JPH0680894A - Azo-based compound - Google Patents
Azo-based compoundInfo
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- JPH0680894A JPH0680894A JP23393292A JP23393292A JPH0680894A JP H0680894 A JPH0680894 A JP H0680894A JP 23393292 A JP23393292 A JP 23393292A JP 23393292 A JP23393292 A JP 23393292A JP H0680894 A JPH0680894 A JP H0680894A
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- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、電子写真感光体におけ
る電荷発生材料等の種々の感光材料や、顔料、太陽電池
等として好適に使用される、感光材料としてのアゾ系化
合物に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to various photosensitive materials such as charge generating materials for electrophotographic photoreceptors, azo compounds which are preferably used as pigments, solar cells and the like. .
【0002】[0002]
【従来の技術】電子写真感光体における電荷発生材料
や、顔料、太陽電池等に使用される感光材料としては、
従来より、セレンや硫化カドミウム等の無機光導電体が
公知ではあるが、これらは毒性があり、しかも生産コス
トが高く望ましくない。そこで、これらの無機物質に代
えて、加工性に優れ、製造コストの面で有利であるとと
もに、機能設計の自由度が大きい、種々の有機物質が、
感光材料として提案されている。2. Description of the Related Art As charge generating materials for electrophotographic photoreceptors, photosensitive materials used for pigments, solar cells, etc.,
Conventionally, inorganic photoconductors such as selenium and cadmium sulfide have been known, but these are toxic and are not desirable because of high production cost. Therefore, in place of these inorganic substances, various organic substances having excellent workability and being advantageous in terms of manufacturing cost and having a high degree of freedom in functional design,
Proposed as a photosensitive material.
【0003】上記有機の感光材料としては、フタロシア
ニン系化合物、ペリレン系化合物、キナクリドン系化合
物、アンサンスロン系化合物、アゾ系化合物等多くの化
合物が提案されている。たとえばアゾ系化合物として
は、特開昭47−37543号公報や同57−1957
67号公報に開示のものが知られている。As the organic photosensitive material, many compounds such as phthalocyanine compounds, perylene compounds, quinacridone compounds, anthanthrone compounds and azo compounds have been proposed. For example, as azo compounds, there are JP-A-47-37543 and JP-A-57-1957.
The one disclosed in Japanese Patent Publication No. 67 is known.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の感光材料は、感光波長領域が狭かったり、感度が低
かったりするという問題があった。また従来の感光材料
は光安定性も充分でなかった。本発明は上記の問題点を
解決するものであり、感光材料として高い感度を有し、
かつ光安定性にもすぐれた新規なアゾ系化合物を提供す
ることを目的とする。However, the above-mentioned conventional photosensitive materials have problems that the photosensitive wavelength region is narrow and the sensitivity is low. Further, the conventional light-sensitive materials also have insufficient light stability. The present invention solves the above problems and has high sensitivity as a photosensitive material,
Another object of the present invention is to provide a novel azo compound having excellent light stability.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段および作用】上記課題を解
決するための、本発明のアゾ系化合物は、一般式(I) :Means and Actions for Solving the Problems To solve the above problems, the azo compound of the present invention has the general formula (I):
【0006】[0006]
【化5】 [Chemical 5]
【0007】[式中A1 ,A2 は同一または異なるカッ
プラー残基を示し、R1 ,R2 ,R3,R4 は同一また
は異なって水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アル
コキシ基またはアリール基を示し、R5 ,R6 は同一ま
たは異なって水素原子、ハロゲン原子、アルキル基また
はアリール基を示す。m,nは0または1を示す。]で
表されることを特徴とする。[Wherein A 1 and A 2 represent the same or different coupler residues, and R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group or an aryl group. represents a group, R 5, R 6 are the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group or an aryl group. m and n represent 0 or 1. ] Is represented.
【0008】本発明者らの検討によれば、上記一般式
(I) で表されるアゾ系化合物は、高感度で、かつ繰返し
使用による表面電位の大幅な低下がない。また、長時間
の露光や高温下での露光に対して、安定的に高感度を維
持することができ、光安定性に優れている。本発明のア
ゾ系化合物がこのような高い感度と光安定性を有する理
由を、本発明者らは以下のように推測している。According to the study by the present inventors, the above general formula
The azo compound represented by (I) has high sensitivity and does not significantly reduce the surface potential due to repeated use. In addition, it is possible to stably maintain high sensitivity for long-time exposure or exposure at high temperature, and it is excellent in light stability. The present inventors presume that the azo compound of the present invention has such high sensitivity and photostability as follows.
【0009】すなわち本発明のアゾ系化合物は、分子内
に導入した4,5,9,10−テトラヒドロピレンの特
異な構造が原因となって、たとえば前記した特開昭47
−37543号に例示の、下記一般式(II):That is, the azo compound of the present invention is caused by, for example, the unique structure of 4,5,9,10-tetrahydropyrene introduced in the molecule, and is described in, for example, the above-mentioned JP-A-47.
No. -37543, the following general formula (II):
【0010】[0010]
【化6】 [Chemical 6]
【0011】[式中、A1 ,A2 は前記と同じカップラ
ー残基を示し、Yは水素原子、メチル基、メトキシ基、
エトキシ基、水酸基、塩素原子または臭素原子を示す]
や、特開昭54−46558号公報に例示の、下記一般
式(III) :[Wherein A 1 and A 2 represent the same coupler residue as described above, Y represents a hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group,
Indicates an ethoxy group, hydroxyl group, chlorine atom or bromine atom]
Alternatively, the following general formula (III) exemplified in JP-A-54-46558:
【0012】[0012]
【化7】 [Chemical 7]
【0013】[式中、A1 ,A2 は前記と同じカップラ
ー残基を示し、Rは水素原子、エチル基、クロロエチル
基またはヒドロキシエチル基を示す]で表される従来の
ビスアゾ系化合物等に比して、光照射時のキャリヤ発生
能にすぐれているからであると推定される。上記一般式
(I) で表される本発明のアゾ系化合物は、基本的に下記
の一般式(Ia)〜(Ic)で表されるアゾ系化合物を含んでい
る。A conventional bisazo compound represented by the formula [wherein A 1 and A 2 represent the same coupler residue as described above and R represents a hydrogen atom, an ethyl group, a chloroethyl group or a hydroxyethyl group] It is presumed that this is because the carrier generation ability during light irradiation is superior. The above general formula
The azo compound of the present invention represented by (I) basically contains an azo compound represented by the following general formulas (Ia) to (Ic).
【0014】[0014]
【化8】 [Chemical 8]
【0015】[式中A1 ,A2 ,R1 ,R2 ,R3 ,R
4 ,R5 ,R6 は前記と同じ基を示す。]前記一般式
(I) および(Ia)〜(Ic)で表される本発明のアゾ系化合物
において、R1 ,R2 ,R3 ,R4 のうちハロゲン原子
としては、たとえば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、
フッ素原子などがあげられる。アルキル基としては、た
とえばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロプル
基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチ
ル基、ヘキシル基等の、炭素数1〜6の低級アルキル基
があげられる。アルコキシ基としては、たとえばメトキ
シ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、
ブトキシ基、イソブトキシ基、tert−ブトキシ基、ペン
チルオキシ基、ヘキシルオキシ基などがあげられる。さ
らにアリール基としては、たとえばフェニル基、トリル
基、キシリル基、ビフェニル基、ナフチル基、アントリ
ル基、フェナントリル基などがあげられる。またR5 ,
R6 のうちアルキル基としては、たとえばメチル基、エ
チル基、プロピル基、イソプロプル基、ブチル基、イソ
ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基な
どがあげられ、アリール基としては、たとえばフェニル
基、ノリル基、キシリル基、ビフェニル基、ナフチル基
などがあげられ、ハロゲン原子としては、たとえば塩素
原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子などがあげら
れる。[Wherein A 1 , A 2 , R 1 , R 2 , R 3 , R
4 , R 5 and R 6 represent the same groups as described above. ] The general formula
In the azo compound of the present invention represented by (I) and (Ia) to (Ic), the halogen atom among R 1 , R 2 , R 3 and R 4 is, for example, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom. ,
Fluorine atom is an example. Examples of the alkyl group include lower alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group and hexyl group. Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group,
Examples thereof include butoxy group, isobutoxy group, tert-butoxy group, pentyloxy group and hexyloxy group. Further, examples of the aryl group include a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, an anthryl group and a phenanthryl group. Also R 5 ,
Examples of the alkyl group of R 6 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, a pentyl group and a hexyl group, and an aryl group includes a phenyl group. Group, noryl group, xylyl group, biphenyl group, naphthyl group and the like. Examples of the halogen atom include chlorine atom, bromine atom, iodine atom and fluorine atom.
