JPH0674137B2 - Precise control method of zeolite pore inlet diameter - Google Patents

Precise control method of zeolite pore inlet diameter

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JPH0674137B2
JPH0674137B2 JP13195986A JP13195986A JPH0674137B2 JP H0674137 B2 JPH0674137 B2 JP H0674137B2 JP 13195986 A JP13195986 A JP 13195986A JP 13195986 A JP13195986 A JP 13195986A JP H0674137 B2 JPH0674137 B2 JP H0674137B2
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silica
pore
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ether
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はゼオライト細孔入口径の精密制御法に関し、詳
しくは流通状態のシラン化剤を用い、化学蒸着(CVD)
法により、ゼオライトにシリカ(SiO2)を担持させるに
際して、ゼオライトにアルコールやエーテルを予め吸着
させることにより、シリカの担持量を調整し、このこと
によりゼオライト細孔入口径を制御するゼオライト細孔
入口径の精密制御法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial field of use] The present invention relates to a method for precisely controlling the entrance diameter of zeolite pores, and more specifically, using a silanizing agent in a flowing state, chemical vapor deposition (CVD)
When silica (SiO 2 ) is supported on the zeolite by the method, the amount of silica supported is adjusted by adsorbing alcohol or ether to the zeolite in advance, and thus the zeolite pore entrance diameter is controlled. It relates to a precise control method of the aperture.

[従来の技術] ゼオライトは多孔性のアルミニウムシリケートの結晶で
あり、1)水や有機物をよく吸着する、2)カチオン交
換体である、3)均一な細孔を有し、分子篩性能をも
つ、という物理化学的な特徴を有することから、固体触
媒や吸着剤として多くの工業的な用途が知られている。
[Prior Art] Zeolites are porous aluminum silicate crystals, which 1) adsorb water and organic substances well, 2) are cation exchangers, 3) have uniform pores, and have molecular sieve performance, Because of its physicochemical characteristics, many industrial uses are known as solid catalysts and adsorbents.

固体触媒としての最大の用途は石油のクラッキング触媒
であり、これはカチオン交換性の利用であり、ナトリウ
ムカチオンをプロトン、カルシウム等のアルカリ土類金
属またはランタン等の希土類元素に置き換え、酸性質を
出すようにしてやると、非常に強い固体酸特性を示す。
The largest use as a solid catalyst is as a cracking catalyst for petroleum, which is the use of cation exchange property, and replaces sodium cation with proton, alkaline earth metal such as calcium or rare earth element such as lanthanum, and gives acid property. When done in this way, it exhibits very strong solid acid properties.

また、ある種のゼオライトを用いてメタノールからガソ
リンを製造するプロセス、メタノールとトルエンからp
−キシレンの生成、トルエンの不均化によるp−キシレ
ンの生成に用いられているが、これは分子の大きさによ
り反応性が異なるというゼオライトの形状選択性に特徴
がある。この形状選択性は、1)細孔に入らない分子は
反応しない(反応分子形状選択性)、2)細孔から出ら
れない分子は生成しない(生成分子形状選択性)、3)
遷移状態がとれない生成物は生成しない(遷移状態形状
選択性)の3つに分けられるが、これらの形状選択性を
支配するのはゼオライトの細孔径である。
In addition, the process of producing gasoline from methanol using some zeolite, p from methanol and toluene
-It is used for the production of xylene and the production of p-xylene by the disproportionation of toluene, which is characterized by the shape selectivity of the zeolite, which has different reactivity depending on the size of the molecule. This shape selectivity is 1) molecules that do not enter the pores do not react (reaction molecular shape selectivity), 2) molecules that do not exit the pores do not form (produced molecule shape selectivity), 3)
A product that does not have a transition state is not formed (transition state shape selectivity), and it can be divided into three types, and it is the pore size of zeolite that controls these shape selectivity.

