JPH0586005A - Azo-based compound and diazonium salt - Google Patents
Azo-based compound and diazonium saltInfo
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- JPH0586005A JPH0586005A JP24345491A JP24345491A JPH0586005A JP H0586005 A JPH0586005 A JP H0586005A JP 24345491 A JP24345491 A JP 24345491A JP 24345491 A JP24345491 A JP 24345491A JP H0586005 A JPH0586005 A JP H0586005A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、電子写真感光体におけ
る電荷発生材料等の種々の感光材料や、顔料、太陽電池
等として好適なアゾ系化合物と、その製造に適した中間
体としてのジアゾニウム塩に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to various photosensitive materials such as charge generating materials for electrophotographic photoreceptors, azo compounds suitable as pigments and solar cells, and diazonium as an intermediate suitable for their production. It is about salt.
【0002】[0002]
【従来の技術】電子写真感光体における電荷発生材料等
の種々の感光材料や、顔料、太陽電池等に使用される電
荷発生材料としては、従来より、セレンや硫化カドミウ
ム等の無機光導電体が公知ではあるが、これらは毒性が
あり、しかも生産コストが高く望ましくない。2. Description of the Related Art Inorganic photoconductors such as selenium and cadmium sulfide have hitherto been used as charge generating materials used in various photosensitive materials such as charge generating materials in electrophotographic photoreceptors, pigments and solar cells. As is known, they are toxic and undesirably costly to produce.
【0003】そこで、これらの無機物質に代えて、加工
性に優れ、製造コストの面で有利であるとともに、機能
設計の自由度が大きい、種々の有機物質が、電荷発生材
料として提案されている。上記有機の電荷発生材料とし
ては、フタロシアニン系化合物、ペリレン系化合物、キ
ナクリドン系化合物、アンサンスロン系化合物、アゾ系
化合物等多くの化合物が提案されている。例えばアゾ系
化合物としては、特開昭47−37543号公報や同5
7−195767号公報に開示のものが知られている。Therefore, in place of these inorganic substances, various organic substances which are excellent in workability and advantageous in terms of manufacturing cost and have a high degree of freedom in functional design have been proposed as charge generating materials. .. As the organic charge generation material, many compounds such as phthalocyanine compounds, perylene compounds, quinacridone compounds, anthanthrone compounds and azo compounds have been proposed. For example, as azo compounds, there are JP-A-47-37543 and JP
The one disclosed in JP-A-7-195767 is known.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の電荷発生材料は、感光波長領域が狭かったり、感度
が低かったりするという問題があった。また、上記従来
の電荷発生材料は光安定性も充分でなかった。本発明は
上記の問題点を解決するものであり、高い感度を有し、
かつ光安定性にもすぐれた新規なアゾ系化合物と、この
アゾ系化合物の製造に適した中間体としてのジアゾニウ
ム塩とを提供することを目的とする。However, the above-mentioned conventional charge generating materials have problems that the photosensitive wavelength region is narrow and the sensitivity is low. In addition, the above-mentioned conventional charge generating material has also insufficient light stability. The present invention solves the above problems and has high sensitivity,
It is also an object of the present invention to provide a novel azo compound having excellent light stability and a diazonium salt as an intermediate suitable for the production of this azo compound.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段および作用】上記課題を解
決するため、本発明者らは、アゾ系化合物の分子内に、
消光剤として知られるm−ターフェニルの構造を導入し
て、感度ならびに光安定性を向上することを考え、本発
明を完成するに至った。すなわち、本発明のアゾ系化合
物は、一般式(I) :Means and Actions for Solving the Problems In order to solve the above-mentioned problems, the present inventors have
The present invention has been completed in consideration of improving the sensitivity and photostability by introducing a structure of m-terphenyl known as a quencher. That is, the azo compound of the present invention has the general formula (I):
【0006】[0006]
【化3】 [Chemical 3]
【0007】[式中、Aはカップラー残基を示す]で表
されるものである。また、上記一般式(I) で表されるア
ゾ系化合物の製造に適した中間体としての、本発明のジ
アゾニウム塩は、一般式(II):[Wherein A represents a coupler residue]. Further, the diazonium salt of the present invention as an intermediate suitable for the production of the azo compound represented by the general formula (I) has the general formula (II):
【0008】[0008]
【化4】 [Chemical 4]
【0009】[式中、Xは陰イオンを示す]で表され
る。上記一般式(I) で表されるアゾ系化合物は、前述し
たように、分子内に、消光剤として知られるm−ターフ
ェニルの構造を導入したため、高感度で、かつ、繰返し
使用による表面電位の低下を防止できる。さらに、長時
間の露光や高温下での露光に対して、安定的に高感度を
維持することができ、光安定性に優れている。[Wherein X represents an anion]. As described above, the azo compound represented by the general formula (I) has a structure of m-terphenyl, which is known as a quencher, in the molecule as described above. Can be prevented. Furthermore, it is possible to stably maintain a high sensitivity to long-time exposure or exposure at high temperature, and it is excellent in light stability.
【0010】本発明のアゾ系化合物がこのような高い感
度と光安定性を有する理由としては、以下のようなこと
が考えられる。すなわち、本発明のアゾ系化合物は、例
えば、前記した特開昭47−37543号に例示の、下
記一般式(III) :The reason why the azo compound of the present invention has such high sensitivity and photostability is considered as follows. That is, the azo compound of the present invention is represented by, for example, the following general formula (III) shown in the above-mentioned JP-A-47-37543:
【0011】[0011]
【化5】 [Chemical 5]
【0012】[式中、Aは前記と同じカップラー残基を
示し、Yは水素原子、メチル基、メトキシ基、エトキシ
基、水酸基、塩素原子または臭素原子を示す]で表され
る従来のビスアゾ系化合物等に比して、上記m−ターフ
ェニル部分と2つのアゾ基とで形成されるπ電子共役系
が、より大きな拡がりをもっているため、化合物の分子
構造の平面化がより一層促進されて、分子間の重なり合
い等による分子間相互作用が強まるからであると推定さ
れる。A conventional bisazo system represented by the formula [A represents the same coupler residue as described above and Y represents a hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a hydroxyl group, a chlorine atom or a bromine atom] Compared to compounds and the like, the π-electron conjugated system formed by the m-terphenyl moiety and two azo groups has a larger spread, and thus planarization of the molecular structure of the compound is further promoted, It is presumed that this is because intermolecular interaction due to overlap between molecules is strengthened.
