JPH0677303A - 半導体装置の評価方法 - Google Patents

半導体装置の評価方法

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JPH0677303A
JPH0677303A JP22559092A JP22559092A JPH0677303A JP H0677303 A JPH0677303 A JP H0677303A JP 22559092 A JP22559092 A JP 22559092A JP 22559092 A JP22559092 A JP 22559092A JP H0677303 A JPH0677303 A JP H0677303A
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JP
Japan
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supply voltage
monitor
power supply
circuit
mpu
Prior art date
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Application number
JP22559092A
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English (en)
Inventor
Akio Miyajima
明夫 宮島
Kiyoyuki Morita
清之 森田
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication of JPH0677303A publication Critical patent/JPH0677303A/ja
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 複数素子の回路動作速度をウエハ段階で精度
良く推定する。 【構成】 半導体ウエハ上に複数素子で形成される回路
と、同一ウエハ上に製造工程管理用モニタトランジスタ
を有し、工程110において前記モニタトランジスタの
飽和電流値と前記回路の最低動作電源電圧との相関、及
びモニタトランジスタの飽和電流値のプロセスバラツキ
より、回路の最低動作電源電圧をウェハ段階で推定す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置の評価方法に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、シリコン基板を用いたMOS集積
回路の高性能化はめざましいものがあり、それに伴い、
特にマイクロプロセッサ(MPU)への高速化への要求
が高まっている。従来のMPU製造フローの概略を図9
を用いて説明する。まず工程901では半導体ウェハ上
に複数素子で形成されるMPUとプロセスコントロール
モニタ(以下PCMと呼ぶ)を同一ウェハ上に製造す
る。次に工程902では前記プロセスが正常に実施され
たかをチェックするためにPCM特性を評価し判別す
る。工程902の評価基準としては様々な設定方法が存
在するが、一般には設計マージンや経験から設定する管
理基準等が用いられている。次に、工程903では低速
のクロック周波数で(約1MHz以下程度)MPUを動
作させ機能的良品を判別する(以下P検と呼ぶ)。次に
工程904では前記PCM判定とP検をパスしたチップ
を半導体ウェハから切り出しパッケージする。そして、
パッケージ品を所望のクロック周波数(例えば数10M
Hz)で動作させたときの良品を判別する工程(以下F
検と呼ぶ)905を経て、F検良品のみを出荷する90
6というフローである。ここで、ウェハ状態でF検を行
わないのは、ウエハ状態では測定時にインピーダンス整
合を取りにくいこと、及びノイズ等の影響が大きくなり
タイミングずれが生じ易いからである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような構成ではF検歩留りが悪ければ、パッケージ工程
(実装工程)とF検評価工程が無駄になりコスト及び時
間が多大なロスになる。
【0004】従って、本発明は複数素子の速度をウエハ
段階で精度良く推定する半導体装置の評価方法を提供す
る事を目的とする。
【0005】
【課題を解決するたの手段】上記問題点を解決するため
に本発明は、半導体ウエハ上に複数素子で形成される回
路と、同一ウエハ上に製造工程管理用モニタを有し、前
記モニタの特性と前記回路の最低動作電源電圧との相
