JPH0679636A - Abrasive tape - Google Patents

Abrasive tape

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JPH0679636A
JPH0679636A JP23030392A JP23030392A JPH0679636A JP H0679636 A JPH0679636 A JP H0679636A JP 23030392 A JP23030392 A JP 23030392A JP 23030392 A JP23030392 A JP 23030392A JP H0679636 A JPH0679636 A JP H0679636A
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polishing
polishing layer
abrasive
magnetic head
abrasive particles
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Masaaki Fujiyama
正昭 藤山
Masami Sato
雅己 佐藤
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Abstract

PURPOSE:To provide an abrasive tape optimum for the finishing work of a magnetic head and the like of a VTR or a high-grade audio deck, which can remarkably improve the output of the magnetic head after the grinding. CONSTITUTION:In an abrasive tape, two layers of abrasive layers mainly composed of abrasive grains and binder resin are provided on a flexible support element. The mean grain diameter A of the abrasive grain, which is included in the first abrasive layer positioned as the top layer, is set smaller than the mean grain diameter B of the abrasive grain, which is included in the second abrasive layer positioned just under the first abrasive layer. Furthermore, the relationship between the mean grain diameters A, B is desirably set so as to satisfy the expression (B/A)<=0.5 to achieve the purpose effectively.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録再生装置の磁
気ヘッドの研磨を始めとして、各種物体の研磨、バーニ
ッシュ、テクスチャー等に用いられる研磨テープに関
し、特に、VTRあるいは高級オーディオデッキの磁気
ヘッド等の仕上げ研磨に用いる研磨テープに関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polishing tape used for polishing various objects such as polishing of a magnetic head of a magnetic recording / reproducing apparatus, burnishing, texture, etc. The present invention relates to a polishing tape used for finish polishing of heads and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】VTRあるいは高級オーディオデッキの
磁気ヘッド等はテープ摺動面の平滑性が特に要求される
ため、一般に磁気ヘッドを製作する際に研磨テープを用
いてテープ摺動面を平滑に仕上げる。このような研磨テ
ープは、研磨材粒子及び結合剤樹脂等を混練して得た塗
布液を支持体上に塗布、乾燥して研磨層を形成して作っ
たものであり、通常前記支持体は可撓性であるので磁気
ヘッドのテープ接触面の曲面形状になじんでこの面を精
密に研磨仕上げできる。
2. Description of the Related Art A magnetic head of a VTR or a high-quality audio deck is required to have a smooth tape sliding surface. Therefore, when a magnetic head is manufactured, an abrasive tape is generally used to smooth the tape sliding surface. . Such a polishing tape is prepared by coating a coating solution obtained by kneading abrasive particles and a binder resin on a support and drying the coating solution to form a polishing layer. Since it is flexible, it can fit the curved shape of the tape contact surface of the magnetic head, and this surface can be precisely polished.

【0003】ところで近年の磁気記録に対する高密度記
録化の傾向に伴い磁気ヘッドは、表面硬度の高いフェラ
イト系磁気ヘッドに代わり、表面硬度が低く、その表面
が極めて平滑であることが要求されるセンダストなどの
合金系磁気ヘッドを用いることが多くなってきている。
そのため、高密度記録用磁気ヘッドとして従来よりも高
い平滑性が要求されるにも係わらず傷がつき易く、この
センダストなどの合金系磁気ヘッドの仕上げを行う場
合、その精度の向上が望まれ、従来の研磨テープでは磁
気ヘッド面の傷の発生が大きな問題となってきた。ま
た、磁気ヘッドは硬度の異なる材料、例えばセラミック
材料、アモルファス合金材料及びガラス材料より成る積
層型磁気ヘッドが高密度記録用として主流になりつつあ
り、仕上げ研磨するとセラミック材料、アモルファス合
金材料及びガラス材料の各境界における段差が発生し、
均一な研磨面が得られ難かった。
With the recent trend toward higher density recording for magnetic recording, the magnetic head is required to have a low surface hardness and an extremely smooth surface instead of a ferrite magnetic head having a high surface hardness. The use of alloy-based magnetic heads such as is increasing.
Therefore, although high smoothness is required as a magnetic head for high-density recording, it is easily scratched, and when finishing an alloy-based magnetic head such as sendust, improvement of its accuracy is desired, With conventional polishing tapes, the occurrence of scratches on the magnetic head surface has become a major problem. In addition, as a magnetic head, a laminated magnetic head made of materials having different hardness, for example, a ceramic material, an amorphous alloy material, and a glass material is becoming mainstream for high-density recording. Steps occur at each boundary of
It was difficult to obtain a uniform polished surface.

【0004】研磨テープを用いて、磁気ヘッドを仕上げ
研磨する際、研磨効果を低下させず、且つ被研磨面に傷
付きや研磨屑の付着を防止する方法が各種提案されてい
る。例えば、特開昭62−92205号公報には、非磁
性粉末と結合剤樹脂を含む中間層を設け、その非磁性粉
末の平均粒子径が、その上にある研磨層の研磨材粒子の
平均粒子径より大きくすることにより、研磨の際に削り
屑を保持する凹部を研磨層に形成して、削り屑の脱落を
防止し、削り屑が磁気ヘッド表面を傷つけないことが開
示されている。しかし、この方法では、中間層の平均粒
子径が大きい為、中間層と研磨層との境界面の凹凸が研
磨層表面に転写されて凹凸が残り、表面研磨層の研磨材
粒子径が小さくても、力が局部的に作用し、合金系磁気
ヘッドに対して傷が生ずる欠点があった。さらに前記公
報に記載されている比較例では、中間層の無い研磨層一
層で、研磨材粒子が0.01〜0.1μmと小さいと、
研磨層自身が削られ易く、研磨層表面が平坦化されて、
削り屑が研磨テープと磁気ヘッドの間に挟まるため、磁
気ヘッドに対して傷を付けることが開示されている。
Various methods have been proposed for using a polishing tape to finish polishing a magnetic head without deteriorating the polishing effect and preventing scratches or adhesion of polishing debris on the surface to be polished. For example, in JP-A-62-92205, an intermediate layer containing a non-magnetic powder and a binder resin is provided, and the average particle size of the non-magnetic powder is the average particle size of the abrasive particles in the polishing layer thereabove. It is disclosed that by making the diameter larger than the diameter, a recess for holding shavings during polishing is formed in the polishing layer to prevent the shavings from falling off and prevent the shavings from damaging the surface of the magnetic head. However, in this method, since the average particle size of the intermediate layer is large, the unevenness of the boundary surface between the intermediate layer and the polishing layer is transferred to the surface of the polishing layer to leave the unevenness, and the abrasive particle size of the surface polishing layer is small. However, there is a drawback that the force locally acts and the alloy magnetic head is damaged. Further, in the comparative example described in the above-mentioned publication, if the abrasive particles are as small as 0.01 to 0.1 μm in one polishing layer without an intermediate layer,
The polishing layer itself is easily scraped, the surface of the polishing layer is flattened,
It is disclosed that the shavings are sandwiched between the polishing tape and the magnetic head, thus damaging the magnetic head.