【0013】上記一般式(I) で表される本発明のアゾ系
化合物は、基本的に下記の一般式(Ia)で表されるビスア
ゾ系化合物を含んでいる。The azo compound of the present invention represented by the above general formula (I) basically contains a bisazo compound represented by the following general formula (Ia).
【0014】[0014]
【化6】 [Chemical 6]
【0015】[式中、Aは前記と同じカップラー残基を
示す]また、上記ビスアゾ系化合物の製造に適した中間
体としては、下記一般式(IIa) で表されるテトラゾニウ
ム塩(ビスジアゾニウム塩)があげられる。[Wherein A represents the same coupler residue as described above] Further, an intermediate suitable for the production of the bisazo compound is a tetrazonium salt (bisdiazonium salt) represented by the following general formula (IIa): ) Is given.
【0016】[0016]
【化7】 [Chemical 7]
【0017】[式中、Xは前記と同じ陰イオンを示す]
前記一般式(I)(Ia) で表される本発明のアゾ系化合物に
おいて、カップラー残基Aとしては、下記一般式(a) 〜
(g) で表される基が例示される。[Wherein X represents the same anion as described above]
In the azo compound of the present invention represented by the general formulas (I) and (Ia), the coupler residue A is represented by the following general formulas (a) to
Examples are the groups represented by (g).
【0018】[0018]
【化8】 [Chemical 8]
【0019】各式中R4 は、ヒドロキシル基、下記一般
式で表される基: −NR10R11 (式中、R10およびR11は同一または異なって、水素原
子またはアルキル基を示す)、または、下記一般式で表
される基: −NHSO2 R12 (式中、R12は水素原子、アルキル基、アルケニル基ま
たはアリール基を示す)を表す。In each formula, R 4 is a hydroxyl group, a group represented by the following general formula: —NR 10 R 11 (wherein R 10 and R 11 are the same or different and represent a hydrogen atom or an alkyl group). Or a group represented by the following general formula: —NHSO 2 R 12 (in the formula, R 12 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group or an aryl group).
【0020】R5 は、水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基、アルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカル
ボニル基、カルバモイル基、アリール基またはスルファ
モイル基を表し、アルキル基またはアルコキシ基は、ハ
ロゲン原子、フェニル基、ナフチル基、ニトロ基、シア
ノ基等の置換基を有してもよい。また、カルバモイル基
またはスルファモイル基は、ハロゲン原子、フェニル
基、ナフチル基、アルキル基、アルケニル基、カルボニ
ル基、カルボキシル基等の置換基を有してもよい。R 5 represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an aryl group or a sulfamoyl group, and the alkyl group or the alkoxy group represents a halogen atom, a phenyl group, It may have a substituent such as a naphthyl group, a nitro group and a cyano group. In addition, the carbamoyl group or the sulfamoyl group may have a substituent such as a halogen atom, a phenyl group, a naphthyl group, an alkyl group, an alkenyl group, a carbonyl group or a carboxyl group.
【0021】R6 は、上記R4 およびR5 を有するベン
ゼン環と縮合して芳香族環、脂肪族環または複素環を形
成するのに必要な原子団を示し、これらの環は前記と同
様な置換基を有してもよい。R7 は、水素原子、アミノ
基、N−置換アミノ基、アルキル基、アルケニル基、ヒ
ドロキシル基、カルバモイル基、カルボキシル基または
アルコキシカルボニル基を表し、アルキル基、アルケニ
ル基、カルバモイル基は、前記と同様な置換基を有して
もよい。R 6 represents an atomic group necessary for forming an aromatic ring, an aliphatic ring or a hetero ring by being condensed with the benzene ring having R 4 and R 5 described above, and these rings are the same as those described above. May have a substituent. R 7 represents a hydrogen atom, an amino group, an N-substituted amino group, an alkyl group, an alkenyl group, a hydroxyl group, a carbamoyl group, a carboxyl group or an alkoxycarbonyl group, and the alkyl group, the alkenyl group and the carbamoyl group are the same as defined above. May have a substituent.
【0022】R8 は、水素原子、アルキル基またはアリ
ール基を表し、アルキル基またはアリール基は、前記と
同様な置換基を有してもよい。R9 は、フェニレン基ま
たはナフチレン基を表す。これらのフェニレン基または
ナフチレン基も前記と同様な置換基を有してもよい。ア
ルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピ
ル基、イソプロプル基、ブチル基、イソブチル基、tert
−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の、炭素数1〜
6の低級アルキル基があげられる。R 8 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and the alkyl group or the aryl group may have a substituent similar to the above. R 9 represents a phenylene group or a naphthylene group. These phenylene groups or naphthylene groups may also have the same substituents as described above. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, and a tert group.
A butyl group, a pentyl group, a hexyl group, etc., having 1 to 1 carbon atoms
And 6 lower alkyl groups.
【0023】アリール基としては、例えばフェニル基、
トリル基、キシリル基、ビフェニル基、ナフチル基、ア
ントリル基、フェナントリル基などがあげられる。アル
ケニル基としては、例えばビニル基、アリル基、2−ブ
テニル基、3−ブテニル基、1−メチルアリル基、2−
ペンテニル基、2−ヘキセニル基等の、炭素数2〜6の
低級アルケニル基があげられる。As the aryl group, for example, a phenyl group,
Examples thereof include a tolyl group, a xylyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, an anthryl group and a phenanthryl group. As the alkenyl group, for example, vinyl group, allyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, 1-methylallyl group, 2-
Examples thereof include lower alkenyl groups having 2 to 6 carbon atoms such as pentenyl group and 2-hexenyl group.
【0024】ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子、フッ素原子があげられる。アルコキシ
基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキ
シ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ
基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等の、アルコ
キシ部分の炭素数が1〜6の低級アルコキシ基があげら
れる。Examples of the halogen atom include chlorine atom, bromine atom, iodine atom and fluorine atom. Examples of the alkoxy group include a lower alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms in the alkoxy moiety, such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, a pentyloxy group and a hexyloxy group. Be done.