【0016】カップラー残基A1 ,A2 としては、下記
一般式(a) 〜(g) で表される基が例示される。カップラ
ー残基A1 ,A2 は、同一であっても、互いに異なって
いてもよい。Examples of the coupler residues A 1 and A 2 include groups represented by the following general formulas (a) to (g). The coupler residues A 1 and A 2 may be the same or different from each other.
【0017】[0017]
【化9】 [Chemical 9]
【0018】各式中R30は、カルバモイル基、スルファ
モイル基、アロファノイル基、オキサモイル基、アント
ラニロイル基、カルバゾイル基、グリシル基、ヒダント
イル基、フタルアモイル基、および、スクシンアモイル
基を表す。これらの基は、ハロゲン原子、置換基を有し
ていてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいナ
フチル基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルケニ
ル基、カルボニル基、カルボキシル基等の置換基を有し
ていてもよい。In each formula, R 30 represents a carbamoyl group, a sulfamoyl group, an allofanoyl group, an oxamoyl group, an anthraniloyl group, a carbazoyl group, a glycyl group, a hydantoyl group, a phthalamoyl group, and a succinamoyl group. These groups include a halogen atom, a phenyl group which may have a substituent, a naphthyl group which may have a substituent, a nitro group, a cyano group, an alkyl group, an alkenyl group, a carbonyl group, a carboxyl group and the like. It may have a substituent.
【0019】R31は、上記R30および水酸基を有するベ
ンゼン環と縮合して芳香族環、多環式炭化水素または複
素環を形成するのに必要な原子団を表し、これらの環は
前記と同様な置換基を有してもよい。R32は、酸素原
子、硫黄原子、または、イミノ基を表す。R33は、2価
の鎖式炭化水素または芳香族炭化水素を表し、これらの
基は前記と同様な置換基を有してもよい。R 31 represents an atomic group necessary for forming an aromatic ring, a polycyclic hydrocarbon or a heterocyclic ring by condensing with R 30 and the benzene ring having a hydroxyl group, and these rings are as described above. You may have the same substituent. R 32 represents an oxygen atom, a sulfur atom or an imino group. R 33 represents a divalent chain hydrocarbon or aromatic hydrocarbon, and these groups may have the same substituents as described above.
【0020】R34は、アルキル基、アラルキル基、アリ
ール基、または、複素環基を表し、これらの基は前記と
同様な置換基を有してもよい。R35は、2価の鎖式炭化
水素、芳香族炭化水素、または、上記一般式(e)(f)中
の、下記式(h)R 34 represents an alkyl group, an aralkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, and these groups may have the same substituents as described above. R 35 is a divalent chain hydrocarbon, an aromatic hydrocarbon, or the following formula (h) in the above general formulas (e) and (f).
【0021】[0021]
【化10】 [Chemical 10]
【0022】で表される部分とともに複素環を形成する
のに必要な原子団を表し、これらの環は前記と同様な置
換基を有してもよい。R36は、水素原子、アルキル基、
アミノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、アロフ
ァノイル基、カルボキシル基、カルボキシル基のエステ
ル、アリール基、または、シアノ基を表し、水素原子以
外の基は前記と同様な置換基を有していてもよい。It represents an atomic group necessary for forming a heterocycle with the moiety represented by, and these rings may have the same substituents as described above. R 36 is a hydrogen atom, an alkyl group,
It represents an amino group, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, an allofanoyl group, a carboxyl group, an ester of a carboxyl group, an aryl group, or a cyano group, and groups other than a hydrogen atom may have the same substituents as described above.
【0023】R37は、アルキル基またはアリール基を表
し、これらの基は前記と同様な置換基を有してもよい。
アルキル基としては、たとえばメチル基、エチル基、プ
ロピル基、イソプロプル基、ブチル基、イソブチル基、
tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の、炭素数
1〜6の低級アルキル基があげられる。R 37 represents an alkyl group or an aryl group, and these groups may have the same substituents as described above.
As the alkyl group, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group,
Examples thereof include lower alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms such as tert-butyl group, pentyl group and hexyl group.
【0024】アリール基としては、たとえばフェニル
基、トリル基、キシリル基、ビフェニル基、ナフチル
基、アントリル基、フェナントリル基などがあげられ
る。アルケニル基としては、たとえばビニル基、アリル
基、2−ブテニル基、3−ブテニル基、1−メチルアリ
ル基、2−ペンテニル基、2−ヘキセニル基等の、炭素
数2〜6の低級アルケニル基があげられる。Examples of the aryl group include phenyl group, tolyl group, xylyl group, biphenyl group, naphthyl group, anthryl group and phenanthryl group. Examples of the alkenyl group include lower alkenyl groups having 2 to 6 carbon atoms such as vinyl group, allyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, 1-methylallyl group, 2-pentenyl group and 2-hexenyl group. To be
【0025】ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子、フッ素原子があげられる。前記R31に
おいて、R30および水酸基を有するベンゼン環と縮合し
て芳香族環を形成するのに必要な原子団としては、たと
えばメチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン
基等のアルキレン基があげられる。Examples of the halogen atom include chlorine atom, bromine atom, iodine atom and fluorine atom. In R 31 , the atomic group necessary for forming an aromatic ring by condensing with R 30 and a benzene ring having a hydroxyl group includes, for example, an alkylene group such as a methylene group, an ethylene group, a propylene group and a butylene group. To be
【0026】上記R31と、R30および水酸基を有するベ
ンゼン環との縮合により形成される芳香族環としては、
たとえばナフタリン環、アントラセン環、フェナントレ
ン環、ピレン環、クリセン環、ナフタセン環などがあげ
られる。前記R31において、R30および水酸基を有する
ベンゼン環と縮合して多環式炭化水素を形成するのに必
要な原子団としては、たとえばメチレン基、エチレン
基、プロピレン基、ブチレン基等の、炭素数1〜4のア
ルキレン基があげられる。The aromatic ring formed by the condensation of R 31 with R 30 and a benzene ring having a hydroxyl group is
Examples thereof include naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, pyrene ring, chrysene ring and naphthacene ring. In R 31 , the atomic group necessary for condensing with R 30 and a benzene ring having a hydroxyl group to form a polycyclic hydrocarbon is, for example, a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a butylene group, or a carbon atom. Examples include alkylene groups of the numbers 1 to 4.
【0027】上記R31と、R30および水酸基を有するベ
ンゼン環との縮合により形成される多環式炭化水素とし
ては、たとえばカルバゾール環、ベンゾカルバゾール
環、ジベンゾフラン環などがあげられる。また、R31に
おいて、R30および水酸基を有するベンゼン環と縮合し
て複素環を形成するのに必要な原子団としては、たとえ
ばベンゾフラニル基、ベンゾチオフェニル基、インドリ
ル基、1H−インドリル基、ベゾオキサゾリル基、ベン
ゾチアゾリル基、1H−インダドリル基、ベンゾイミダ
ゾリル基、クロメニル基、クロマニル基、イソクロマニ
ル基、キノリニル基、イソキノリニル基、シンノリニル
基、フタラジニル基、キナゾニリル基、キノキサリニル
基、ジベンゾフラニル基、カルバゾリル基、キサンテニ
ル基、アクリジニル基、フェナントリジニル基、フェナ
ジニル基、フェノキサジニル基、チアントレニル基など
があげられる。Examples of the polycyclic hydrocarbon formed by condensing R 31 with R 30 and a benzene ring having a hydroxyl group include a carbazole ring, a benzocarbazole ring and a dibenzofuran ring. Further, in R 31 , an atomic group necessary for forming a heterocycle by condensing with R 30 and a benzene ring having a hydroxyl group is, for example, a benzofuranyl group, a benzothiophenyl group, an indolyl group, a 1H-indolyl group, bezoxazolyl. Group, benzothiazolyl group, 1H-indaryl group, benzimidazolyl group, chromenyl group, chromanyl group, isochromanyl group, quinolinyl group, isoquinolinyl group, cinnolinyl group, phthalazinyl group, quinazonilyl group, quinoxalinyl group, dibenzofuranyl group, carbazolyl group, xanthenyl group , Acridinyl group, phenanthridinyl group, phenazinyl group, phenoxazinyl group, thianthrenyl group and the like.