【0005】また、特公平4−22283号公報では、
センダストなどの合金系磁気ヘッド等のクリーニングを
目的として、主たる研磨材に強磁性合金粉末を使用し
て、塗布、乾燥した後、カレンダー処理をしたクリーニ
ングテープが開示されている。強磁性合金粉末の硬度が
研磨材より低いこと、及びカレンダー処理によりクリー
ニング層表面が平滑なことにより、センダストなどの合
金系磁気ヘッドに対して傷を付けないで汚れを除去する
効果はあるが、仕上げのための研磨能力はない。さらに
カレンダー処理をすることにより研磨テープにシワが発
生することがあり、生産性が悪かった。また、前記公報
に記載の比較例6では、強磁性合金粉末の代わりに比較
的大きい粒子である平均粒子径0.5μmのα−アルミ
ナのような研磨材を用い、塗布し乾燥した後の表面を中
心線平均粗さが0.05μm(カットオフ値0.08μ
m)になるようにカレンダー処理を行ったクリーニング
テープで、磁気ヘッドをクリーニングすると、磁気ヘッ
ドに傷が発生し、磁気ヘッドも相当摩耗していたと開示
されている。以上のように、小さい研磨材粒子を塗布し
た研磨層では研磨層自身が削られてその屑が研磨テープ
と磁気ヘッドの間に挟まるため磁気ヘッドに対して傷が
発生し、また大きい研磨材粒子を塗布した研磨層では研
磨層表面を別工程で平坦に処理しても研磨層表面に微少
な突起が残っているため、磁気ヘッドに対して傷が生じ
ており、精密な研磨を行うために研磨材粒子の平均粒子
径を制御するだけでは限界があった。
Further, in Japanese Patent Publication No. 4-22283,
For the purpose of cleaning an alloy-based magnetic head such as sendust, a cleaning tape is disclosed in which a ferromagnetic alloy powder is used as a main abrasive, which is applied, dried, and calendered. The hardness of the ferromagnetic alloy powder is lower than that of the abrasive, and the surface of the cleaning layer is smooth by the calendering treatment, so that it is effective in removing dirt without scratching the alloy magnetic head such as sendust. There is no polishing capacity for finishing. Further, the calendar treatment may cause wrinkles on the polishing tape, resulting in poor productivity. Further, in Comparative Example 6 described in the above publication, an abrasive such as α-alumina, which is a relatively large particle having an average particle diameter of 0.5 μm, is used instead of the ferromagnetic alloy powder, and the surface after coating and drying is used. The center line average roughness is 0.05 μm (cut-off value 0.08 μ
It is disclosed that when the magnetic head is cleaned with a cleaning tape which has been subjected to a calendar treatment so as to be m), the magnetic head is scratched and the magnetic head is also considerably worn. As described above, in the polishing layer coated with the small abrasive particles, the polishing layer itself is scraped and the dust is sandwiched between the polishing tape and the magnetic head, so that the magnetic head is scratched, and the large abrasive particles are large. In the polishing layer coated with, even if the polishing layer surface is flattened in a separate step, since minute protrusions remain on the polishing layer surface, scratches are produced on the magnetic head. There was a limit only by controlling the average particle size of the abrasive particles.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来技
術の問題点に鑑みてなされたものであり、特にVTRあ
るいは高級オーディオデッキの磁気ヘッド等の仕上げ用
の研磨テープとして最適な、磁気ヘッドに対し傷を付け
ない研磨と磁気ヘッド表面の構成材料に対し均等に平坦
化する研磨により、磁気ヘッドの出力を大幅に改善する
ことができる研磨テープを提供することを目的としてい
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems of the prior art, and is particularly suitable as a polishing tape for finishing a magnetic head of a VTR or a high-grade audio deck. On the other hand, it is an object of the present invention to provide a polishing tape that can significantly improve the output of the magnetic head by polishing without scratching and by polishing that uniformly flattens the constituent material of the magnetic head surface.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明のかかる目的は、
可撓性支持体上に研磨材粒子及び結合剤樹脂を主体とす
る研磨層を少なくとも二層設けた研磨テープにおいて、
最上層の第一研磨層に含まれる研磨材粒子の平均粒子径
Aよりも、該第一研磨層の直下に位置する第二研磨層に
含まれる研磨材粒子の平均粒子径Bが小さいことを特徴
とする研磨テープにより達成される。
The object of the present invention is to:
In a polishing tape having at least two polishing layers mainly composed of abrasive particles and a binder resin on a flexible support,
The average particle size B of the abrasive particles contained in the second polishing layer located immediately below the first polishing layer is smaller than the average particle size A of the abrasive particles contained in the uppermost first polishing layer. This is achieved by the characteristic polishing tape.