このように、ゼオライトの触媒または吸着剤としたとき
に、重要な性質は酸性質と細孔径である。そこでゼオラ
イトをそのまま用いるのではなく、何らかの処理を施
し、ゼオライトの性質を変化させることが考えられてお
り、一番よく用いられているのはイオン交換と脱アルミ
ニウムであり、このような処理はゼオライトの酸性質に
大きな影響を与える。
Thus, when used as a zeolite catalyst or adsorbent, the important properties are acidity and pore size. Therefore, it is considered that the zeolite is not used as it is, but is subjected to some treatment to change the properties of the zeolite. The most commonly used are ion exchange and dealumination. It greatly affects the acid properties of.

これに対して、細孔径については、アルカリ金属カチオ
ン、アルカリ土類金属カチオンの大きさの違いを利用し
て細孔径を変える方法が知られているが、この方法は酸
特性を著しく変えてしまうという欠点がある。このよう
な観点から、酸性質をそのままに維持し、細孔径の大き
さを制御する方法が望まれている。
On the other hand, regarding the pore size, a method is known in which the pore size is changed by utilizing the difference in size between alkali metal cations and alkaline earth metal cations, but this method significantly changes the acid characteristics. There is a drawback that. From this point of view, there is a demand for a method of maintaining the acid property as it is and controlling the size of the pore size.

このため、ゼオライトにケイ素を含む有機化合物を担持
したり、担持後に焼成してシリカとしたものが提案され
ているが、いずれも細孔入口径を精密に制御するもので
はなかった。
For this reason, zeolites in which an organic compound containing silicon is supported or silica is prepared by firing after supporting it have been proposed, but none of them precisely control the inlet diameter of pores.

さらに、特定のシラン化剤を固定状態で用い、真空条件
下で化学蒸着法によってゼオライトにシリカを担持さ
せ、ゼオライト細孔入口径を制御することも提案されて
いるが、真空下で行なうことは工業的な規模では適さ
ず、また多量のゼオライトを担持させる際、シリカの担
持量にバラツキが生じ、ゼオライト細孔入口径を精密に
かつ均一に制御することは出来なかった。
Further, it is also proposed that a specific silanizing agent is used in a fixed state, silica is supported on zeolite by a chemical vapor deposition method under vacuum conditions, and the pore diameter of zeolite pores is controlled. It was not suitable on an industrial scale, and when a large amount of zeolite was supported, the amount of silica supported varied, and the zeolite pore inlet diameter could not be precisely and uniformly controlled.

ゼオライトはシリカの担持量のごく僅かな差によって大
幅に性能が変わることから、ゼオライトにシリカを担持
させる試みは種々なされているものの、工業的規模でゼ
オライトに所定量のシリカを均一に担持させ、ゼオライ
ト細孔入口径を精密に制御する方法は未だ得られていな
い。
Since the performance of zeolite is significantly changed by a very small difference in the amount of silica supported, various attempts have been made to support silica on zeolite, but a predetermined amount of silica is uniformly supported on zeolite on an industrial scale, A method for precisely controlling the zeolite pore inlet diameter has not yet been obtained.

本発明者等は、上記の問題点を解決すべく、先にCVD温
度制御によりゼオライト細孔入口径を精密に制御する方
法の発明(特願昭60-149991,特願昭61-17880)について
特許出願をした。これらの発明により、所定量のシリカ
を担持したゼオライトをある程度多量にかつ均一に調製
できる目途を得ている。
In order to solve the above problems, the inventors of the present invention have previously disclosed a method of precisely controlling the zeolite pore inlet diameter by controlling the CVD temperature (Japanese Patent Application No. 60-149991, Japanese Patent Application No. 61-17880). Filed a patent application. According to these inventions, it is possible to uniformly prepare a zeolite carrying a predetermined amount of silica in a relatively large amount.

しかしながら、上記の方法により多量のゼオライトにつ
いて細孔入口径を制御する場合であっても、使用目的に
よってはさらに厳しい細孔入口径の微小制御およびサン
プル内における均一性が要求されることがあり、このよ
うな場合には温度コントロールのみでは不十分であっ
た。
However, even when controlling the pore inlet diameter for a large amount of zeolite by the above method, depending on the purpose of use, even more stringent fine control of the pore inlet diameter and uniformity within the sample may be required, In such a case, temperature control alone was insufficient.

