JPH0658532B2 - Photosensitive resin composition for printing plate material - Google Patents

Photosensitive resin composition for printing plate material

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JPH0658532B2
JPH0658532B2 JP61262664A JP26266486A JPH0658532B2 JP H0658532 B2 JPH0658532 B2 JP H0658532B2 JP 61262664 A JP61262664 A JP 61262664A JP 26266486 A JP26266486 A JP 26266486A JP H0658532 B2 JPH0658532 B2 JP H0658532B2
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component
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淳一 藤川
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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/0275Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with dithiol or polysulfide compounds

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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、感光性樹脂版材において版材の臭気をなく
し、現像時の作業環境を改善し且つ、高度な画像再現性
および印刷適性を有する感光性樹脂組成物に関するもの
である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial field of application] The present invention eliminates the odor of a plate material in a photosensitive resin plate material, improves the working environment at the time of development, and provides high image reproducibility and printability. The present invention relates to the photosensitive resin composition.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

金属またはプラスチックの基材上に光重合性の感光性樹
脂層を設けた構造をもつ凸版、平版および凹版印刷用の
感光性樹脂版材が最近実用化されている。これらの版材
は、透明部分をもつネガティブまたはポジティブの原図
フィルムを感光性樹脂層に密着させた後に、活性光線を
照射して原図フィルムの透明部分に対応する感光性樹脂
層に光重合を起こし、ついで未重合部分を適当な溶剤で
溶出することによって基材上にレリーフを形成するもの
である。このように光重合反応を利用した感光性樹脂組
成物は印刷版をはじめとして各種の用途に用いられてい
る。
Photosensitive resin plate materials for letterpress, planographic and intaglio printing, which have a structure in which a photopolymerizable photosensitive resin layer is provided on a metal or plastic substrate, have recently been put into practical use. In these plate materials, a negative or positive original drawing film having a transparent portion is adhered to the photosensitive resin layer, and then an actinic ray is irradiated to cause photopolymerization in the photosensitive resin layer corresponding to the transparent portion of the original drawing film. Then, the unpolymerized portion is eluted with a suitable solvent to form a relief on the substrate. As described above, the photosensitive resin composition utilizing the photopolymerization reaction is used for various purposes such as a printing plate.

感光性樹脂版材は、ポリケイ皮酸ビニル系、ポリアミド
系、ポリビニルアルコール系、ポリアクリル酸メチル
系、ポリアクリルニトリル系の感光性樹脂版や、分子中
に二重結合をもつ不飽和ポリエステル系、不飽和ポリウ
レタン系、シリコーン系感光性樹脂版材等がある。さら
にポリスチレン−ポリブタジエンのブロック共重合体、
ポリスチレン−ポリイソプレン共重合体、エチレン−酢
酸ビニル共重合体、天然ゴム、ニトリルゴムなどを用い
た感光性フレキソ版材もある。
The photosensitive resin plate material is a polyvinyl cinnamate-based, polyamide-based, polyvinyl alcohol-based, polymethyl acrylate-based, polyacrylonitrile-based photosensitive resin plate, or an unsaturated polyester-based resin having a double bond in the molecule, Examples include unsaturated polyurethane type and silicone type photosensitive resin plate materials. Further, polystyrene-polybutadiene block copolymer,
There is also a photosensitive flexographic plate material using a polystyrene-polyisoprene copolymer, an ethylene-vinyl acetate copolymer, natural rubber, nitrile rubber and the like.

このような感光性樹脂組成物において使用されている光
重合性不飽和化合物としては、モノアクリレートやモノ
メタクリレートの他にエチレングリコールなどの多価ア
ルコールとアクリル酸、メタクリル酸などの不飽和カル
ボン酸の反応物、不飽和エポキシ化合物と不飽和カルボ
ン酸の反応によって合成されるところの多価アクリレー
ト、多価メタクリレート、アクリルアミド誘導体、アク
リルアミド誘導体と多価アルコールとの縮合反応によっ
て得られる多価アクリルアミド、多価メタクリルアミド
系の光重合性モノマなどが単独あるいは数種類で基体樹
脂に配合されている。
Examples of the photopolymerizable unsaturated compound used in such a photosensitive resin composition include monoacrylates and monomethacrylates as well as polyhydric alcohols such as ethylene glycol and unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid and methacrylic acid. Reaction products, polyhydric acrylates, polyhydric methacrylates, acrylamide derivatives, which are synthesized by the reaction of unsaturated epoxy compounds and unsaturated carboxylic acids, polyhydric acrylamides obtained by condensation reaction of acrylamide derivatives and polyhydric alcohols, polyhydric A methacrylamide type photopolymerizable monomer or the like is blended in the base resin alone or in several types.