【0008】本発明の研磨テープにおいては、研磨の際
に被研磨面に直接接触する最上層の第一研磨層は比較的
平均粒子径の小さい研磨材粒子を含む第二研磨層の表面
の凹凸上に塗布されるので、塗布液のレベリング作用に
より第一研磨層の表面は、さらに微小な凹凸となり、全
体として平坦な面とすることができる。そのため、第一
研磨層を単一層で可撓性支持体上に形成した場合よりも
磁気ヘッドの被研磨面に対し均等に力を作用でき傷の発
生を防止することができる。そして、第一研磨層の研磨
材粒子として比較的平均粒子径の大きな研磨材粒子を選
択することにより、被研磨面に対して小さな力で充分な
研磨効果を出すことができる。従って、例えば積層型の
磁気ヘッドのように硬度の異なる材料で構成された被研
磨面に対しても均一に研磨することができ、本発明の研
磨テープで研磨すれば、積層型の磁気ヘッドの異なる材
料間の境界における段差の発生が防止され、テープのヘ
ッドタッチも良くなり磁気ヘッド出力の向上が期待でき
る。以上のように、本発明の研磨テープにおいては、研
磨層が研磨材粒子の平均粒子径で特徴づけられる少なく
とも二層の研磨層から成ること、そしてその研磨材粒子
の平均粒子径の関係が最上層である第一研磨層の研磨材
粒子よりも、その直下に位置する第二研磨層の研磨材粒
子の方が小さい平均粒子径であることが本発明の目的を
達成する上で重要なのである。逆に、第一研磨層に含ま
れる研磨材粒子の平均粒子径Aが第二研磨層に含まれる
研磨材粒子の平均粒子径Bより小さいと第一研磨層の表
面には、微少な突起が残りこのため磁気ヘッドを傷つけ
ることになる。
In the polishing tape of the present invention, the uppermost first polishing layer, which is in direct contact with the surface to be polished during polishing, has irregularities on the surface of the second polishing layer containing abrasive particles having a relatively small average particle size. Since it is applied on the top surface, the surface of the first polishing layer becomes finer irregularities due to the leveling effect of the coating liquid, and the surface can be made flat as a whole. Therefore, as compared with the case where the first polishing layer is formed as a single layer on the flexible support, the force can be uniformly applied to the surface to be polished of the magnetic head and the occurrence of scratches can be prevented. By selecting abrasive particles having a relatively large average particle diameter as the abrasive particles of the first polishing layer, it is possible to obtain a sufficient polishing effect with a small force on the surface to be polished. Therefore, it is possible to evenly polish a surface to be polished made of materials having different hardness, such as a laminated magnetic head, and by polishing with the polishing tape of the present invention, It is possible to prevent the occurrence of a step at the boundary between different materials, improve the head touch of the tape, and expect to improve the output of the magnetic head. As described above, in the polishing tape of the present invention, the polishing layer is composed of at least two polishing layers characterized by the average particle diameter of the abrasive particles, and the relationship between the average particle diameter of the abrasive particles is the highest. It is important for achieving the object of the present invention that the average particle diameter of the abrasive particles of the second polishing layer located immediately below is smaller than that of the abrasive particles of the upper first polishing layer. . On the contrary, if the average particle size A of the abrasive particles contained in the first polishing layer is smaller than the average particle size B of the abrasive particles contained in the second polishing layer, minute projections are formed on the surface of the first polishing layer. The rest will damage the magnetic head.

【0009】本発明の目的をさらに効果的に達成するた
めには、第一研磨層に含まれる研磨材粒子の平均粒子径
Aと第二研磨層に含まれる研磨材粒子の平均粒子径Bと
が、(B/A)≦0.5の関係にあることが好ましく、
更に好ましくは、(B/A)≦0.4である。さらに、
二種の研磨層の塗布を第二研磨層の塗布層がまだ湿潤状
態にある内に第一研磨層を塗布するいわゆる湿式同時重
層塗布(ウエット・オン・ウエット塗布方式)で塗布す
れば、第二研磨層が乾燥、硬化した後に第一研磨層を塗
布するいわゆる逐次重層塗布の場合よりも二層の界面で
の塗布層が一体化することにより、最上層の第一研磨層
の面をより平滑にすることができ、前記の効果が一層有
効に働くようになる。
To more effectively achieve the object of the present invention, the average particle size A of the abrasive particles contained in the first polishing layer and the average particle size B of the abrasive particles contained in the second polishing layer are set. Preferably has a relationship of (B / A) ≦ 0.5,
More preferably, (B / A) ≦ 0.4. further,
If two kinds of polishing layers are applied by a so-called wet simultaneous multi-layer coating (wet-on-wet coating method) in which the first polishing layer is coated while the coating layer of the second polishing layer is still wet, Compared to the case of so-called sequential multi-layer coating in which the two polishing layers are dried and cured and then coated with the first polishing layer, the coating layers at the interface of the two layers are integrated to make the surface of the uppermost first polishing layer more It can be made smooth, and the above-mentioned effect comes to work more effectively.

【0010】本発明の研磨テープに用いられる第一研磨
層に含まれる研磨材粒子の平均粒子径は、仕上げ加工の
用途に応じて選択できるが、0.1乃至1.0μm、さ
らに好ましくは0.5乃至1.0μmである。第二研磨
層の研磨材粒子の平均粒子径は、第一研磨層の研磨材粒
子の平均粒子径よりも小さければ良いのであるが、好ま
しくは0.03乃至0.2μmである。なお、本発明の
研磨テープにおける研磨材粒子の平均粒子径は、10万
倍の透過型電子顕微鏡写真で任意に抽出した500個の
粒子の寸法を測定しその平均値としたものである。
The average particle size of the abrasive particles contained in the first polishing layer used in the polishing tape of the present invention can be selected according to the use of finishing, but is preferably 0.1 to 1.0 μm, more preferably 0. 0.5 to 1.0 μm. The average particle size of the abrasive particles in the second polishing layer may be smaller than the average particle size of the abrasive particles in the first polishing layer, but is preferably 0.03 to 0.2 μm. The average particle size of the abrasive particles in the polishing tape of the present invention is obtained by measuring the size of 500 particles arbitrarily extracted in a transmission electron microscope photograph of 100,000 times and taking the average value.

【0011】本発明の研磨テープに用いられる研磨層の
全厚としては、ヘッドに充分密着して研磨効果の出る厚
みとして5〜10μmのものが使用でき、1例として、
可撓性支持体の厚みを23μmとすると研磨層の全厚は
5μm程度が好ましい。この全厚の中で第一研磨層の厚
みとしては2.0μm以下、好ましくは1.5μm以下
である。また、第二研磨層は二層以上塗布しても第一研
磨層の平滑性の効果は、さらに出ると考えられるが、現
在の塗布技術と生産効率からみて第二研磨層だけでも性
能は充分に達成でき、経済的である。
As the total thickness of the polishing layer used in the polishing tape of the present invention, those having a thickness of 5 to 10 μm that can sufficiently adhere to the head and produce a polishing effect can be used.
When the thickness of the flexible support is 23 μm, the total thickness of the polishing layer is preferably about 5 μm. The total thickness of the first polishing layer is 2.0 μm or less, preferably 1.5 μm or less. In addition, even if two or more layers of the second polishing layer are applied, the smoothness effect of the first polishing layer is considered to be further enhanced, but the performance of the second polishing layer alone is sufficient in view of the current coating technology and production efficiency. Can be achieved and is economical.