【0025】アルコキシカルボニル基としては、例えば
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポ
キシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブト
キシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ペンチ
ルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基等
の、アルコキシ部分の炭素数が1〜6の低級アルコキシ
カルボニル基があげられる。The alkoxycarbonyl group is, for example, an alkoxy moiety such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, an isopropoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group, an isobutoxycarbonyl group, a pentyloxycarbonyl group and a hexyloxycarbonyl group. And a lower alkoxycarbonyl group having 1 to 6 carbon atoms.
【0026】アシル基としては、例えばホルミル基、ア
セチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル
基、バレリル基、イソバレリル基、ヘキサモイル基等が
あげられる。前記R6 において、R4 およびR5 を有す
るベンゼン環と縮合して脂肪族環を形成するのに必要な
原子団としては、例えばメチレン基、エチレン基、プロ
ピレン基、ブチレン基等の、炭素数1〜4のアルキレン
基があげられる。Examples of the acyl group include formyl group, acetyl group, propionyl group, butyryl group, isobutyryl group, valeryl group, isovaleryl group and hexamoyl group. In R 6 , the atomic group necessary for condensing with the benzene ring having R 4 and R 5 to form an aliphatic ring includes, for example, methylene group, ethylene group, propylene group, butylene group, and the like. 1-4 alkylene groups can be mentioned.
【0027】また、R6 において、R4 およびR5 を有
するベンゼン環と縮合して複素環を形成するのに必要な
原子団としては、例えばベンゾフラニル基、ベンゾチオ
フェニル基、インドリル基、1H−インドリル基、ベゾ
オキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、1H−インダド
リル基、ベンゾイミダゾリル基、クロメニル基、クロマ
ニル基、イソクロマニル基、キノリニル基、イソキノリ
ニル基、シンノリニル基、フタラジニル基、キナゾニリ
ル基、キノキサリニル基、ジベンゾフラニル基、カルバ
ゾリル基、キサンテニル基、アクリジニル基、フェナン
トリジニル基、フェナジニル基、フェノキサジニル基、
チアントレニル基等があげられる。Further, in R 6 , the atomic group necessary for forming a heterocycle by being condensed with the benzene ring having R 4 and R 5 is, for example, a benzofuranyl group, a benzothiophenyl group, an indolyl group, 1H- Indolyl group, bezoxazolyl group, benzothiazolyl group, 1H-indazolyl group, benzimidazolyl group, chromenyl group, chromanyl group, isochromanyl group, quinolinyl group, isoquinolinyl group, cinnolinyl group, phthalazinyl group, quinazonilyl group, quinoxalinyl group, dibenzofuranyl group, carbazolyl group Group, xanthenyl group, acridinyl group, phenanthridinyl group, phenazinyl group, phenoxazinyl group,
Examples thereof include thianthrenyl group.
【0028】上記R4 およびR5 を有するベンゼン環と
R6 との縮合により形成される芳香族性複素環基として
は、例えばチエニル基、フリル基、ピロリル基、オキサ
ゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチ
アゾリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、トリアゾ
リル基、テトラゾリル基、ピリジル基、チアゾリル基が
あげられる。また、芳香族環と縮合した複素環式基(例
えばベンゾフラニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾ
オキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、キノリル基な
ど)であってもよい。The aromatic heterocyclic group formed by condensing the benzene ring having R 4 and R 5 with R 6 is, for example, a thienyl group, a furyl group, a pyrrolyl group, an oxazolyl group, an isoxazolyl group or a thiazolyl group. , Isothiazolyl group, imidazolyl group, pyrazolyl group, triazolyl group, tetrazolyl group, pyridyl group and thiazolyl group. Further, it may be a heterocyclic group condensed with an aromatic ring (for example, a benzofuranyl group, a benzimidazolyl group, a benzoxazolyl group, a benzothiazolyl group, a quinolyl group).
【0029】上記一般式(a) 〜(g) で表わされるカップ
ラー残基Aの具体例としては、以下のような基があげら
れる。Specific examples of the coupler residue A represented by the above general formulas (a) to (g) include the following groups.
【0030】[0030]
【化9】 [Chemical 9]
【0031】また、前記一般式(II)(IIa) で表される本
発明のジアゾニウム塩において、陰イオンXとしては、
塩酸等のハロゲン化水素酸、ホウフッ化水素酸、臭化水
素酸、硫酸、硝酸、過塩素酸その他の酸の陰イオンがあ
げられる。前記一般式(I) で表される本発明のアゾ系化
合物は、一般式(II)で表される本発明のジアゾニウム塩
を中間体として経由する、種々の方法で合成することが
できる。例えば、前記一般式(Ia)で表されるビスアゾ系
化合物を例に取ると、下記反応式に示すように、一般式
(1) で表されるアミン系化合物中の、2つのアミノ基
を、それぞれジアゾ化してテトラゾニウム塩(IIa) と
し、次いで、これを所定のカップラーと有機溶媒中でカ
ップリングさせることにより、容易に製造することがで
きる。In the diazonium salt of the present invention represented by the general formula (II) (IIa), the anion X is
Examples thereof include anions of hydrohalic acids such as hydrochloric acid, borofluoric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, nitric acid, perchloric acid and other acids. The azo compound of the present invention represented by the general formula (I) can be synthesized by various methods via the diazonium salt of the present invention represented by the general formula (II) as an intermediate. For example, taking the bisazo compound represented by the general formula (Ia) as an example, as shown in the following reaction formula, the general formula
By diazotizing each of the two amino groups in the amine compound represented by (1) to form a tetrazonium salt (IIa), and then coupling this with a predetermined coupler in an organic solvent, it is easy to It can be manufactured.