光重合性モノマは、沸点が150℃以上であっても独特
の臭気を持つものが多い。特に不飽和基がアクリロイル
基または、メタクリロイル基の場合には、固有の刺激臭
があり、これらを多量に使用すると得られた感光性樹脂
組成物や版材が刺激臭を有したり、現像工程において未
重合部分を溶出した現像液の臭気で作業者に不快感を与
えたりする。
Many photopolymerizable monomers have a unique odor even when the boiling point is 150 ° C or higher. In particular, when the unsaturated group is an acryloyl group or a methacryloyl group, there is a peculiar irritating odor, and when a large amount of these is used, the resulting photosensitive resin composition or plate material has an irritating odor, or the developing step In the case, the odor of the developing solution, which elutes the unpolymerized portion, gives an operator discomfort.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

本発明はかかる従来技術の諸欠点に鑑み創案されたもの
で、その目的は版材の感光特性や現像性および印刷適性
を損ねることなく、光重合性不飽和化合物の臭気を抑え
ることによって、版材自体およびそれを現像した廃液の
臭気を著しく軽減することのできる感光性樹脂組成物を
提供することにある。
The present invention was created in view of the above-mentioned drawbacks of the prior art, and its object is to suppress the odor of the photopolymerizable unsaturated compound without deteriorating the photosensitive property, developability and printability of the plate material. It is an object of the present invention to provide a photosensitive resin composition capable of remarkably reducing the odor of the material itself and the waste liquid obtained by developing the material.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明は、下記(a)〜(c)の成分を少なくとも含ん
で成ることを特徴とする感光性樹脂組成物。
The present invention is a photosensitive resin composition comprising at least the following components (a) to (c).

(a)バインダとしての基体樹脂 100重量部 (b)末端にエチレン性二重結合を有し、沸点が150
℃以上の光重合性不飽和化合物 20〜200重量部 (c)分子量が50〜2,000で、末端に−SH基を
1個有する化合物 0.01〜10重量部 本発明の(a)成分として使用されるバインダとしての
基体樹脂としては、通常一般的に使用されている感光性
樹脂版材の基体樹脂の全てが使用可能である。完全ケン
化および部分ケン化ポリ酢酸ビニル、ポリビニルピロリ
ドン、ポリエチレンオキシド、ポリビニルエーテル、ヒ
ドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロー
ス、ヒドロキシプロピルセルロース、水性アルキツド樹
脂、ポリアミド、ポリビニルシンナミリデンアセテー
ト、ポリビニルシンナメート・シンナミリデンアセテー
ト。p-ジアゾジフェニルアミン・パラホルムアルデヒド
縮重合物などのジアゾ樹脂、ポリアジド安息香酸ビニ
ル、ポリアジドフタル酸ビニルなどのアジドポリマ、ポ
リスチレン−ポリイソプレンブロック共重合体、ポリス
チレン−ポリブタジエンのブロック共重合体、ポリイソ
プレン、ニトリルゴム、ポリブタジエンなどの合成ゴ
ム、分子中に二重結合をもつ不飽和ポリエステル、不飽
和ポリウレタン、不飽和アリールウレタンオリゴマなど
が挙げられる。
(A) 100 parts by weight of a base resin as a binder (b) It has an ethylenic double bond at the terminal and has a boiling point of 150.
20 to 200 parts by weight of a photopolymerizable unsaturated compound at a temperature of not less than 0 ° C. (c) A compound having a molecular weight of 50 to 2,000 and having one —SH group at the terminal 0.01 to 10 parts by weight Component (a) of the present invention As the base resin used as the binder, all the base resins of the generally used photosensitive resin plate material can be used. Fully and partially saponified polyvinyl acetate, polyvinylpyrrolidone, polyethylene oxide, polyvinyl ether, hydroxymethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, aqueous alkyd resin, polyamide, polyvinyl cinnamylidene acetate, polyvinyl cinnamate / cinnamylidene acetate . Diazo resins such as p-diazodiphenylamine / paraformaldehyde condensation polymer, polyazido vinyl benzoate, azido polymers such as polyazido vinyl phthalate, polystyrene-polyisoprene block copolymers, polystyrene-polybutadiene block copolymers, polyisoprene, Examples thereof include nitrile rubber, synthetic rubber such as polybutadiene, unsaturated polyester having a double bond in the molecule, unsaturated polyurethane, and unsaturated aryl urethane oligomer.

