する理由を、本発明者らは以下のよう
に推測している。すなわち本発明のアゾ系化合物は、分
子内に導入したジチオ(3,3)メタシクロファンの特
異な構造が原因となって、たとえば前記した特開昭47
−37543号に例示の、下記一般式(II):
The present inventors presume the reason why the azo compound of the present invention has such high sensitivity and photostability as follows. That is, the azo compound of the present invention is caused by the peculiar structure of dithio (3,3) metacyclophane introduced into the molecule.
No. -37543, the following general formula (II):

【0009】[0009]

【化6】 [Chemical 6]

【0010】[式中、A1 ,A2 は前記と同じカップラ
ー残基を示し、Yは水素原子、メチル基、メトキシ基、
エトキシ基、水酸基、塩素原子または臭素原子を示す]
や、特開昭54−46558号公報に例示の、下記一般
式(III) :
[Wherein A 1 and A 2 represent the same coupler residue as described above, Y represents a hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group,
Indicates an ethoxy group, hydroxyl group, chlorine atom or bromine atom]
Alternatively, the following general formula (III) exemplified in JP-A-54-46558:

【0011】[0011]

【化7】 [Chemical 7]

【0012】[式中、A1 ,A2 は前記と同じカップラ
ー残基を示し、Rは水素原子、エチル基、クロロエチル
基またはヒドロキシエチル基を示す]で表される従来の
ビスアゾ系化合物等に比して、光照射時のキャリヤ発生
能にすぐれているからであると推定される。上記一般式
(I) で表される本発明のアゾ系化合物は、基本的に下記
の一般式(Ia)〜(Ic)で表されるアゾ系化合物を含んでい
る。
A conventional bisazo compound represented by the formula [wherein A 1 and A 2 represent the same coupler residue as described above and R represents a hydrogen atom, an ethyl group, a chloroethyl group or a hydroxyethyl group] and the like. It is presumed that this is because the carrier generation ability during light irradiation is superior. The above general formula
The azo compound of the present invention represented by (I) basically contains an azo compound represented by the following general formulas (Ia) to (Ic).

【0013】[0013]

【化8】 [Chemical 8]

【0014】[式中A1 ,A2 ,R1 ,R2 ,R3 ,R
4 は前記と同じ基を示す。]前記一般式(I) および(Ia)
〜(Ic)で表される本発明のアゾ系化合物において、
1 ,R2 のうちアルコキシ基としては、たとえばメト
キシ基、エトキシ基などがあげられ、アルキル基として
は、たとえばメチル基、エチル基などがあげられる。ま
たR3 ,R4 のうちアルキル基としては、たとえばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、ヘキシ
ル基などがあげられ、アリール基としては、たとえばフ
ェニル基、ノリル基、キシリル基、ビフェニル基、ナフ
チル基などがあげられ、ハロゲン原子としては、たとえ
ば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子などが
あげられる。
[Wherein A 1 , A 2 , R 1 , R 2 , R 3 , R
4 represents the same group as described above. ] The above general formulas (I) and (Ia)
~ In the azo compound of the present invention represented by (Ic),
Examples of the alkoxy group of R 1 and R 2 include a methoxy group and an ethoxy group, and examples of the alkyl group include a methyl group and an ethyl group. The alkyl group of R 3 and R 4 includes, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a t-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, and the like. Are, for example, a phenyl group, a noryl group, a xylyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, and the like, and examples of the halogen atom include a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a fluorine atom and the like.

【0015】カップラー残基A1 ,A2 としては、下記
一般式(a) 〜(g) で表される基が例示される。カップラ
ー残基A1 ,A2 は、同一であっても、互いに異なって
いてもよい。
Examples of the coupler residues A 1 and A 2 include groups represented by the following general formulas (a) to (g). The coupler residues A 1 and A 2 may be the same or different from each other.

【0016】[0016]

【化9】 [Chemical 9]

【0017】各式中R30は、カルバモイル基、スルファ
モイル基、アロファノイル基、オキサモイル基、アント
ラニロイル基、カルバゾイル基、グリシル基、ヒダント
イル基、フタルアモイル基、および、スクシンアモイル
基を表す。これらの基は、ハロゲン原子、置換基を有し
ていてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいナ
フチル基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルケニ
ル基、カルボニル基、カルボキシル基等の置換基を有し
ていてもよい。
In each formula, R 30 represents a carbamoyl group, a sulfamoyl group, an allofanoyl group, an oxamoyl group, an anthraniloyl group, a carbazoyl group, a glycyl group, a hydantoyl group, a phthalamoyl group, and a succinamoyl group. These groups include a halogen atom, a phenyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a nitro group, a cyano group, an alkyl group, an alkenyl group, a carbonyl group, a carboxyl group and the like. It may have a substituent.

【0018】R31は、上記R30および水酸基を有するベ
ンゼン環と縮合して芳香族環、多環式炭化水素または複
素環を形成するのに必要な原子団を表し、これらの環は
前記と同様な置換基を有してもよい。R32は、酸素原
子、硫黄原子、または、イミノ基を表す。R33は、2価
の鎖式炭化水素または芳香族炭化水素を表し、これらの
基は前記と同様な置換基を有してもよい。
R 31 represents an atomic group necessary for forming an aromatic ring, a polycyclic hydrocarbon or a heterocycle by condensing with R 30 and the benzene ring having a hydroxyl group, and these rings are as described above. You may have the same substituent. R 32 represents an oxygen atom, a sulfur atom or an imino group. R 33 represents a divalent chain hydrocarbon or aromatic hydrocarbon, and these groups may have the same substituents as described above.

【0019】R34は、アルキル基、アラルキル基、アリ
ール基、または、複素環基を表し、これらの基は前記と
同様な置換基を有してもよい。R35は、2価の鎖式炭化
水素、芳香族炭化水素、または、上記一般式(e)(f)中
の、下記式(h)
R 34 represents an alkyl group, an aralkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, and these groups may have the same substituents as described above. R 35 is a divalent chain hydrocarbon, an aromatic hydrocarbon, or the following formula (h) in the above general formulas (e) and (f).

【0020】[0020]

【化10】 [Chemical 10]

【0021】で表される部分とともに複素環を形成する
のに必要な原子団を表し、これらの環は前記と同様な置
換基を有してもよい。R36は、水素原子、アルキル基、
アミノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、アロフ
ァノイル基、カルボキシル基、カルボキシル基のエステ
ル、アリール基、または、シアノ基を表し、水素原子以
外の基は前記と同様な置換基を有していてもよい。
It represents an atomic group necessary for forming a heterocycle with the moiety represented by, and these rings may have the same substituents as described above. R 36 is a hydrogen atom, an alkyl group,
It represents an amino group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, an allofanoyl group, a carboxyl group, an ester of a carboxyl group, an aryl group, or a cyano group, and groups other than a hydrogen atom may have the same substituents as described above.

【0022】R37は、アルキル基またはアリール基を表
し、これらの基は前記と同様な置換基を有してもよい。
アルキル基としては、たとえばメチル基、エチル基、プ
ロピル基、イソプロプル基、ブチル基、イソブチル基、
tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の、炭素数
1〜6の低級アルキル基があげられる。
R 37 represents an alkyl group or an aryl group, and these groups may have the same substituents as described above.
As the alkyl group, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group,
Examples thereof include lower alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms such as tert-butyl group, pentyl group and hexyl group.