[発明が解決しようとする問題点] 本発明はかかる観点からなされたもので、ゼオライトに
所定量のシリカを均一に担持させ、工業的な規模でゼオ
ライト細孔入口径を精密に制御することを可能としたゼ
オライト細孔入口径の精密制御法を提供すること目的と
する。
[Problems to be Solved by the Invention] The present invention has been made from this point of view. It is an object of the present invention to uniformly support a predetermined amount of silica on zeolite and to precisely control the zeolite pore inlet diameter on an industrial scale. It is an object of the present invention to provide a method for precisely controlling the diameter of zeolite pore entrance that has been made possible.

[問題点を解決するための手段および作用] 本発明者等は上記目的に従って、検討の結果、流通状態
のシラン化剤を用い、化学蒸着法によりゼオライトにシ
リカを蒸着させるに際しては、前処理として予めアルコ
ールやエーテルを吸着させることにより、シリカの担持
量が均一に調整でき、このことによりゼオライト細孔入
口径が精密に制御されることを知見して本発明に到達し
た。
[Means and Actions for Solving Problems] According to the above-mentioned object, the inventors of the present invention have conducted a study, and as a pretreatment, when a silica is vapor-deposited on a zeolite by a chemical vapor deposition method using a silanizing agent in a flowing state. By adsorbing alcohol or ether in advance, the amount of silica supported can be adjusted uniformly, and the inventors have found that the zeolite pore inlet diameter can be precisely controlled, and arrived at the present invention.

すなわち本発明は、流通状態のシラン化剤を用いて、化
学蒸着法によりシリカをゼオライトに担持させ、ゼオラ
イト細孔入口径を制御するに際し、アルコールおよび/
またはエーテルを前吸着させたゼオライトを用いてシリ
カの担持量を調整することを特徴とするゼオライト細孔
入口径の精密制御法にある。
That is, the present invention uses a silanizing agent in a flowing state to support silica on zeolite by a chemical vapor deposition method, and when controlling the zeolite pore inlet diameter, alcohol and / or
Alternatively, it is a method for precisely controlling the pore diameter of zeolite pores, which comprises adjusting the amount of silica supported by using zeolite on which ether is pre-adsorbed.

本発明においては、化学蒸着法を用いてシラン化剤をゼ
オライトに蒸着させ、ゼオライト表面に所望量のシリカ
を均一に担持させる。化学蒸着法は、熱、プラズマ、光
等のエネルギーを加えて気相のガス分子を分解もしくは
反応させて固体薄膜を製造する方法であり、本発明にお
いては反応雰囲気等の諸条件は適宜定められる。
In the present invention, the silanizing agent is vapor-deposited on the zeolite by the chemical vapor deposition method to uniformly support a desired amount of silica on the zeolite surface. The chemical vapor deposition method is a method for producing a solid thin film by decomposing or reacting gas molecules in a gas phase by applying energy such as heat, plasma and light, and in the present invention, various conditions such as a reaction atmosphere are appropriately determined. .

この化学蒸着法により調製されたゼオライトの特徴は、
ゼオライトの細孔内に入らない分子径のシラン化剤を用
いゼオライトの外表面だけにシリカを担持すること、お
よびシリカの担持を多層にわたって行なうことにより細
孔径を連続的に変えられる点にある。これにより、1つ
のゼオライトで細孔入口径の異なるゼオライトを任意に
調製でき、目的とする用途に応じて適宜使い分けができ
る。
The characteristics of zeolite prepared by this chemical vapor deposition method are:
The pore diameter can be continuously changed by supporting silica only on the outer surface of the zeolite by using a silanizing agent having a molecular diameter that does not enter the pores of the zeolite, and by carrying the silica in multiple layers. As a result, zeolites having different pore inlet diameters can be arbitrarily prepared with one zeolite, and can be appropriately used depending on the intended use.