本発明の(b)成分として使用される光重合性モノマと
しては、(a)成分と一定程度以上の相溶性のあるもの
は全て使用可能である。具体的には、2-ヒドロキシエチ
ルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、
2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-ヒドロキシプロ
ピルメタクリレート、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピル
アクリレート、3-クロロ-2-ヒドロキシプロピルメタク
リレートなどのモノアクリレート、およびモノメタクリ
レート。エチレングリコールなどの多価アルコールとア
クリル酸またはメタクリル酸などの不飽和カルボン酸の
反応によって得られる多価アクリレートおよびメタクリ
レート。エチレングリコールジグリシジルエーテルなど
の多価グリシジルエーテルとアクリル酸やメタクリル酸
などの不飽和カルボン酸の反応によって合成されるとこ
ろの多価アクリレートおよびメタクリレート。アクリル
アミド、メタクリルアミド、N-メチロールアクリルアミ
ド、ダイアセトンアクリルアミド、メチレンビスアクリ
ルアミド、N-メチロールアクリルアミドまたはN-メチロ
ールメタクリルアミドと多価アルコールの縮合反応によ
って合成される多価アクリルアミドおよび多価メタクリ
ルアミド系の光重合性モノマが挙げられる。さらにジビ
ニルベンゼンなどのビニル化合物も使用できる。
As the photopolymerizable monomer used as the component (b) of the present invention, any photopolymerizable monomer having a certain degree of compatibility with the component (a) can be used. Specifically, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate,
Monoacrylates such as 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl acrylate, 3-chloro-2-hydroxypropyl methacrylate, and monomethacrylate. Polyhydric acrylates and methacrylates obtained by reacting a polyhydric alcohol such as ethylene glycol with an unsaturated carboxylic acid such as acrylic acid or methacrylic acid. Polyhydric acrylates and methacrylates synthesized by the reaction of polyhydric glycidyl ethers such as ethylene glycol diglycidyl ether and unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid and methacrylic acid. Acrylamide, methacrylamide, N-methylol acrylamide, diacetone acrylamide, methylene bis acrylamide, N-methylol acrylamide or polyvalent acrylamide and polyvalent methacrylamide based light synthesized by condensation reaction of N-methylol methacrylamide and polyhydric alcohol Polymerizable monomers are mentioned. Further, vinyl compounds such as divinylbenzene can also be used.

(b)成分は沸点が150℃以上であることが必要であ
る。沸点が150℃未満であると版材の成形中に光重合
性モノマが飛散したり、生版保存中に光重合性モノマが
飛散して性能が不安定になるなどの問題が起こる。
The component (b) needs to have a boiling point of 150 ° C. or higher. If the boiling point is less than 150 ° C, the photopolymerizable monomer may scatter during molding of the plate material, or the photopolymerizable monomer may scatter during storage of the raw plate, resulting in unstable performance.