【0028】上記R31と、R30および水酸基を有するベ
ンゼン環との縮合により形成される芳香族性複素環基と
しては、たとえばチエニル基、フリル基、ピロリル基、
オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、
イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ト
リアゾリル基、テトラゾリル基、ピリジル基、チアゾリ
ル基があげられる。また、さらに他の芳香族環と縮合し
た複素環基(たとえばベンゾフラニル基、ベンゾイミダ
ゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル
基、キノリル基など)であってもよい。Examples of the aromatic heterocyclic group formed by condensation of R 31 with R 30 and a benzene ring having a hydroxyl group include, for example, thienyl group, furyl group, pyrrolyl group,
Oxazolyl group, isoxazolyl group, thiazolyl group,
Examples thereof include isothiazolyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, triazolyl group, tetrazolyl group, pyridyl group and thiazolyl group. Further, it may be a heterocyclic group condensed with another aromatic ring (for example, a benzofuranyl group, a benzimidazolyl group, a benzoxazolyl group, a benzothiazolyl group, a quinolyl group, etc.).
【0029】前記R33,R35において、2価の鎖式炭化
水素としては、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基
などがあげられ、2価の芳香族炭化水素としては、フェ
ニレン基、ナフチレン基、フェナントリレン基などがあ
げられる。前記R34において、複素環基としては、ピリ
ジル基、ピラジル基、チエニル基、ピラニル基、インド
リル基などがあげられる。In R 33 and R 35 , examples of the divalent chain hydrocarbon include ethylene group, propylene group and butylene group, and examples of the divalent aromatic hydrocarbon include phenylene group, naphthylene group, Examples thereof include phenanthrylene group. Examples of the heterocyclic group represented by R 34 include a pyridyl group, a pyrazyl group, a thienyl group, a pyranyl group and an indolyl group.
【0030】前記R35において、前記式(h) で表される
部分とともに複素環を形成するのに必要な原子団として
は、たとえばフェニレン基、ナフチレン基、フェナント
リレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基など
があげられる。上記R35と、前記式(h) で表される部分
とにより形成される芳香族性複素環基としては、たとえ
ばベンゾイミダゾール基、ベンゾ[f]ベンゾイミダゾ
ール基、ジベンゾ[e,g]ベンゾイミダゾール基、ベ
ンゾピリミジン基などがあげられる。これらの基は前記
と同様な置換基を有してもよい。In R 35 , the atomic group necessary for forming a heterocycle with the moiety represented by the formula (h) is, for example, phenylene group, naphthylene group, phenanthrylene group, ethylene group, propylene group or butylene. Examples include groups. Examples of the aromatic heterocyclic group formed by R 35 and the moiety represented by the formula (h) include, for example, benzimidazole group, benzo [f] benzimidazole group, dibenzo [e, g] benzimidazole group. Group, benzopyrimidine group and the like. These groups may have the same substituents as described above.
【0031】前記R36において、カルボキシル基のエス
テルとしては、メチルエステル、エチルエステル、プロ
ピルエステル、ブチルエステルなどがあげられる。上記
一般式(a) 〜(g) で表わされるカップラー残基Aの具体
例としては、以下のような基があげられる。Examples of the carboxyl group ester in R 36 include methyl ester, ethyl ester, propyl ester and butyl ester. Specific examples of the coupler residue A represented by the general formulas (a) to (g) include the following groups.
【0032】[0032]
【化11】 [Chemical 11]
【0033】[0033]
【化12】 [Chemical 12]
【0034】[0034]
【化13】 [Chemical 13]
【0035】[0035]
【化14】 [Chemical 14]
【0036】前記一般式(I) で表される本発明のアゾ系
化合物は、種々の方法で合成することができる。たとえ
ば、前記一般式(Ia)で表されるアゾ系化合物を例に取る
と、まず、下記反応工程式に示すように、1,2−ジフ
ェニルエタン(1) をクロロメチル化して1,2−ビス
(3−クロロメチルフェニル)エタン(2) を得、これを
ヨウ化ナトリウム(NaI)と反応させて1,2−ビス
(3−ヨードメチルフェニル)エタン(3) を作製する。
そして、この1,2−ビス(3−ヨードメチルフェニ
ル)エタン(3) を金属ナトリウムと反応させて閉環し、
下記一般式(4) で表される(2,2)メタシクロファン
を作製する。The azo compound of the present invention represented by the general formula (I) can be synthesized by various methods. For example, taking the azo compound represented by the general formula (Ia) as an example, first, as shown in the following reaction process formula, 1,2-diphenylethane (1) is chloromethylated to give 1,2-diphenylethane. Bis (3-chloromethylphenyl) ethane (2) is obtained and reacted with sodium iodide (NaI) to produce 1,2-bis (3-iodomethylphenyl) ethane (3).
Then, the 1,2-bis (3-iodomethylphenyl) ethane (3) is reacted with sodium metal to ring-close,
A (2,2) metacyclophane represented by the following general formula (4) is produced.
【0037】[0037]
【化15】 [Chemical 15]
【0038】つぎに、上記(2,2)メタシクロファン
(4) を鉄粉の存在下で臭素と反応させると、一般式(5)
中のR1 ,R2 ,R3 ,R4 が何れも臭素原子である
4,5,9,10−テトラヒドロピレン系化合物が得ら
れる。R1 ,R2 ,R3 ,R4が臭素原子以外の置換基
であるテトラヒドロピレン系化合物を得るには、上記反
応後、常法により臭素原子を置換すればよい。Next, the above (2,2) metacyclophane
When (4) is reacted with bromine in the presence of iron powder, the general formula (5)
A 4,5,9,10-tetrahydropyrene compound in which R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are bromine atoms can be obtained. To obtain a tetrahydropyrene compound in which R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are substituents other than a bromine atom, the bromine atom may be substituted by a conventional method after the above reaction.
【0039】つぎに、上記4,5,9,10−テトラヒ
ドロピレン系化合物(5) を常法によりニトロ化して、下
記一般式(6) で表される2,7−ジニトロ−4,5,
9,10−テトラヒドロピレン系化合物を得、これを常
法により還元して2,7−ジアミノ−4,5,9,10
−テトラヒドロピレン系化合物(一般式(7) )を作製す
る。そしてこの2,7−ジアミノ−4,5,9,10−
テトラヒドロピレン系化合物(7) の2つのアミノ基をそ
れぞれジアゾ化してテトラゾニウム塩とし、これを所定
のカップラーと有機溶媒中でカップリングさせると、前
記一般式(Ia)で表されるアゾ系化合物が製造される。ジ
アゾ化は、2,7−ジアミノ−4,5,9,10−テト
ラヒドロピレン系化合物(7) の酸性水溶液を攪拌しなが
ら、亜硝酸ナトリウムまたは亜硝酸を低温下(通常、−
10〜10℃)で滴下して行われる。Next, the 4,5,9,10-tetrahydropyrene compound (5) is nitrated by a conventional method to give 2,7-dinitro-4,5,5 represented by the following general formula (6).
A 9,10-tetrahydropyrene compound was obtained and reduced by a conventional method to give 2,7-diamino-4,5,9,10.
-A tetrahydropyrene compound (general formula (7)) is prepared. And this 2,7-diamino-4,5,9,10-
The two amino groups of the tetrahydropyrene compound (7) are each diazotized to form a tetrazonium salt, which is coupled with a predetermined coupler in an organic solvent to give an azo compound represented by the general formula (Ia). Manufactured. The diazotization is carried out by stirring sodium nitrite or nitrous acid at a low temperature (usually-) while stirring an acidic aqueous solution of 2,7-diamino-4,5,9,10-tetrahydropyrene compound (7).
It is performed by dropping at 10 to 10 ° C.
【0040】[0040]
【化16】 [Chemical 16]
【0041】[上記各反応工程式中のA1 ,A2 ,
R1 ,R2 ,R3 ,R4 は前記と同じ基を示す。]上記
本発明のアゾ系化合物は、前述した電子写真感光体にお
ける電荷発生材料の他、種々の感光材料や顔料、太陽電
池等、種々の分野での利用が可能である。[A 1 , A 2 in the above reaction process formulas,
R 1 , R 2 , R 3 and R 4 represent the same groups as described above. The above-described azo compound of the present invention can be used in various fields such as various light-sensitive materials and pigments, solar cells, and the like in addition to the charge generating material in the electrophotographic photoreceptor described above.