また、本発明においてはシラン化剤を流通状態で化学蒸
着を行なう。流通状態のシラン化剤を用い、ゼオライト
への化学蒸着を行なうと、シリカは反応層上部より担持
され、順次反応ゾーンが下流へ移動する。シリカの担持
量は化学蒸着反応温度の関数であり、化学蒸着反応温度
を変えることによってシリカの担持量を調整できる。
Further, in the present invention, chemical vapor deposition is carried out with the silanizing agent flowing. When chemical vapor deposition on zeolite is performed using a silanizing agent in a flowing state, silica is supported from the upper part of the reaction layer, and the reaction zone moves downstream in sequence. The supported amount of silica is a function of the chemical vapor deposition reaction temperature, and the supported amount of silica can be adjusted by changing the chemical vapor deposition reaction temperature.

このように化学蒸着反応温度によってシリカの担持量を
制御することは可能であるが、化学蒸着反応温度のみの
コントロールでは細孔入口径の変化が激しく、使用目的
によってさらに微少な制御が要求される場合には、入口
径の制御が困難である。そこで、本発明ではゼオライト
にアルコールおよび/またはエーテルを前吸着させ、化
学蒸着反応温度の変化に対する細孔径の変化の割合を小
さくして、ゼオライト細孔入口径の微少制御を行なって
いる。これにより、サンプル内の均一性も一層向上させ
ることができる。
In this way, it is possible to control the amount of silica supported by the chemical vapor deposition reaction temperature, but control of only the chemical vapor deposition reaction temperature causes a drastic change in the pore inlet diameter, and even finer control is required depending on the purpose of use. In this case, it is difficult to control the inlet diameter. Therefore, in the present invention, the zeolite is pre-adsorbed with alcohol and / or ether to reduce the rate of change in the pore diameter with respect to the change in the chemical vapor deposition reaction temperature, and fine control of the zeolite pore inlet diameter is performed. Thereby, the uniformity within the sample can be further improved.

本発明では、アルコールおよび/またはエーテルを前吸
着させているが、この方法は特別なものではなく、アル
コール,エーテルの飽和蒸気圧をゼオライトに吸着させ
る気相法等の通常行なわれている任意の方法が採用され
る。
In the present invention, alcohol and / or ether is pre-adsorbed, but this method is not special, and any ordinary method such as a gas phase method in which the saturated vapor pressure of alcohol or ether is adsorbed on zeolite is used. The method is adopted.

また、細孔径に与えるアルコール,エーテルの影響は、
それぞれの化合物で異なり、同一細孔径を与えるCVD温
度はそれによって変化する。この影響は吸着量によって
異なる。そして、このアルコール,エーテルの吸着量
は、所望により任意の吸着量が選択できる。すなわち、
その量は、温度に対する飽和吸着量が異なることから前
吸着させる温度を変えることによって、また吸着後CVD
する前にパージ処理する温度を変えることによって変化
させることができる。
In addition, the influence of alcohol and ether on the pore size is
Different compounds have different CVD temperatures that give the same pore size. This effect depends on the amount of adsorption. The adsorbed amount of the alcohol or ether can be selected as desired. That is,
The amount varies depending on the saturated adsorption amount with respect to temperature.
It can be changed by changing the temperature at which the purging process is performed.

次に、本発明の原理を説明する。Next, the principle of the present invention will be described.

CVD処理においては、シラン化剤はゼオライト外表面の
−OH基と最初に反応しシリカの第一層を形成する。アル
コールおよびエーテルの内少なくとも一つをゼオライト
に前吸着させると、ゼオライト表面の−OH基にアルコキ
シド基(−OR)として化学吸着することが知られてい
る。このような吸着によるアルコキシド基の形成によ
り、ゼオライト外表面のCVDに対する有効−OH基(シラ
ン化剤との反応基)が減少するので、CVDが抑制される
ものと考えられる。さらに、抑制に働いているアルコキ
シド基の量は、アルコールまたはエーテルが吸着してい
るゼオライトをパージ処理する温度によって変化させる
ことができる。このため、パージ温度の変化によってア
ルコールまたはエーテルの程度がコントロールできる。
In the CVD process, the silanizing agent first reacts with the --OH groups on the outer surface of the zeolite to form a first layer of silica. It is known that when at least one of alcohol and ether is pre-adsorbed on zeolite, it is chemically adsorbed to the -OH group on the zeolite surface as an alkoxide group (-OR). It is considered that the formation of alkoxide groups by such adsorption reduces effective -OH groups (reactive groups with the silanizing agent) for CVD on the outer surface of the zeolite, and thus suppresses CVD. Further, the amount of alkoxide groups acting for suppression can be changed by the temperature at which the zeolite having alcohol or ether adsorbed is purged. Therefore, the degree of alcohol or ether can be controlled by changing the purge temperature.