【0012】本発明の研磨テープに用いられる研磨層に
含まれる研磨材粒子としては、例えば、α−アルミナ、
γ−アルミナ、溶融アルミナ、炭化珪素、酸化クロム、
酸化セリウム、コランダム、ダイヤモンド、α酸化鉄、
エメリー(主成分:コランダムと磁鉄鉱)、ガーネッ
ト、ケイ石、窒化珪素、窒化硼素等があり、主としてモ
ース硬度6以上の物が望ましくこれらの中から、1種類
以上を組み合わせて使用できる。特に、第一研磨層は前
記研磨材粒子を主体に用いるが、第二研磨層は、各種無
機粉末を使用することができ、研磨材粒子の節約が図れ
る。
The abrasive particles contained in the polishing layer used in the polishing tape of the present invention include, for example, α-alumina,
γ-alumina, fused alumina, silicon carbide, chromium oxide,
Cerium oxide, corundum, diamond, α-iron oxide,
There are emery (main components: corundum and magnetite), garnet, silica stone, silicon nitride, boron nitride, etc., mainly those having a Mohs hardness of 6 or more are desirable, and one or more of them can be used in combination. In particular, the first polishing layer mainly uses the above-mentioned abrasive particles, but the second polishing layer can use various inorganic powders, so that the abrasive particles can be saved.

【0013】本発明で用いる結合剤樹脂としては、当業
界で知られている種々のものを使用できる。これらの樹
脂は単独でも、2種以上の組み合わせとしても用いるこ
とができ、例えば熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、また反
応型樹脂等が挙げられる。
As the binder resin used in the present invention, various binder resins known in the art can be used. These resins can be used alone or in combination of two or more, and examples thereof include thermoplastic resins, thermosetting resins, and reactive resins.

【0014】熱可塑性樹脂としては軟化温度が150℃
以下、平均分子量が10,000〜300,000、重
合度が約50〜2,000程度のもので、例えば(メ
タ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリロニトリル、
ブタジエン、ビニルエステル、(メタ)アクリルアミ
ド、塩化ビニル、塩化ビニリデン等の重合体あるいはこ
れらの誘導体の重合体、あるいは重合体やさらにこれら
と共重合可能なモノマーとの重合体、例えば塩化ビニル
酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル共重合体、塩化ビニル
塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニルアクリロニトリル
共重合体、アクリル酸エステルアクリロニトリル共重合
体、アクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、アク
リル酸エステルスチレン共重合体、メタクリル酸エステ
ルアクリロニトリル共重合体、メタクリル酸エステル塩
化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステルスチレン
共重合体、ウレタンエラストマー、ナイロン−シリコン
系樹脂、ニトロセルロース−ポリアミド樹脂、ポリフッ
カビニル、塩化ビニリデンアクリルニトリル共重合体、
ブタジエンアクリルニトリル共重合体、ポリアミド樹
脂、ポリビニルブチラール、セルロース誘導体(セルロ
ースアセテートブチレート、セルロースダイアセテー
ト、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネ
ート、ニトロセルロース、エチルセルロース、メチルセ
ルロース、プロピルセルロース、メチルエチルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース、アセチルセルロース
等)、スチレンブタジエン共重合体、ポリエステル樹
脂、クロロビニルエーテルアクリル酸エステル共重合
体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂およ
びこれらの混合物等が使用される。
The thermoplastic resin has a softening temperature of 150 ° C.
Hereinafter, those having an average molecular weight of 10,000 to 300,000 and a degree of polymerization of about 50 to 2,000, for example, (meth) acrylic acid ester, (meth) acrylonitrile,
Polymers of butadiene, vinyl ester, (meth) acrylamide, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc., or polymers of their derivatives, or polymers and polymers with monomers copolymerizable therewith, such as vinyl vinyl acetate Polymer, vinyl chloride copolymer, vinyl chloride vinylidene chloride copolymer, vinyl chloride acrylonitrile copolymer, acrylic ester acrylonitrile copolymer, acrylic ester vinylidene chloride copolymer, acrylic ester styrene copolymer, methacrylic Acid ester acrylonitrile copolymer, methacrylic acid vinylidene chloride copolymer, methacrylic acid styrene copolymer, urethane elastomer, nylon-silicone resin, nitrocellulose-polyamide resin, polyfucca vinyl, vinyl chloride Den acrylonitrile copolymer,
Butadiene-acrylonitrile copolymer, polyamide resin, polyvinyl butyral, cellulose derivative (cellulose acetate butyrate, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, nitrocellulose, ethyl cellulose, methyl cellulose, propyl cellulose, methyl ethyl cellulose, carboxymethyl cellulose, acetyl) (Eg, cellulose), styrene-butadiene copolymer, polyester resin, chlorovinyl ether acrylate copolymer, amino resin, various synthetic rubber-based thermoplastic resins, and mixtures thereof.

【0015】熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては塗
布液の状態では200,000以下の分子量であり、塗
布、乾燥後に加熱することにより縮合、付加等の反応を
させることが出来る。具体的には例えばフェノール樹
脂、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化
型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルッキッド樹脂、
シリコン樹脂、アクリル系反応樹脂、エポキシ−ポリア
ミド樹脂、ニトロセルロースメラミン樹脂、高分子量ポ
リエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合
物、メタクリル酸塩共重合体とジイソシアネートプレポ
リマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシ
アネートとの混合物、尿素ホルムアルデヒド樹脂、低分
子量グリコール/高分子量ジオール/トリフェニルメタ
ントリイソシアネートの混合物、ポリアミン樹脂、ポリ
イミン樹脂およびこれらの混合物等がある。
The thermosetting resin or reactive resin has a molecular weight of 200,000 or less in the state of a coating solution, and can be reacted such as condensation and addition by heating after coating and drying. Specifically, for example, phenol resin, phenoxy resin, epoxy resin, polyurethane curable resin, urea resin, melamine resin, alkyd resin,
Silicone resin, acrylic reaction resin, epoxy-polyamide resin, nitrocellulose melamine resin, mixture of high molecular weight polyester resin and isocyanate prepolymer, mixture of methacrylate copolymer and diisocyanate prepolymer, mixture of polyester polyol and polyisocyanate , Urea formaldehyde resins, low molecular weight glycol / high molecular weight diol / triphenylmethane triisocyanate mixtures, polyamine resins, polyimine resins and mixtures thereof.

