JPH0671087U - Master / slave robot - Google Patents
Master / slave robotInfo
- Publication number
- JPH0671087U JPH0671087U JP3349291U JP3349291U JPH0671087U JP H0671087 U JPH0671087 U JP H0671087U JP 3349291 U JP3349291 U JP 3349291U JP 3349291 U JP3349291 U JP 3349291U JP H0671087 U JPH0671087 U JP H0671087U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- master
- slave
- slave robot
- seal cover
- unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 ウェハ製造ラインのレイアウト変更に柔軟に
対応し、ウェハカセットのラインへの装着を確実にす
る。
【構成】 ウェハ製造ライン等のクリーンルーム内で用
いるマスタ・スレーブロボットを作業者がウェハカセッ
トの装着状態を直接監視しながら、スレーブロボットを
操縦するため、マスター部7とスレーブ部4を透明なダ
ストシールカバー8を介し、移動台車1上に一体構成す
る。
(57) [Summary] (Correction) [Purpose] To flexibly respond to changes in the layout of the wafer manufacturing line and ensure the mounting of the wafer cassette on the line. [Structure] A master / slave robot used in a clean room such as a wafer manufacturing line is operated by a worker while directly monitoring the mounting state of a wafer cassette, and the master robot is controlled by a transparent dust seal cover for controlling the slave robot. It is integrally configured on the moving carriage 1 via 8.
Description
【0001】[0001]
本考案はクリーンルーム内、例えば半導体工場において、ウェハカセットを搬 送するマスタ・スレーブ ロボットに関する。 The present invention relates to a master / slave robot that carries a wafer cassette in a clean room, for example, in a semiconductor factory.
【0002】[0002]
クリーンルーム内、例えば半導体工場内では塵埃は大敵であり、空気中の塵埃 数がある一定レベル以下になるよう調整されている。特に半導体ウェハを処理す る装置内ではさらに厳しい条件が要求されるため、ウェハの入ったカセットを装 置に運び入れる過程は自動化する必要がある。しかし、自動化のためのウェハカ セットを搬送する自動搬送ロボットはあるものの、半導体工場では製造プロセス の変更に伴い装置のレイアウト変更が頻繁に行われるため従来の自動搬送ロボッ トではそのレイアウト変更に即座に対応することが難しく、結局人間の手で行っ ていた。 Dust is a major enemy in a clean room, for example, in a semiconductor factory, and the number of dust in the air is adjusted to be below a certain level. In particular, even more stringent conditions are required in the equipment for processing semiconductor wafers, so the process of loading a cassette containing wafers into the equipment must be automated. However, even though there are automatic transfer robots that transfer wafer cassettes for automation, the layout of the equipment is frequently changed in semiconductor factories due to changes in the manufacturing process, so conventional automatic transfer robots immediately change the layout. It was difficult to deal with it, and eventually it was done by humans.
【0003】[0003]
上記のとおり、半導体工場では製造プロセスの変更に伴い装置のレイアウト変 更が頻繁に行われるため、従来の完全に自動化された搬送ロボットではレイアウ トの変更に即座に対応することは難しい。そのため人間が直接操作できるマニピ ュレータが必要となるが、人間は多量の塵埃を発生するため、その塵埃が製品に 悪影響を与えないようにする対策が必要である。よって本考案は人間がウェハカ セット搬送ロボットを直接操作することを可能にし、また、人間から発生する塵 埃が製品に悪影響を与えないようにすることを目的とする。 As described above, in semiconductor factories, the layout of equipment is frequently changed with the change of manufacturing process, so it is difficult for a conventional fully automated transfer robot to immediately respond to the change of layout. Therefore, a manipulator that can be directly operated by humans is required, but since humans generate a large amount of dust, it is necessary to take measures to prevent the dust from adversely affecting the product. Therefore, it is an object of the present invention to allow a human to directly operate the wafer cassette transfer robot and to prevent the dust generated by the human from adversely affecting the product.