【0023】アリール基としては、たとえばフェニル
基、トリル基、キシリル基、ビフェニル基、ナフチル
基、アントリル基、フェナントリル基などがあげられ
る。アルケニル基としては、たとえばビニル基、アリル
基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、1−メチルアリ
ル基、2−ペンテニル基、2−ヘキセニル基等の、炭素
数2〜6の低級アルケニル基があげられる。
Examples of the aryl group include phenyl group, tolyl group, xylyl group, biphenyl group, naphthyl group, anthryl group and phenanthryl group. Examples of the alkenyl group include lower alkenyl groups having 2 to 6 carbon atoms such as vinyl group, allyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, 1-methylallyl group, 2-pentenyl group and 2-hexenyl group. To be

【0024】ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子、フッ素原子があげられる。前記R31
おいて、R30および水酸基を有するベンゼン環と縮合し
て芳香族環を形成するのに必要な原子団としては、たと
えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン
基等のアルキレン基があげられる。
Examples of the halogen atom include chlorine atom, bromine atom, iodine atom and fluorine atom. In R 31 , the atomic group necessary for forming an aromatic ring by condensing with R 30 and a benzene ring having a hydroxyl group includes, for example, an alkylene group such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group and a butylene group. To be

【0025】上記R31と、R30および水酸基を有するベ
ンゼン環との縮合により形成される芳香族環としては、
たとえばナフタリン環、アントラセン環、フェナントレ
ン環、ピレン環、クリセン環、ナフタセン環などがあげ
られる。前記R31において、R30および水酸基を有する
ベンゼン環と縮合して多環式炭化水素を形成するのに必
要な原子団としては、たとえばメチレン基、エチレン
基、プロピレン基、ブチレン基等の、炭素数1〜4のア
ルキレン基があげられる。
The aromatic ring formed by the condensation of R 31 with R 30 and a benzene ring having a hydroxyl group is
Examples thereof include naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, pyrene ring, chrysene ring and naphthacene ring. In R 31 , the atomic group necessary for condensing with R 30 and a benzene ring having a hydroxyl group to form a polycyclic hydrocarbon is, for example, a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, or a carbon atom. Examples include alkylene groups of the numbers 1 to 4.

【0026】上記R31と、R30および水酸基を有するベ
ンゼン環との縮合により形成される多環式炭化水素とし
ては、たとえばカルバゾール環、ベンゾカルバゾール
環、ジベンゾフラン環などがあげられる。また、R31
おいて、R30および水酸基を有するベンゼン環と縮合し
て複素環を形成するのに必要な原子団としては、たとえ
ばベンゾフラニル基、ベンゾチオフェニル基、インドリ
ル基、1H−インドリル基、ベゾオキサゾリル基、ベン
ゾチアゾリル基、1H−インダドリル基、ベンゾイミダ
ゾリル基、クロメニル基、クロマニル基、イソクロマニ
ル基、キノリニル基、イソキノリニル基、シンノリニル
基、フタラジニル基、キナゾニリル基、キノキサリニル
基、ジベンゾフラニル基、カルバゾリル基、キサンテニ
ル基、アクリジニル基、フェナントリジニル基、フェナ
ジニル基、フェノキサジニル基、チアントレニル基など
があげられる。
Examples of the polycyclic hydrocarbon formed by the condensation of R 31 with R 30 and a benzene ring having a hydroxyl group include a carbazole ring, a benzocarbazole ring and a dibenzofuran ring. Further, in R 31 , an atomic group necessary for forming a heterocycle by condensing with R 30 and a benzene ring having a hydroxyl group is, for example, a benzofuranyl group, a benzothiophenyl group, an indolyl group, a 1H-indolyl group, bezoxazolyl. Group, benzothiazolyl group, 1H-indaryl group, benzimidazolyl group, chromenyl group, chromanyl group, isochromanyl group, quinolinyl group, isoquinolinyl group, cinnolinyl group, phthalazinyl group, quinazonilyl group, quinoxalinyl group, dibenzofuranyl group, carbazolyl group, xanthenyl group , Acridinyl group, phenanthridinyl group, phenazinyl group, phenoxazinyl group, thianthrenyl group and the like.

【0027】上記R31と、R30および水酸基を有するベ
ンゼン環との縮合により形成される芳香族性複素環基と
しては、たとえばチエニル基、フリル基、ピロリル基、
オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、
イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ト
リアゾリル基、テトラゾリル基、ピリジル基、チアゾリ
ル基があげられる。また、さらに他の芳香族環と縮合し
た複素環基(たとえばベンゾフラニル基、ベンゾイミダ
ゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル
基、キノリル基など)であってもよい。
Examples of the aromatic heterocyclic group formed by condensation of R 31 and R 30 and a benzene ring having a hydroxyl group include, for example, thienyl group, furyl group, pyrrolyl group,
Oxazolyl group, isoxazolyl group, thiazolyl group,
Examples thereof include isothiazolyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, triazolyl group, tetrazolyl group, pyridyl group and thiazolyl group. Further, it may be a heterocyclic group condensed with another aromatic ring (for example, a benzofuranyl group, a benzimidazolyl group, a benzoxazolyl group, a benzothiazolyl group, a quinolyl group, etc.).

【0028】前記R33,R35において、2価の鎖式炭化
水素としては、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基
などがあげられ、2価の芳香族炭化水素としては、フェ
ニレン基、ナフチレン基、フェナントリレン基などがあ
げられる。前記R34において、複素環基としては、ピリ
ジル基、ピラジル基、チエニル基、ピラニル基、インド
リル基などがあげられる。
In R 33 and R 35 , examples of the divalent chain hydrocarbon include ethylene group, propylene group and butylene group, and examples of the divalent aromatic hydrocarbon include phenylene group, naphthylene group, Examples thereof include phenanthrylene group. Examples of the heterocyclic group represented by R 34 include a pyridyl group, a pyrazyl group, a thienyl group, a pyranyl group and an indolyl group.

【0029】前記R35において、前記式(h) で表される
部分とともに複素環を形成するのに必要な原子団として
は、たとえばフェニレン基、ナフチレン基、フェナント
リレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基など
があげられる。上記R35と、前記式(h) で表される部分
とにより形成される芳香族性複素環基としては、たとえ
ばベンゾイミダゾール基、ベンゾ[f]ベンゾイミダゾ
ール基、ジベンゾ[e,g]ベンゾイミダゾール基、ベ
ンゾピリミジン基などがあげられる。これらの基は前記
と同様な置換基を有してもよい。
In R 35 , the atomic group necessary for forming a heterocycle with the moiety represented by the formula (h) is, for example, phenylene group, naphthylene group, phenanthrylene group, ethylene group, propylene group or butylene. Examples include groups. Examples of the aromatic heterocyclic group formed by R 35 and the moiety represented by the formula (h) include, for example, benzimidazole group, benzo [f] benzimidazole group, dibenzo [e, g] benzimidazole group. Group, benzopyrimidine group and the like. These groups may have the same substituents as described above.

【0030】前記R36において、カルボキシル基のエス
テルとしては、メチルエステル、エチルエステル、プロ
ピルエステル、ブチルエステルなどがあげられる。上記
一般式(a) 〜(g) で表わされるカップラー残基Aの具体
例としては、以下のような基があげられる。
In the above R 36 , examples of the carboxyl group ester include methyl ester, ethyl ester, propyl ester, butyl ester and the like. Specific examples of the coupler residue A represented by the general formulas (a) to (g) include the following groups.