(b)成分の使用量が(a)成分の基体樹脂100重量
部に対して20重量部未満であると、光重合によって生
成する架橋構造の密度が不足するために十分な画像再現
性が得られない。逆に(b)成分の使用量が200重量
部を越えると光重合によって生成する架橋構造の密度が
過剰となるために、得られるレリーフは非常に脆くな
る。そのため、印刷中にレリーフにクラックが入るなど
の問題が発生する。以上の理由から(b)成分の光重合
性モノマの使用量は(a)成分100重量部に対して2
0〜200重量部の範囲が必要であり、好ましくは50
〜150重量部である。
When the amount of the component (b) used is less than 20 parts by weight based on 100 parts by weight of the base resin of the component (a), the density of the crosslinked structure produced by photopolymerization is insufficient, and sufficient image reproducibility is obtained. I can't. On the other hand, if the amount of the component (b) used exceeds 200 parts by weight, the density of the crosslinked structure formed by photopolymerization becomes excessive, so that the obtained relief becomes extremely brittle. Therefore, problems such as cracking of the relief during printing occur. For the above reasons, the amount of the photopolymerizable monomer as the component (b) used is 2 per 100 parts by weight of the component (a).
The range of 0 to 200 parts by weight is necessary, and preferably 50.
~ 150 parts by weight.

本発明の(c)成分として使用される末端に−SH基を
1個有する化合物は、(a)成分の基体樹脂に(b)成
分の光重合性不飽和化合物を配合した感光性樹脂組成物
中に配合されることによって臭気を消すことができる。
The compound having one --SH group at the terminal used as the component (c) of the present invention is a photosensitive resin composition prepared by blending the base resin of the component (a) with the photopolymerizable unsaturated compound of the component (b). Odor can be eliminated by being mixed in.

本発明の(c)成分として使用される化合物としては、
エチルチオール、プロピルチオール、イソプロピルチオ
ール、n−ブチルチオール、アリルチオール、n−ペン
チルチオール、n−ヘキシルチオール、n−ペプチルチ
オール、n−オクチルチオール、n−ノニルチオール、
n−デシルチオール、n−ウンデシルチオール、n−ド
デシルチオール、n−トリデシルチオール、n−オクタ
デシルチオールなどのアルキルチオール。チオフエノー
ル、ベンジルチオールなどの芳香族チオール。2−メル
カプトエタノール、2−メルカプトプロパノール、2−
メルカプトペンタノール、2−メルカプトヘキサノー
ル、2−メルカプトヘプタノール、2−メルカプトオク
タノール、エチレンチオグリコール、チオグリセリンな
どのアルカノールチオール。チオ酢酸、チオグリコール
酸、チオアクリル酸などのチオカルボン酸などである
が、これらに限定されるものではない。n−デシルチオ
ール、n−ウンデシルチオール、n−ドデシルチオー
ル、n−トリデシルチオール、エチレンチオグリコール
およびチオグリセリンは特に好ましく用いられる。
Examples of the compound used as the component (c) of the present invention include:
Ethyl thiol, propyl thiol, isopropyl thiol, n-butyl thiol, allyl thiol, n-pentyl thiol, n-hexyl thiol, n-peptyl thiol, n-octyl thiol, n-nonyl thiol,
Alkyl thiols such as n-decyl thiol, n-undecyl thiol, n-dodecyl thiol, n-tridecyl thiol, and n-octadecyl thiol. Aromatic thiols such as thiophenol and benzylthiol. 2-mercaptoethanol, 2-mercaptopropanol, 2-
Alkanolthiols such as mercaptopentanol, 2-mercaptohexanol, 2-mercaptoheptanol, 2-mercaptooctanol, ethylenethioglycol and thioglycerin. Examples thereof include, but are not limited to, thiocarboxylic acids such as thioacetic acid, thioglycolic acid, and thioacrylic acid. N-decyl thiol, n-undecyl thiol, n-dodecyl thiol, n-tridecyl thiol, ethylene thioglycol and thioglycerin are particularly preferably used.

(c)成分の分子量は50〜2,000の範囲にあるこ
とが必要である。分子量が50未満であると揮発性が著
しく高いために感光性樹脂組成物の調整時や版材成形時
にその大部分が飛散してしまう。逆に、分子量が2,0
00を越えると感光性組成物との相溶性が低下するため
使用できないことが多い。以上の理由から、(c)成分
の分子量は50〜2,000の範囲にあることが必要で
あり、より好ましくは70〜1,000である。
The molecular weight of component (c) must be in the range of 50 to 2,000. If the molecular weight is less than 50, the volatility is remarkably high, and most of it scatters during preparation of the photosensitive resin composition or molding of the plate material. Conversely, the molecular weight is 2,0
If it exceeds 00, the compatibility with the photosensitive composition decreases, and it cannot be often used. For the above reasons, the molecular weight of the component (c) needs to be in the range of 50 to 2,000, and more preferably 70 to 1,000.