【0042】[0042]
【実施例】以下に、実施例、比較例にもとづいて、本発
明を説明する。実施例1 前記式(1) で表される1,2−ジフェニルエタン11.
3g(0.062モル)を、5.6gのパラフォルムア
ルデヒド、125mlの酢酸、50mlのリン酸および20
0mlの濃塩酸(36%)とともに、強攪拌下、80〜9
0℃の温度で約14時間反応させた後、室温まで冷却し
た。EXAMPLES The present invention will be described below based on Examples and Comparative Examples. Example 1 1,2-diphenylethane represented by the above formula (1) 11.
3 g (0.062 mol) of 5.6 g paraformaldehyde, 125 ml acetic acid, 50 ml phosphoric acid and 20 g
80-9 with strong stirring with 0 ml concentrated hydrochloric acid (36%)
After reacting for about 14 hours at a temperature of 0 ° C., it was cooled to room temperature.
【0043】つぎに、この反応液をベンゼンにより抽出
した後、水および10%炭酸カリウム水溶液でこの順に
洗浄し、さらに硫酸ナトリウムを用いて脱水した。そし
てこの反応液を少量のヘキサンで再結晶させた後、エバ
ポレータを用いて液体成分を除去して、前記式(2) で表
される1,2−ビス(3−クロロメチルフェニル)エタ
ン10.9g(収率63%)を得た。Next, this reaction solution was extracted with benzene, washed with water and a 10% potassium carbonate aqueous solution in this order, and then dehydrated with sodium sulfate. Then, the reaction solution was recrystallized with a small amount of hexane, the liquid component was removed using an evaporator, and 1,2-bis (3-chloromethylphenyl) ethane represented by the above formula (2) was used. 9 g (yield 63%) was obtained.
【0044】つぎに、上記1,2−ビス(3−クロロメ
チルフェニル)エタン14.8g(0.08モル)を1
00mlのアセトン中に溶解して溶液を作製し、この溶液
に、還流下、8.4gのヨウ化ナトリウム(NaI)を徐
徐に滴下した後、約2時間反応させた。つぎにこの反応
液を100mlの熱水で洗浄した後、乾燥させて、前記式
(3) で表される1,2−ビス(3−ヨードメチルフェニ
ル)エタン20.8g(収率85%)を得た。Next, 14.8 g (0.08 mol) of the above 1,2-bis (3-chloromethylphenyl) ethane was added to 1 part.
A solution was prepared by dissolving it in 00 ml of acetone, and 8.4 g of sodium iodide (NaI) was gradually added dropwise to the solution under reflux, and then the reaction was carried out for about 2 hours. Next, this reaction solution was washed with 100 ml of hot water and then dried to obtain the above formula.
20.8 g (yield 85%) of 1,2-bis (3-iodomethylphenyl) ethane represented by (3) was obtained.
【0045】つぎに、9gの金属ナトリウムを、テトラ
フェニルエチレン800mlとテトラヒドロフラン100
mlの混合溶媒中に懸濁させた懸濁液を作製し、この懸濁
液の液温を−80℃に保持しつつ、窒素置換下で、上記
1,2−ビス(3−ヨードメチルフェニル)エタン1
1.6g(0.025モル)を500mlのテトラヒドロ
フランに溶解した溶液を滴下し、滴下終了後36時間反
応させた。反応終了後、反応液にエタノールを加えて液
中の未反応金属ナトリウムを反応させ、ついで、ジクロ
ロメタン500mlを加えた。Next, 9 g of metallic sodium was added to 800 ml of tetraphenylethylene and 100 ml of tetrahydrofuran.
A suspension was prepared by suspending it in a mixed solvent (ml) and maintaining the liquid temperature of the suspension at −80 ° C., while substituting nitrogen, the 1,2-bis (3-iodomethylphenyl) was prepared. ) Ethane 1
A solution prepared by dissolving 1.6 g (0.025 mol) in 500 ml of tetrahydrofuran was added dropwise, and the reaction was performed for 36 hours after the completion of the addition. After completion of the reaction, ethanol was added to the reaction solution to react unreacted metallic sodium in the solution, and then 500 ml of dichloromethane was added.
【0046】そして固形分をろ別した後、分液ロートを
用いてろ過液を希塩酸により洗浄し、さらに、ベンゼン
とヘキサンの1:1混合溶媒を用いて、カラムクロマト
グラフィーにより分別して、目的生成物である、前記式
(4) で表される(2,2)メタシクロファン1.67g
(収率32%)を得た。つぎにこの(2,2)メタシク
ロファン8.77g(0.042モル)を50mlの四塩
化炭素に溶解して溶液を作製し、この溶液に50mgの鉄
粉を分散させた後、15〜25℃の温度条件下、0.0
025モルの臭素を含む10mlの四塩化炭素溶液を滴下
し、滴下終了後、約9時間攪拌して反応させて、下記式
(5a)で表される1,3,6,8−テトラブロモ−4,
5,9,10−テトラヒドロピレン7.01g(収率3
2%)を得た。After the solid content is separated by filtration, the filtrate is washed with dilute hydrochloric acid using a separating funnel and further separated by column chromatography using a 1: 1 mixed solvent of benzene and hexane to obtain the desired product. The above formula
1.67 g of (2,2) metacyclophane represented by (4)
(Yield 32%) was obtained. Next, 8.77 g (0.042 mol) of this (2,2) metacyclophane was dissolved in 50 ml of carbon tetrachloride to prepare a solution, and 50 mg of iron powder was dispersed in this solution, and then 15 to 15 0.0 under the temperature condition of 25 ° C
10 ml of carbon tetrachloride solution containing 025 mol of bromine was added dropwise, and after completion of the addition, the mixture was stirred for about 9 hours to react, and the following formula
1,3,6,8-tetrabromo-4 represented by (5a),
7.01 g of 5,9,10-tetrahydropyrene (yield 3
2%) was obtained.
【0047】[0047]
【化17】 [Chemical 17]
【0048】上記3,6,8,11−テトラブロモ−
4,5,9,10−テトラヒドロピレン18gを、硝酸
銅(CuNO3 )の60%無水酢酸溶液200ccに加え、
15〜25℃の温度で2時間攪拌して反応生成物を得
た。この反応生成物を分析したところ、目的物である
2,7−ジニトロ−1,3,6,8−テトラブロモ−
4,5,9,10−テトラヒドロピレンを含む2種の化
合物の混合物であることがわかったので、カラムクロマ
トグラフィーにより分別して、下記式(6a)で表される
2,7−ジニトロ−1,3,6,8−テトラブロモ−
4,5,9,10−テトラヒドロピレン6.3g(収率
29%)を得た。The above 3,6,8,11-tetrabromo-
18 g of 4,5,9,10-tetrahydropyrene was added to 200 cc of a 60% acetic anhydride solution of copper nitrate (CuNO 3 ),
The reaction product was obtained by stirring at a temperature of 15 to 25 ° C. for 2 hours. Analysis of this reaction product revealed that the desired product was 2,7-dinitro-1,3,6,8-tetrabromo-
Since it was found to be a mixture of two kinds of compounds containing 4,5,9,10-tetrahydropyrene, it was fractionated by column chromatography to obtain 2,7-dinitro-1, represented by the following formula (6a): 3,6,8-Tetrabromo-
6.3 g (yield 29%) of 4,5,9,10-tetrahydropyrene was obtained.
【0049】[0049]
【化18】 [Chemical 18]
【0050】つぎに、0.49g(0.013モル)の
水素化アルミニウムリチウム(Li Al H4 )を60mlの
テトラヒドロフランに溶解した溶液を2000ccのフラ
スコ中に収容し、この溶液に、上記2,7−ジニトロ−
1,3,6,8−テトラブロモ−4,5,9,10−テ
トラヒドロピレン9.8g(0.016モル)を50ml
のテトラヒドロフランに溶解した溶液を、還流下で滴下
した。Next, a solution prepared by dissolving 0.49 g (0.013 mol) of lithium aluminum hydride (Li Al H 4 ) in 60 ml of tetrahydrofuran was placed in a 2000 cc flask, and this solution was charged with the above-mentioned 2, 2. 7-dinitro-
50 ml of 9.8 g (0.016 mol) of 1,3,6,8-tetrabromo-4,5,9,10-tetrahydropyrene
Was dissolved in tetrahydrofuran and added dropwise under reflux.