【0031】[0031]

【化11】 [Chemical 11]

【0032】[0032]

【化12】 [Chemical 12]

【0033】[0033]

【化13】 [Chemical 13]

【0034】[0034]

【化14】 [Chemical 14]

【0035】前記一般式(I) で表される本発明のアゾ系
化合物は、種々の方法で合成することができる。たとえ
ば、前記一般式(Ia)で表されるアゾ系化合物を例に取る
と、まず、下記反応工程式に示すように、ビス(クロロ
メチル)ベンゼン系化合物(1) と、ビス(メルカプトメ
チル)ベンゼン系化合物(2) とを水酸化カリウム等の塩
基の存在下で反応させて、一般式(3) で表されるジチオ
(3,3)メタシクロファン系化合物を作製する。
The azo compound of the present invention represented by the above general formula (I) can be synthesized by various methods. For example, taking the azo compound represented by the general formula (Ia) as an example, first, as shown in the following reaction process formula, bis (chloromethyl) benzene compound (1) and bis (mercaptomethyl) By reacting the benzene compound (2) with a base such as potassium hydroxide, a dithio (3,3) metacyclophane compound represented by the general formula (3) is produced.

【0036】[0036]

【化15】 [Chemical 15]

【0037】つぎに、上記化合物を常法によりニトロ化
して、下記一般式(4) で表されるジニトロ−ジチオ
(3,3)メタシクロファン系化合物を得、これを常法
により還元してジアミノ−ジチオ(3,3)メタシクロ
ファン系化合物(一般式(5) )を作製する。そしてこの
ジアミノ−ジチオ(3,3)メタシクロファン系化合物
(5) の2つのアミノ基をそれぞれジアゾ化してテトラゾ
ニウム塩とし、これを所定のカップラーと有機溶媒中で
カップリングさせると、一般式(Ia)で表されるアゾ系化
合物が製造される。ジアゾ化は、ジアミノ−ジチオ
(3,3)メタシクロファン系化合物(5) の酸性水溶液
を攪拌しながら、亜硝酸ナトリウムまたは亜硝酸を低温
下(通常、−10〜10℃)で滴下して行われる。
Next, the above compound is nitrated by a conventional method to obtain a dinitro-dithio (3,3) metacyclophane compound represented by the following general formula (4), which is reduced by a conventional method. A diamino-dithio (3,3) metacyclophane compound (general formula (5)) is prepared. And this diamino-dithio (3,3) metacyclophane compound
The two amino groups of (5) are each diazotized to form a tetrazonium salt, which is coupled with a predetermined coupler in an organic solvent to produce an azo compound represented by the general formula (Ia). The diazotization is carried out by adding sodium nitrite or nitrous acid dropwise at a low temperature (usually -10 to 10 ° C) while stirring an acidic aqueous solution of diamino-dithio (3,3) metacyclophane compound (5). Done.

【0038】[0038]

【化16】 [Chemical 16]

【0039】[上記各反応工程式中のA1 ,A2
1 ,R2 は前記と同じ基を示す。]上記本発明のアゾ
系化合物は、前述した電子写真感光体における電荷発生
材料の他、種々の感光材料や顔料、太陽電池等、種々の
分野での利用が可能である。
[A 1 , A 2 in the above reaction process formulas,
R 1 and R 2 represent the same groups as described above. The above-described azo compound of the present invention can be used in various fields such as various light-sensitive materials and pigments, solar cells, and the like in addition to the charge generating material in the electrophotographic photoreceptor described above.

【0040】[0040]

【実施例】以下に、実施例、比較例にもとづいて、本発
明を説明する。実施例1 メトキシベンゼン22.7g(0.21モル)と濃硫酸
50mlとをクロロジメチルエーテル150mlに加え、還
流下で約40分反応させた後、氷水で約30分間冷却し
て、下記式(1a)で表される2,6−ビス(クロロメチ
ル)メトキシベンゼン12.06g(収率28%)を得
た。
EXAMPLES The present invention will be described below based on Examples and Comparative Examples. Example 1 22.7 g (0.21 mol) of methoxybenzene and 50 ml of concentrated sulfuric acid were added to 150 ml of chlorodimethyl ether, and the mixture was reacted under reflux for about 40 minutes and then cooled with ice water for about 30 minutes to obtain the following formula (1a). 12.06 g (yield 28%) of 2,6-bis (chloromethyl) methoxybenzene represented by

【0041】また、上記2,6−ビス(クロロメチル)
メトキシベンゼン0.6g(0.05モル)とチオ尿素
8.37g(0.11モル)とを、75mlのジメチルス
ルフォキシド(DMSO)中で、15〜25℃の温度で
反応させた。そして、無色オイル上化合物としての、下
記式(2a)で表される2,6−ビス(メルカプトメチル)
メトキシベンゼン8.41g(収率84%)を得た。
Further, the above 2,6-bis (chloromethyl)
0.6 g (0.05 mol) of methoxybenzene and 8.37 g (0.11 mol) of thiourea were reacted in 75 ml of dimethylsulfoxide (DMSO) at a temperature of 15 to 25 ° C. And 2,6-bis (mercaptomethyl) represented by the following formula (2a) as a colorless oily compound
8.41 g (yield 84%) of methoxybenzene was obtained.

【0042】つぎに、4.2gの水酸化カリウムと20
00ccの乾燥エタノールとを三つ口フラスコ中に入れ、
フラスコ内を窒素置換した後、攪拌下、上記2,6−ビ
ス(クロロメチル)メトキシベンゼン4.72g(0.
023モル)と、2,6−ビス(メルカプトメチル)メ
トキシベンゼン4.61g(0.023モル)とを70
0mlのベンゼンに溶解した溶液を、滴下ロートを用いて
ゆっくりと滴下した。そして、室温で約48時間攪拌を
続けて反応させた後、反応液をエバポレータにより濃縮
し、700mlのジクロロメタンで抽出して反応生成物を
得た。
Next, 4.2 g of potassium hydroxide and 20
Put 00cc of dry ethanol into a 3-neck flask,
After substituting the inside of the flask with nitrogen, 4.72 g of the above 2,6-bis (chloromethyl) methoxybenzene (0.
7023) and 2,6-bis (mercaptomethyl) methoxybenzene 4.61 g (0.023 mol).
A solution dissolved in 0 ml of benzene was slowly added dropwise using a dropping funnel. Then, after stirring and reacting at room temperature for about 48 hours, the reaction solution was concentrated by an evaporator and extracted with 700 ml of dichloromethane to obtain a reaction product.

【0043】つぎにこの反応生成物を、ベンゼンとヘキ
サンの1:1混合溶媒を用いて、カラムクロマトグラフ
ィーにより分別して、目的生成物である、下記式(3a)で
表される8,16−ジメトキシ−ジチオ(3,3)メタ
シクロファン4.82g(収率65%)を得た。以上の
反応式を以下に記す。
Next, the reaction product is fractionated by column chromatography using a 1: 1 mixed solvent of benzene and hexane to obtain the desired product, which is represented by the following formula (3a): 8,16- There were obtained 4.82 g (yield 65%) of dimethoxy-dithio (3,3) metacyclophane. The above reaction formula is described below.