本発明で用いられるアルコール,エーテルは、一般的に
はR1(OH)mまたはR1−O−R2[ただし、R1,R2はC1〜C
5のアルキル基であり、mは1〜3の整数]で示される
が、特に価格の点および蒸気圧が高く吸着コントロール
しやすいことからメタノール,エタノールおよびジエチ
ルエーテルが好ましく用いられる。
Alcohols and ethers used in the present invention are generally R 1 (OH) m or R 1 —O—R 2 [wherein R 1 and R 2 are C 1 to C 2
It is an alkyl group of 5 , and m is an integer of 1 to 3]. Methanol, ethanol and diethyl ether are preferably used because they are particularly expensive and have a high vapor pressure and easy adsorption control.

また、本発明に用いられるゼオライトは特に制限はな
く、A型、モルデナイト型、X型、Y型等のゼオライト
が用いられるが、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金
属イオン、アンモニウムイオンで酸点を完全に置換した
ゼオライトは酸点を有しないためシリカを担持できず好
ましくない。
In addition, the zeolite used in the present invention is not particularly limited, and A-type, mordenite-type, X-type, Y-type, etc. zeolites are used, but alkali metal ions, alkaline earth metal ions, and ammonium ions are used to complete the acid point. The zeolite substituted with is not preferable because it cannot support silica because it has no acid sites.

本発明において用いられるシラン化剤は常温で気体また
は液体であるものでよい。また、このシラン化剤は流通
状態で用いられることが必要で、具体的には、Si(R1
x(R2)y[R1:C1〜C5までのアルキル基、R2:C1〜C5
でのアルコキシド基、0≦x≦3、1≦y≦4、x+y
=4]で表わされる化合物等から適宜選択される。しか
しながら、塩素等のハロゲンやイオンを含有する化合物
は、ゼオライトを触媒として用いたときに、ゼオライト
に付着した塩素やイオウが触媒毒となったり、ゼオライ
トの性質を変えてしまうため好ましくない。また、シラ
ン化剤の分子径は、ゼオライト細孔径よりも大きいこと
が必要で、ゼオライト細孔径よりも小さい場合には、シ
ラン化剤がゼオライト細孔径に侵入し、ゼオライト細孔
径内の性質が変化してしまう。
The silanizing agent used in the present invention may be a gas or a liquid at room temperature. Further, this silanizing agent needs to be used in a distributed state. Specifically, Si (R 1 )
x (R 2 ) y [R 1 : C 1 to C 5 alkyl group, R 2 : C 1 to C 5 alkoxide group, 0 ≦ x ≦ 3, 1 ≦ y ≦ 4, x + y
= 4] and the like. However, a compound containing halogen such as chlorine or an ion is not preferable because when chlorine is used as a catalyst, chlorine or sulfur attached to the zeolite becomes a catalyst poison or changes the properties of the zeolite. Further, the molecular diameter of the silanizing agent needs to be larger than the zeolite pore diameter, and when it is smaller than the zeolite pore diameter, the silanating agent penetrates into the zeolite pore diameter, and the properties within the zeolite pore diameter change. Resulting in.

[実施例] 以下、実施例および比較例に基づき本発明を具体的に説
明する。
[Examples] Hereinafter, the present invention will be specifically described based on Examples and Comparative Examples.

