JPH0672736A - 光ファイバ線引き用誘導炉 - Google Patents

光ファイバ線引き用誘導炉

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JPH0672736A
JPH0672736A JP5032412A JP3241293A JPH0672736A JP H0672736 A JPH0672736 A JP H0672736A JP 5032412 A JP5032412 A JP 5032412A JP 3241293 A JP3241293 A JP 3241293A JP H0672736 A JPH0672736 A JP H0672736A
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JP
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susceptor
iridium
optical fiber
furnace
induction furnace
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JP5032412A
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Inventor
James William Fleming
ウィリアム フレミング ジェームス
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AT&T Corp
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American Telephone and Telegraph Co Inc
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    • E04C3/42Arched girders or portal frames of wood, e.g. units for rafter roofs
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は光ファイバー12を線引きするため
に光ファイバープリフォーム10の一部をリフローする
ための誘導炉2を提供する。 【構成】 炉2はビーカー36内の中央に軸方向におか
れた管状のイリジウム製サセプタ42を持ち、このサセ
プタ42の回りには同心円上にスリーブが設けられてい
る。このスリーブ48は断熱グレイン46によって取り
巻かれている。ファイバー12を線引きするべく、前記
プリフォーム10の一部を加熱しリフローするために、
高周波コイル50が付勢されその電磁場をイリジウムサ
セプタ42へ結合する。炉のハウジング20は、イリジ
ウムサセプタ42のために不活性な非酸化性雰囲気を提
供するべく密閉されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光ファイバを線引きす
るプリフォームを加熱する炉に関する。特に、サセプタ
部分を改良した誘導炉に関する。
【0002】
【従来の技術】過去20ー30年間にわたる低損失の溶
融シリカ光ファイバの開発によって、光ファイバプリフ
ォームから高強力な光ファイバを線引きするための高温
(例、約2000℃)の熱源の研究が行われるようにな
った。従来、熱源として、酸水素トーチ、CO2レーザ
ーおよび誘導および抵抗炉が高シリカ光ファイバの線引
きに用いられてきた。トーチ法は安価であるが、光ファ
イバの長さが長くなると均一な直径を保つことができな
い。CO2レーザーは最も清浄な線引き雰囲気を持つ
が、線引きのエネルギーを放射状に分配するために特別
な光学的設計を必要とし、また出力に制限がある。この
中で最も有用な高温源は誘導炉である。
【0003】誘導炉についてはR.B.ランクにより1
977年2月22日ー24日のオプティカル光ファイバ
トランスミッションIIテクニカルダイジェスト(Tu
B5−1)に発表された「精密シリカ導波路を線引きす
るためのジルコニア誘導炉」という題の論文の中で記述
されている。通常誘導炉は、ジルコニア製サセプタを使
用する。このサセプタは管状形で、1400℃以上に加
熱されると半導体として作用する。ジルコニア製サセプ
タが、約2100℃である所望の温度に達すると、ガラ