【0044】[0044]

【化17】 [Chemical 17]

【0045】上記8,16−ジメトキシ−ジチオ(3,
3)メタシクロファン15gを、硝酸銅(CuNO3 )の
60%無水酢酸溶液200ccに加え、15〜25℃の温
度で2時間攪拌して反応生成物を得た。この反応生成物
を分析したところ、目的物である5,13−ジニトロ−
8,16−ジメトキシ−ジチオ(3,3)メタシクロフ
ァンを含む2種の化合物の混合物であることがわかった
ので、カラムクロマトグラフィーにより分別して、下記
式(4a)で表される5,13−ジニトロ−8,16−ジメ
トキシ−ジチオ(3,3)メタシクロファン4.82g
(収率65%)を得た。
The above 8,16-dimethoxy-dithio (3,3)
3) 15 g of metacyclophane was added to 200 cc of a 60% acetic anhydride solution of copper nitrate (CuNO 3 ) and stirred at a temperature of 15 to 25 ° C. for 2 hours to obtain a reaction product. Analysis of this reaction product revealed that it was the desired product, 5,13-dinitro-
Since it was found to be a mixture of two compounds containing 8,16-dimethoxy-dithio (3,3) metacyclophane, it was separated by column chromatography to obtain 5,13 represented by the following formula (4a). -Dinitro-8,16-dimethoxy-dithio (3,3) metacyclophane 4.82 g
(Yield 65%) was obtained.

【0046】[0046]

【化18】 [Chemical 18]

【0047】つぎに、0.49g(0.013モル)の
水素化アルミニウムリチウム(Li Al H4 )を60mlの
テトラヒドロフランに溶解した溶液を2000ccのフラ
スコ中に収容し、この溶液に、上記5,13−ジニトロ
−8,16−ジメトキシ−ジチオ(3,3)メタシクロ
ファン6.76g(0.016モル)を50mlのテトラ
ヒドロフランに溶解した溶液を、還流下で滴下した。
Next, a solution prepared by dissolving 0.49 g (0.013 mol) of lithium aluminum hydride (Li Al H 4 ) in 60 ml of tetrahydrofuran was placed in a 2000 cc flask, and this solution was charged with the above 5, 5. A solution of 6.76 g (0.016 mol) of 13-dinitro-8,16-dimethoxy-dithio (3,3) metacyclophane in 50 ml of tetrahydrofuran was added dropwise under reflux.

【0048】滴下終了後、フラスコを氷水で冷却しなが
ら十分量の水を加えて過剰の水素化アルミニウムリチウ
ムを分解し、さらに酒石酸カリウムナトリウムの20%
水溶液を加えた後、水溶液層を30ccのエーテルで数回
抽出した。そして、硫酸ナトリウムを投入し乾燥して、
目的物である下記式(5a)で表される5,13−ジアミノ
−8,16−ジメトキシ−ジチオ(3,3)メタシクロ
ファン4.16gを得た。
After completion of the dropping, while cooling the flask with ice water, a sufficient amount of water was added to decompose excess lithium aluminum hydride, and 20% of potassium sodium tartrate was added.
After adding the aqueous solution, the aqueous layer was extracted several times with 30 cc of ether. Then, add sodium sulfate and dry,
As a result, 4.16 g of 5,13-diamino-8,16-dimethoxy-dithio (3,3) metacyclophane represented by the following formula (5a) was obtained.

【0049】[0049]

【化19】 [Chemical 19]

【0050】上記5,13−ジアミノ−8,16−ジメ
トキシ−ジチオ(3,3)メタシクロファン3.63g
(0.01モル)と10%塩酸30mlとを100ccのフ
ラスコ中に入れ、フラスコを氷浴で冷却して液温を−3
〜5℃に維持しつつ攪拌しながら、亜硝酸ナトリウム
(NaNO3 )1.16gを水3mlに溶解した溶液を10
分間かけて滴下し、その後さらに30分間攪拌してテト
ラゾ化反応を行った。そして、この反応液に活性炭を加
えて余剰の成分を除去した後、活性炭をろ別した。
3.63 g of the above 5,13-diamino-8,16-dimethoxy-dithio (3,3) metacyclophane
(0.01 mol) and 10% hydrochloric acid (30 ml) were put in a 100 cc flask, and the flask was cooled in an ice bath to a liquid temperature of -3.
A solution prepared by dissolving 1.16 g of sodium nitrite (NaNO 3 ) in 3 ml of water was stirred while maintaining the temperature at -5 ° C.
The solution was added dropwise over a period of 30 minutes and then stirred for 30 minutes to carry out a tetrazotization reaction. Then, activated carbon was added to this reaction solution to remove excess components, and then the activated carbon was filtered off.

【0051】次に、500mlのビーカー中に6%水酸化
ナトリウム水溶液150mlを入れ、この溶液に、前記式
(A1)で表されるカップラー残基を有するカップラー6.
3g(0.024モル)を溶解した後、液温を5〜15
℃に維持しながら、先の反応液を20分間かけて滴下
し、その後、室温でさらに5時間攪拌した。そして、こ
の反応液を一昼夜放置した後、固形分をろ別し、水およ
びジメチルホルムアミドでこの順に洗浄し、乾燥して、
下記式で表されるビスアゾ系化合物4.37g(収率4
8%)を得た。
Next, 150 ml of a 6% aqueous sodium hydroxide solution was placed in a 500 ml beaker, and the above-mentioned formula was added to this solution.
5. A coupler having a coupler residue represented by (A1).
After dissolving 3 g (0.024 mol), the liquid temperature was adjusted to 5 to 15
The above reaction solution was added dropwise over 20 minutes while maintaining the temperature at 0 ° C., and then the mixture was stirred at room temperature for another 5 hours. Then, after leaving this reaction solution for a whole day and night, the solid content is filtered off, washed with water and dimethylformamide in this order, and dried,
4.37 g of the bisazo compound represented by the following formula (yield 4
8%).

【0052】[0052]

【化20】 [Chemical 20]

【0053】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 計算値(%) C:68.55 H:4.65 N:9.22 実測値(%) C:68.83 H:4.43 N:9.92 質量分析結果 m/e=911 (計算値911.03)実施例2 前記式(A2)で表されるカップラー残基を有するカップラ
ー7.15g(0.024モル)を用いたこと以外は、
上記実施例1と同様にしてビスアゾ系化合物4.12g
(収率42%)を合成した。
The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Elemental analysis result Calculated value (%) C: 68.55 H: 4.65 N: 9.22 Measured value (%) C: 68.83 H: 4.43 N: 9.92 Mass spectrometry result m / e = 911 (calculated value 911.03) Example 2 Except that 7.15 g (0.024 mol) of the coupler having the coupler residue represented by the formula (A2) was used.
4.12 g of a bisazo compound in the same manner as in Example 1 above.
(Yield 42%) was synthesized.