【0051】滴下終了後、フラスコを氷水で冷却しなが
ら十分量の水を加えて過剰の水素化アルミニウムリチウ
ムを分解し、さらに酒石酸カリウムナトリウムの20%
水溶液を加えた後、水溶液層を30ccのエーテルで数回
抽出した。そして、硫酸ナトリウムを投入し乾燥して、
目的物である下記式(7a)で表される2,7−ジアミノ−
1,3,6,8−テトラブロモ−4,5,9,10−テ
トラヒドロピレン6.1gを得た。After completion of the dropping, while cooling the flask with ice water, a sufficient amount of water was added to decompose excess lithium aluminum hydride, and 20% of potassium sodium tartrate was added.
After adding the aqueous solution, the aqueous layer was extracted several times with 30 cc of ether. Then, add sodium sulfate and dry,
The target compound, 2,7-diamino-, represented by the following formula (7a)
6.1 g of 1,3,6,8-tetrabromo-4,5,9,10-tetrahydropyrene was obtained.
【0052】[0052]
【化19】 [Chemical 19]
【0053】上記2,7−ジアミノ−1,3,6,8−
テトラブロモ−4,5,9,10−テトラヒドロピレン
5.52g(0.01モル)と10%塩酸30mlとを1
00ccのフラスコ中に入れ、フラスコを氷浴で冷却して
液温を−3〜5℃に維持しつつ攪拌しながら、亜硝酸ナ
トリウム(NaNO3 )1.38gを水3mlに溶解した溶
液を10分間かけて滴下し、その後さらに30分間攪拌
してテトラゾ化反応を行った。そして、この反応液に活
性炭を加えて余剰の成分を除去した後、活性炭をろ別し
た。The above 2,7-diamino-1,3,6,8-
Tetrabromo-4,5,9,10-tetrahydropyrene (5.52 g, 0.01 mol) and 10% hydrochloric acid (30 ml) were added to 1 part.
Into a 00 cc flask, the flask was cooled in an ice bath and the liquid temperature was maintained at -3 to 5 ° C while stirring, while stirring 1.38 g of sodium nitrite (NaNO 3 ) in 3 ml of water to prepare a solution of 10 The solution was added dropwise over a period of 30 minutes and then stirred for 30 minutes to carry out a tetrazotization reaction. Then, activated carbon was added to this reaction solution to remove excess components, and then the activated carbon was filtered off.
【0054】次に、500mlのビーカー中に6%水酸化
ナトリウム水溶液150mlを入れ、この溶液に、前記式
(A1)で表されるカップラー残基を有するカップラー6.
3g(0.024モル)を溶解した後、液温を5〜15
℃に維持しながら、先の反応液を20分間かけて滴下
し、その後、室温でさらに5時間攪拌した。そして、こ
の反応液を一昼夜放置した後、固形分をろ別し、水およ
びジメチルホルムアミドでこの順に洗浄し、乾燥して、
下記式で表されるビスアゾ系化合物4.2g(収率3
8.2%)を得た。Next, 150 ml of a 6% aqueous sodium hydroxide solution was placed in a 500 ml beaker, and the above-mentioned formula was added to this solution.
5. A coupler having a coupler residue represented by (A1).
After dissolving 3 g (0.024 mol), the liquid temperature was adjusted to 5 to 15
The above reaction solution was added dropwise over 20 minutes while maintaining the temperature at 0 ° C., and then the mixture was stirred at room temperature for another 5 hours. Then, after leaving this reaction solution for a whole day and night, the solid content is filtered off, washed with water and dimethylformamide in this order, and dried,
4.2 g of a bisazo compound represented by the following formula (yield 3
8.2%) was obtained.
【0055】[0055]
【化20】 [Chemical 20]
【0056】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 計算値(%) C:36.02 H:1.92 N:6.36 実測値(%) C:35.98 H:1.93 N:6.40 質量分析結果 m/e=1099.98 (計算値1100.43)実施例2 前記式(A2)で表されるカップラー残基を有するカップラ
ー7.15g(0.024モル)を用いたこと以外は、
上記実施例1と同様にしてビスアゾ系化合物5.03g
(収率43%)を合成した。The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Elemental analysis results Calculated value (%) C: 36.02 H: 1.92 N: 6.36 Measured value (%) C: 35.98 H: 1.93 N: 6.40 Mass spectrometry result m / e = 1099.98 (calculated value 1100.43) Example 2 Except that 7.15 g (0.024 mol) of the coupler having the coupler residue represented by the formula (A2) was used.
5.03 g of a bisazo compound in the same manner as in Example 1 above.
(Yield 43%) was synthesized.
【0057】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 計算値(%): C:51.36 H:2.586 N:7.187 実測値(%): C:51.4 H:2.61 N:7.09 質量分析結果 m/e=1170 (計算値1169.3)実施例3 前記式(A3)で表されるカップラー残基を有するカップラ
ー8.18g(0.024モル)を用いたこと以外は、
上記実施例1と同様にしてビスアゾ系化合物4.89g
(収率39%)を合成した。The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Elemental analysis result Calculated value (%): C: 51.36 H: 2.586 N: 7.187 Measured value (%): C: 51.4 H: 2.61 N: 7.09 Mass spectrometry result m / e = 1170 (calculated value 1169.3) Example 3 except that 8.18 g (0.024 mol) of the coupler having the coupler residue represented by the formula (A3) was used.
4.89 g of the bisazo compound in the same manner as in Example 1 above
(Yield 39%) was synthesized.
【0058】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 計算値(%): C:49.75 H:2.569 N:8.926 実測値(%): C:49.81 H:2.63 N:8.81 質量分析結果 m/e=1255 (計算値1255.4)実施例4 前記式(A4)で表されるカップラー残基を有するカップラ
ー7.16g(0.024モル)を用いたこと以外は、
上記実施例1と同様にしてビスアゾ系化合物5.39g
(収率46%)を合成した。The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Elemental analysis result Calculated value (%): C: 49.75 H: 2.569 N: 8.926 Measured value (%): C: 49.81 H: 2.63 N: 8.81 Mass spectrometry result m / e = 1255 (calculated value 1255.4) Example 4 Except that 7.16 g (0.024 mol) of the coupler having the coupler residue represented by the formula (A4) was used.
5.39 g of a bisazo compound in the same manner as in Example 1 above
(Yield 46%) was synthesized.
【0059】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 計算値(%): C:49.17 H:2.751 N:7.167 実測値(%): C:49.21 H:2.76 N:7.21 質量分析結果 m/e=1171 (計算値1172.6)実施例5 前記式(A8)で表されるカップラー残基を有するカップラ
ー8.07g(0.024モル)を用いたこと以外は、
前記実施例1と同様にしてビスアゾ系化合物5.34g
(収率41%)を合成した。The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Elemental analysis result Calculated value (%): C: 49.17 H: 2.751 N: 7.167 Measured value (%): C: 49.21 H: 2.76 N: 7.21 Mass spectrometry result m / e = 1171 (calculated value 1172.6) Example 5 Except that 8.07 g (0.024 mol) of the coupler having the coupler residue represented by the formula (A8) was used.
5.34 g of a bisazo compound in the same manner as in Example 1.
(Yield 41%) was synthesized.
【0060】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 計算値(%): C:58.83 H:3.240 N:8.575 実測値(%): C:58.81 H:3.31 N:8.49 質量分析結果 m/e=1304 (計算値1306.7)実施例6 前記式(A9)で表されるカップラー残基を有するカップラ
ー7.07g(0.024モル)を用いたこと以外は、
前記実施例1と同様にしてビスアゾ系化合物5.23g
(収率45%)を合成した。The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Elemental analysis result Calculated value (%): C: 58.83 H: 3.240 N: 8.575 Measured value (%): C: 58.81 H: 3.31 N: 8.49 Mass spectrometry result m / e = 1304 (calculated value 1306.7) Example 6 Except that 7.07 g (0.024 mol) of the coupler having the coupler residue represented by the formula (A9) was used.
5.23 g of the bisazo compound in the same manner as in Example 1
(Yield 45%) was synthesized.