スプリフォームが、サセプタの中央(ホットゾーンと呼
ばれる)に導入され、プリフォームの一部は、リフロー
しそこから光ファイバが線引きされる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ジルコニア製サセプタ
を持つ誘導炉は、予熱による遅滞、スポーリング、割れ
および低融点共晶形成等の様々な問題を持っている。新
たに設置されたジルコニア製サセプタを持つ誘導炉は少
なくとも2000℃の温度に予熱されねばならない。ジ
ルコニア製サセプタが、この温度に達するまでには多く
の時間がかかる。ジルコニアは、大体1400℃の温度
までは絶縁体のように働くため、グラファイトスラグな
どの予熱サセプタが、このジルコニア製サセプタの中心
に置かれる。このグラファイトスラグは、サセプタに結
合し、ジルコニア製サセプタの温度を1400℃以上に
引き上げ、このサセプタが絶縁体ではなく熱的半導体に
なることを可能にする。
【0005】光ファイバ強度を保つため、プリフォーム
と光ファイバ表面の汚染を防ぐことが必要である。ジル
コニア製サセプタを用いた炉から光ファイバを線引きす
ると、最初の数日間は、平均より低い光ファイバ歩留ま
りしか得られない。製造される光ファイバの質が落ちる
理由は、はがれ落ちるジルコニア粒子が光ファイバおよ
びまたはプリフォームの上に堆積し、傷をつくり、それ
が通常光ファイバの切れを引き起こすからである。運転
開始や一時的な電力損失中の温度サイクル、あるいは老
朽化などによりクラックが生じると、ジルコニアの粒子
はサセプタから分離することもある。ジルコニアの粒子
が光ファイバの上に堆積する結果、この炉から引き出さ
れる全光ファイバのうち相当量が合格レベルに達しな
い。
【0006】ジルコニア製サセプタが、一旦加熱される
と、サセプタは結合を保つため1400℃以上に保たれ
なければならない。電源異常や引出し上問題のためにこ
の炉の運転を停止するときは、ジルコニアは、その構造
を介して冷却し、ひび割れし、その為、交換しなくては
ならない。このジルコニア製サセプタの交換により、ジ
ルコニア製サセプタの加熱と安定化が必要となり、相当
の期間炉が操業中止となる。製造という観点からは、好
ましくない。
【0007】ジルコニア製サセプタに関連したもう一つ
の通常の欠点はプリフォームが加熱されたジルコニア製
サセプタと接触すると、炉の故障が生じることである。
プリフォームは、通常サセプタの壁に付着し、それを取
り除くこと際に、このジルコニアの割れをひきおこして
しまう。さらに、SiO2やZrO2はより低い融点共晶
組成物を形成するよう反応するので、このような接触を
起こした後、ジルコニア製サセプタ管には大欠陥領域が
形成され、そのため故障が生じる。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は、イリジウム製
サセプタが予熱による遅滞、スポーリング、冷却におけ
る割れおよびシリカと組み合わされたときの融点共晶形
成といった問題を解決するという知見に基づいている。
【0009】本発明のプリフォームから光ファイバを線
引きする誘導炉は、密閉されたハウジング、イリジウム
製サセプタ手段、および前記のイリジウム製サセプタを
とりまく高周波誘導コイルからなる。この炉は、さらに
前記イリジウム製サセプタ手段を包囲する断熱材からな
っている。前記の断熱材は、底面に開口部を持つシリカ
ビーカー、前記のビーカーの内壁を内張りするアルミノ
シリケート断熱層、前記の断熱層の内壁を包囲する耐火
物グレイン層、およびジルコニアグレインを締め付けて
いるジルコニア管からなっている。前記の密閉されたハ
ウジングは、冷却室によって取り巻かれ、雰囲気吸気/
排気調節口を持つ。この雰囲気吸気/排気調節口を通じ
て不活性ガスが炉のハウジング内に供給される。さらに
高周波誘導コイルが、イリジウム製サセプタを有効に結
合するため10ー200kHz電源によって給電されて
いる。
【0010】
【実施例】図1に、プリフォームから光ファイバを引き
出すために使用される誘導加熱炉2が示されている。こ
の炉2は、装荷区間4、加熱コア6、および引出し部8
の3つの部分に分かれている。装荷区間4は、このプリ
フォーム10を加熱コア6へ導き、加熱コア内でこのプ
リフォーム10の一部が加熱されてリフローする。引出
し部8によって加熱コア6からプリフォーム10が引き
出され、光ファイバ12が形成される。
【0011】装荷区間4は、プリフォーム供給口14、