【0054】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 計算値(%): C:63.74 H:4.114 N:8.576 実測値(%): C:63.78 H:4.59 N:8.63 質量分析結果 m/e=980 (計算値979.95)実施例3 前記式(A3)で表されるカップラー残基を有するカップラ
ー8.18g(0.024モル)を用いたこと以外は、
上記実施例1と同様にしてビスアゾ系化合物5.23g
(収率49%)を合成した。
The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Elemental analysis results Calculated value (%): C: 63.74 H: 4.114 N: 8.5576 Actual value (%): C: 63.78 H: 4.59 N: 8.63 Mass spectrometry result m / e = 980 (calculated value 979.95) Example 3 except that 8.18 g (0.024 mol) of the coupler having the coupler residue represented by the formula (A3) was used.
5.23 g of the bisazo compound in the same manner as in Example 1 above.
(Yield 49%) was synthesized.

【0055】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 計算値(%): C:60.84 H:3.971 N:10.51 実測値(%): C:60.69 H:3.87 N:10.21 質量分析結果 m/e=1067 (計算値1066.0)実施例4 前記式(A4)で表されるカップラー残基を有するカップラ
ー7.16g(0.024モル)を用いたこと以外は、
上記実施例1と同様にしてビスアゾ系化合物3.73g
(収率38%)を合成した。
The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Elemental analysis result Calculated value (%): C: 60.84 H: 3.971 N: 10.51 Actual value (%): C: 60.69 H: 3.87 N: 10.21 Mass spectrometry result m / e = 1067 (calculated value 1066.0) Example 4 Except that 7.16 g (0.024 mol) of the coupler having the coupler residue represented by the formula (A4) was used.
3.73 g of a bisazo compound in the same manner as in Example 1 above.
(Yield 38%) was synthesized.

【0056】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 計算値(%): C:61.08 H:4.306 N:8.548 実測値(%): C:61.81 H:4.29 N:8.55 質量分析結果 m/e=983 (計算値983.15)実施例5 前記式(A8)で表されるカップラー残基を有するカップラ
ー8.07g(0.024モル)を用いたこと以外は、
前記実施例1と同様にしてビスアゾ系化合物4.36g
(収率39%)を合成した。
The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Elemental analysis result Calculated value (%): C: 61.08 H: 4.306 N: 8.548 Measured value (%): C: 61.81 H: 4.29 N: 8.55 Mass spectrometry result m / e = 983 (calculated value 983.15) Example 5 Except that 8.07 g (0.024 mol) of the coupler having the coupler residue represented by the formula (A8) was used.
In the same manner as in Example 1, 4.36 g of bisazo compound
(Yield 39%) was synthesized.

【0057】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 計算値(%): C:70.95 H:4.691 N:10.03 実測値(%): C:71.13 H:4.59 N:10.21 質量分析結果 m/e=1118 (計算値1117.3)実施例6 前記式(A9)で表されるカップラー残基を有するカップラ
ー7.07g(0.024モル)を用いたこと以外は、
前記実施例1と同様にしてビスアゾ系化合物4.09g
(収率42%)を合成した。
The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Elemental analysis results Calculated value (%): C: 70.95 H: 4.691 N: 10.03 Actual value (%): C: 71.13 H: 4.59 N: 10.21 Mass spectrometry result m / e = 1118 (calculated value 1117.3) Example 6 Except that 7.07 g (0.024 mol) of the coupler having the coupler residue represented by the formula (A9) was used.
In the same manner as in Example 1, 4.09 g of bisazo compound
(Yield 42%) was synthesized.

【0058】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 計算値(%): C:64.13 H:3.932 N:11.51 実測値(%): C:63.81 H:4.01 N:11.51 質量分析結果 m/e=974 (計算値973.95)実施例7 前記式(A11) で表されるカップラー残基を有するカップ
ラー7.86g(0.024モル)を用いたこと以外
は、前記実施例1と同様にしてビスアゾ系化合物4.6
7g(収率45%)を合成した。
The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Elemental analysis result Calculated value (%): C: 64.13 H: 3.932 N: 11.51 Actual value (%): C: 63.81 H: 4.01 N: 11.51 Mass spectrometry result m / e = 974 (calculated value 973.95) Example 7 Same as Example 1 except that 7.86 g (0.024 mol) of the coupler having the coupler residue represented by the formula (A11) was used. Bisazo compound 4.6
7 g (yield 45%) was synthesized.

【0059】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 計算値(%): C:69.34 H:4.073 N:8.086 実測値(%): C:69.21 H:4.05 N:8.01 質量分析結果 m/e=1038 (計算値1039.3)実施例8 前記式(A12) で表されるカップラー残基を有するカップ
ラー8.39g(0.024モル)を用いたこと以外
は、前記実施例1と同様にしてビスアゾ系化合物4.2
2g(収率39%)を合成した。
The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Elemental analysis result Calculated value (%): C: 69.34 H: 4.073 N: 8.086 Measured value (%): C: 69.21 H: 4.05 N: 8.01 Mass spectrometry result m / e = 1038 (calculated value 1039.3) Example 8 Same as Example 1 except that 8.39 g (0.024 mol) of the coupler having the coupler residue represented by the formula (A12) was used. Bisazo compound 4.2
2 g (yield 39%) was synthesized.

【0060】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 計算値(%): C:70.96 H:4.280 N:12.93 実測値(%): C:70.58 H:4.29 N:13.05 質量分析結果 m/e=1084 (計算値1083.3)実施例9 前記式(A13) で表されるカップラー残基を有するカップ
ラー5.45g(0.024モル)を用いたこと以外
は、前記実施例1と同様にしてビスアゾ系化合物3.0
9g(収率37%)を合成した。
The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Elemental analysis result Calculated value (%): C: 70.96 H: 4.280 N: 12.93 Measured value (%): C: 70.58 H: 4.29 N: 13.05 Mass spectrometry result m / e = 1084 (calculated value 1083.3) Example 9 Same as Example 1 except that 5.45 g (0.024 mol) of the coupler having the coupler residue represented by the formula (A13) was used. And bisazo compound 3.0
9 g (yield 37%) was synthesized.

【0061】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 計算値(%): C:63.00 H:4.085 N:10.02 実測値(%): C:62.99 H:4.13 N:9.98 質量分析結果 m/e=837 (計算値838.90)実施例10 前記式(A14) で表されるカップラー残基を有するカップ
ラー6.94g(0.024モル)を用いたこと以外
は、前記実施例1と同様にしてビスアゾ系化合物3.9
5g(収率41%)を合成した。
The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Elemental analysis result Calculated value (%): C: 63.00 H: 4.085 N: 10.02 Measured value (%): C: 62.99 H: 4.13 N: 9.98 Mass spectrometry result m / e = 837 (calculated value 838.90) Example 10 Same as Example 1 except that 6.94 g (0.024 mol) of the coupler having the coupler residue represented by the formula (A14) was used. Bisazo compound 3.9
5 g (41% yield) was synthesized.

【0062】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 計算値(%): C:67.35 H:3.977 N:8.726 実測値(%): C:67.48 H:4.01 N:8.63 質量分析結果 m/e=964 (計算値963.05)実施例11 前記式(A19) で表されるカップラー残基を有するカップ
ラー6.87g(0.024モル)を用いたこと以外
は、前記実施例1と同様にしてビスアゾ系化合物4.5
9g(収率48%)を合成した。
The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Elemental analysis result Calculated value (%): C: 67.35 H: 3.977 N: 8.726 Measured value (%): C: 67.48 H: 4.01 N: 8.63 Mass spectrometry result m / e = 964 (calculated value 963.05) Example 11 Same as Example 1 except that 6.87 g (0.024 mol) of the coupler having the coupler residue represented by the formula (A19) was used. And bisazo compound 4.5
9 g (yield 48%) was synthesized.