【0061】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 計算値(%): C:51.62 H:2.426 N:9.632 実測値(%): C:51.58 H:2.41 N:9.62 質量分析結果 m/e=1162 (計算値1163.3)実施例7 前記式(A11) で表されるカップラー残基を有するカップ
ラー7.86g(0.024モル)を用いたこと以外
は、前記実施例1と同様にしてビスアゾ系化合物5.6
5g(収率46%)を合成した。The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Elemental analysis result Calculated value (%): C: 51.62 H: 2.426 N: 9.632 Measured value (%): C: 51.58 H: 2.41 N: 9.62 Mass spectrometry result m / e = 1162 (calculated value 1163.3) Example 7 Same as Example 1 except that 7.86 g (0.024 mol) of the coupler having the coupler residue represented by the formula (A11) was used. Bisazo compound 5.6
5 g (yield 46%) was synthesized.
【0062】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 計算値(%): C:56.70 H:2.625 N:6.840 実測値(%): C:56.01 H:2.58 N:6.81 質量分析結果 m/e=1229 (計算値1228.7)実施例8 前記式(A12) で表されるカップラー残基を有するカップ
ラー8.39g(0.024モル)を用いたこと以外
は、前記実施例1と同様にしてビスアゾ系化合物6.4
9g(収率51%)を合成した。The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Elemental analysis result Calculated value (%): C: 56.70 H: 2.625 N: 6.840 Measured value (%): C: 56.01 H: 2.58 N: 6.81 Mass spectrometry result m / e = 1229 (calculated value 1228.7) Example 8 Same as Example 1 except that 8.39 g (0.024 mol) of the coupler having the coupler residue represented by the formula (A12) was used. Bisazo compound 6.4
9 g (yield 51%) was synthesized.
【0063】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 計算値(%): C:58.51 H:2.851 N:11.01 実測値(%): C:57.99 H:2.96 N:11.25 質量分析結果 m/e=1273 (計算値1272.6)実施例9 前記式(A13) で表されるカップラー残基を有するカップ
ラー5.45g(0.024モル)を用いたこと以外
は、前記実施例1と同様にしてビスアゾ系化合物4.0
0g(収率39%)を合成した。The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Elemental analysis result Calculated value (%): C: 58.51 H: 2.851 N: 11.01 Actual value (%): C: 57.99 H: 2.96 N: 11.25 Mass spectrometry result m / e = 1273 (calculated value 1272.6) Example 9 Same as Example 1 except that 5.45 g (0.024 mol) of the coupler having the coupler residue represented by the formula (A13) was used. And bisazo compound 4.0
0 g (yield 39%) was synthesized.
【0064】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 計算値(%): C:49.06 H:2.352 N:8.173 実測値(%): C:48.95 H:2.21 N:8.18 質量分析結果 m/e=1028 (計算値1028.3)実施例10 前記式(A14) で表されるカップラー残基を有するカップ
ラー6.94g(0.024モル)を用いたこと以外
は、前記実施例1と同様にしてビスアゾ系化合物4.9
5g(収率43%)を合成した。The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Elemental analysis result Calculated value (%): C: 49.06 H: 2.352 N: 8.173 Measured value (%): C: 48.95 H: 2.21 N: 8.18 Mass analysis result m / e = 1028 (calculated value 1028.3) Example 10 Same as Example 1 except that 6.94 g (0.024 mol) of the coupler having the coupler residue represented by the formula (A14) was used. And bisazo compound 4.9
5 g (yield 43%) was synthesized.
【0065】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 計算値(%): C:54.20 H:2.449 N:7.292 実測値(%): C:54.15 H:2.44 N:7.31 質量分析結果 m/e=1153 (計算値1152.4)実施例11 前記式(A19) で表されるカップラー残基を有するカップ
ラー6.87g(0.024モル)を用いたこと以外
は、前記実施例1と同様にしてビスアゾ系化合物4.8
1g(収率42%)を合成した。The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Elemental analysis result Calculated value (%): C: 54.20 H: 2.449 N: 7.292 Actual value (%): C: 54.15 H: 2.44 N: 7.31 Mass spectrometry result m / e = 1153 (calculated value 1152.4) Example 11 Same as Example 1 except that 6.87 g (0.024 mol) of the coupler having the coupler residue represented by the formula (A19) was used. And bisazo compound 4.8
1 g (yield 42%) was synthesized.
【0066】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 計算値(%): C:54.48 H:2.286 N:9.774 実測値(%): C:54.41 H:2.21 N:9.79 質量分析結果 m/e=1146 (計算値1146.4)実施例12 前記式(1a)で表される1,2−ジフェニルエタンに代え
て、下記式(1b)で表される1−フェニル−2−(m−ビ
フェニリル)エタン16.0g(0.062モル)を出
発原料として使用したこと以外は、前記実施例1と同様
にして、下記式(7b)で表される2−アミノ−7−(p−
アミノフェニル)−1,3,6,8−テトラブロモ−
4,5,9,10−テトラヒドロピレン8.9gを得
た。The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Elemental analysis result Calculated value (%): C: 54.48 H: 2.286 N: 9.774 Measured value (%): C: 54.41 H: 2.21 N: 9.79 Mass spectrometry result m / e = 1146 (calculated value 1146.4) Example 12 1-phenyl-2- (m- represented by the following formula (1b) in place of 1,2-diphenylethane represented by the above formula (1a) 2-Amino-7- (p- represented by the following formula (7b) was obtained in the same manner as in Example 1 except that 16.0 g (0.062 mol) of biphenylyl) ethane was used as a starting material.
Aminophenyl) -1,3,6,8-tetrabromo-
8.9 g of 4,5,9,10-tetrahydropyrene was obtained.
【0067】[0067]
【化21】 [Chemical 21]
【0068】そして、この2−アミノ−7−(p−アミ
ノフェニル)−1,3,6,8−テトラブロモ−4,
5,9,10−テトラヒドロピレン6.28g(0.0
1モル)と、前記式(A2)で表されるカップラー残基を有
するカップラー7.15g(0.024モル)とを用い
て、実施例1と同様にしてビスアゾ系化合物4.36g
(収率35%)を合成した。The 2-amino-7- (p-aminophenyl) -1,3,6,8-tetrabromo-4,
5,9,10-tetrahydropyrene 6.28 g (0.0
1 mol) and 7.15 g (0.024 mol) of a coupler having a coupler residue represented by the above formula (A2) were used in the same manner as in Example 1 to prepare 4.36 g of the bisazo compound.
(Yield 35%) was synthesized.
【0069】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 計算値(%): C:54.01 H:2.752 N:6.748 実測値(%): C:54.09 H:2.78 N:6.81 質量分析結果 m/e=1246 (計算値1245.4)実施例13 前記式(1a)で表される1,2−ジフェニルエタンに代え
て、下記式(1c)で表される1,2−ビス(m−ビフェニ
リル)エタン20.7g(0.062モル)を出発原料
として使用したこと以外は、前記実施例1と同様にし
て、下記式(7c)で表される2,7−ビス(p−アミノフ
ェニル)−1,3,6,8−テトラブロモ−4,5,
9,10−テトラヒドロピレン9.3gを得た。The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Elemental analysis result Calculated value (%): C: 54.01 H: 2.752 N: 6.748 Measured value (%): C: 54.09 H: 2.78 N: 6.81 Mass spectrometry result m / e = 1246 (calculated value 1245.4) Example 13 1,2-bis (m-biphenylyl) represented by the following formula (1c) in place of 1,2-diphenylethane represented by the above formula (1a) ) 2,7-bis (p-aminophenyl) represented by the following formula (7c) in the same manner as in Example 1 except that 20.7 g (0.062 mol) of ethane was used as a starting material. -1,3,6,8-Tetrabromo-4,5,5
9.3 g of 9,10-tetrahydropyrene was obtained.
【0070】[0070]
【化22】 [Chemical formula 22]
【0071】そして、この2,7−ビス(p−アミノフ
ェニル)−1,3,6,8−テトラブロモ−4,5,
9,10−テトラヒドロピレン7.04g(0.01モ
ル)と、前記式(A2)で表されるカップラー残基を有する
カップラー7.15g(0.024モル)とを用いて、
実施例1と同様にしてビスアゾ系化合物4.49g(収
率34%)を合成した。The 2,7-bis (p-aminophenyl) -1,3,6,8-tetrabromo-4,5,5
Using 7.04 g (0.01 mol) of 9,10-tetrahydropyrene and 7.15 g (0.024 mol) of a coupler having a coupler residue represented by the formula (A2),
In the same manner as in Example 1, 4.49 g (yield 34%) of a bisazo compound was synthesized.