実施例1 アルコールの効果を示すデータ H型モルデナイト(M型)6gをガラス製反応管に充填
し、予めヘリウム気流中500℃にて前処理を行なった。
その後、CVD温度でメタノールの飽和蒸気を流して(ヘ
リウム気流中)ゼオライトにメタノールを吸着させた。
次いで、ヘリウムでパージした後、ヘリウムで希釈した
テトラメチルシラン(3mmHg)を流して化学蒸着を行な
った。次に、ガスクロマトグラフィにてテトラメチルシ
ランを分析し、4時間反応させた。この後は、ほとんど
反応しなくなる。
Example 1 Data showing the effect of alcohol 6 g of H-type mordenite (M-type) was filled in a glass reaction tube and pretreated at 500 ° C. in a helium gas stream in advance.
Then, saturated vapor of methanol was caused to flow at the CVD temperature (in a helium flow) to adsorb methanol to the zeolite.
After purging with helium, chemical vapor deposition was performed by flowing tetramethylsilane (3 mmHg) diluted with helium. Next, tetramethylsilane was analyzed by gas chromatography and reacted for 4 hours. After this, there is almost no reaction.

次いで、空気を流しながら温度を500℃に上げ10時間焼
成し、残存有機物を除去して、シリカを担持したゼオラ
イトを得た。
Then, the temperature was raised to 500 ° C. while flowing air, and the mixture was calcined for 10 hours to remove the residual organic matter, and a zeolite carrying silica was obtained.

実施例2 エーテルの効果を示すデータ メタノールに代えてジメチルエーテルを用いた以外は実
施例1と同じ方法で、ジメチルエーテルで前処理したCV
Dゼオライトを得た。
Example 2 Data showing the effect of ether CV pretreated with dimethyl ether by the same method as in Example 1 except that dimethyl ether was used instead of methanol.
D zeolite was obtained.

比較例 アルコール,エーテルでの前処理なし H型モルデナイト(M型)6gをガラス製反応管に充填
し、予めヘリウム気流中500℃にて前処理を行なった。
次に、温度をCVD温度まで下げて、ヘリウムで希釈した
テトラメチルシラン(3mmHg)を流して化学蒸着を行な
った。
Comparative Example No Pretreatment with Alcohol or Ether 6 g of H-type mordenite (M type) was filled in a glass reaction tube and pretreated at 500 ° C. in a helium gas stream in advance.
Next, the temperature was lowered to the CVD temperature, and tetramethylsilane (3 mmHg) diluted with helium was flown to perform chemical vapor deposition.

後の操作は実施例1と同様に行ない、アルコールおよび
エーテルによる前処理なしのCVDゼオライトを得た。
The subsequent operation was performed in the same manner as in Example 1 to obtain a CVD zeolite without pretreatment with alcohol and ether.

反応試験 上記の実施例および比較例で得られたゼオライトに関し
て、細孔制御されているかどうかの確認を行なった。試
料は実施例および比較例で得られた各々のゼオライトを
用いて、3−メチルペンタン(分子径5.3Å)の分解反
応を行ない、それぞれ転化率を測定した。反応は300℃
でパルス法により行なった。転化率の測定はガスクロマ
トグラフィによって行ない、細孔が制御されたか否かは
転化率により判定した。
Reaction Test Regarding the zeolites obtained in the above Examples and Comparative Examples, it was confirmed whether or not the pores were controlled. Using the zeolites obtained in Examples and Comparative Examples as samples, a decomposition reaction of 3-methylpentane (molecular diameter 5.3Å) was performed, and the conversion rates were measured. Reaction is 300 ℃
Pulse method. The conversion was measured by gas chromatography, and whether the pores were controlled or not was determined by the conversion.

結果を第1,2および3表に示す。The results are shown in Tables 1, 2 and 3.

第1表は、メタノールによる前処理の効果を見たもので
ある。同表より、メタノールにより前処理した方が前処
理しないものに比べ、CVD温度に対する3−メチルペン
タンの転化率を転化率の変化が小さい。これは、前処理
なしでは僅かな温度変化で細孔径が著しく変化するのに
対し、メタノールで前処理したケースでは、細孔径の変
化がCVD温度によって緩かに変化することを意味してお
り、CVD温度制御による細孔径の制御が前処理なしの場
合に比べて容易であることがわかる。
Table 1 shows the effect of pretreatment with methanol. From the table, the change in the conversion rate of 3-methylpentane with respect to the CVD temperature is smaller in the case of pretreatment with methanol than in the case of no pretreatment. This means that the pore size changes significantly with a slight temperature change without pretreatment, whereas in the case of pretreatment with methanol, the change in pore size changes gently depending on the CVD temperature, It can be seen that the control of the pore size by controlling the CVD temperature is easier than when there is no pretreatment.