【0016】また公知の電子線硬化型樹脂を使用するこ
とも可能である。これらの例とその製造方法については
特開昭62−256219号に詳細に記載されている。
これらの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂は、
主たる官能基以外に以下に挙げる極性基を有するものを
少なくとも使用することが望ましく、本発明にあっては
これらの樹脂と研磨材粒子との相互作用を強め、分散性
を向上させると共に本発明の化合物と相互作用させ一体
性のある研磨層を形成する上で極性基含有樹脂を使用す
ることが望ましい。該極性基としてはカルボン酸基、ス
ルフェン酸基、スルホン酸基、燐酸基、硫酸基、ホスホ
ン基、ホスフィン基、ホウ酸基、硫酸エステル基、燐酸
エステル基、これらのアルキルエステル基等の酸性基
(これらの酸性基はNa塩などの形でもよい);アミノ
酸類の基;アミノスルホン酸類の基、アミノアルコール
の硫酸または燐酸エステル類の基;アルキルベタイン型
等の両性類の基;アミノ基、イミノ基、イミド基、アミ
ド基等の塩基性基;反応により水酸基を生ずるエポキシ
基、水酸基、アルコキシル基、チオール基、ハロゲン
基、シリル基、シロキ酸基などを通常1種以上6種以内
含み、樹脂1g当たり1×10-6〜1×10-2当量/g
含むことが望ましい。特に望ましい極性基としてはエポ
キシ基、−SO3M基等を挙げることができる(ここで
MはHあるいはNa、K等のアルカリ金属、アンモニウ
ムイオンである)。これらの極性基は、極性基を含有す
るモノマーを共重合(共縮合重合)させることにより、
または高分子反応を利用して樹脂に導入することが可能
である。
It is also possible to use a known electron beam curable resin. These examples and the manufacturing method thereof are described in detail in JP-A-62-256219.
These thermoplastic resins, thermosetting resins, and reactive resins are
It is desirable to use at least those having polar groups listed below in addition to the main functional groups. In the present invention, the interaction between these resins and the abrasive particles is enhanced, and the dispersibility is improved and the It is desirable to use a polar group containing resin in order to interact with the compound and form an integral polishing layer. As the polar group, an acidic group such as a carboxylic acid group, a sulfenic acid group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, a sulfuric acid group, a phosphon group, a phosphine group, a boric acid group, a sulfuric acid ester group, a phosphoric acid ester group, or an alkyl ester group thereof. (These acidic groups may be in the form of Na salts, etc.); amino acid groups; aminosulfonic acid groups, aminoalcohol sulfuric acid or phosphoric acid ester groups; alkylbetaine-type amphoteric groups; amino groups; A basic group such as an imino group, an imide group, an amide group; usually contains one or more and 6 or less epoxy group, hydroxyl group, alkoxyl group, thiol group, halogen group, silyl group, siloxy acid group, etc. 1 × 10 −6 to 1 × 10 −2 equivalent / g of resin
It is desirable to include. Particularly desirable polar groups include an epoxy group, a —SO 3 M group and the like (where M is H or an alkali metal such as Na or K, or an ammonium ion). These polar groups are copolymerized (co-condensation polymerization) with a monomer containing a polar group,
Alternatively, it can be introduced into the resin by utilizing a polymer reaction.

【0017】極性基含有樹脂として、特に塩化ビニル樹
脂、ポリウレタン樹脂が望ましい。特に極性基としては
エポキシ基、−SO3M基が望ましい。塩化ビニル樹脂
として望ましくは、エポキシ基含有塩化ビニル系共重合
体が挙げられ、塩化ビニル繰り返し単位と、エポキシ基
を有する繰り返し単位と、−SO3M(Mは前記と同様
で特にNaが望ましい)を有する繰り返し単位とを含む
塩化ビニル系共重合体が挙げられる。
As the polar group-containing resin, vinyl chloride resin and polyurethane resin are particularly desirable. Particularly, the polar group is preferably an epoxy group or a —SO 3 M group. The vinyl chloride resin is preferably an epoxy group-containing vinyl chloride-based copolymer, and includes a vinyl chloride repeating unit, an epoxy group-containing repeating unit, and —SO 3 M (M is the same as the above and is particularly preferably Na). And a vinyl chloride-based copolymer containing a repeating unit having

【0018】極性基含有樹脂の極性基含有量は、1×1
-6〜1×10-2当量/gの範囲が望ましい。更に望ま
しくは、1×10-6〜1×10-2当量/gである。ま
た、分子量は10,000〜200,000が望まし
い。極性基含有ポリウレタン樹脂は、具体的には、ポリ
エーテルジオール、ポリエステルジオール、ポリカーボ
ネートジオール、ポリカプロラクトンジオールのような
ポリオールとジイソシアネート、更に必要に応じて多価
アルコール、脂肪族ポリアミン、脂環式ポリアミン、芳
香族ポリアミン等の鎖延長剤とから製造することがで
き、該極性基は、種々の手段を使用して導入することが
できる。
The polar group content of the polar group-containing resin is 1 × 1.
The range of 0 −6 to 1 × 10 −2 equivalent / g is desirable. More preferably, it is 1 × 10 −6 to 1 × 10 −2 equivalent / g. The molecular weight is preferably 10,000 to 200,000. The polar group-containing polyurethane resin is specifically a polyol such as a polyether diol, a polyester diol, a polycarbonate diol, a polycaprolactone diol, and a diisocyanate, and if necessary, a polyhydric alcohol, an aliphatic polyamine, an alicyclic polyamine, It can be prepared with a chain extender such as an aromatic polyamine, and the polar group can be introduced using various means.

【0019】例えば、極性基を有する多塩基酸もしくは
ポリオールを使用してポリエステルポリオールに極性基
を導入し、このポリエステルポリオールとポリイソシア
ネート化合物を反応させることにより得ることができ
る。このポリイソシアネート化合物は、ポリウレタン樹
脂の構成成分のほか、硬化剤として上記樹脂の3次元網
目構造を形成する上でも使用できる。また、本発明にお
いては任意の硬化剤を使用できる。
For example, it can be obtained by introducing a polar group into a polyester polyol using a polybasic acid or a polyol having a polar group, and reacting the polyester polyol with a polyisocyanate compound. This polyisocyanate compound can be used not only as a component of the polyurethane resin but also as a curing agent for forming a three-dimensional network structure of the resin. Further, in the present invention, any curing agent can be used.

