JPH0656457A - 紫外線伝送用ファイバの製造方法 - Google Patents

紫外線伝送用ファイバの製造方法

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JPH0656457A
JPH0656457A JP4235196A JP23519692A JPH0656457A JP H0656457 A JPH0656457 A JP H0656457A JP 4235196 A JP4235196 A JP 4235196A JP 23519692 A JP23519692 A JP 23519692A JP H0656457 A JPH0656457 A JP H0656457A
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JP
Japan
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optical fiber
quartz
hydrogen gas
fiber
temperature
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Application number
JP4235196A
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English (en)
Inventor
Katsuyuki Seto
克之 瀬戸
Keiji Kaneda
恵司 金田
Naoki Shamoto
尚樹 社本
Kouji Tsumanuma
孝司 妻沼
Kazuo Sanada
和夫 真田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujikura Ltd
Original Assignee
Fujikura Ltd
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/02Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor
    • C03B37/025Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor from reheated softened tubes, rods, fibres or filaments, e.g. drawing fibres from preforms
    • C03B37/027Fibres composed of different sorts of glass, e.g. glass optical fibres
    • C03B37/02718Thermal treatment of the fibre during the drawing process, e.g. cooling
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C21/00Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
    • C03C21/007Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in gaseous phase

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Abstract

(57)【要約】 【構成】 紫外線伝送による伝送損失増の小さい紫外線
伝送用光ファイバの製造方法を提供する。 【効果】 コアが純粋石英、クラッドがフッ素ドープ石
英からなる光ファイバ母材1を一端から溶融線引きし
て、線引き直後の未だ高温のときに水素ガス雰囲気にさ
らすか、もしくは線引きされた光ファイバを高温に維持
された水素ガスにさらすようにして水素を光ファイバ内
に多量に拡散させることによって、光ファイバに紫外線
を伝送させても伝送損失増が抑制される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、エキシマレーザなど
の紫外線を伝送させるための光ファイバ製造方法に関す
るもので、紫外線伝送による光ファイバの損失増加の小
さいものを提供する。
【0002】
【従来の技術】エキシマレーザなどの紫外線を伝送させ
るファイバにおいては、コアとして純粋石英が採用され
ている。その理由は、Geドープ石英ではレーリー散乱
による損失量が紫外線領域で大きく、また、紫外線の透
過により損失増加が生じ透過率が減少してしまうからで
ある。この点、純粋石英は紫外線の透過による損失増が
Geドープ石英よりも比較的小さいため、このような用
途に対して用いられる。さらに、純粋石英でもOH基が
多量にドープされたものは効果的である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところが、ファイバに
OH基をドープさせる手段としては、VAD法などによ
って得られた多孔質の石英ガラスプリフォームを透明ガ
ラス化する際に、水素やや水蒸気を流して行なうことが
考えられるが、このような方法によってもドープしうる
OH基量はせいぜい1000ppmが限度である。この
ため、このような処理を施したファイバを用いても強い
紫外線を伝送させると伝送損失が増大することは否めな
かった。そこで、この発明者等は上記光ファイバを高
温、高圧の水素ガス雰囲気に維持した状態で紫外線を伝
送させるという、紫外線による損失増加を考慮した提案
を先にした。しかし、この方法は紫外線による損失増加
を抑制するという点においては効果を発揮するものの、
光ファイバを高温にさらすため、光ファイバを保護する
コーティング層が劣化する、高圧にするには光ファイバ
長に限りがあるなどといった新たな課題があることが判
明した。
【0004】
【課題を解決するための手段】この発明は、以上の観点
にたってなされたもので、その特徴とする請求項1記載
の発明は、コアが純粋石英、クラッドがフッ素ドープ石
英からなる光ファイバ母材を一端から溶融線引きしてフ
ァイバ化するとともに、線引き直後の高温のファイバを
水素ガス雰囲気にさらす光ファイバの製造方法にある。
また、その特徴とする記載項2記載の発明は、光ファイ
バ温度が1000℃以上である請求項1記載の光ファイ
バの製造方法にある。さらに、その特徴とする請求項3
記載の発明は、コアが純粋石英、クラッドがフッ素ドー
プ石英からなる光ファイバ母材を一端から溶融線引きし
てファイバ化し、その後高温の水素ガス雰囲気にさらす
光ファイバの製造方法にある。さらにまた、その特徴と
する請求項4記載の発明は、水素ガス雰囲気温度が10
00〜2000℃以上である請求項3記載の光ファイバ
の製造方法にある。なお、ここで、水素ガスにさらされ
る光ファイバ自身の温度もしくは水素ガス雰囲気温度を
1000℃以上としたのは、これ以下では光ファイバ内
への水素の拡散量が十分とはいえないからである。
【0005】
【作用】光ファイバが1000℃以上の高温のときに水
素ガス雰囲気にさらすか、もしくは光ファイバを100
0〜2000℃程度の高温の水素ガス雰囲気にさらすこ
とにより、水素がファイバ内に容易に拡散され、紫外線