【0072】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 計算値(%): C:56.35 H:2.898 N:6.359 実測値(%): C:57.42 H:2.91 N:6.41 質量分析結果 m/e=1322 (計算値1321.5)比較例1 下記式:The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Elemental analysis results Calculated value (%): C: 56.35 H: 2.898 N: 6.359 Measured value (%): C: 57.42 H: 2.91 N: 6.41 Mass spectrometry result m / e = 1322 (calculated value 1321.5) Comparative Example 1 The following formula:
【0073】[0073]
【化23】 [Chemical formula 23]
【0074】で表されるクロロジアンブルーを比較例1
とした。上記各実施例のうち実施例1,2,3,10,
11,12,13と、比較例1のビスアゾ系化合物につ
いて、以下の試験を行い、その特性を評価した。電荷発生効率の計測 各実施例、比較例のビスアゾ系化合物と、結着樹脂とし
てのポリエステル樹脂とを、ビスアゾ系化合物の量比が
10重量%になるように、適当な溶媒中に配合し、均一
に分散させて塗布液を作製した。そして、この塗布液
を、図1に示すように、片面にITO電極層102が形
成された透明シート101の、上記ITO電極層102
が形成された側の表面に塗布して、厚み5μmの顔料・
樹脂分散層103を形成した。そして、この顔料・樹脂
分散層103の裏面に金電極層104を積層してサンプ
ルを作製した。Chlorodian blue represented by
And Of the above-mentioned embodiments, Embodiments 1, 2, 3, 10,
The following tests were carried out on 11, 12, 13 and the bisazo compound of Comparative Example 1 to evaluate the characteristics. Measurement of Charge Generation Efficiency The bisazo compound of each Example and Comparative Example and the polyester resin as the binder resin were mixed in a suitable solvent so that the amount ratio of the bisazo compound was 10% by weight, A coating liquid was prepared by uniformly dispersing. Then, as shown in FIG. 1, this coating solution is applied to the ITO electrode layer 102 of the transparent sheet 101 having the ITO electrode layer 102 formed on one surface thereof.
Apply to the surface of the side where the
The resin dispersion layer 103 was formed. Then, a gold electrode layer 104 was laminated on the back surface of the pigment / resin dispersion layer 103 to prepare a sample.
【0075】つぎに、上記サンプルのITO電極層10
2および金電極層104を、同図に示すように測定回路
に接続した。測定回路は、図2に示すように、サンプル
を等価的に1つのコンデンサと見なして、このサンプル
CSと、1つの可変コンデンサC1と、2つの固定コン
デンサC2,C3とでブリッジ回路を形成したものであ
る。Next, the ITO electrode layer 10 of the above sample was prepared.
2 and the gold electrode layer 104 were connected to the measurement circuit as shown in the figure. As shown in FIG. 2, the measurement circuit considers the sample equivalently as one capacitor, and forms a bridge circuit with the sample CS, one variable capacitor C1, and two fixed capacitors C2 and C3. Is.
【0076】つぎに、上記ブリッジ回路に、電源装置1
06から電圧を印加しつつ、サンプルの顔料・樹脂分散
層103に、透明シート101の側から、励起光として
のレーザーパルス光を照射して、平衡状態(光未照射状
態)からの、サンプルCSにおける電圧の変位量(電圧
降下量ΔV、単位mV)を、ブリッジ回路に接続された
ストレージスコープ107によって計測した。なお、上
記サンプルCSにレーザーパルス光を照射するための光
源としては、電源装置106に、スイッチSWを介して
接続された窒素ガスレーザーNLと、この窒素ガスレー
ザーNLからレーザー光が照射されると、サンプルCS
にレーザーパルス光を照射する色素レーザーDLと、こ
の色素レーザーDLから照射されるレーザーパルス光の
光エネルギーを、当該レーザーパルス光の光路中に設け
たハーフミラーHMを介してモニターするモニター装置
108とからなるものを用いた。Next, the power supply device 1 is connected to the bridge circuit.
While the voltage is applied from 06, the sample pigment / resin dispersion layer 103 is irradiated with laser pulse light as excitation light from the transparent sheet 101 side to obtain the sample CS from the equilibrium state (light non-irradiation state). The amount of voltage displacement (voltage drop ΔV, unit mV) was measured by the storage scope 107 connected to the bridge circuit. As the light source for irradiating the sample CS with the laser pulse light, the nitrogen gas laser NL connected to the power supply device 106 via the switch SW and the laser light from the nitrogen gas laser NL are irradiated. , Sample CS
A dye laser DL for irradiating the laser pulse light to the laser beam, and a monitor device 108 for monitoring the light energy of the laser pulse light emitted from the dye laser DL via a half mirror HM provided in the optical path of the laser pulse light. Was used.
【0077】そして、計測されたサンプルCSの電圧の
変位量(ΔV)から、下記式により、電荷発生効率
(η)を求めた。 電荷発生効率η=(C・ΔV/eNφ)・〔1/fv・
f(ε1,ε2)〕 但し、上記式中の各符号は下記のとおり。 C:サンプルの静電容量(=4.8×10-10 、サンプ
ルの誘電率=2.71から求めた) e:電荷素量 Nφ:吸収した光子数(=5×10-10 、モニター装置
108によりモニターしたレーザーパルス光の光エネル
ギーから算出した) fv:顔料の体積分率(=7.25、ビスアゾ系化合物
の量比10重量%のときの体積分率) ε1:ビスアゾ系化合物の誘電率(構造上の差異が少な
いことから、全て4.45に設定した) ε2:ポリエステル樹脂の誘電率(=2.60) f(ε1,ε2):補正関数、下記式により計算した。Then, the charge generation efficiency (η) was obtained from the measured displacement amount (ΔV) of the voltage of the sample CS by the following formula. Charge generation efficiency η = (C · ΔV / eNφ) · [1 / fv ·
f (ε1, ε2)] where each symbol in the above formula is as follows. C: capacitance of sample (= 4.8 × 10 −10 , dielectric constant of sample = 2.71) e: elementary charge Nφ: number of absorbed photons (= 5 × 10 −10 , monitor device) Fv: volume fraction of pigment (= 7.25, volume fraction when the amount ratio of bisazo compound is 10% by weight) ε1: Dielectric of bisazo compound Ratios (all have been set to 4.45 because there are few structural differences) ε2: Dielectric constant of polyester resin (= 2.60) f (ε1, ε2): Correction function, calculated by the following formula.
【0078】 f(ε1,ε2)=ε2/〔ε1+2ε2−fv・(ε1−ε2)〕 また、両電極間の電界強度は3×107 V/mであっ
た。各実施例、比較例のビスアゾ系化合物を用いたサン
プルにおける、上記式により算出された電荷発生効率
(η)を表1に示す。光安定性試験 前記各実施例、比較例のビスアゾ系化合物を電荷発生材
料として使用して、以下の手順で、単層型および積層型
の感光体を作製した。F (ε1, ε2) = ε2 / [ε1 + 2ε2-fv · (ε1-ε2)] The electric field strength between both electrodes was 3 × 10 7 V / m. Table 1 shows the charge generation efficiency (η) calculated by the above formula in the samples using the bisazo compounds of Examples and Comparative Examples. Light Stability Test Using the bisazo compounds of the above Examples and Comparative Examples as charge generating materials, single-layer type and multi-layer type photoconductors were prepared by the following procedure.
【0079】(単層型感光体の作製)電荷発生材料とし
てのビスアゾ系化合物8重量と、電荷輸送材料として
の、下記式:(Production of Single Layer Type Photoreceptor) 8 weight of bisazo compound as a charge generating material and the following formula as a charge transporting material:
【0080】[0080]
【化24】 [Chemical formula 24]
【0081】で表されるN,N,N′,N′−テトラキ
ス(3−メチルフェニル)−m−フェニレンジアミン1
00重量部と、結着樹脂としてのポリカーボネート10
0重量部とを、所定量のテトラヒドロフランとともに、
ボールミルを用いて混合分散し、単層型感光層用塗布液
を調製した。この塗布液を、直径80mm×長さ350mm
のアルミニウム素管の表面に、浸漬法によって塗布した
後、暗所において、100℃で30分間加熱乾燥させ
て、膜厚24μmの単層型感光層を有する、ドラム型の
正帯電型電子写真感光体を作製した。N, N, N ', N'-tetrakis (3-methylphenyl) -m-phenylenediamine 1 represented by
00 parts by weight and polycarbonate 10 as a binder resin
0 parts by weight together with a predetermined amount of tetrahydrofuran,
A single layer type photosensitive layer coating liquid was prepared by mixing and dispersing using a ball mill. Apply this coating liquid to a diameter of 80 mm x length of 350 mm
Drum type positive charging type electrophotographic photoconductor having a single-layer type photosensitive layer having a film thickness of 24 μm after being coated on the surface of the aluminum base tube by a dipping method and then dried by heating at 100 ° C. for 30 minutes in a dark place. The body was made.