(c)成分の使用量は(a)成分の基体樹脂100重量
部に対して0.01〜10重量部が必要である。(c)
成分の使用量が0.01重量部未満であると、(c)成
分添加による脱臭能力が小さく効果が発現しない。また
使用量が10重量部を越えると光重合反応を阻害した
り、(c)成分自体のもつ臭気が著しくなることが多
い。このような理由から(c)成分の−SH基を末端に
1個もつ化合物の使用量は、(a)成分の基体樹脂10
0重量部に対して0.01〜10重量部の範囲にあるこ
とが必要であり、好ましくは0.05〜5重量部であ
る。また(c)成分として2種類以上のものを混合して
使用することも可能である。
The amount of the component (c) used is 0.01 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the base resin of the component (a). (C)
If the amount of the component used is less than 0.01 parts by weight, the deodorizing ability due to the addition of the component (c) is small and the effect is not exhibited. Further, if the amount used exceeds 10 parts by weight, the photopolymerization reaction is often hindered, and the odor of the component (c) itself becomes significant in many cases. For this reason, the amount of the compound having one —SH group at the terminal of the component (c) is such that the base resin 10 of the component (a) is used.
It is necessary to be in the range of 0.01 to 10 parts by weight with respect to 0 parts by weight, preferably 0.05 to 5 parts by weight. Further, as the component (c), it is possible to use a mixture of two or more kinds.

本発明の組成物の光重合反応を速やかに行なわせるため
の光増感剤としては、従来公知の化合物を全て使用でき
る。例えば、ベンゾインアルキルエーテル類、ベンゾフ
ェノン類、アントラキノン類、ベンジル類、アセトフェ
ノン類、ジアセチル類などが挙げられる。
As the photosensitizer for promptly carrying out the photopolymerization reaction of the composition of the present invention, all conventionally known compounds can be used. Examples thereof include benzoin alkyl ethers, benzophenones, anthraquinones, benzyls, acetophenones, diacetyls and the like.

これらの光増感剤は、全組成物に対して0.01〜10
重量%の範囲で使用できる。
These photosensitizers are used in an amount of 0.01-10 based on the total composition.
It can be used in the range of% by weight.

本発明の感光性樹脂組成物の熱安定性を増すために従来
公知の重合禁止剤は全て使用することができる。好まし
い熱重合禁止剤としては、フェノール類、ハイドロキノ
ン類、カテコール類などが挙げられる。これらの熱安定
剤は、組成物全量に対して0.001〜5重量%の範囲
で使用することができる。また染料、顔料、界面活性
剤、消泡剤、紫外線吸収剤、香料などを添加することが
できる。
Any conventionally known polymerization inhibitor can be used to increase the thermal stability of the photosensitive resin composition of the present invention. Preferred thermal polymerization inhibitors include phenols, hydroquinones, catechols and the like. These heat stabilizers can be used in the range of 0.001 to 5% by weight with respect to the total amount of the composition. Further, dyes, pigments, surfactants, defoaming agents, ultraviolet absorbers, fragrances and the like can be added.

本発明の感光性樹脂組成物を製造する方法としては、
(a)成分の基体樹脂を単独または混合溶媒に加熱溶解
した後に(b)成分の光重合性モノマ、(c)成分の−
SH結合を1個もつ化合物および光増感剤、熱安定剤な
どを添加し、攪拌して十分に混合することが一般的であ
る。このようにして感光性樹脂溶液が得られる。
As a method for producing the photosensitive resin composition of the present invention,
After the base resin of the component (a) is dissolved alone or in a mixed solvent by heating, the photopolymerizable monomer of the component (b) and the − of the component (c)
It is general to add a compound having one SH bond, a photosensitizer, a heat stabilizer and the like, and stir to mix them sufficiently. In this way, a photosensitive resin solution is obtained.