【0032】[0032]
【化10】 [Chemical 10]
【0033】[式中、A、Xは前記と同じ]ジアゾ化
は、アミン系化合物(1) の酸性水溶液を攪拌しながら、
亜硝酸ナトリウムまたは亜硝酸を低温下(通常、−10
〜5℃)で滴下し、次いで、前記陰イオンXの元になる
酸を加えて、結晶化したテトラゾニウム塩(IIa) を得
る。ついで、このテトラゾニウム塩(IIa) に、有機溶媒
中にて所定量のカップラー(2) を加えてカップリング反
応を行わせることにより、ビスアゾ系化合物(Ia)が得ら
れる。[In the formula, A and X are the same as above] In the diazotization, while stirring an acidic aqueous solution of the amine compound (1),
Sodium nitrite or nitrite at low temperature (usually -10
(About 5 ° C.), and then the acid as the source of the anion X is added to obtain a crystallized tetrazonium salt (IIa). Next, a bisazo compound (Ia) is obtained by adding a predetermined amount of coupler (2) to the tetrazonium salt (IIa) in an organic solvent to cause a coupling reaction.
【0034】上記反応に使用される有機溶媒としては、
例えばジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドが
あげられる。上記本発明のアゾ系化合物は、前述した電
子写真感光体における電荷発生材料の他、種々の感光材
料や顔料、太陽電池等、種々の分野での利用が可能であ
る。As the organic solvent used in the above reaction,
Examples thereof include dimethylformamide and dimethyl sulfoxide. The azo compound of the present invention can be used in various fields such as various light-sensitive materials and pigments, solar cells, etc., in addition to the charge generating material in the electrophotographic photoreceptor described above.
【0035】[0035]
【実施例】以下、実施例をあげて本発明を詳細に説明す
る。 *ジアゾニウム塩の合成実施例A 飽和アンモニア水100mlに、下記式(3) で表される
5,5′−ジブロム−m−ターフェニル0.378g
(1ミリモル)を加え、液温を氷温に保持して攪拌しな
がら、ナトリウムアミド(NaNH2 )0.192g(2
ミリモル)を滴下し、さらに滴下終了後、24時間攪拌
を続けた。The present invention will be described in detail below with reference to examples. * Synthesis Example A of diazonium salt A 100 ml of saturated aqueous ammonia, 0.378 g of 5,5'-dibromo-m-terphenyl represented by the following formula (3)
(1 mmol) was added, and sodium amide (NaNH 2 ) 0.192 g (2
Was added dropwise, and after the addition was completed, stirring was continued for 24 hours.
【0036】[0036]
【化11】 [Chemical 11]
【0037】24時間経過後、反応液に酢酸6gを加
え、次いで、反応液を1リットルの水中に投入して反応
を停止させた。そして、クロロホルムによって、上記水
中から有機物を抽出し、ベンゼンとシクロヘキサンで再
結晶させて、前記式(1) で表される5,5′−ジアミノ
−m−ターフェニルの結晶190mg(収率73%)を得
た。After 24 hours, 6 g of acetic acid was added to the reaction solution, and then the reaction solution was poured into 1 liter of water to stop the reaction. Then, an organic substance was extracted from the above water with chloroform and recrystallized with benzene and cyclohexane to obtain 190 mg of crystals of 5,5'-diamino-m-terphenyl represented by the formula (1) (yield 73%). ) Got.
【0038】上記5,5′−ジアミノ−m−ターフェニ
ル5.98g(0.023モル)を10%塩酸115m
l に加え、氷水浴で冷却しながら攪拌し、液温を−1℃
に保った。次に、この溶液に亜硝酸ナトリウム4.58
g(0.066モル)を水13mlに溶解した水溶液
を、液温−2〜1℃に保ったまま30分間かけて滴下
し、さらに滴下終了後、1時間攪拌して冷却放置した。
次いでこれに42%ホウフッ化水素酸26mlを加え、
生成した結晶を濾過し、エタノールで洗浄後乾燥して、
前記一般式(IIa) 中のXが−BF4 であるテトラゾニウ
ムジフルオロボレイト8.45g(収率72.1%)を
得た。5.98 g (0.023 mol) of the above 5,5'-diamino-m-terphenyl was added to 115 m of 10% hydrochloric acid.
In addition to l, stir while cooling in an ice-water bath, and keep the liquid temperature at -1 ° C.
Kept on. Next, 4.58 sodium nitrite was added to this solution.
An aqueous solution prepared by dissolving g (0.066 mol) in 13 ml of water was added dropwise over 30 minutes while maintaining the liquid temperature at -2 to 1 ° C, and after the addition was completed, the mixture was stirred for 1 hour and left to cool.
Then add 26 ml of 42% borofluoric acid to it,
The crystals formed are filtered, washed with ethanol and dried,
8.45 g (yield 72.1%) of tetrazonium difluoroborate in which X in the general formula (IIa) is —BF 4 was obtained.
【0039】得られたテトラゾニウムジフルオロボレイ
トの分析結果を以下に記す。 元素分析結果 C18H12N4 B2 F8 として 計算値(%): C:47.22 H:2.64 N:12.24 実測値(%): C:47.22 H:2.61 N:12.25 質量分析結果 m/e=457 (計算値457.9) *アゾ系化合物の合成実施例1 上記実施例Aで得たテトラゾニウムジフルオロボレイト
0.91g(0.002モル)と前記式(A1)で表される
カップラー残基を有するカップラー1.59g(0.0
06モル)とをN,N−ジメチルホルムアミド150m
l中に溶解し、これに酢酸ソーダ0.54g(0.00
66モル)を水7.5mlに溶解した液を17〜22℃
に保ったまま5分間かけて滴下した。さらに3時間攪拌
後、生成した沈澱物を濾過し、N,N−ジメチルホルム
アミド200mlで5回洗浄した。次に、2回水で洗浄
した後、減圧乾燥して下記式(IV)で表されるビスアゾ系
化合物1.31g(収率79.1%)を得た。The analysis results of the obtained tetrazonium difluoroborate are shown below. Elemental analysis results Calculated as C 18 H 12 N 4 B 2 F 8 (%): C: 47.22 H: 2.64 N: 12.24 Measured value (%): C: 47.22 H: 2.61 N: 12.25 Mass spectrometry result m / e = 457 (calculated value 457.9) * Azo-based compound synthesis Example 1 Represented by 0.91 g (0.002 mol) of tetrazonium difluoroborate obtained in Example A above and the above formula (A1). 1.59 g (0.0) of a coupler having a coupler residue
06 mol) and N, N-dimethylformamide 150 m
It is dissolved in 1, and 0.54 g (0.00
(66 mol) dissolved in 7.5 ml of water at 17 to 22 ° C.