スリーブ16およびスリーブ16の支持装置18からな
る。プリフォーム10は、スリーブ16内に供給口14
を通って軸方向に前記のスリーブ16内へと入る。スリ
ーブ16は、軸方向におかれ、加熱コア6内へ延びてい
る。このスリーブ16は、プリフォーム10を加熱コア
6内へシステマチックに供給するため、垂直方向に動か
すことができ、そのため、プリフォーム10は、加熱コ
ア6の中央に位置づけられる。スリーブ16の直径は、
プリフォーム10の大きさに応じて変化する。プリフォ
ーム10は、スリーブ内で密閉されており、常時加熱コ
ア6内に正の圧力が保たれている。支持装置18は、こ
のスリーブを正しい位置に保つ。支持装置18は、調節
可能で、それによりスリーブ16の大きさを変更するこ
とができる。
【0012】炉2の主要部である加熱コア6は、好まし
くは少なくとも一つの側面22、上部部分24、および
底部部分26を持つ密閉されたハウジング20からなっ
ている。この上部部分24は、底部部分26にある開口
部30と縦に整列している中央開口部28を持つ。この
ハウジング20の上部部分24は取り外しができる。こ
のハウジング20は、また水室32等によって取り巻か
れており、これがハウジング20を冷却し、また浮遊高
周波電磁界を減少させるシールドとして作用する。ハウ
ジング20は、銅、ステンレススチール、およびセラミ
ック等の様々な材料から構成することができ、密閉され
ているのでハウジング20内に正の圧力を保つことがで
きる。
【0013】底部開口部30の上方に加熱素子34の中
心が置かれている。この加熱素子34は、側壁37を持
つシリカ容器36からなり、上部38で開口しており、
その底面に円形の開口部40を持ち、この開口部は、開
口部28および30と軸方向に整列している。側壁37
はシリカ容器36の底面に火炎封着されている。
【0014】シリカ容器36の内壁は、アルミノシリケ
ート断熱層44と、このアルミノシリケート断熱層44
の隣の耐火グロッグ即ち、グレイン断熱層46によって
断熱されている。このグレイン断熱層46は、ち密な断
熱管48によって区切られている。イリジウム製サセプ
タ42は、この断熱層内に放射状におかれ、シリカ容器
36内の中心に配置されている。前記のグレイン46を
正しい位置に保っているジルコニア管48は、あれば望
ましいが必要要件ではない。サセプタ42の入れ替えの
際は、この管48によってサセプタ42の取り外しが容
易になる。イリジウム製サセプタ42は、この管48が
使用されていないときはグレインに対して寄せておか
れ、また管が使用されているときには、管48からやや
間隔を開けて置かれる。サセプタ42の内表面43はフ
ァーネスボアと呼ばれている。
【0015】シリカ容器36の上面38と底面に、管状
のフェルト状ディスク(図示せず)が前記の耐火性グレ
イン46の汚染粒子がサセプタ42の内部やプリフォー
ムおよび/または光ファイバ上へと移動するのを防ぐた
めに置かれている。このディスクは前記の加熱素子34
の偶発的な動きをも阻止する。このフェルト状ディスク
に関する詳細な説明は、1985年10月15日に特許
されたベアーらの米国特許第4、547、644号「光
ファイバを引き出すプリフォームを加熱するための装
置」に記載されている。
【0016】実施例において、前記のシリカ容器36は
標準の直径が12.7センチで長さが25.4センチの
ビーカーである。アルミノシリケート断熱層44は、ニ
ューヨーク、ナイアガラフォールズのカーボランダム社
によって製造された光ファイバフラックスであり、約3
mmの厚みを持つ。グレイン46は、ニューヨークナイ
アガラフォールズのTAMセラミックスによって製造さ
れた電気溶融単斜晶系ジルコニアであり、約5mmの厚
みを持ち、ビーカー36と等しい長さを持つ。イリジウ
ム製サセプタ管42は、単一のセグメントまたは複数の
セグメントのいずれから構成されていてもよい。このサ
セプタは、ビーカー36よりもやや長く、直径は約5セ
ンチである。
【0017】断面が円形または長方形であるRF誘導コ
イル50が、前記のシリカ容器36の外側にマウントさ
れている。電源52が、ハウジング20の電力口54を
通ってこのコイルに接続されている。通常シリカ容器3
6は、このコイルがサセプタ42の縦の中点に置かれる
ように、誘導コイル50内に配置されている。従来か
ら、8回巻誘導コイルおよび10ー100kHz電源が
イリジウム製サセプタ42の結合に有効である。イリジ