上記の混合溶液から感光層を形成せしめるには、例えば
溶剤の大部分を留去した後に加熱して溶融状態にして支
持体上に押出して成形することができる。また乾式製膜
法で感光性シートを作り、このシートを支持体上に接着
して感光層を形成することも可能である。さらに支持体
に直接に乾式製膜して感光層を得ることもできる。
In order to form the photosensitive layer from the above mixed solution, for example, most of the solvent may be distilled off and then heated to a molten state and extruded on a support. It is also possible to form a photosensitive sheet by a dry film-forming method and adhere the sheet to a support to form a photosensitive layer. Further, a photosensitive layer can be obtained by directly forming a dry film on the support.

支持体としては、スチール、ステンレス、アルミニウ
ム、銅などの金属板、ポリエステルフィルムなどのプラ
スチックシート、スチレン−ブタジエン共重合体などの
合成ゴムシートが用いられる。感光層は、0.1〜10
mmの厚さに形成することが好ましい。
As the support, a metal plate such as steel, stainless steel, aluminum, or copper, a plastic sheet such as a polyester film, or a synthetic rubber sheet such as a styrene-butadiene copolymer is used. The photosensitive layer is 0.1 to 10
It is preferably formed to have a thickness of mm.

本発明の感光性樹脂組成物を用いて印刷用レリーフ像を
形成するには、上記のようにして作成した感光層上にネ
ガティブまたはポジティブの原図フィルムを密着し、通
常300〜400nmの波長を中心とする高圧水銀灯、
超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノン灯、カ
ーボンアーク灯、ケミカル灯などからの紫外線を照射
し、光重合により光重合により硬化せしめる。次いて未
重合部分をスプレー現像装置またはブラシ式現像装置な
どを用いて溶媒中に溶出させることにより、レリーフが
支持体上に形成される。
In order to form a relief image for printing using the photosensitive resin composition of the present invention, a negative or positive original drawing film is adhered on the photosensitive layer prepared as described above, and usually a wavelength of 300 to 400 nm is centered. High pressure mercury lamp,
Ultraviolet light from ultra-high pressure mercury lamps, metal halide lamps, xenon lamps, carbon arc lamps, chemical lamps, etc. is irradiated and cured by photopolymerization by photopolymerization. Next, the unpolymerized portion is eluted into the solvent by using a spray developing device or a brush developing device to form a relief on the support.

本発明の感光性樹脂組成物は、版材自体やそれを現像し
た現像液中に認められる臭気をなくし、製版および現像
作業者の作業環境を改善することができる。これは
(c)成分の−SH基を1個もつ化合物を適当量添加す
ることでもたらされるものである。この機構については
明らかでないが、(c)成分の末端にある−SH基は反
応性に富むので(b)成分の光重合性ノマに含まれる刺
激臭の原因となっているアルデヒド類のような不純物と
反応して無臭化するのではないかと考えられる。しかし
ながら、(c)成分の化合物は一般にそれ自体が臭気が
強く、光重合を阻害する性質もある。したがって、
(c)成分の添加量は慎重に決定する必要がある。すな
わち、(c)成分の添加量は、臭気を改善するための必
要最小限に抑えなければならず、それ以上の添加は臭気
および画像再現性を低下させる。
The photosensitive resin composition of the present invention eliminates the odor found in the plate material itself or the developer that develops the plate material, and can improve the working environment of the plate making and developing operator. This is brought about by adding an appropriate amount of the compound having one -SH group as the component (c). Although the mechanism is not clear, since the --SH group at the end of the component (c) is highly reactive, it is possible to remove the aldehydes such as the aldehydes that cause the pungent odor contained in the photopolymerizable monomer of the component (b). It is considered that it may react with impurities and become odorless. However, the compound as the component (c) generally has a strong odor and has a property of inhibiting photopolymerization. Therefore,
It is necessary to carefully determine the addition amount of the component (c). That is, the addition amount of the component (c) must be minimized to improve the odor, and addition of more than that reduces the odor and image reproducibility.