It was added dropwise over 5 minutes while maintaining After further stirring for 3 hours, the formed precipitate was filtered and washed with 200 ml of N, N-dimethylformamide 5 times. Next, it was washed twice with water and dried under reduced pressure to obtain 1.31 g (yield 79.1%) of a bisazo compound represented by the following formula (IV).
【0040】[0040]
【化12】 [Chemical formula 12]
【0041】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 C54H36N6 O4 として 計算値(%): C:77.87 H:4.36 N:10.09 実測値(%): C:77.69 H:4.44 N: 9.98 質量分析結果 m/e=832 (計算値832.9) IR 1675cm-1(カップラー C=O)実施例2 上記実施例Aで得たテトラゾニウムジフルオロボレイト
0.91g(0.002モル)と、前記式(A2)で表され
るカップラー残基を有するカップラー0.32g(0.
004モル)とを用いて、実施例1と同様にしてビスア
ゾ系化合物0.77g(収率76.9%)を合成した。The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Elemental analysis result Calculated as C 54 H 36 N 6 O 4 (%): C: 77.87 H: 4.36 N: 10.09 Measured value (%): C: 77.69 H: 4.44 N: 9.98 Mass spectrometry result m / e = 832 (Calculated value 832.9) IR 1675 cm -1 (Coupler C = O) Example 2 0.91 g (0.002 mol) of tetrazonium difluoroborate obtained in Example A above and the above formula (A2) 0.32 g of coupler having the represented coupler residue (0.
Was used in the same manner as in Example 1 to synthesize 0.77 g (yield: 76.9%) of a bisazo compound.
【0042】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 C32H26N4 O2 として 計算値(%): C:77.08 H:5.26 N:11.24 実測値(%): C:76.99 H:5.20 N:11.20 質量分析結果 m/e=498 (計算値498.6) IR 3580cm-1(カップラー OH)実施例3 上記実施例Aで得たテトラゾニウムジフルオロボレイト
0.91g(0.002モル)と、前記式(A3)で表され
るカップラー残基を有するカップラー0.56g(0.
004モル)とを用いて、実施例1と同様にしてビスア
ゾ系化合物0.88g(収率78.6%)を合成した。The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Elemental analysis result Calculated value as C 32 H 26 N 4 O 2 (%): C: 77.08 H: 5.26 N: 11.24 Measured value (%): C: 76.99 H: 5.20 N: 11.20 Mass spectrometry result m / e = 498 (Calculated value 498.6) IR 3580 cm -1 (Coupler OH) Example 3 Represented by 0.91 g (0.002 mol) of tetrazonium difluoroborate obtained in the above Example A and the above formula (A3). 0.56 g of a coupler having a coupler residue (0.
Was used in the same manner as in Example 1 to synthesize 0.88 g (yield: 78.6%) of a bisazo compound.
【0043】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 C34H38N6 O2 として 計算値(%): C:72.57 H:6.80 N:14.93 実測値(%): C:72.68 H:6.60 N:14.93 質量分析結果 m/e=562 (計算値562.7) IR 3500cm-1(カップラー OH)実施例4 上記実施例Aで得たテトラゾニウムジフルオロボレイト
0.91g(0.002モル)と、前記式(A4)で表され
るカップラー残基を有するカップラー0.43g(0.
004モル)とを用いて、実施例1と同様にしてビスア
ゾ系化合物0.79g(収率79.9%)を合成した。The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Elemental analysis result Calculated value as C 34 H 38 N 6 O 2 (%): C: 72.57 H: 6.80 N: 14.93 Measured value (%): C: 72.68 H: 6.60 N: 14.93 Mass spectrometry result m / e = 562 (Calculated value 562.7) IR 3500 cm -1 (Coupler OH) Example 4 0.91 g (0.002 mol) of tetrazonium difluoroborate obtained in the above Example A and the above formula (A4) 0.43 g (0.
Was used to synthesize 0.79 g (yield 79.9%) of a bisazo compound in the same manner as in Example 1.
【0044】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 C32H28N6 として 計算値(%): C:77.39 H:5.68 N:16.92 実測値(%): C:77.46 H:5.72 N:16.88 質量分析結果 m/e=496 (計算値496.6) IR 3580cm-1(カップラー NH)実施例5 上記実施例Aで得たテトラゾニウムジフルオロボレイト
0.91g(0.002モル)と、前記式(A5)で表され
るカップラー残基を有するカップラー0.32g(0.
004モル)とを用いて、実施例1と同様にしてビスア
ゾ系化合物0.72g(収率80.2%)を合成した。The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Elemental analysis result Calculated value as C 32 H 28 N 6 (%): C: 77.39 H: 5.68 N: 16.92 Measured value (%): C: 77.46 H: 5.72 N: 16.88 Mass spectrometry result m / e = 496 (calculated Value 496.6) IR 3580 cm -1 (Coupler NH) Example 5 0.91 g (0.002 mol) of tetrazonium difluoroborate obtained in Example A above and a coupler represented by the above formula (A5). 0.32 g of coupler with residues (0.
Was used to synthesize 0.72 g (yield 80.2%) of a bisazo compound in the same manner as in Example 1.
【0045】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 C26H22N6 O2 として 計算値(%): C:69.32 H:4.92 N:18.65 実測値(%): C:69.26 H:4.99 N:18.66 質量分析結果 m/e=450 (計算値450.5) IR 1470cm-1(カップラー NH)実施例6 上記実施例Aで得たテトラゾニウムジフルオロボレイト
0.91g(0.002モル)と、前記式(A6)で表され
るカップラー残基を有するカップラー0.91g(0.
004モル)とを用いて、実施例1と同様にしてビスア
ゾ系化合物1.10g(収率74.9%)を合成した。The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Elemental analysis result Calculated value as C 26 H 22 N 6 O 2 (%): C: 69.32 H: 4.92 N: 18.65 Measured value (%): C: 69.26 H: 4.99 N: 18.66 Mass spectrometry result m / e = 450 (Calculated value 450.5) IR 1470 cm -1 (Coupler NH) Example 6 Represented by the formula (A6) and 0.91 g (0.002 mol) of tetrazonium difluoroborate obtained in Example A above. 0.91 g (0.