【0082】(積層型感光体の作製)結着樹脂としての
ポリビニルブチラール100重量部と、電荷発生材料と
してのビスアゾ系化合物100重量部と、所定量のテト
ラヒドロフランとをボールミルに仕込み、24時間攪拌
混合して、電荷発生層用塗布液を調製した。この塗布液
を、直径80mm×長さ350mmのアルミニウム素管の表
面に、浸漬法によって塗布した後、暗所において、11
0℃で30分間熱風乾燥して硬化させて、膜厚0.5μ
mの電荷発生層を形成した。(Preparation of Laminated Photoreceptor) 100 parts by weight of polyvinyl butyral as a binder resin, 100 parts by weight of a bisazo compound as a charge generating material, and a predetermined amount of tetrahydrofuran were charged in a ball mill and mixed with stirring for 24 hours. Then, a charge generation layer coating liquid was prepared. This coating solution is applied to the surface of an aluminum tube having a diameter of 80 mm and a length of 350 mm by a dipping method, and then, in a dark place, 11
Dry with hot air for 30 minutes at 0 ° C and cure to a film thickness of 0.5μ
m charge generating layer was formed.
【0083】つぎに、結着樹脂としてのポリカーボネー
ト100重量部と、電荷輸送材料としてのN,N,
N′,N′−テトラキス(3−メチルフェニル)−m−
フェニレンジアミン100重量部と、所定量のトルエン
とをホモミキサで攪拌混合して、電荷輸送層用塗布液を
調製した。この塗布液を、先に素管の表面に形成した電
荷発生層上に、浸漬法によって塗布し、90℃で30分
間熱風乾燥することにより、膜厚約20μmの電荷輸送
層を形成し、積層型感光層を有する、ドラム型の負帯電
型電子写真感光体を作製した。Next, 100 parts by weight of polycarbonate as a binder resin and N, N, and N as a charge transport material are used.
N ', N'-tetrakis (3-methylphenyl) -m-
100 parts by weight of phenylenediamine and a predetermined amount of toluene were mixed by stirring with a homomixer to prepare a charge transport layer coating solution. This coating solution is applied onto the charge generation layer previously formed on the surface of the raw tube by a dipping method, and dried by hot air at 90 ° C. for 30 minutes to form a charge transport layer having a thickness of about 20 μm, and laminated. A drum type negative charging type electrophotographic photosensitive member having a mold photosensitive layer was produced.
【0084】(光安定性の測定)上記のようにして作製
した単層型および積層型の感光体を、まず、静電式複写
試験装置(ジェンテック社製の商品名ジェンテックシン
シア30M)に装填し、その表面を正または負に帯電さ
せたのち、帯電状態となった電子写真感光体を、静電式
複写試験装置の露光光源であるハロゲンランプを用い
て、露光強度10lux の条件で露光して、露光開始後、
0.15秒を経過した時点の表面電位を測定し、残留電
位V1r.p.(V)とした。(Measurement of Light Stability) The single-layer type and laminated type photoconductors prepared as described above were first placed in an electrostatic copying tester (Gentec Cynthia 30M, trade name, manufactured by Gentech). After charging and positively or negatively charging the surface, the charged electrophotographic photosensitive member is exposed under a condition of an exposure intensity of 10 lux by using a halogen lamp which is an exposure light source of an electrostatic copying tester. Then, after starting the exposure,
The surface potential at the time when 0.15 seconds had elapsed was measured and defined as the residual potential V1r.p. (V).
【0085】つぎに、上記感光体を、静電式複写機(三
田工業社製の型番DC−1657)に装填して1000
枚の連続複写を行った後、上記と同様にして、繰り返し
露光後の残留電位V2r.p.(V)を測定した。そして、
上記残留電位V1r.p.とV2r.p.との差ΔVr.p.(V)
を求めた。結果を表1に示す。Next, the above photoconductor was loaded into an electrostatic copying machine (model number DC-1657 manufactured by Mita Kogyo Co., Ltd.) and 1000
After continuous copying of the sheets, the residual potential V2r.p. (V) after repeated exposure was measured in the same manner as above. And
Difference ΔVr.p. (V) between the residual potentials V1r.p. and V2r.p.
I asked. The results are shown in Table 1.
【0086】[0086]
【表1】 [Table 1]
【0087】上記表1の結果より、本発明のアゾ系化合
物である各実施例のビスアゾ系化合物は、いずれも、比
較例1に比べて電荷発生効率が高く、高感度であること
が判った。また、上記各実施例のビスアゾ系化合物を用
いた感光体は、比較例1を用いた感光体に比べて、繰り
返し露光による残留電位の変化量が小さく、このことか
ら、上記各実施例のビスアゾ系化合物は、光安定性にも
優れていることが判った。From the results shown in Table 1 above, it was found that all the bisazo compounds of the examples, which are azo compounds of the present invention, had higher charge generation efficiency and higher sensitivity than Comparative Example 1. . In addition, the photoconductor using the bisazo compound of each of the above Examples has a smaller residual potential change amount due to repeated exposure than the photoconductor using Comparative Example 1, and therefore, the bisazo compound of each of the above Examples is obtained. It was found that the compounds of the type also have excellent light stability.
【0088】[0088]
【発明の効果】以上のように、本発明のアゾ系化合物
は、高感度であり、かつ光安定性に優れているので、電
子写真感光体における電荷発生材料等の種々の感光材料
や、顔料、太陽電池等に好適に使用することができる。
また、本発明のジアゾニウム塩は、上記アゾ系化合物の
製造に適した中間体である。INDUSTRIAL APPLICABILITY As described above, the azo compound of the present invention has high sensitivity and excellent light stability. Therefore, various photosensitive materials such as charge generating materials in electrophotographic photoreceptors and pigments are used. It can be suitably used for solar cells and the like.
Further, the diazonium salt of the present invention is an intermediate suitable for producing the azo compound.
【図1】実施例において、電荷発生効率の計測に使用し
た装置の概要を示すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram showing an outline of an apparatus used for measuring charge generation efficiency in Examples.
【図2】上記装置の、より詳細な内容を示す回路図であ
る。FIG. 2 is a circuit diagram showing more detailed contents of the device.
Claims (4)
示し、R1 ,R2 ,R3,R4 は同一または異なって水
素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基また
はアリール基を示し、R5 ,R6 は同一または異なって
水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアリール基
を示す。m,nは0または1を示す。]で表されるアゾ
系化合物。1. General formula (I): [Wherein A 1 and A 2 represent the same or different coupler residues, and R 1 , R 2 , R 3 and R 4 represent the same or different hydrogen atom, halogen atom, alkyl group, alkoxy group or aryl group] , R 5 and R 6 are the same or different and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group or an aryl group. m and n represent 0 or 1. ] The azo compound represented by.
じ基を示す。]で表される請求項1記載のアゾ系化合
物。2. General formula (Ia): [In the formula, A 1 , A 2 , R 1 , R 2 , R 3 and R 4 represent the same groups as described above. ] The azo compound of Claim 1 represented by these.
記と同じ基を示す。]で表される請求項1記載のアゾ系
化合物。3. General formula (Ib): [Wherein A 1 , A 2 , R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 represent the same groups as described above. ] The azo compound of Claim 1 represented by these.
6 は上記と同じ基を示す。]で表される請求項1記載の
アゾ系化合物。4. General formula (Ic): [Wherein A 1 , A 2 , R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 5
6 represents the same group as above. ] The azo compound of Claim 1 represented by these.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23393292A JPH0680894A (en) | 1992-09-01 | 1992-09-01 | Azo-based compound |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23393292A JPH0680894A (en) | 1992-09-01 | 1992-09-01 | Azo-based compound |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0680894A true JPH0680894A (en) | 1994-03-22 |
Family
ID=16962874
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23393292A Pending JPH0680894A (en) | 1992-09-01 | 1992-09-01 | Azo-based compound |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0680894A (en) |
-
1992
- 1992-09-01 JP JP23393292A patent/JPH0680894A/en active Pending
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