【0004】[0004]
上記課題を解決するため、マスター部とスレーブ部を透明なダストシールカバ ーをはさんで移動台車上に一体に構成し、ダストシールカバーの内側で作業者が マスターを操作し、スレーブを操縦する。 In order to solve the above-mentioned problems, the master part and the slave part are integrated on the moving carriage with the transparent dust seal cover sandwiched between them, and the operator operates the master inside the dust seal cover to operate the slave.
【0005】[0005]
上記手段により、ダストシールカバーの内側より作業者が移動台車を押すこと で移動台車を自在に移動させることが可能となる。また透明なダストシールカバ ーを通してワークの位置を確認しながら、操作盤上にあるマスターを操作するこ とによりマニピュレータを自在に動かすことができる。作業者から発生する塵埃 はダストシールカバーにより、前方(ウェハカセットのある方向)へ流れ出るこ とを防ぐことができる。 With the above means, the operator can freely move the movable carriage by pushing the movable carriage from the inside of the dust seal cover. The manipulator can be moved freely by operating the master on the operation panel while checking the position of the work through the transparent dust seal cover. The dust seal cover prevents dust generated by the operator from flowing out in the front direction (the direction in which the wafer cassette is located).
【0006】[0006]
以下、本考案の具体的実施例を図1および図2に示して説明する。移動台車1 は、フレーム3の内部にロボットの駆動機構と制御装置を内装し、上面にはスレ ーブ4を搭載し、下面にはキャスタ2が装着されており、背後より作業者が押す ことにより床面を自由に移動することができる。フレーム3は床面とわずかな隙 間をもってキャスタ2や駆動機構や制御装置を覆い、キャスタ2と床面との摩擦 等により生じる塵埃が周囲に飛び散ることを防いでいる。気密な多関節形ロボッ トアームを有するスレーブ4の先端には、ウェハやウェハカセットを把持するグ リッパ5を装着している。またクリーンルーム内には、空気中に浮遊する塵埃を 流し去るために天井から床へ向かう空気の流れダウンフローがあるので、スレー ブ4の断面形状はそのダウンフローを乱さないよう雨滴や流線形断面としてある 。フレーム3の背面には透明なダストシールカバー8をはさんで、作業者が操縦 指令するジョイスティック等のマスター7を取り付けた操作盤6が配置されてい る。移動台車1と作業者との間にはダストシールカバー8が配置されており、作 業者から発生する塵埃がウェハカセットの方向に流れるのを防いでいる。ダスト シールカバー8も、スレーブ4と同様にダウンフローを乱さないよう、上下方向 は直線とし両側面を弓状にし作業者を覆っている。 Hereinafter, a specific embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The mobile trolley 1 has a robot drive mechanism and a control device inside a frame 3, a sleeve 4 is mounted on the upper surface, and casters 2 are mounted on the lower surface. Can move freely on the floor. The frame 3 covers the casters 2, the drive mechanism, and the control device with a slight gap from the floor surface to prevent dust generated due to friction between the casters 2 and the floor surface from scattering around. A gripper 5 for holding a wafer or a wafer cassette is attached to the tip of the slave 4 having an airtight articulated robot arm. Also, in the clean room, there is a downflow of air flow from the ceiling to the floor to remove dust floating in the air, so the cross section of slave 4 has raindrops and streamline cross sections so as not to disturb the downflow. There is. A transparent dust seal cover 8 is sandwiched between the rear surface of the frame 3 and an operation panel 6 to which a master 7 such as a joystick to be operated by an operator is attached. A dust seal cover 8 is arranged between the movable carriage 1 and the worker to prevent dust generated by the operator from flowing toward the wafer cassette. Similarly to the slave 4, the dust seal cover 8 also has a straight line in the vertical direction and arcuate sides to cover the worker so as not to disturb the downflow.