Was used in the same manner as in Example 1 to synthesize 1.10 g of a bisazo compound (yield 74.9%).
【0046】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 C44H28N6 O6 として 計算値(%): C:71.73 H:3.83 N:11.41 実測値(%): C:71.73 H:3.92 N:11.38 質量分析結果 m/e=736 (計算値736.8) IR 1710cm-1(カップラー C=O)実施例7 上記実施例Aで得たテトラゾニウムジフルオロボレイト
0.91g(0.002モル)と、前記式(A7)で表され
るカップラー残基を有するカップラー1.09g(0.
004モル)とを用いて、実施例1と同様にしてビスア
ゾ系化合物1.28g(収率77.7%)を合成した。The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Calculated elemental analysis C 44 H 28 N 6 O 6 (%): C: 71.73 H: 3.83 N: 11.41 Found (%): C: 71.73 H : 3.92 N: 11.38 Mass analysis m / e = 736 (Calculated value 736.8) IR 1710 cm -1 (Coupler C = O) Example 7 With 0.91 g (0.002 mol) of tetrazonium difluoroborate obtained in the above Example A, the above formula (A7) was used. 1.09 g (0.
Was used in the same manner as in Example 1 to synthesize 1.28 g of bisazo compound (yield 77.7%).
【0047】得られたビスアゾ系化合物の分析結果を以
下に記す。 元素分析結果 C54H30N6 O4 として 計算値(%): C:78.44 H:3.66 N:10.16 実測値(%): C:78.60 H:3.68 N:10.15 質量分析結果 m/e=826 (計算値826.9) IR 1700cm-1(カップラー C=O)比較例1〜3 下記式(i) 〜(iii) で表されるビスアゾ系化合物を、そ
れぞれ比較例1〜3とした。The analysis results of the obtained bisazo compound are shown below. Elemental analysis results Calculated as C 54 H 30 N 6 O 4 (%): C: 78.44 H: 3.66 N: 10.16 Measured value (%): C: 78.60 H: 3.68 N: 10.15 Mass spectrometry result m / e = 826 (Calculated value 826.9) IR 1700 cm -1 (Coupler C = O) Comparative Examples 1 to 3 Bisazo compounds represented by the following formulas (i) to (iii) were designated as Comparative Examples 1 to 3, respectively.
【0048】比較例1:Comparative Example 1:
【0049】[0049]
【化13】 [Chemical 13]
【0050】比較例2:Comparative Example 2:
【0051】[0051]
【化14】 [Chemical 14]
【0052】比較例3:Comparative Example 3:
【0053】[0053]
【化15】 [Chemical 15]
【0054】上記各実施例、比較例のビスアゾ系化合物
について、以下の試験を行い、その特性を評価した。電荷発生効率の計測 各実施例、比較例のビスアゾ系化合物と、結着樹脂とし
てのポリエステル樹脂とを、ビスアゾ系化合物の量比が
10重量%になるように、適当な溶媒中に配合し、均一
に分散させて塗布液を作製した。そして、この塗布液
を、図1に示すように、片面にITO電極層102が形
成された透明シート101の、上記ITO電極層102
が形成された側の表面に塗布して、厚み5μmの顔料・
樹脂分散層103を形成した。そして、この顔料・樹脂
分散層103の裏面に金電極層104を積層してサンプ
ルを作製した。The following tests were carried out on the bisazo compounds of the above Examples and Comparative Examples to evaluate their properties. Measurement of Charge Generation Efficiency The bisazo compound of each Example and Comparative Example and the polyester resin as the binder resin were mixed in an appropriate solvent so that the amount ratio of the bisazo compound was 10% by weight, A coating liquid was prepared by uniformly dispersing. Then, as shown in FIG. 1, this coating solution is applied to the ITO electrode layer 102 of the transparent sheet 101 having the ITO electrode layer 102 formed on one surface thereof.
Apply to the surface of the side where the
The resin dispersion layer 103 was formed. Then, a gold electrode layer 104 was laminated on the back surface of the pigment / resin dispersion layer 103 to prepare a sample.
【0055】つぎに、上記サンプルのITO電極層10
2および金電極層104を、同図に示すように測定回路
に接続した。測定回路は、図2に示すように、サンプル
を等価的に1つのコンデンサと見なして、このサンプル
CSと、1つの可変コンデンサC1と、2つの固定コン
デンサC2,C3とでブリッジ回路を形成したものであ
る。Next, the ITO electrode layer 10 of the above sample was prepared.
2 and the gold electrode layer 104 were connected to the measurement circuit as shown in the figure. As shown in FIG. 2, the measurement circuit considers the sample equivalently as one capacitor, and forms a bridge circuit with this sample CS, one variable capacitor C1, and two fixed capacitors C2 and C3. Is.
【0056】つぎに、上記ブリッジ回路に、電源装置1
06から電圧を印加しつつ、サンプルの顔料・樹脂分散
層103に、透明シート101の側から、励起光として
のレーザーパルス光を照射して、平衡状態(光未照射状
態)からの、サンプルCSにおける電圧の変位量(電圧
降下量ΔV、単位mV)を、ブリッジ回路に接続された
ストレージスコープ107によって計測した。なお、上
記サンプルCSにレーザーパルス光を照射するための光
源としては、電源装置106に、スイッチSWを介して
接続された窒素ガスレーザーNLと、この窒素ガスレー
ザーNLからレーザー光が照射されると、サンプルCS
にレーザーパルス光を照射する色素レーザーDLと、こ
の色素レーザーDLから照射されるレーザーパルス光の
光エネルギーを、当該レーザーパルス光の光路中に設け
たハーフミラーHMを介してモニターするモニター装置
108とからなるものを用いた。Next, the power supply device 1 is connected to the bridge circuit.