ウムの低抵抗性のため、好ましい実施例においては、6
0kW、120kHzの発電機がイリジウム製サセプタ
42に結合されるために用いられた。このRF電磁界
は、比較的大きい粒径を持ち、かつまた粗い、高抵抗ジ
ルコニアグレイン46には結合しないため、このグレイ
ン46は、炉2の作動中このサセプタ42内に高温を保
つ断熱材として働く。
【0018】高温で、イリジウムは徐々に酸素と反応す
る。そのため、雰囲気調節口56がハウジング20内に
設けられている。この調整口56は、不活性ガス(窒
素)をハウジング20内に供給する。このハウジング2
0は密閉されているため、イリジウム製サセプタ42が
酸化されるのを防ぐ正の圧力を持った大気が炉2の作動
中保持される。ハウジング20の上面24には、シリカ
装置(図示せず)が設けられ、不活性ガスまたは窒素を
イリジウム製サセプタ42の内面および外面上に導く働
きをしている。このガスの流速は約5リットル/分であ
る。
【0019】この炉2の熱的に活性な領域を見るために
二つのサイトポート58と60とが設けられている。サ
イトポート60は、イリジウム製サセプタ42のほぼ中
程部分にあたる外壁の観察ができるような位置に配置さ
れている。サイトポート60には、加熱素子34内のイ
リジウム製サセプタ42の温度をモニターし、それを所
望の温度のプラスマイナス2℃内に制御するために赤外
光高温計62が取り付けられている。光ファイバ線引き
温度は、通常1900℃と2200℃の間で、プリフォ
ームの大きさと光ファイバが線引きされる速度と張力に
依存している。前記の赤外光高温計の代わりに、光輝度
高温計を用いることができる。
【0020】加熱コア6の下部が線引き部8である。こ
の線引き部8は、主として円筒形の管64とゲートバル
ブ66からなっている。この管64は、ハウジング20
に取り付けられており、光ファイバ12は、シリカ容器
36の開口部40とハウジング20の底面26の開口部
30を通った後、管64に入る。管64の上部の近くに
ゲートバルブ66がおかれている。ゲートバルブ66
は、光ファイバ12が加熱コアー6を出て管64に入る
ことができるように開口している。ゲートバルブ66の
下に1メートルの長さの管状部分64がある。この管状
部分64とゲートバルブ66は、炉2の雰囲気の汚染を
防ぐと共に、イリジウム製サセプタ42の酸化を防ぐた
めに、ハウジング20を炉2の作動中正の圧力に保つの
である。
【0021】通常炉2が稼働可能になる前に、ハウジン
グ20の上部24が密閉される。このハウジング20
は、ハウジング20内に正の圧力を作り出すため、ま
た、イリジウム製サセプタ42の内面および外面をパー
ジするため、前記の雰囲気調節口56を通じて導入した
不活性ガス(窒素)で満たしてある。ハウジング20内
に正の圧力雰囲気を形成すると、電源52が起動され、
誘導コイル50を前記のイリジウム製サセプタ42に結
合し、イリジウム製サセプタ42の温度が、約2100
℃に達する。この時点でプリフォーム10は、ファーネ
スボア43内へと下ろされ、そこでプリフォーム10の
一部がリフローし、光ファイバが線引きされる。
【0022】イリジウム炉2を初めて使用する場合は、
前記の加熱素子34内にある断熱層を安定化するため
に、コア6全体を1100℃から1200℃の温度へ予
備焼成しなければならない。このステップは、非酸化性
雰囲気中にある断熱層によって引き起こされるかも知れ
ない汚染を避けるために、新品の炉2のみに必要とされ
ることである。
【0023】上記の操作は何回も行われた。炉2を数1
00時間の間光ファイバ線引き温度に加熱し、室温付近
から2000℃の間で20回以上にわたって温度をサイ
クルし、イリジウム製サセプタとシリカとの接触を数回
行なった。これらの試験の後のイリジウム製サセプタ4
2の状態は試験を開始したときと殆ど同じであった。
【0024】炉2の試験中、直径19mmのシリカシン
グルモードプリフォーム10のロッドから2kmの光フ
ァイバ12が線引きされた。線引きは連続プリフォーム
フィードを用いて手動で行われた。光ファイバ直径は1
00μm未満から500μm以上まで変化した。引出し
速度は平均約2m/秒であった。引出し張力はモニター
せず、光ファイバ12の被覆は行わなかった。表面の堆
積に関して、光ファイバの一部を顕微鏡で検査した。異
常な堆積の痕跡は見られなかった。デジタル重量計を用
いてイリジウム製サセプタ42の重量損失を0.01グ
ラムまで正確に調べた。検査全体を通じて重量損失は全