【0007】 図3は他の実施例を示し、スレーブ4の各腕に連通するフレクシブルな吸引配 管10、10を設けてある。この吸引配管10、10の他端は掃気ボックス11 に接続してあり、掃気ボックス11内には仕切り板13上面に誘引ファン12を 固定してある。仕切り板13の下面とフレーム3のなす空間にはフィルタ14を キャスタ2より高い位置に設けてある。この仕切り板13の下面と床面の間のダ ストシールカバー8の下部には作業者側に開口したルーバ15を設けている。 誘引ファン12を回すと、スレーブ4の各腕内で発生したダストは吸引配管1 0、10を介し掃気ボックス11内に吸引され、フィルタ14で除塵されたのち 、ダストシールカバー8に開口したルーバ15からクリーンルーム内に排気され 、クリーンルーム内を流れるダウンフローに乗る。FIG. 3 shows another embodiment, in which flexible suction pipes 10, 10 communicating with each arm of the slave 4 are provided. The other ends of the suction pipes 10 and 10 are connected to a scavenging box 11, and an induction fan 12 is fixed to the upper surface of a partition plate 13 in the scavenging box 11. A filter 14 is provided at a position higher than the casters 2 in a space formed by the lower surface of the partition plate 13 and the frame 3. A louver 15 that is open to the operator side is provided below the dust seal cover 8 between the lower surface of the partition plate 13 and the floor surface. When the attracting fan 12 is rotated, the dust generated in each arm of the slave 4 is sucked into the scavenging box 11 through the suction pipes 10 and 10, and the dust is removed by the filter 14, and then the louver 15 opened in the dust seal cover 8. It is exhausted from the inside to the clean room and rides the downflow that flows in the clean room.
【0008】[0008]
以上の説明のとおり本考案により、移動式のマスタ・スレーブ ロボットを作 業者が作業状態を確認しながら直接ロボットを操作することができるため、各種 装置のレイアウト変更や作業内容の変更などにも柔軟に対応することができる。 またダストシールカバーを採用することにより作業者から発生した塵埃が装置内 に侵入することを防ぐことができ、製品の歩留まりを向上させることができる。 As described above, according to the present invention, a mobile master / slave robot can be directly operated by the operator while confirming the work status, so it is flexible even when the layout of various devices is changed or the work content is changed. Can correspond to. Further, by adopting the dust seal cover, it is possible to prevent the dust generated by the worker from entering the device, and it is possible to improve the product yield.
【0009】[0009]
【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]
【図1】本考案の具体的実施例を示す平面図FIG. 1 is a plan view showing a specific embodiment of the present invention.
【図2】本考案の具体的実施例を示す側面図FIG. 2 is a side view showing a specific embodiment of the present invention.
【図3】本考案の他の実施例を示す断面図FIG. 3 is a sectional view showing another embodiment of the present invention.
1 移動台車 2 キャスタ 3 フレーム 4 スレーブ 5 グリッパ 6 操作盤 7 マスタ 8 ダストシールカバー 9 ウェハカセット 10 吸引配管 11 掃気ボックス 12 誘引ファン 13 仕切り板 14 フィルタ 15 ルーバ 1 Mobile Cart 2 Casters 3 Frame 4 Slave 5 Gripper 6 Control Panel 7 Master 8 Dust Seal Cover 9 Wafer Cassette 10 Suction Pipeline 11 Scavenging Box 12 Induction Fan 13 Partition Plate 14 Filter 15 Louver
Claims (4)
操縦指令を受けて作業を行う多関節形スレーブ部よりな
るマスタ・スレーブ ロボットにおいて、マスター部と
スレーブ部を移動自在な移動台車に一体構成したことを
特徴とするマスタ・スレーブ ロボット。1. A master unit in which an operator issues a control command,
A master-slave robot that comprises a multi-joint type slave unit that performs work in response to control commands, characterized in that the master unit and the slave unit are integrally configured on a movable carriage.
明なダストシールカバーを配置した請求項1記載のマス
タ・スレーブ ロボット。2. The master / slave robot according to claim 1, wherein a transparent dust seal cover is arranged between the master unit and the slave unit.