While applying a voltage from 06, the sample pigment / resin dispersion layer 103 is irradiated with laser pulse light as excitation light from the transparent sheet 101 side to obtain the sample CS from the equilibrium state (light non-irradiation state). The amount of voltage displacement (voltage drop ΔV, unit mV) was measured by the storage scope 107 connected to the bridge circuit. As the light source for irradiating the sample CS with the laser pulse light, the nitrogen gas laser NL connected to the power supply device 106 via the switch SW and the laser light from the nitrogen gas laser NL are irradiated. , Sample CS
A dye laser DL for irradiating the laser pulse light to the laser beam, and a monitor device 108 for monitoring the light energy of the laser pulse light emitted from the dye laser DL via a half mirror HM provided in the optical path of the laser pulse light. Was used.
【0057】そして、計測されたサンプルCSの電圧の
変位量(ΔV)から、下記式により、電荷発生効率
(η)を求めた。 電荷発生効率η=(C・ΔV/eNφ)・〔1/fv・f(ε1,ε2)〕 但し、上記式中の各符号は下記のとおり。 C:サンプルの静電容量(=4.8×10-10 、サンプ
ルの誘電率=2.71から求めた) e:電荷素量 Nφ:吸収した光子数(=5×10-10 、モニター装置
108によりモニターしたレーザーパルス光の光エネル
ギーから算出した) fv:顔料の体積分率(=7.25、ビスアゾ系化合物
の量比10重量%のときの体積分率) ε1:ビスアゾ系化合物の誘電率(構造上の差異が少な
いことから、全て4.45に設定した) ε2:ポリエステル樹脂の誘電率(=2.60) f(ε1,ε2):補正関数、下記式により計算した。Then, the charge generation efficiency (η) was obtained from the measured displacement amount (ΔV) of the voltage of the sample CS by the following formula. Charge generation efficiency η = (C · ΔV / eNφ) · [1 / fv · f (ε1, ε2)] However, each symbol in the above formula is as follows. C: capacitance of sample (= 4.8 × 10 −10 , dielectric constant of sample = 2.71) e: elementary charge Nφ: number of absorbed photons (= 5 × 10 −10 , monitor device) Calculated from the light energy of the laser pulse light monitored by 108) fv: Volume fraction of pigment (= 7.25, volume fraction when the amount ratio of bisazo compound is 10% by weight) ε1: Dielectric of bisazo compound Ratios (all have been set to 4.45 because there are few structural differences) ε2: Dielectric constant of polyester resin (= 2.60) f (ε1, ε2): Correction function, calculated by the following formula.
【0058】 f(ε1,ε2)=ε2/〔ε1+2ε2−fv・(ε1−ε2)〕 また、両電極間の電界強度は3×107 V/mであっ
た。各実施例、比較例のビスアゾ系化合物を用いたサン
プルにおける電圧の変位量(ΔV)と、上記式により算
出された電荷発生効率(η)とを表1に示す。光安定性試験 前記各実施例、比較例のビスアゾ系化合物を電荷発生材
料として使用して、以下の手順で、単層型および積層型
の感光体を作製した。F (ε1, ε2) = ε2 / [ε1 + 2ε2-fv · (ε1-ε2)] The electric field strength between both electrodes was 3 × 10 7 V / m. Table 1 shows the amount of voltage displacement (ΔV) and the charge generation efficiency (η) calculated by the above formula in the samples using the bisazo compounds of the respective Examples and Comparative Examples. Light Stability Test Using the bisazo compounds of the above Examples and Comparative Examples as charge generating materials, single-layer type and laminated type photoconductors were prepared by the following procedure.
【0059】(単層型感光体の作製)電荷発生材料とし
てのビスアゾ系化合物8重量と、電荷輸送材料としての
3,3′−ジメチル−N,N,N′,N′−テトラキス
−4−メチルフェニル−(1,1′−ビフェニル)−
4,4′−ジアミン100重量部と、結着樹脂としての
ポリエステル樹脂100重量部とを、所定量のテトラヒ
ドロフランとともに、ボールミルを用いて混合分散し、
単層型感光層用塗布液を調製した。(Production of Single Layer Type Photoreceptor) 8 weight of bisazo compound as charge generating material and 3,3'-dimethyl-N, N, N ', N'-tetrakis-4- as charge transporting material. Methylphenyl- (1,1'-biphenyl)-
100 parts by weight of 4,4′-diamine and 100 parts by weight of a polyester resin as a binder resin are mixed and dispersed with a predetermined amount of tetrahydrofuran by using a ball mill,
A single layer type photosensitive layer coating solution was prepared.
【0060】この塗布液を、直径80mm×長さ350mm
のアルミニウム素管の表面に、浸漬法によって塗布した
後、暗所において、100℃で30分間加熱乾燥させ
て、膜厚24μmの単層型感光層を有する、ドラム型の
電子写真感光体を作製した。 (積層型感光体の作製)結着樹脂としてのポリビニルブ
チラール100重量部と、電荷発生材料としてのビスア
ゾ系化合物100重量部と、所定量のテトラヒドロフラ
ンとをボールミルに仕込み、24時間攪拌混合して、電
荷発生層用塗布液を調製した。This coating solution was prepared by applying a diameter of 80 mm and a length of 350 mm.
After being applied to the surface of the aluminum base tube by a dipping method, it is heated and dried at 100 ° C. for 30 minutes in a dark place to prepare a drum type electrophotographic photosensitive member having a single-layer type photosensitive layer having a film thickness of 24 μm. did. (Production of Laminated Photoreceptor) 100 parts by weight of polyvinyl butyral as a binder resin, 100 parts by weight of a bisazo compound as a charge generating material, and a predetermined amount of tetrahydrofuran were charged in a ball mill and mixed with stirring for 24 hours, A charge generation layer coating solution was prepared.
【0061】この塗布液を、直径80mm×長さ350mm
のアルミニウム素管の表面に、浸漬法によって塗布した
後、暗所において、110℃で30分間熱風乾燥して硬
化させて、膜厚0.5μmの電荷発生層を形成した。つ
ぎに、結着樹脂としてのポリカーボネート100重量部
と、電荷輸送材料としての3,3′−ジメチル−N,
N,N′,N′−テトラキス−4−メチルフェニル−
(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン100
重量部と、所定量のトルエンとをホモミキサで攪拌混合
して、電荷輸送層用塗布液を調製した。This coating solution was prepared by applying a diameter of 80 mm and a length of 350 mm.