本発明の感光性樹脂組成物は、凸版印刷材として用いら
れる時に最もその効果を発揮するが、平版印刷材、凹版
印刷材、孔版印刷材、フォトレジストとして使用するこ
とも可能である。
The photosensitive resin composition of the present invention is most effective when used as a relief printing material, but can also be used as a lithographic printing material, an intaglio printing material, a stencil printing material, and a photoresist.

[実施例] 以下に実施例で本発明をさらに詳しく説明する。[Examples] The present invention will be described in more detail with reference to Examples below.

実施例1 ケン化度80モル%、平均重合度900の部分ケン化ポ
リ酢酸ビニル100重量部をエタノール/水=40/6
0(重量比)の混合溶剤250重量部に70℃で2時間
溶解した。次いで光重合性モノマとして、エチレングリ
コールジグリシジルエーテル1モルとアクリル酸2モル
の付加反応で得られた化合物を70重量部添加して十分
に攪拌した。
Example 1 100 parts by weight of partially saponified polyvinyl acetate having a degree of saponification of 80 mol% and an average degree of polymerization of 900 was ethanol / water = 40/6.
It was dissolved in 250 parts by weight of a mixed solvent of 0 (weight ratio) at 70 ° C. for 2 hours. Next, as a photopolymerizable monomer, 70 parts by weight of a compound obtained by the addition reaction of 1 mol of ethylene glycol diglycidyl ether and 2 mol of acrylic acid was added and sufficiently stirred.

さらに、チオグリセリン1重量部、可塑材としてジエチ
レングリコール15重量部、光増感剤としてジメチルベ
ンジルケタール2重量部、熱安定剤としてハイドロキノ
ンモノメチルエーテル0.1重量部を加え十分に攪拌混
合した。このようにして得られた感光性樹脂溶液では、
刺激臭は全く感じられなかった。
Further, 1 part by weight of thioglycerin, 15 parts by weight of diethylene glycol as a plasticizer, 2 parts by weight of dimethylbenzyl ketal as a photosensitizer, and 0.1 parts by weight of hydroquinone monomethyl ether as a heat stabilizer were added and sufficiently stirred and mixed. In the photosensitive resin solution thus obtained,
No pungent odor was felt.

次いで、この感光性樹脂を予めエポキシ系接着剤が塗布
・キユアしてある厚さ300μのスチール基板上に乾燥
後の厚さが950μ(基板を含む)になるように塗布し
た。次いで、これを60℃のオーブンに4時間入れて溶
剤を除去した。
Next, this photosensitive resin was applied on a steel substrate having a thickness of 300 μ, which had been previously coated and cured with an epoxy adhesive, so that the thickness after drying was 950 μ (including the substrate). Then, this was placed in an oven at 60 ° C. for 4 hours to remove the solvent.

得られた版材および現像廃液には、ほとんど臭気がない
ことが確認された。また画像再現性にも問題のないこと
が確認された。印刷テストの結果も良好であった。
It was confirmed that the obtained plate material and developing waste liquid had almost no odor. It was also confirmed that there was no problem in image reproducibility. The print test results were also good.

比較例1 実施例1において、チオグリセリン1重量部を添加せず
にその他は全く同様にして感光性樹脂組成物溶液を調整
した。この溶液は、強い刺激臭を持つものであった。
Comparative Example 1 A photosensitive resin composition solution was prepared in the same manner as in Example 1 except that 1 part by weight of thioglycerin was not added. This solution had a strong pungent odor.

この感光性樹脂組成物を、実施例1と同様の条件で版材
に形成した。得られた版材と現像廃液は、かなりの臭気
をもつものであった。
This photosensitive resin composition was formed into a plate material under the same conditions as in Example 1. The obtained plate material and developing waste liquid had a considerable odor.

以上の結果から、チオグリセリンの添加は、感光性組成
物および版材の臭気を著しく軽減することが判明した。
From the above results, it was revealed that the addition of thioglycerin markedly reduced the odor of the photosensitive composition and the plate material.