【0020】本発明で研磨材粒子、結合剤樹脂等を分
散、混練、塗布の際に使用する有機溶剤としては、任意
の比率で混合使用することが出来る。以下にその具体例
を示すと、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系;メタノ
ール、エタノール、ブタノールなどのアルコール系;酢
酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸
グリコールモノエチルエーテル等のエステル系;エーテ
ル、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチ
ルエーテル、ジオキサンなどのグリコールエーテル系;
ベンゼン、トルエン、クレゾール、クロルベンゼン、ス
チレン等のタール系(芳香族炭化水素);メチレンクロ
ライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホル
ム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩
素化炭化水素、N,N−ジメチルホルムアルデヒド、ヘ
キサン等が使用できる。
The organic particles used in the present invention for dispersing, kneading and coating the abrasive particles, binder resin and the like can be mixed and used in any ratio. Specific examples are shown below. Acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and other ketones; methanol, ethanol, butanol and other alcohols; methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, glycol acetate monoethyl ether. Ester type such as ether; glycol ether type such as ether, glycol dimethyl ether, glycol monoethyl ether, dioxane;
Tar-based compounds (aromatic hydrocarbons) such as benzene, toluene, cresol, chlorobenzene, styrene; chlorinated hydrocarbons such as methylene chloride, ethylene chloride, carbon tetrachloride, chloroform, ethylene chlorohydrin, dichlorobenzene, N, N-dimethylformaldehyde, hexane, etc. can be used.

【0021】本発明の研磨層は前記有機溶剤の他に添加
剤として、潤滑剤、分散剤、帯電防止剤等を含んでもよ
い。本発明の研磨材粒子、結合剤樹脂、有機溶剤、添加
剤等からなる研磨層形成塗料の作成における分散、混合
の方法は任意であり、従来公知の方法が適用できる。例
えば、塗料の幾つかの組成物に分けて後で混合すること
などが出来る。混練分散に当たっては各種の混練機が使
用される。例えば、二本ロールミル、三本ロールミル、
ボールミル、ペブルミル、トロンミル、サンドグライン
ダー、ゼグバリ(Szegvari)、アトライター、
高速インペラー分散機、高速ストーンミル、高速衝撃ミ
ル、ディスパー、ニーダー、高速ミキサー、ホモジナイ
ザー、超音波分散機などを用いることができる。
The polishing layer of the present invention may contain a lubricant, a dispersant, an antistatic agent or the like as an additive in addition to the organic solvent. The method of dispersion and mixing in the preparation of the coating for forming the polishing layer, which comprises the abrasive particles, the binder resin, the organic solvent, the additive and the like of the present invention, is arbitrary, and conventionally known methods can be applied. For example, several compositions of paint can be divided and mixed later. Various kneaders are used for kneading and dispersing. For example, two roll mill, three roll mill,
Ball mill, pebble mill, tron mill, sand grinder, segvari, attritor,
A high speed impeller disperser, a high speed stone mill, a high speed impact mill, a disper, a kneader, a high speed mixer, a homogenizer, an ultrasonic disperser and the like can be used.

【0022】本発明の研磨テープに使用される可撓性支
持体としては、例えばポリエチレンテレフタレート(P
ET)、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレン−
2、6−ナフタレート、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリエチレン、ポリアミド、ポリアミドイミド、
ポリイミド、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン等の
合成樹脂からなるフイルムもしくはシートから選ぶこと
ができる。
As the flexible support used in the polishing tape of the present invention, for example, polyethylene terephthalate (P
ET), polyethylene naphthalate, polyethylene-
2,6-naphthalate, polypropylene, polycarbonate, polyethylene, polyamide, polyamideimide,
It can be selected from a film or sheet made of a synthetic resin such as polyimide, polysulfone, or polyethersulfone.

【0023】また、支持体上に研磨層を形成する方法と
しては、従来公知の方法を用いることができ、詳しくは
「コーティング工学」(朝倉書店,1972年)または
「最新コーティング技術・増補版」((株)総合技術セ
ンター,1984年)等の成書に記載されている方法を
行うことができる。上記の可撓性支持体上に前記研磨層
を塗布する方法としては任意の塗布装置、例えば、エア
ードクターコート、ブレードコート、ロッドコート、エ
アーナイフコート、スクイズコート、含浸コート、リバ
ースロールコート、トランスファーロールコート、グラ
ビアコート、キスコート、スプレイコート、エクストル
ージョンコート、スピンコート等を使用する方法等が挙
げられる。上記の塗布法によって研磨層を塗布、乾燥
し、この工程を繰り返して連続塗布操作により二層以上
の研磨層を設けたいわゆる逐次重層塗布でも良いしま
た、特開昭48−98803号公報(西ドイツ特許DT
−OS2,309,159号)、特開昭48−9923
3号公報(西ドイツ特許DT−AS2,309,158
号)等に記載された如く多層同時塗布法によって同時に
二層以上の磁性層を設けるのと同様の方法で研磨層を設
ける湿式同時重層塗布(ウエット・オン・ウエット塗布
方式)でも良い。
As a method for forming the polishing layer on the support, a conventionally known method can be used. For details, see “Coating Engineering” (Asakura Shoten, 1972) or “Latest coating technology / enhanced edition”. (The General Technology Center Co., Ltd., 1984) and the like can be used. As a method for applying the polishing layer on the flexible support, any application device, for example, air doctor coat, blade coat, rod coat, air knife coat, squeeze coat, impregnation coat, reverse roll coat, transfer Examples thereof include a method using roll coating, gravure coating, kiss coating, spray coating, extrusion coating, spin coating and the like. A so-called sequential multi-layer coating in which two or more polishing layers are provided by continuously coating the polishing layer after coating and drying the polishing layer by the above-mentioned coating method may also be used, and JP-A-48-98803 (West Germany). Patent DT
-OS 2,309,159), JP-A-48-9923.
3 (West German Patent DT-AS2,309,158
No.) etc., wet simultaneous multi-layer coating (wet-on-wet coating method) may be used in which two or more magnetic layers are simultaneously formed by the multi-layer simultaneous coating method.