各腕内に連通する吸引配管と、この吸引配管に接続した
気密な掃気ボックスと、この掃気ボックス内に仕切り板
を介し装着した誘引ファンと、この誘引ファンの下部に
設けたフィルタとよりなる請求項1または2記載のマス
タ・スレーブ ロボット。3. The arms of the slave section are made airtight, suction pipes communicating with the arms, airtight scavenging boxes connected to the suction pipes, and attractors installed in the scavenging boxes via partition plates. The master / slave robot according to claim 1 or 2, comprising a fan and a filter provided below the attraction fan.
の下部に排気ルーバを設けた請求項3記載のマスタ・ス
レーブ ロボット。4. The master / slave robot according to claim 3, wherein an exhaust louver is provided below the filter of the dust seal cover.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3349291U JPH0671087U (en) | 1991-03-14 | 1991-04-12 | Master / slave robot |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3-22831 | 1991-03-14 | ||
JP2283191U JPH04112787U (en) | 1991-03-14 | 1991-03-14 | master slave robot |
JP3349291U JPH0671087U (en) | 1991-03-14 | 1991-04-12 | Master / slave robot |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0671087U true JPH0671087U (en) | 1994-10-04 |
Family
ID=26360111
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3349291U Pending JPH0671087U (en) | 1991-03-14 | 1991-04-12 | Master / slave robot |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0671087U (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10264075A (en) * | 1997-03-25 | 1998-10-06 | Shin Meiwa Ind Co Ltd | Clean robot |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60159697A (en) * | 1984-01-16 | 1985-08-21 | シーメンス、アクチエンゲゼルシヤフト | Repair and assembly truck for nuclear facility |
JPS62241693A (en) * | 1986-04-14 | 1987-10-22 | 三菱電機株式会社 | Industrial robot |
JPH02185391A (en) * | 1989-01-11 | 1990-07-19 | Sony Corp | Articulated robot |
-
1991
- 1991-04-12 JP JP3349291U patent/JPH0671087U/en active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60159697A (en) * | 1984-01-16 | 1985-08-21 | シーメンス、アクチエンゲゼルシヤフト | Repair and assembly truck for nuclear facility |
JPS62241693A (en) * | 1986-04-14 | 1987-10-22 | 三菱電機株式会社 | Industrial robot |
JPH02185391A (en) * | 1989-01-11 | 1990-07-19 | Sony Corp | Articulated robot |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10264075A (en) * | 1997-03-25 | 1998-10-06 | Shin Meiwa Ind Co Ltd | Clean robot |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR950001099B1 (en) | Transperting robot for semiconduct wafer | |
KR100572910B1 (en) | Port structure in semiconductor processing system | |
JP4700243B2 (en) | Control system and method for semiconductor processing | |
JP2019063941A (en) | robot | |
JP5885528B2 (en) | Transport device | |
TWI646620B (en) | Substrate holding hand and substrate transfer device provided with the same | |
CN209425426U (en) | A kind of composite industrial cooperation robot | |
JP5498241B2 (en) | Work transfer system | |
JP2013165241A (en) | Transporting apparatus | |
JPH0671087U (en) | Master / slave robot | |
JP2004207279A (en) | Sheet-shaped object manufacturing facility | |
US20230084971A1 (en) | Robot, and substrate transportation system comprising the same | |
JPH04112787U (en) | master slave robot | |
JP3971526B2 (en) | Substrate loading / unloading apparatus and transfer system | |
JPH0650758B2 (en) | Transfer robot for semiconductor wafer cassette | |
JP3637947B2 (en) | Transport equipment | |
JP5880573B2 (en) | Substrate processing equipment | |
JP2017029280A (en) | Cleaning device and semiconductor manufacturing system | |
TWI839595B (en) | Robot and substrate transport system including the robot | |
JPWO2008129617A1 (en) | Substrate processing system | |
JPH0735209B2 (en) | Conveying method and conveying device for work in clean room etc. | |
TWI764181B (en) | Substrate transfer robot and control method of substrate transfer robot | |
JP4341786B2 (en) | Automated guided vehicle | |
JPS63200979A (en) | Robot for work | |
JP2004096075A (en) | Vacuum processing apparatus |