実施例2 メトキシメチル化率30モル%のN−メトキシメチル化
6−ナイロン100重量部をエタノール/水=80/2
0(重量比)の混合溶剤120重量部に80℃で加温溶
解した。これにグリシジルメタクリレートを3重量部加
えて、80℃で1時間反応させてナイロンの末端に二重
結合を導入した。次いで光重合性モノマとしてグリセロ
ールジメタクリレート70重量部、可塑剤としてN−ブ
チルベンゼンスルホンアミド25重量部、n−ドデシル
チオール0.2重量部、光増感剤としてベンゾインエチ
ルエーテル2重量部を添加して十分に混合した。このよ
うにして得られた感光性樹脂組成物溶液は、ほとんど臭
気のしないものであった。
Example 2 100 parts by weight of N-methoxymethylated 6-nylon having a methoxymethylation rate of 30 mol% was added to ethanol / water = 80/2.
It was dissolved in 120 parts by weight of a mixed solvent of 0 (weight ratio) at 80 ° C. with heating. To this, 3 parts by weight of glycidyl methacrylate was added and reacted at 80 ° C. for 1 hour to introduce a double bond at the terminal of nylon. Then, 70 parts by weight of glycerol dimethacrylate as a photopolymerizable monomer, 25 parts by weight of N-butylbenzenesulfonamide as a plasticizer, 0.2 parts by weight of n-dodecylthiol, and 2 parts by weight of benzoin ethyl ether as a photosensitizer were added. Mixed well. The photosensitive resin composition solution thus obtained had almost no odor.

この溶液を予めポリエステル系の接着剤が塗布・キユア
してある厚さ200μのポリエステルフィルム上に乾燥
後の厚さ(基板を含む)が700μとなるように流延し
た。その後、60℃のオーブンに3時間入れて溶媒を除
去した。この版材はほとんど無臭であり、感光特性も良
好であることが確認された。また印刷テストでも良好な
結果を得ることができた。
This solution was cast on a 200 μm-thick polyester film to which a polyester-based adhesive had been applied and cured in advance so that the thickness after drying (including the substrate) would be 700 μm. Then, it was placed in an oven at 60 ° C. for 3 hours to remove the solvent. It was confirmed that this plate material was almost odorless and had good photosensitivity. Also, good results were obtained in the print test.

比較例2 実施例2でn−ドデシルチオールを添加せず、それ以外
は全く同一条件で感光性樹脂組成物溶液を調製した。こ
の溶液は、強い刺激臭をもつものであった。
Comparative Example 2 A photosensitive resin composition solution was prepared under the same conditions as in Example 2 except that n-dodecylthiol was not added. This solution had a strong pungent odor.

次に、この溶液を使用して実施例2と同一の方法で版材
を作成した。得られた版材には、かなりの刺激臭が残っ
ていた。
Next, using this solution, a plate material was prepared in the same manner as in Example 2. The plate material obtained had a considerable pungent odor.

[発明の効果] 本発明に係る感光性樹脂組成物は、上述のごとく構成し
たので、感光特性や印刷適性を良好に保持しながら、感
光性樹脂版材の臭気を著しく軽減させることができると
いう顕著な実用効果を奏するものである。
EFFECT OF THE INVENTION Since the photosensitive resin composition according to the present invention is configured as described above, it is possible to remarkably reduce the odor of the photosensitive resin plate material while maintaining good photosensitivity and printability. It has a remarkable practical effect.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】下記(a)〜(c)の成分を少なくとも含
んで成ることを特徴とする印刷版材用感光性樹脂組成
物。 (a)バインダとしての基体樹脂 100重量部 (b)末端にエチレン性二重結合を有し、沸点が150
℃以上の光重合性不飽和化合物 20〜200重量部 (c)分子量が50〜2,000で、末端に−SH基を
1個有する化合物 0.01〜10重量部
1. A photosensitive resin composition for a printing plate material, which comprises at least the following components (a) to (c). (A) 100 parts by weight of a base resin as a binder (b) It has an ethylenic double bond at the terminal and has a boiling point of 150.
20 to 200 parts by weight of a photopolymerizable unsaturated compound at a temperature of ℃ or more (c) a compound having a molecular weight of 50 to 2,000 and having one -SH group at the terminal 0.01 to 10 parts by weight
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