伝送による伝送損失増が抑制される。
【0006】
【実施例】
(実施例1)図1は、この発明の紫外線伝送用ファイバ
の製造方法の概略説明図で、まず、その構成について説
明すると、1は純粋石英コア−フッ素ドープ石英クラッ
ドからなる光ファイバ母材で所定速度で降下されるよう
になっている。2はこの光ファイバ母材1を光ファイバ
10に溶融線引きする加熱炉で、21は発熱体、22は
炉心管である。3はこの加熱炉2の直下に位置された石
英パイプで、31は水素ガス供給口、32はその出口で
ある。なお、この石英パイプの位置は、未だ光ファイバ
の温度が1000℃以上を維持できる位置とされる。以
上の構成において、発熱体21によって炉心管22内を
高温に維持して光ファイバ母材1を線引きして光ファイ
バ10となし、この線引き直後の高温状態の光ファイバ
10を水素ガスが流されている石英パイプ3内を通過さ
せて、光ファイバ10内に水素ガスを拡散させる。その
後、図示しないが、水素を多量に含む光ファイバ10上
にUV樹脂を被覆する。
【0007】(実施例2)水素ガスを図1のように石英
パイプを用いて供給することなく、図1における炉心管
22内に下部から供給する。このとき光ファイバは溶融
線引きされたばかりであり、その温度は線引き温度、例
えば2000℃程度である。この方法でも光ファイバ1
0内に水素を拡散させることができる。
【0008】(実施例3)図2は、この発明方法による
他の例で、同一符号は図1と同一物を示す。4は石英の
容器で上下に開口41、42を有して線引きされた光フ
ァイバ10が挿通されるようになされているとともに、
内部には水素ガスが供給管5を介して充填されるように
なされている。6はこの容器4を高温に維持するための
発熱体である。以上の構成において、発熱体21によっ
て炉心管22内を高温に維持して光ファイバ母材1を線
引きして光ファイバ10となし、次いで、高温状態の水
素ガスが充填されている容器4内を通過させて光ファイ
バ10に水素を拡散させる。その後、光ファイバ10に
UV樹脂などのコーティングを施す。
【0009】(具体例1)コアとなる部分が直径24m
mの純粋石英、クラッドとなる部分が厚さ3mmのFド
ープ石英、そして両者の比屈折率差が1%、外径30m
mの光ファイバ母材1を用意した。この母材1を200
0℃に維持された加熱炉2を用いて、その一端から線引
きして直径125μmの光ファイバ10となし、その直
後の温度が未だ1500℃の光ファイバ10を水素ガス
が20リットル/分流されている石英パイプ3内を通過
させた。この石英パイプ3の長さは300mm、直径は
60mmとした。また、光ファイバの線引速度は30m
/分とした。最後に、この光ファイバの周りにUV樹脂
をコーティングしてその外径を250μmとした。得ら
れた光ファイバを用いてエキシマレーザ(XeCl、波
長308nm)を20mJ、1000時間伝送したが、
伝送損失の増加は見られなかった。因みに、水素ガス処
理を全くしない光ファイバは50dB/kmの伝送損失
増が見られた。
【0010】(具体例2)図2の方法を用いた。発熱体
6を動作させて水素ガスで充填された容器4内を200
0℃に維持した。他の条件はすべて具体例1と同様とし
た。具体例1と同様に損失増はなかった。
【0011】
【発明の効果】この発明方法は、純粋石英コア−Fドー
プ石英クラッドファイバの線引き直後の未だ高温のとき
に水素ガス雰囲気にさらすか、もしくは線引きされた光
ファイバを高温に維持された水素ガスにさらすようにす
るので、水素を光ファイバ内に多量に含ませることがで
き、以て紫外線を伝送させても、それによる光ファイバ
の伝送損失増を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明方法を示す概略説明図である。
【図2】この発明方法の他の例を示す概略説明図であ
る。
【符号の説明】
1 光ファイバ母材 2 加熱炉 3 石英パイプ 4 石英の容器
フロントページの続き (72)発明者 妻沼 孝司 千葉県佐倉市六崎1440番地 藤倉電線株式 会社佐倉工場内 (72)発明者 真田 和夫 千葉県佐倉市六崎1440番地 藤倉電線株式 会社佐倉工場内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 コアが純粋石英、クラッドがフッ素ドー
    プ石英からなる光ファイバ母材を一端から溶融線引きし
    てファイバ化するとともに、線引き直後の高温のファイ
    バを水素ガス雰囲気にさらすことを特徴とする紫外線伝
    送用ファイバの製造方法。
  2. 【請求項2】 光ファイバの温度が1000℃以上であ
    ることを特徴とする請求項1記載の紫外線伝送用ファイ
    バの製造方法。
  3. 【請求項3】 コアが純粋石英、クラッドがフッ素ドー
    プ石英からなる光ファイバ母材を一端から溶融線引きし
    てファイバ化し、その後高温の水素ガス雰囲気にさらす
    ことを特徴とする紫外線伝送用ファイバの製造方法。
  4. 【請求項4】 水素雰囲気の温度が1000〜2000
    ℃以上であることを特徴とする請求項3記載の紫外線伝
    送用ファイバの製造方法。
JP4235196A 1992-08-12 1992-08-12 紫外線伝送用ファイバの製造方法 Pending JPH0656457A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0691312A1 (en) 1994-07-07 1996-01-10 Nikon Corporation Method for producing silica glass for use with light in a vacuum ultraviolet wavelength range, and silica glass and optical member produced by the method
EP0780707A1 (de) 1995-12-21 1997-06-25 Heraeus Quarzglas GmbH Bauteil für die Übertragung energiereicher UV-Strahlung und Verfahren zur Herstellung eines solchen Bauteils und seine Verwendung
EP1598323A1 (en) * 2004-05-12 2005-11-23 The Boc Group, Inc. Method for manufacturing optical fiber
US7277616B2 (en) 2002-05-17 2007-10-02 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Optical fiber bundle and method of manufacturing the same
US7630611B2 (en) 2001-06-08 2009-12-08 Draka Fibre Technology B.V. Optical fiber and method of manufacturing an optical fiber

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