く検出されなかった。
【0025】プリフォーム10を引出し温度でイリジウ
ム製サセプタ42に故意に接触させた時、プリフォーム
10の大きな塊がサセプタ42に付着し、そこから剥す
ことができなかった。イリジウムはシリカよりはるかに
高い熱膨張係数を持つため、炉2の運転が停止され、イ
リジウム製サセプタ42が冷却した時、サセプタ42に
付着したこのプリフォーム10は、(付随したシリカが
あった場合はそのシリカも)サセプタ42からはがれ、
イリジウム製サセプタ42に対しては何等の損傷も与え
なかった。従って、炉2は点火され、サセプタ42の交
換、サセプタ42の予熱のための待ち時間、また新しい
ジルコニア製サセプタ42からの粒子がプリフォーム1
0およびまたは光ファイバ12へ移動するのが終わるま
での待ち時間等は必要なく、直ちに処理を続けることが
できた。
【0026】光ファイバ強度は炉の寿命と相関してお
り、寿命の長い炉はより高強度の光ファイバを提供す
る。炉の寿命はイリジウム製サセプタを用い、注意深い
取扱いおよび組立、さらに運転の開始時や使用中に注意
を払うことによって最適化することができる。
【0027】
【発明の効果】以上述べた如く、本発明は、長寿命を持
つイリジウム炉を提供することができた。この新設計に
よって予熱による遅滞、冷却による割れが減少し、粒子
汚染やファーネスボア内に粒子が混入するのを大幅に防
ぎ、より正確で信頼性のあるファーネスアセンブリが提
供される。尚、特許請求の範囲に記載した参照番号は、
発明の容易なる理解の為のもので、その権利解釈に影響
を与えるものではないと理解されたい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の誘導炉の断面図である。
【符号の説明】
2 炉 4 装荷区間 6 加熱コア 8 引出し部 10 プリフォーム 12 光ファイバ 14 プリフォーム供給口 16 スリーブ 17 プリフオーム保持部材 18 支持装置 20 ハウジング 22 側面 24 上部部分 26 底部部分 28 中央開口部 30 開口部 32 水室 34 加熱素子 36 シリカ容器 37 側壁 38 上部 40 開口部 42 イリジウム製サセプタ 43 ファーネスボア 44 アルミノシリケート断熱層 46 グレイン断熱層 48 断熱管 50 誘導コイル 52 電源 54 電力口 56 雰囲気調節口 58 サイトポート 60 サイトポート 62 赤外光高温計 64 円筒形管 66 ゲートバルブ

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光ファイバプリフォーム(10)から光
    ファイバ(12)を線引きする光ファイバ線引き用誘導
    炉において、 密閉されたハウジング(20)と、 前記ハウジング(20)内に配置されたイリジウム製サ
    セプタ手段(42)と、 前記イリジウム製サセプタ手段(42)を包囲する高周
    波誘導コイル(50)と、からなることを特徴とする光
    ファイバ線引き用誘導炉。
  2. 【請求項2】 前記イリジウム製サセプタ手段(42)
    を包囲する熱遮断材料(34)をさらに含むことを特徴
    とする請求項1の誘導炉。
  3. 【請求項3】 前記熱遮断材料(34)が、 底面に開口部を持つシリカビーカー手段(36)と、 前記ビーカー手段(36)の内面に隣接するアルミノシ
    リケート断熱層(44)と、 前記断熱層内にある耐火物グレイン層(46)と、 前記グレインに隣接する断熱管(48)と、からなるこ
    とを特徴とする請求項2の誘導炉。
  4. 【請求項4】 前記のハウジング(20)の内部に不活
    性ガス雰囲気を供給する手段(56)をさらに含むこと
    を特徴とする請求項1の誘導炉。
  5. 【請求項5】 前記密閉されたハウジング(20)の外
    側が、冷却室(32)によって包囲されていることを特
    徴とする請求項1の誘導炉。
  6. 【請求項6】 前記の高周波誘導コイル(50)が、1
    0ー200kHz電源(52)によって給電されている
    ことを特徴とする請求項1の誘導炉。
JP5032412A 1992-01-30 1993-01-29 光ファイバ線引き用誘導炉 Pending JPH0672736A (ja)

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