【0063】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 計算値(%): C:67.77 H:3.791 N:11.71 実測値(%): C:67.89 H:3.75 N:11.59 質量分析結果 m/e=957 (計算値957.05)実施例12 前記式(1a)で表される2,6−ビス(クロロメチル)メ
トキシベンゼンに代えて、下記式(1b)で表される2,6
−ビス(クロロメチル)メトキシビフェニル6.47g
(0.023モル)を出発原料として使用したこと以外
は、前記実施例1と同様にして、下記式(5b)で表される
5−アミノ−13−(p−アミノフェニル)−8,16
−ジメトキシ−ジチオ(3,3)メタシクロファン5.
23gを得た。
The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Elemental analysis result Calculated value (%): C: 67.77 H: 3.791 N: 11.71 Actual value (%): C: 67.89 H: 3.75 N: 11.59 Mass spectrometry result m / e = 957 (calculated value 957.05) Example 12 In place of the 2,6-bis (chloromethyl) methoxybenzene represented by the above formula (1a), 2,6 represented by the following formula (1b)
-Bis (chloromethyl) methoxybiphenyl 6.47 g
5-Amino-13- (p-aminophenyl) -8,16 represented by the following formula (5b) was prepared in the same manner as in Example 1 except that (0.023 mol) was used as the starting material.
-Dimethoxy-dithio (3,3) metacyclophane 5.
23 g was obtained.

【0064】[0064]

【化21】 [Chemical 21]

【0065】そして、この5−アミノ−13−(p−ア
ミノフェニル)−8,16−ジメトキシ−ジチオ(3,
3)メタシクロファン4.39g(0.01モル)と、
前記式(A2)で表されるカップラー残基を有するカップラ
ー7.15g(0.024モル)とを用いて、実施例1
と同様にしてビスアゾ系化合物5.49g(収率52
%)を合成した。
Then, the 5-amino-13- (p-aminophenyl) -8,16-dimethoxy-dithio (3,3
3) 4.39 g (0.01 mol) of metacyclophane,
Using a coupler having a coupler residue represented by the above formula (A2) 7.15 g (0.024 mol), Example 1
5.49 g of bisazo compound (yield 52
%) Was synthesized.

【0066】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 計算値(%): C:65.97 H:4.199 N:7.958 実測値(%): C:65.01 H:4.09 N:7.99 質量分析結果 m/e=1056 (計算値1056.0)実施例13 前記式(1a)で表される2,6−ビス(クロロメチル)メ
トキシベンゼンに代えて、上記式(1b)で表される2,6
−ビス(クロロメチル)メトキシビフェニル6.47g
(0.023モル)を使用するとともに、式(2a)で表さ
れる2,6−ビス(メルカプトメチル)メトキシベンゼ
ンに代えて、下記式(2b)で表される2,6−ビス(メル
カプトメチル)メトキシビフェニル4.73g(0.0
23モル)を使用したこと以外は、前記実施例1と同様
にして、下記式(5c)で表される5,13−ビス(p−ア
ミノフェニル)−8,16−ジメトキシ−ジチオ(3,
3)メタシクロファン5.38gを得た。
The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Elemental analysis result Calculated value (%): C: 65.97 H: 4.199 N: 7.958 Measured value (%): C: 65.01 H: 4.09 N: 7.99 Mass spectrometry result m / e = 1056 (calculated value 1056.0) Example 13 In place of the 2,6-bis (chloromethyl) methoxybenzene represented by the above formula (1a), 2,6 represented by the above formula (1b).
-Bis (chloromethyl) methoxybiphenyl 6.47 g
(0.023 mol) and used in place of 2,6-bis (mercaptomethyl) methoxybenzene represented by the formula (2a), 2,6-bis (mercapto) represented by the following formula (2b). Methyl) methoxybiphenyl 4.73 g (0.0
23 mol) was used, and in the same manner as in Example 1, 5,13-bis (p-aminophenyl) -8,16-dimethoxy-dithio (3,3 represented by the following formula (5c).
3) 5.38 g of metacyclophane was obtained.

【0067】[0067]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0068】そして、この5,13−ビス(p−アミノ
フェニル)−8,16−ジメトキシ−ジチオ(3,3)
メタシクロファン5.15g(0.01モル)と、前記
式(A2)で表されるカップラー残基を有するカップラー
7.15g(0.024モル)とを用いて、実施例1と
同様にしてビスアゾ系化合物5.99g(収率53%)
を合成した。
The 5,13-bis (p-aminophenyl) -8,16-dimethoxy-dithio (3,3)
In the same manner as in Example 1 except that 5.15 g (0.01 mol) of metacyclophane and 7.15 g (0.024 mol) of the coupler having the coupler residue represented by the formula (A2) were used. 5.99 g of bisazo compound (yield 53%)
Was synthesized.

【0069】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 計算値(%): C:67.90 H:4.273 N:7.423 実測値(%): C:66.09 H:4.29 N:7.39 質量分析結果 m/e=1131 (計算値1132.1)比較例1 下記式:
The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Elemental analysis results Calculated value (%): C: 67.90 H: 4.273 N: 7.423 Measured value (%): C: 66.09 H: 4.29 N: 7.39 Mass spectrometry result m / e = 1131 (calculated value 1132.1) Comparative Example 1 The following formula:

【0070】[0070]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0071】で表されるクロロジアンブルーを比較例1
とした。上記各実施例のうち実施例1,2,8,10,
11,12,13と、比較例1のビスアゾ系化合物につ
いて、以下の試験を行い、その特性を評価した。電荷発生効率の計測 各実施例、比較例のビスアゾ系化合物と、結着樹脂とし
てのポリエステル樹脂とを、ビスアゾ系化合物の量比が
10重量%になるように、適当な溶媒中に配合し、均一
に分散させて塗布液を作製した。そして、この塗布液
を、図1に示すように、片面にITO電極層102が形
成された透明シート101の、上記ITO電極層102
が形成された側の表面に塗布して、厚み5μmの顔料・
樹脂分散層103を形成した。そして、この顔料・樹脂
分散層103の裏面に金電極層104を積層してサンプ
ルを作製した。
Chlorodian blue represented by
And Of the above-mentioned embodiments, Embodiments 1, 2, 8, 10,
The following tests were carried out on 11, 12, 13 and the bisazo compound of Comparative Example 1 to evaluate the characteristics. Measurement of Charge Generation Efficiency The bisazo compound of each Example and Comparative Example and the polyester resin as the binder resin were mixed in a suitable solvent so that the amount ratio of the bisazo compound was 10% by weight, A coating liquid was prepared by uniformly dispersing. Then, as shown in FIG. 1, this coating solution is applied to the ITO electrode layer 102 of the transparent sheet 101 having the ITO electrode layer 102 formed on one surface thereof.
Apply to the surface of the side where the
The resin dispersion layer 103 was formed. Then, a gold electrode layer 104 was laminated on the back surface of the pigment / resin dispersion layer 103 to prepare a sample.