第2表は、反応層の上下の部分の均一性をメタノールで
前処理した場合と前処理なしの場合とで比較したもので
あり、メタノールで前処理することにより無処理のもの
に比較してより一層均一化されている。
Table 2 compares the homogeneity of the upper and lower parts of the reaction layer between the case of pretreatment with methanol and the case of no pretreatment. It is even more uniform.

第3表は、前処理なし、メタノール処理およびジメチル
エーテル処理の場合で3−メチルペンタンの同一転化率
を示すCVD温度を求めたもので、ジメチルエーテル>メ
タノール>前処理なし、の順になった。これは、この順
にCVD反応が抑制されていることを示している。第1表
の結果からも明らかな通り、抑制される程、細孔制御の
温度依存性が緩かになり、シラン化剤の担持量の温度変
化が小さくなる。すなわち、前処理によりシラン化剤の
担持量制御が容易になること示している。
Table 3 shows the CVD temperatures showing the same conversion rate of 3-methylpentane in the cases of no pretreatment, methanol treatment and dimethyl ether treatment, in the order of dimethyl ether>methanol> no pretreatment. This indicates that the CVD reaction is suppressed in this order. As is clear from the results shown in Table 1, the more the content is suppressed, the looser the temperature dependence of the pore control becomes, and the smaller the temperature change in the amount of the silanizing agent carried becomes. That is, it is shown that the pretreatment facilitates the control of the amount of the silanizing agent supported.

[発明の効果] 以上説明のごとく、流通状態のシラン化剤を用いて、化
学蒸着法によりシリカをゼオライトに担持させ、ゼオラ
イト細孔入口径を制御するに際し、アルコールおよび/
またはエーテルで前処理したゼオライトを用いてシリカ
の担持量を調整する本発明のゼオライト細孔入口径の精
密制御法は、ゼオライト細孔入口径のみを極めて精密に
制御し、細孔内部の性質を変えないことから、ゼオライ
トに所望の性能を付与することができ、また流通状態の
シラン化剤を用いるので、工業的規模で実施可能で、メ
ンテナンス等も容易である。特に、本発明の方法と化学
蒸着反応温度を変える方法とを組合せることによって担
持量を任意に変えることができる。従って、本発明によ
って得られたゼオライトは選択性を有し、吸着剤、触媒
等の用途に好適に用いられる。
[Effects of the Invention] As described above, when the silica is supported on the zeolite by the chemical vapor deposition method by using the silanizing agent in the flowing state, and when the zeolite pore inlet diameter is controlled, alcohol and / or
Alternatively, the method for precisely controlling the zeolite pore inlet diameter of the present invention, which adjusts the amount of silica supported by using the zeolite pretreated with ether, controls the zeolite pore inlet diameter only extremely precisely, and the properties inside the pores are controlled. Since it does not change, the desired performance can be imparted to the zeolite, and since the silanating agent in the distribution state is used, it can be carried out on an industrial scale and maintenance is easy. In particular, the supported amount can be arbitrarily changed by combining the method of the present invention and the method of changing the chemical vapor deposition reaction temperature. Therefore, the zeolite obtained by the present invention has selectivity and is suitably used for applications such as adsorbents and catalysts.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−173137(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) Reference JP-A-59-173137 (JP, A)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】流通状態のシラン化剤を用いて、化学蒸着
法によりシリカをゼオライトに担持させ、ゼオライト細
孔入口径を制御するに際し、アルコールおよび/または
エーテルを前吸着させたゼオライトを用いてシリカの担
持量を調整することを特徴とするゼオライト細孔入口径
の精密制御法。
1. When a silica is supported on a zeolite by a chemical vapor deposition method by using a silanizing agent in a flowing state and a zeolite pore inlet diameter is controlled, a zeolite having alcohol and / or ether preadsorbed is used. A method for precisely controlling the pore diameter of zeolite pores, which comprises adjusting the amount of silica supported.
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