関、及び前記モニタの特性のプロセスバラツキより、回
路の最低動作電源電圧を推定することを特徴とする半導
体装置の評価方法である。
【0006】
【作用】本発明は上記した構成によって、低電源電圧で
動作する回路は、通常の電源電圧では高いクロック周波
数でも動作するため、ウエハ段階で回路動作速度を簡単
にかつ精度良く評価でき、半導体製造工程におけるコス
ト低減及び開発効率の向上を実現できる。
【0007】
【実施例】以下本発明の一実施例の半導体装置の評価方
法について、図面を参照しながら説明する。図1は本発
明の実施例における半導体装置の製品出荷までの製造方
法工程について示した図である。本実施例では1.0μ
mCMOSプロセスを用いて、100万Tr.規模のM
PUを試作し、モニタトランジスタはNMOSのゲート
長1.0μmを採用している。
【0008】まず工程101では半導体ウェハ上に複数
素子で形成されるMPUとPCMを同一チップ上に製造
する。次に工程102ではプロセスが正常に実施された
かをチェックするためにPCMの数チップの特性を評価
し判別する。この工程でプロセス異常のチップまたはウ
ェハまたはロットを判別する。
【0009】次に、この工程110が本発明の特徴の一
つであるが、F検不良チップまたはウェハまたはロット
を推定判別するためにモニタトランジスタの特性を評価
する。このF検不良チップ判別基準の設定方法が本発明
の特徴の一つである評価方法である。以下詳細に説明す
る。
【0010】モニタトランジスタの飽和電流値Idsa
tを測定する。次に同一チップのMPUをパッケージし
た後に、MPUの最低動作電源電圧Vddminを評価
しIdsat−Vddminの相関を調べる。ここでい
う最低動作電源電圧は、所望のクロック周波数を得るの
に最低必要な電源電圧を言う。一般に仕様電源電圧近傍
での回路動作は電源電圧が大きければクロック周波数が
速くても正常動作し、電源電圧が小さければクロック周
波数を小さくしないと動作しないという特性がある。言
い替えると、低電源電圧で動作するMPUは、通常の電
源電圧では高いクロック周波数でも動作すると言うこと
である。
【0011】本実施例ではモニタトランジスタのNMO
Sの飽和電流値とMPUの最低動作電源電圧の相関を調
べた。結果を図2に示す。この図2を以下の様に加工す
る。加工の原理を図3に示す。
【0012】今、最低動作電源電圧が4.3V以下が良
品であるMPUを考える。図2の特性図で飽和電流値を
ある一定の間隔、例えば0.05[mA]毎に区切り、
各短冊内での良品確率を求める。次に短冊内の中央値を
その短冊内の飽和電流値として、横軸に飽和電流値、縦
軸に良品確率をプロットすると図4を得る。この図4の
特性は、モニタトランジスタがMPU動作速度を忠実に
反映していれば、良い直線性をえて、またMPU動作速
度に対して敏感なモニタの特性ほど直線の傾きは急峻に
なる。本実施例の評価のIdsatはVddminに対
して良い直線性を得られ、速度評価に適していることが
わかる。
【0013】この特性の意味するところは、モニタトラ
ンジスタの飽和電流値を測定すると、図4より同一チッ
プ内のMPUの最低動作電源電圧を推定することができ
るということである。前記事項を応用すると以下の事が
実現できる。もし飽和電流値が低くF検pass確率が
低いと推定されるチップは、その時点で不良品として、
後のパッケージ工程には進まないことで、パッケージに
必要なコストやその後の検査工程を省くことができ、開
発効率の向上が実現できる。
【0014】本発明は図4の特性図を今一度加工する。
以下の方法も本発明の特徴の一つである。図4だけでは
F検pass確率を推定するには、全チップのモニタト
ランジスタの飽和電流値を測定する必要がある。そこ
で、飽和電流値のロット内でのバラツキを別途評価して
おく。そして、ある関数でそのバラツキを現わし、本実
施例では飽和電流値のロット内分布を正規分布で近似
し、特性曲線を形成した(図5)。そして、この飽和電
流値特性曲線の中心値を変化させIdsat−F検pa
ss確率特性との積分を行う。原理図を図6に示す。そ
の結果、ロットのIdsatの平均−F検歩留りの特性
図(図7)を得る。
【0015】この図7より、ロットの飽和電流値の平均
さえ測定すれば、そのロットのF検歩留りを推定するこ
とが可能になる。この利点は図4の特性図では、モニタ
トランジスタの特性を全チップ測定しなければ評価が困
難であり、評価時間は長くなるが、図7の特性図を用い
ると、例えば数チップのモニタトランジスタを評価する
ことで、ロットのIdsatの平均値を推定し(これは
容易である)、F検歩留りを推定することが可能にな