【0072】つぎに、上記サンプルのITO電極層10
2および金電極層104を、同図に示すように測定回路
に接続した。測定回路は、図2に示すように、サンプル
を等価的に1つのコンデンサと見なして、このサンプル
CSと、1つの可変コンデンサC1と、2つの固定コン
デンサC2,C3とでブリッジ回路を形成したものであ
る。
Next, the ITO electrode layer 10 of the above sample was prepared.
2 and the gold electrode layer 104 were connected to the measurement circuit as shown in the figure. As shown in FIG. 2, the measurement circuit considers the sample equivalently as one capacitor, and forms a bridge circuit with the sample CS, one variable capacitor C1, and two fixed capacitors C2 and C3. Is.

【0073】つぎに、上記ブリッジ回路に、電源装置1
06から電圧を印加しつつ、サンプルの顔料・樹脂分散
層103に、透明シート101の側から、励起光として
のレーザーパルス光を照射して、平衡状態(光未照射状
態)からの、サンプルCSにおける電圧の変位量(電圧
降下量ΔV、単位mV)を、ブリッジ回路に接続された
ストレージスコープ107によって計測した。なお、上
記サンプルCSにレーザーパルス光を照射するための光
源としては、電源装置106に、スイッチSWを介して
接続された窒素ガスレーザーNLと、この窒素ガスレー
ザーNLからレーザー光が照射されると、サンプルCS
にレーザーパルス光を照射する色素レーザーDLと、こ
の色素レーザーDLから照射されるレーザーパルス光の
光エネルギーを、当該レーザーパルス光の光路中に設け
たハーフミラーHMを介してモニターするモニター装置
108とからなるものを用いた。
Next, the power supply device 1 is connected to the bridge circuit.
While the voltage is applied from 06, the sample pigment / resin dispersion layer 103 is irradiated with laser pulse light as excitation light from the transparent sheet 101 side to obtain the sample CS from the equilibrium state (light non-irradiation state). The amount of voltage displacement (voltage drop ΔV, unit mV) was measured by the storage scope 107 connected to the bridge circuit. As the light source for irradiating the sample CS with the laser pulse light, the nitrogen gas laser NL connected to the power supply device 106 via the switch SW and the laser light from the nitrogen gas laser NL are irradiated. , Sample CS
A dye laser DL for irradiating the laser pulse light to the laser beam, and a monitor device 108 for monitoring the light energy of the laser pulse light emitted from the dye laser DL via a half mirror HM provided in the optical path of the laser pulse light. Was used.

【0074】そして、計測されたサンプルCSの電圧の
変位量(ΔV)から、下記式により、電荷発生効率
(η)を求めた。 電荷発生効率η=(C・ΔV/eNφ)・〔1/fv・
f(ε1,ε2)〕 但し、上記式中の各符号は下記のとおり。 C:サンプルの静電容量(=4.8×10-10 、サンプ
ルの誘電率=2.71から求めた) e:電荷素量 Nφ:吸収した光子数(=5×10-10 、モニター装置
108によりモニターしたレーザーパルス光の光エネル
ギーから算出した) fv:顔料の体積分率(=7.25、ビスアゾ系化合物
の量比10重量%のときの体積分率) ε1:ビスアゾ系化合物の誘電率(構造上の差異が少な
いことから、全て4.45に設定した) ε2:ポリエステル樹脂の誘電率(=2.60) f(ε1,ε2):補正関数、下記式により計算した。
Then, the charge generation efficiency (η) was obtained from the measured voltage displacement amount (ΔV) of the sample CS by the following formula. Charge generation efficiency η = (C · ΔV / eNφ) · [1 / fv ·
f (ε1, ε2)] where each symbol in the above formula is as follows. C: capacitance of sample (= 4.8 × 10 −10 , dielectric constant of sample = 2.71) e: elementary charge Nφ: number of absorbed photons (= 5 × 10 −10 , monitor device) Fv: volume fraction of pigment (= 7.25, volume fraction when the amount ratio of bisazo compound is 10% by weight) ε1: Dielectric of bisazo compound Ratios (all have been set to 4.45 because there are few structural differences) ε2: Dielectric constant of polyester resin (= 2.60) f (ε1, ε2): Correction function, calculated by the following formula.

【0075】 f(ε1,ε2)=ε2/〔ε1+2ε2−fv・(ε1−ε2)〕 また、両電極間の電界強度は3×107 V/mであっ
た。各実施例、比較例のビスアゾ系化合物を用いたサン
プルにおける、上記式により算出された電荷発生効率
(η)を表1に示す。光安定性試験 前記各実施例、比較例のビスアゾ系化合物を電荷発生材
料として使用して、以下の手順で、単層型および積層型
の感光体を作製した。
F (ε1, ε2) = ε2 / [ε1 + 2ε2-fv · (ε1-ε2)] The electric field strength between both electrodes was 3 × 10 7 V / m. Table 1 shows the charge generation efficiency (η) calculated by the above formula in the samples using the bisazo compounds of Examples and Comparative Examples. Light Stability Test Using the bisazo compounds of the above Examples and Comparative Examples as charge generating materials, single-layer type and multi-layer type photoconductors were prepared by the following procedure.

【0076】(単層型感光体の作製)電荷発生材料とし
てのビスアゾ系化合物8重量と、電荷輸送材料として
の、下記式:
(Production of Single Layer Type Photoreceptor) 8 weight of bisazo compound as a charge generating material and the following formula as a charge transporting material:

【0077】[0077]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0078】で表されるN,N,N′,N′−テトラキ
ス(3−メチルフェニル)−m−フェニレンジアミン1
00重量部と、結着樹脂としてのポリカーボネート10
0重量部とを、所定量のテトラヒドロフランとともに、
ボールミルを用いて混合分散し、単層型感光層用塗布液
を調製した。この塗布液を、直径80mm×長さ350mm
のアルミニウム素管の表面に、浸漬法によって塗布した
後、暗所において、100℃で30分間加熱乾燥させ
て、膜厚24μmの単層型感光層を有する、ドラム型の
正帯電型電子写真感光体を作製した。
N, N, N ', N'-tetrakis (3-methylphenyl) -m-phenylenediamine 1 represented by
00 parts by weight and polycarbonate 10 as a binder resin
0 parts by weight together with a predetermined amount of tetrahydrofuran,
A single layer type photosensitive layer coating liquid was prepared by mixing and dispersing using a ball mill. Apply this coating liquid to a diameter of 80 mm x length of 350 mm
Drum type positive charging type electrophotographic photoconductor having a single-layer type photosensitive layer having a film thickness of 24 μm after being coated on the surface of the aluminum base tube by a dipping method and then dried by heating at 100 ° C. for 30 minutes in a dark place. The body was made.

【0079】(積層型感光体の作製)結着樹脂としての
ポリビニルブチラール100重量部と、電荷発生材料と
してのビスアゾ系化合物100重量部と、所定量のテト
ラヒドロフランとをボールミルに仕込み、24時間攪拌
混合して、電荷発生層用塗布液を調製した。この塗布液
を、直径80mm×長さ350mmのアルミニウム素管の表
面に、浸漬法によって塗布した後、暗所において、11
0℃で30分間熱風乾燥して硬化させて、膜厚0.5μ
mの電荷発生層を形成した。
(Production of Laminated Photoreceptor) 100 parts by weight of polyvinyl butyral as a binder resin, 100 parts by weight of a bisazo compound as a charge generating material, and a predetermined amount of tetrahydrofuran were charged in a ball mill and mixed with stirring for 24 hours. Then, a charge generation layer coating liquid was prepared. This coating solution is applied to the surface of an aluminum tube having a diameter of 80 mm and a length of 350 mm by a dipping method, and then, in a dark place, 11
Dry with hot air for 30 minutes at 0 ° C and cure to a film thickness of 0.5μ
m charge generating layer was formed.