After being applied on the surface of the aluminum base tube by the dipping method, it was dried in a dark place with hot air at 110 ° C. for 30 minutes to be cured to form a charge generation layer having a thickness of 0.5 μm. Next, 100 parts by weight of polycarbonate as a binder resin and 3,3'-dimethyl-N as a charge transport material,
N, N ', N'-tetrakis-4-methylphenyl-
(1,1'-biphenyl) -4,4'-diamine 100
By weight and a predetermined amount of toluene were stirred and mixed with a homomixer to prepare a charge transport layer coating liquid.
【0062】この塗布液を、先に素管の表面に形成した
電荷発生層上に、浸漬法によって塗布し、90℃で30
分間熱風乾燥することにより、膜厚約20μmの電荷輸
送層を形成し、積層型感光層を有する、ドラム型の電子
写真感光体を作製した。 (光安定性の測定)上記のようにして作製した単層型お
よび積層型の感光体を、まず、静電式複写試験装置(ジ
ェンテック社製の商品名ジェンテックシンシア30M)
に装填し、その表面を正または負に帯電させたのち、帯
電状態となった電子写真感光体を、静電式複写試験装置
の露光光源であるハロゲンランプを用いて、露光強度1
0lux の条件で露光して、露光開始後、0.15秒を経
過した時点の表面電位を測定し、残留電位V1r.p.
(V)とした。This coating solution was applied onto the charge generation layer previously formed on the surface of the raw tube by the dipping method, and the coating was performed at 90 ° C. for 30 minutes.
A drum type electrophotographic photoreceptor having a laminated photosensitive layer was formed by forming a charge transport layer having a film thickness of about 20 μm by drying with hot air for a minute. (Measurement of Light Stability) First, the single-layer type and laminated type photoconductors manufactured as described above were first subjected to an electrostatic copying tester (Gentec Cynthia 30M, trade name, manufactured by Gentech).
After charging the surface of the electrophotographic photosensitive member positively or negatively, the charged electrophotographic photosensitive member is exposed to an exposure intensity of 1 using a halogen lamp which is an exposure light source of an electrostatic copying test apparatus.
The surface potential was measured after 0.15 seconds had elapsed after the exposure was started under the condition of 0 lux and the residual potential V1r.p.
(V).
【0063】つぎに、上記感光体を、静電式複写機(三
田工業社製の型番DC−111)に装填して1000枚
の連続複写を行った後、上記と同様にして、繰り返し露
光後の残留電位V2r.p.(V)を測定した。そして、上
記残留電位V1r.p.とV2r.p.との差ΔVr.p.(V)を
求めた。結果を表1に示す。Next, the above photoreceptor was loaded in an electrostatic copying machine (Model No. DC-111 manufactured by Mita Kogyo Co., Ltd.) to continuously copy 1000 sheets, and after repeated exposure in the same manner as above. The residual potential V2r.p. Then, the difference ΔVr.p. (V) between the residual potentials V1r.p. and V2r.p. The results are shown in Table 1.
【0064】[0064]
【表1】 [Table 1]
【0065】上記表1の結果より、本発明のアゾ系化合
物である、実施例1〜7のビスアゾ系化合物は、いずれ
も、比較例1〜3に比べて電荷発生効率が高く、高感度
であることが判った。また、上記実施例1〜7のビスア
ゾ系化合物を用いた感光体は、比較例1〜3を用いた感
光体に比べて、繰り返し露光による残留電位の変化量が
小さく、このことから、上記実施例1〜7のビスアゾ系
化合物は、光安定性にも優れていることが判った。From the results of Table 1 above, the bisazo compounds of Examples 1 to 7, which are the azo compounds of the present invention, have higher charge generation efficiency and higher sensitivity than Comparative Examples 1 to 3. I knew it was. Further, the photoconductors using the bisazo compounds of Examples 1 to 7 have a smaller residual potential change amount due to repeated exposure than the photoconductors of Comparative Examples 1 to 3, and therefore, It was found that the bisazo compounds of Examples 1 to 7 were also excellent in light stability.
【0066】[0066]
【発明の効果】以上のように、本発明のアゾ系化合物
は、高感度であり、かつ光安定性に優れているので、電
子写真感光体における電荷発生材料等の種々の感光材料
や、顔料、太陽電池等に好適に使用することができる。
また、本発明のジアゾニウム塩は、上記アゾ系化合物の
製造に適した中間体である。INDUSTRIAL APPLICABILITY As described above, the azo compound of the present invention has high sensitivity and excellent light stability. It can be suitably used for solar cells and the like.
Further, the diazonium salt of the present invention is an intermediate suitable for the production of the azo compound.
【図1】実施例において、電荷発生効率の計測に使用し
た装置の概要を示すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram showing an outline of an apparatus used for measuring charge generation efficiency in an example.
【図2】上記装置の、より詳細な内容を示す回路図であ
る。FIG. 2 is a circuit diagram showing more detailed contents of the device.
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03G 5/06 347 B 8305−2H Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification number Office reference number FI technical display location G03G 5/06 347 B 8305-2H
Claims (2)
化合物。1. General formula (I): An azo compound represented by the formula: wherein A represents a coupler residue.
塩。2. General formula (II): A diazonium salt represented by [wherein X represents an anion].
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24345491A JPH0586005A (en) | 1991-09-24 | 1991-09-24 | Azo-based compound and diazonium salt |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
JP24345491A JPH0586005A (en) | 1991-09-24 | 1991-09-24 | Azo-based compound and diazonium salt |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0586005A true JPH0586005A (en) | 1993-04-06 |
Family
ID=17104131
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24345491A Pending JPH0586005A (en) | 1991-09-24 | 1991-09-24 | Azo-based compound and diazonium salt |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0586005A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6940686B2 (en) | 1999-12-09 | 2005-09-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic recording and reproducing device |
-
1991
- 1991-09-24 JP JP24345491A patent/JPH0586005A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6940686B2 (en) | 1999-12-09 | 2005-09-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetic recording and reproducing device |
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