る。また、この特性図を利用するとモニタトランジスタ
のIdsatの意味ある最小規格値を設定でき、PCM
判別でロットのF検歩留りを推定でき、開発コストの大
幅減少、開発時間の短縮を行うことが可能になる。
【0016】図8に本発明の方法でロットIdsat平
均を用い図7を用いて推定したF検歩留りと、実際の歩
留りとの比較を示す。10%以内のレベルで一致してお
り本発明が有効なことが一目に判る。
【0017】以上が図1の工程110でのモニタトラン
ジスタ特性判定の説明である。なお、本実施例では、工
程110と102を分離して示したが、PCM測定に工
程110のモニタトランジスタ評価をつけ加えて判定し
ても良いことは言うまでもない。
【0018】以下は従来と同様のプロセスである。PC
M判定、モニタ特性判定でpassしたチップまたはウ
エハまたはロットのMPUについて工程103でP検を
行う。そしてP検をpassしたチップを工程104で
パッケージ(組立)を行い、工程105でF検(高速機
能良品検査)を行う。そして、工程106でF検をpa
ssしたチップを出荷する。
【0019】本発明による方法を利用することで、速度
不良のチップは組立を行う以前に工程110で判別され
ているので、最終のF検での不良は格段と減少し(組立
不良のみ)組立に必要なコスト、F検での評価コスト及
び時間短縮が可能になり、ひいては製造品であるMPU
の価格まで下げることが可能になる画期的な評価方法で
ある。
【0020】なお、本実施例では複数素子としてMPU
と述べたが、複数素子回路なら良いことは言うまでもな
い。
【0021】
【発明の効果】以上のように本発明ではウェハ段階で、
即ち実装工程を行う事なく回路動作速度を精度良くかつ
簡単に推定することが可能で、F検歩留りを向上させる
ことができ、安価なLSIを提供することができ、発明
の効果は極めて大きい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例における半導体製造工程フロー
【図2】本発明の実施例におけるモニタトランジスタの
飽和電流値とMPU最低動作電源電圧(Vddmin)
の特性図
【図3】本発明の実施例におけるF検pass確率同種
津方法の原理図
【図4】本発明の実施例モニタトランジスタの飽和電流
値とMPUのF検pass確率の特性図
【図5】本発明の実施例におけるIdsatばらつき評
価の概略図
【図6】本発明の実施例におけるロットのF検歩留り推
定手法概略図
【図7】本発明の実施例におけるロット平均Idsat
とF検歩留りの特性図
【図8】本発明の実施例におけるロッMPUのF検歩留
り推定値と実測結果の比較特性図
【図9】従来の半導体製造工程フロー図
【符号の説明】
101 MPU,PCMを半導体ウエハ上に形成する工
程 102 PCMでプロセス状態をチェックする工程 103 MPUの低速機能検査 104 チップをパッケージングする(組立)工程 105 MPUの高速機能検査 106 出荷 110 PCM特性評価によりMPU速度不良を推定判
定する工程

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】半導体ウエハ上に複数素子で形成される回
    路と、同一ウエハ上に製造工程管理用モニタを有し、前
    記モニタの特性と前記回路の最低動作電源電圧との相
    関、及び前記モニタの特性のプロセスバラツキより、回
    路の最低動作電源電圧を推定することを特徴とする半導
    体装置の評価方法。
  2. 【請求項2】請求項1記載のモニタをトランジスタとす
    ることを特徴とする半導体装置の評価方法。
  3. 【請求項3】請求項2記載の飽和電流値をモニタトラン
    ジスタの特性とすることを特徴とする半導体装置の評価
    方法。
JP22559092A 1992-08-25 1992-08-25 半導体装置の評価方法 Pending JPH0677303A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5744964A (en) * 1995-03-11 1998-04-28 Fujitsu Automation Limited Method and apparatus for electrical test of wiring patterns formed on a printed circuit board

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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