【0080】つぎに、結着樹脂としてのポリカーボネー
ト100重量部と、電荷輸送材料としてのN,N,
N′,N′−テトラキス(3−メチルフェニル)−m−
フェニレンジアミン100重量部と、所定量のトルエン
とをホモミキサで攪拌混合して、電荷輸送層用塗布液を
調製した。この塗布液を、先に素管の表面に形成した電
荷発生層上に、浸漬法によって塗布し、90℃で30分
間熱風乾燥することにより、膜厚約20μmの電荷輸送
層を形成し、積層型感光層を有する、ドラム型の負帯電
型電子写真感光体を作製した。
Next, 100 parts by weight of polycarbonate as a binder resin and N, N, and N as a charge transport material are used.
N ', N'-tetrakis (3-methylphenyl) -m-
100 parts by weight of phenylenediamine and a predetermined amount of toluene were mixed by stirring with a homomixer to prepare a charge transport layer coating solution. This coating solution is applied onto the charge generation layer previously formed on the surface of the raw tube by a dipping method, and dried by hot air at 90 ° C. for 30 minutes to form a charge transport layer having a thickness of about 20 μm, and laminated. A drum type negative charging type electrophotographic photosensitive member having a mold photosensitive layer was produced.

【0081】(光安定性の測定)上記のようにして作製
した単層型および積層型の感光体を、まず、静電式複写
試験装置(ジェンテック社製の商品名ジェンテックシン
シア30M)に装填し、その表面を正または負に帯電さ
せたのち、帯電状態となった電子写真感光体を、静電式
複写試験装置の露光光源であるハロゲンランプを用い
て、露光強度10lux の条件で露光して、露光開始後、
0.15秒を経過した時点の表面電位を測定し、残留電
位V1r.p.(V)とした。
(Measurement of Light Stability) The single-layer type and laminated type photoconductors prepared as described above were first placed in an electrostatic copying tester (Gentec Cynthia 30M, trade name, manufactured by Gentech). After charging and positively or negatively charging the surface, the charged electrophotographic photosensitive member is exposed under a condition of an exposure intensity of 10 lux by using a halogen lamp which is an exposure light source of an electrostatic copying tester. Then, after starting the exposure,
The surface potential at the time when 0.15 seconds had elapsed was measured and defined as the residual potential V1r.p. (V).

【0082】つぎに、上記感光体を、静電式複写機(三
田工業社製の型番DC−1657)に装填して1000
枚の連続複写を行った後、上記と同様にして、繰り返し
露光後の残留電位V2r.p.(V)を測定した。そして、
上記残留電位V1r.p.とV2r.p.との差ΔVr.p.(V)
を求めた。結果を表1に示す。
Next, the above photoconductor is loaded into an electrostatic copying machine (model number DC-1657, manufactured by Mita Kogyo Co., Ltd.), and 1000
After continuous copying of the sheets, the residual potential V2r.p. (V) after repeated exposure was measured in the same manner as above. And
Difference ΔVr.p. (V) between the residual potentials V1r.p. and V2r.p.
I asked. The results are shown in Table 1.

【0083】[0083]

【表1】 [Table 1]

【0084】上記表1の結果より、本発明のアゾ系化合
物である、各実施例のビスアゾ系化合物は、いずれも、
比較例1に比べて電荷発生効率が高く、高感度であるこ
とが判った。また、上記各実施例のビスアゾ系化合物を
用いた感光体は、比較例1を用いた感光体に比べて、繰
り返し露光による残留電位の変化量が小さく、このこと
から、上記各実施例のビスアゾ系化合物は、光安定性に
も優れていることが判った。
From the results shown in Table 1 above, all of the bisazo compounds of the examples, which are the azo compounds of the present invention,
It was found that the charge generation efficiency was higher than that of Comparative Example 1 and the sensitivity was high. In addition, the photoconductor using the bisazo compound of each of the above Examples has a smaller residual potential change amount due to repeated exposure than the photoconductor using Comparative Example 1, and therefore, the bisazo compound of each of the above Examples is obtained. It was found that the compounds of the type also have excellent light stability.

【0085】[0085]

【発明の効果】以上のように、本発明のアゾ系化合物
は、高感度であり、かつ光安定性に優れているので、電
子写真感光体における電荷発生材料等の種々の感光材料
や、顔料、太陽電池等に好適に使用することができる。
また、本発明のジアゾニウム塩は、上記アゾ系化合物の
製造に適した中間体である。
INDUSTRIAL APPLICABILITY As described above, the azo compound of the present invention has high sensitivity and excellent light stability. Therefore, various photosensitive materials such as charge generating materials in electrophotographic photoreceptors and pigments are used. It can be suitably used for solar cells and the like.
Further, the diazonium salt of the present invention is an intermediate suitable for producing the azo compound.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例において、電荷発生効率の計測に使用し
た装置の概要を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing an outline of an apparatus used for measuring charge generation efficiency in Examples.

【図2】上記装置の、より詳細な内容を示す回路図であ
る。
FIG. 2 is a circuit diagram showing more detailed contents of the device.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一般式(I) : 【化1】 [式中A1 ,A2 は同一または異なるカップラー残基を
示し、R1 ,R2 は同一または異なって水素原子、アル
キル基またはアルコキシ基を示し、R3 ,R4 は同一ま
たは異なって水素原子、ハロゲン原子、アルキル基また
はアリール基を示す。m,nは0または1を示す。]で
表されるアゾ系化合物。
1. General formula (I): [Wherein A 1 and A 2 represent the same or different coupler residues, R 1 and R 2 represent the same or different hydrogen atom, alkyl group or alkoxy group, and R 3 and R 4 represent the same or different hydrogen. An atom, a halogen atom, an alkyl group or an aryl group is shown. m and n represent 0 or 1. ] The azo compound represented by.
【請求項2】一般式(Ia): 【化2】 [式中A1 ,A2 ,R1 ,R2 は上記と同じ基を示
す。]で表される請求項1記載のアゾ系化合物。
2. General formula (Ia): [In the formula, A 1 , A 2 , R 1 and R 2 represent the same groups as described above. ] The azo compound of Claim 1 represented by these.
【請求項3】一般式(Ib): 【化3】 [式中A1 ,A2 ,R1 ,R2 ,R3 は上記と同じ基を
示す。]で表される請求項1記載のアゾ系化合物。
3. General formula (Ib): [Wherein A 1 , A 2 , R 1 , R 2 and R 3 represent the same groups as described above. ] The azo compound of Claim 1 represented by these.
【請求項4】一般式(Ic): 【化4】 [式中A1 ,A2 ,R1 ,R2 ,R3 ,R4 は上記と同
じ基を示す。]で表される請求項1記載のアゾ系化合
物。
4. General formula (Ic): [In the formula, A 1 , A 2 , R 1 , R 2 , R 3 and R 4 represent the same groups as described above. ] The azo compound of Claim 1 represented by these.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008090955A1 (en) * 2007-01-25 2008-07-31 Hodogaya Chemical Co., Ltd. Photoreceptor for electrophotography

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