【0024】混練分散、塗布に関する技術は、T.C.
PATTON著(テー.シー.パットン)“塗料の流動
と顔料分散”(1975年)に記載された如く多層同時
塗布法によって研磨層を設けることができる。また、こ
の乾燥厚みは研磨テープの用途、形状、規格などにより
決められる。また本発明とは目的が異なるが、特開平1
−109084号公報では、研磨特性の異なる二層の研
磨層を設け、上層研磨層は下層研磨層より高研磨性を有
しており、下層研磨層は上層研磨層より高精密仕上げ特
性を有する研磨フイルムが開示されている。前記二層の
研磨層は、同一研磨材粒子を使用しており、この粒子濃
度を変えて二つの特性を持たせている。即ち高研磨性は
粒子濃度を濃く、高精密仕上げ特性は粒子濃度を薄く
し、上層研磨層を全て粗加工で使用後、下層研磨層が現
れ仕上げ加工に使用する。従って仕上げ精度向上だけに
使用するには、不都合であった。
Techniques relating to kneading dispersion and coating are described in T.W. C.
The polishing layer can be provided by a multi-layer simultaneous coating method as described in "Paint Flow and Pigment Dispersion" (1975) by Patton (TC Patton). The dry thickness is determined by the use, shape, standard, etc. of the polishing tape. Further, although the purpose is different from that of the present invention, JP
No. 109084, two polishing layers having different polishing properties are provided, the upper polishing layer has a higher polishing property than the lower polishing layer, and the lower polishing layer has a higher precision finishing property than the upper polishing layer. A film is disclosed. The two polishing layers use the same abrasive particles, and have two characteristics by changing the particle concentration. That is, the high polishing property has a high particle concentration and the high precision finishing property has a low particle concentration. After the upper polishing layer is entirely used for roughing, the lower polishing layer appears and is used for finishing. Therefore, it is inconvenient to use it only for improving the finishing accuracy.

【0025】[0025]

【実施例】本発明の研磨テープについて実施例および比
較例を示す。なお以下に示す実施例及び比較例におい
て、「部」との表現は特に制限のない場合には「重量
部」を表すものである。またここに示す成分、割合は本
発明の精神から逸脱しない範囲において変更し得るもの
であることは、本業界に携わっているものとしては容易
に理解されることである。従って本発明は、下記の実施
例に制限されるべきでない。
EXAMPLES Examples and comparative examples of the polishing tape of the present invention will be shown. In the following examples and comparative examples, the expression "part" means "part by weight" unless otherwise specified. Further, it is easily understood as those involved in the art that the components and ratios shown here can be changed without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the present invention should not be limited to the examples below.

【0026】(実施例1) 〈第一混合液の組成〉 研磨材粒子 ……300部 酸化鉄(粒状、平均粒子径0.2μm、モース硬度5〜6) 結合剤樹脂 塩化ビニル・酢酸ビニル共重合樹脂 …… 20部 ポリアミド樹脂 …… 30部 エポキシ樹脂 …… 7部 溶剤 ……320部 ボールミルを使用して分散させた上記の組成を有する第
一混合液(粘度0.5ポイズ)を乾燥後の研磨層の厚さ
が3.5μmの厚さになるように塗布して第二研磨層を
形成し、その上に第一混合液の研磨材粒子の酸化鉄を酸
化クロム(粒状、平均粒子径0.5μm、モース硬度6
〜7)に代えて作製した第二混合液を乾燥後の研磨層の
厚さが1.5μmの厚さになるように塗布して第一研磨
層を形成し、全厚で5μmになるように厚さ23μmの
ポリエチレンテレフタレートの支持体上に塗布し、乾燥
条件としてはスピード60m/分、前部40゜C、中間
部80゜C、後部120゜C、の下で乾燥させて研磨層
を形成した後、1/2吋にスリットして磁気ヘッド用研
磨テープを製造した。
(Example 1) <Composition of first mixed liquid> Abrasive particles: 300 parts Iron oxide (granular, average particle size 0.2 μm, Mohs hardness 5-6) Binder resin Vinyl chloride / vinyl acetate Polymerized resin: 20 parts Polyamide resin: 30 parts Epoxy resin: 7 parts Solvent: 320 parts After drying the first mixed liquid (viscosity 0.5 poise) having the above composition dispersed using a ball mill. To form a second polishing layer by coating so that the thickness of the polishing layer is 3.5 μm, and the iron oxide of the abrasive particles of the first mixed liquid is formed on the second polishing layer. Diameter 0.5 μm, Mohs hardness 6
To 7) are applied so that the thickness of the dried polishing layer is 1.5 μm to form the first polishing layer, and the total thickness is 5 μm. On a support of polyethylene terephthalate having a thickness of 23 μm, and dried under a speed of 60 m / min, 40 ° C in the front part, 80 ° C in the middle part and 120 ° C in the rear part to dry the polishing layer. After the formation, a 1/2 inch slit was made to manufacture a polishing tape for a magnetic head.

【0027】(実施例2)実施例1において、第二研磨
層の研磨材粒子を酸化チタン(粒状、平均粒子径0.0
35μm、モース硬度6〜6.5)に代えた以外は、実
施例1と同一の条件で1/2吋にスリットして磁気ヘッ
ド用研磨テープを製造した。
Example 2 In Example 1, the abrasive particles of the second polishing layer were made of titanium oxide (granular, average particle size 0.0
A polishing tape for a magnetic head was manufactured by slitting into 1/2 inch under the same conditions as in Example 1 except that the thickness was changed to 35 μm and Mohs hardness was 6 to 6.5).

【0028】(実施例3)実施例1において、第二研磨
層の研磨材粒子を炭酸カルシウム(粒状、平均粒子径
0.07μm、モース硬度3)に代えた以外は、実施例
1と同一の条件で1/2吋にスリットして磁気ヘッド用
研磨テープを製造した。
(Example 3) The same as Example 1 except that calcium carbonate (granular, average particle size 0.07 μm, Mohs hardness 3) was used as the abrasive particles in the second polishing layer. Slitting to 1/2 inch under the conditions, a polishing tape for a magnetic head was manufactured.

【0029】(実施例4)実施例1において、第二研磨
層の研磨材粒子をアルミナ(粒状、平均粒子径0.19
μm、モース硬度9)に代えた以外は、実施例1と同一
の条件で1/2吋にスリットして磁気ヘッド用研磨テー
プを製造した。
Example 4 In Example 1, the abrasive particles of the second polishing layer were made of alumina (granular, average particle size 0.19).
A polishing tape for a magnetic head was manufactured by slitting into 1/2 inch under the same conditions as in Example 1 except that the thickness was changed to μm and Mohs hardness 9).

【0030】(比較例1)実施例1において、第一研磨
層の厚みを5μmに代えて、第二研磨層をなくした以外
は、実施例1と同一の条件で1/2吋にスリットして磁
気ヘッド用研磨テープを製造した。
(Comparative Example 1) In Example 1, except that the thickness of the first polishing layer was changed to 5 μm and the second polishing layer was omitted, slitting was carried out in 1/2 inch under the same conditions as in Example 1. To produce a magnetic head polishing tape.

【0031】(比較例2)実施例1において、第二研磨
層の研磨材粒子を第一研磨層と同一の酸化クロムに代え
た以外は、実施例1と同一の条件で1/2吋にスリット
して磁気ヘッド用研磨テープを製造した。
(Comparative Example 2) In Example 1, except that the abrasive particles of the second polishing layer were replaced by the same chromium oxide as that of the first polishing layer, 1/2 inch was obtained under the same conditions as in Example 1. Slitting was performed to manufacture a polishing tape for a magnetic head.

【0032】(比較例3)実施例1において、第二研磨
層に使う研磨剤の種類は同じで研磨材粒子の平均粒子径
を0.3μmと大きくした酸化鉄(粒状、平均粒子径
0.3μm、モース硬度5〜6)に代えた以外は、実施
例1と同一の条件で1/2吋にスリットして磁気ヘッド
用研磨テープを製造した。
(Comparative Example 3) In Example 1, iron oxide (granular, average particle size 0. A polishing tape for a magnetic head was manufactured by slitting into 1/2 inch under the same conditions as in Example 1 except that the polishing tape was changed to 3 μm, Mohs hardness 5-6).

【0033】次に市販のオプトロニクス研磨機を使用し
て、8mmVTR用磁気ヘッドを実施例1〜4及び比較
例1〜3の合計7種類の研磨テープにより、テープテン
ション一定で、同一時間研磨加工後、この磁気ヘッドを
専用測定機にセットして磁気テープの再生出力を測定
し、磁気ヘッドの出力レベルを測定した。上記結果を表
1に示す。
Then, using a commercially available Optronics polishing machine, an 8 mm VTR magnetic head was polished with a total of 7 types of polishing tapes of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 at the same tape tension and after the same polishing time. The magnetic head reproduction level was measured by setting this magnetic head in a dedicated measuring machine to measure the output level of the magnetic head. The results are shown in Table 1.

【0034】[0034]

【表1】 [Table 1]

【0035】以上の実施例1〜4及び比較例1〜3にお
いて得られた結果から、比較例1の一層塗布及び比較例
2の二層同種の研磨材の塗布は、ビデオ磁気ヘッド出力
が0dbに対し、実施例1〜4で製造された研磨テープ
はビデオ磁気ヘッド出力が大幅に増加していることが分
かった。
From the results obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 described above, the single-layer coating of Comparative Example 1 and the two-layer same-type abrasive coating of Comparative Example 2 produced a video magnetic head output of 0 db. On the other hand, it was found that the polishing tapes manufactured in Examples 1 to 4 significantly increased the output of the video magnetic head.

【0036】[0036]

【発明の効果】本発明の研磨テープにおいては、研磨の
際に被研磨面に直接接触する最上層の第一研磨層は比較
的平均粒子径の小さい研磨材粒子を含む第二研磨層の上
に塗布されるので、塗布液のレベリング作用により第一
研磨層の表面には、微小な突起があまり生ずることな
く、全体として平坦な面とすることができる。そのた
め、第一研磨層を単一層で可撓性支持体上に形成した場
合よりも磁気ヘッドの被研磨面に対し均等に力を作用で
き傷の発生を防止することができる。そして、第一研磨
層の研磨材粒子として比較的平均粒子径の大きな研磨材
粒子を選択することにより被研磨面に対して小さな力で
充分な研磨効果を出すことができる。従って、例えば積
層型の磁気ヘッドのように硬度の異なる材料で構成され
た被研磨面に対しても均一に研磨することができ積層型
の磁気ヘッドの異なる材料間の境界における段差の発生
が防止されテープのヘッドタッチも良くなり磁気ヘッド
出力の向上が期待できる。尚、第二研磨層には研磨材以
外の安価な無機粉末を使用することにより高価な研磨材
を節約でき、また第一研磨層の塗布の際にロールコート
方式よりもエクストルージョンコート方式により同時塗
布することにより塗布筋も減少でき、得率の向上も望め
る。
In the polishing tape of the present invention, the uppermost first polishing layer that is in direct contact with the surface to be polished during polishing is on the second polishing layer containing abrasive particles having a relatively small average particle size. As a result, the leveling effect of the coating liquid makes the surface of the first polishing layer a flat surface as a whole, with few minute protrusions. Therefore, as compared with the case where the first polishing layer is formed as a single layer on the flexible support, the force can be uniformly applied to the surface to be polished of the magnetic head and the occurrence of scratches can be prevented. Then, by selecting abrasive particles having a relatively large average particle diameter as the abrasive particles of the first polishing layer, a sufficient polishing effect can be obtained with a small force on the surface to be polished. Therefore, even a surface to be polished made of materials having different hardness, such as a laminated magnetic head, can be uniformly polished, and a step difference at the boundary between different materials of the laminated magnetic head can be prevented. Also, the head touch of the tape is improved and the output of the magnetic head can be improved. It should be noted that by using an inexpensive inorganic powder other than the abrasive in the second polishing layer, the expensive abrasive can be saved, and at the time of applying the first polishing layer, the extrusion coating method can be used simultaneously rather than the roll coating method. By applying it, the applied streaks can be reduced and the improvement of the yield can be expected.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 可撓性支持体上に研磨材粒子及び結合剤
樹脂を主体とする研磨層を少なくとも二層設けた研磨テ
ープにおいて、最上層の第一研磨層に含まれる研磨材粒
子の平均粒子径Aよりも、該第一研磨層の直下に位置す
る第二研磨層に含まれる研磨材粒子の平均粒子径Bの方
が小さいことを特徴とする研磨テープ。
1. A polishing tape comprising at least two polishing layers comprising abrasive particles and a binder resin as a main component on a flexible support, wherein the average of the abrasive particles contained in the uppermost first polishing layer. A polishing tape characterized in that the average particle size B of the abrasive particles contained in the second polishing layer located immediately below the first polishing layer is smaller than the particle size A.
【請求項2】 前記第一研磨層に含まれる研磨材粒子の
平均粒子径Aと前記第二研磨層に含まれる研磨材粒子の
平均粒子径Bとは、(B/A)≦0.5の関係にある特
許請求の範囲第1項記載の研磨テープ。
2. The average particle size A of the abrasive particles contained in the first polishing layer and the average particle size B of the abrasive particles contained in the second polishing layer are (B / A) ≦ 0.5. The polishing tape according to claim 1, which has the relationship of.
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