JPH065383B2 - Ultraviolet pellicle and its manufacturing method - Google Patents
Ultraviolet pellicle and its manufacturing methodInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は、マイクロリトグラフィ技術におけるフォト
マスクならびにレチクルの保護に使用されるペリクル構
造、特に波長帯域が約240ナノメータを下限とする放射
の約90％またはそれ以上を透過する新規なペリクル構造
に関するものである。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a pellicle structure used for protection of photomasks and reticles in microlithography technology, and more particularly, to a pellicle structure having a wavelength band of about 240 nm or less. It relates to a novel pellicle structure that is 90% or more transparent.
（従来の技術） 薄くて透明な有機フィルムからなるペリクルは、フォト
マスクとレチクルの保護のために使用されており、半導
体装置の製造工程中におけるマイクロリトグラフィにお
ける生産性の向上に役立っている。一般に使用されてい
るペリクルは、マイクロリトグラフィのマスクに固着さ
れ、該マスクとは所定の距離をおいてマスク上に位置し
ている。したがって、マイクロリトグラフィの操作中に
おいて、こまかなダクト粒子は、ペリクルに付着する
が、ワーク表面にフォーカスされない。したがって、フ
ォトリトグラフィック装置に使用される場合には、ダク
ト粒子によるウエファへの悪影響を防ぐことができ、マ
スク及び／またはレチクルをペリクルで保護した場合に
は、ウエファの歩留りは、約40%以上向上する。(Prior Art) A pellicle composed of a thin and transparent organic film is used for protecting a photomask and a reticle, and is useful for improving productivity in microlithography during a manufacturing process of a semiconductor device. A commonly used pellicle is fixed to a mask of microlithography and is located on the mask with a predetermined distance from the mask. Therefore, during microlithography operations, the fine duct particles adhere to the pellicle but are not focused on the work surface. Therefore, when used in a photolithographic apparatus, it is possible to prevent adverse effects on the wafer due to duct particles, and when the mask and / or reticle is protected by a pellicle, the yield of the wafer is about 40% or more. improves.
このようなペリクルについては、「セミコンダクタ・イ
ンターナショナル」8,97(1981)のR.Hershel著の文献に
開示されている。これらの使用は、また、「SPIEオプチ
カル・マイクロリトグラフィ」Vol.334,52(1982)のA.Ra
ngappan,C.Kao著の文献やI.Ward,Dawn Duly著「オプチ
カル・マイクロリトグラフィIII」：「テクノロジィ・
フォア・ザ・ネクスト・デケード」SPIE Vol.470(1984)
147〜156頁などに紹介されている。Such a pellicle is disclosed in "Semiconductor International" 8,97 (1981) by R. Hershel. These uses are also described in A.Ra of "SPIE Optical Microlithography" Vol.334, 52 (1982).
Literature by ngappan, C. Kao and "Optical Microlithography III" by I. Ward, Dawn Duly: "Technology
For the Next Decade "SPIE Vol.470 (1984)
It is introduced on pages 147-156.
現在一般に市販されているペリクルは、例えば本出願人
のものがあり、これは、約2.85ミクロンの厚さのニトロ
セルロースからなる膜材である。このようなニトロセル
ロースのペリクルは、現在のマイクロリトグラフィ技術
の要求を満足させる光透過特性を有している。ニトロセ
ルロース以外のフィルムもペリクルの素材として使用さ
れており、例えば、マイラー、セルロースアセテート、
パリレン（ポリ（クロロ-p-キシシレン））及びセルロ
ースアセテート（ブチレートなし）などの材料により作
られている。これらの例のほかにも種々のものがある。Pellicles currently on the market, such as those of the Applicant, are membrane materials made of nitrocellulose with a thickness of about 2.85 microns. Such pellicle of nitrocellulose has a light transmission property that satisfies the requirements of the current microlithography technology. Films other than nitrocellulose are also used as pellicle materials, such as mylar, cellulose acetate,
It is made of materials such as parylene (poly (chloro-p-xylylene)) and cellulose acetate (without butyrate). There are various other than these examples.
（発明が解決しようとする問題点） 前記したニトロセルロースのペリクルは、波長が360ナ
ノメータ以下の短い波長の光透過性に甚だしく劣るが、
最近の技術においては、紫外線の中間帯域、特に280〜3
60ナノメータの範囲の波長のものを透過する特性がペリ
クルに要求されている。このような特性のペリクルの素
材としては、経済的に製造でき、機械強度にすぐれ、前
記マスクと接触しないような配置位置での設置が可能
で、紫外線放射に対する抵抗力があって、容易に劣化せ
ず、操作ならびにクリーニングの際になかなか破けない
などの特性のものが要求される。また、ペリクルのフィ
ルムは、薄く均一な厚さのもので、マイクロリトグラフ
ィック・プロセスの光学特性に支障を来たさないもので
なければならない。(Problems to be Solved by the Invention) The pellicle of nitrocellulose described above is extremely inferior in light transmittance of a short wavelength of 360 nm or less,
In modern technology, the mid-range of UV radiation, especially 280-3
The pellicle is required to have a property of transmitting light having a wavelength in the range of 60 nanometers. As a material for pellicle having such characteristics, it can be economically manufactured, has excellent mechanical strength, can be installed at a position where it does not come in contact with the mask, has resistance to ultraviolet radiation, and easily deteriorates. It is required to have such characteristics that it does not easily break during operation and cleaning. Also, the pellicle film must be thin and of uniform thickness so as not to interfere with the optical properties of the microlithographic process.
（問題点を解決するための手段） 前記問題点を解決するための具体的手段として、この発
明は、ペリクルの成形要素として、セルロース・アセテ
ート・ブチレートを採用したもので、これは、紫外線透
過特性に秀れており、特に波長（周波数）が240〜290ナ
ノメータの遠紫外線ならびに波長が290〜360ナノメータ
の中間紫外線の放射に対し、独立の膜状体として要求さ
れる強度、耐久特性を備えている。さらに、この発明の
ペリクルは、反射防止コーティングを施せば、約240ナ
ノメータを下限とする波長のものに有効であり、この発
明のペリクル（セルロース・アセテート・ブチレート・
フィルム）の両面に反射防止コーティングを施せば、シ
リカ・マスク基体の透過周波数の下限である約190ナノ
メータとほぼ同様の低い周波数のものを透過する特性を
有する。(Means for Solving Problems) As a specific means for solving the above problems, the present invention employs cellulose acetate butyrate as a molding element of a pellicle, which has an ultraviolet transmission property. In particular, it has the strength and durability characteristics required as an independent film body for the emission of far ultraviolet rays having a wavelength (frequency) of 240 to 290 nanometers and intermediate ultraviolet rays having a wavelength of 290 to 360 nanometers. There is. Further, the pellicle of the present invention is effective for a wavelength of up to about 240 nanometers as long as it has an antireflection coating, and the pellicle of the present invention (cellulose acetate butyrate.
If both surfaces of the film are provided with an antireflection coating, it has the property of transmitting a low frequency light which is almost the same as the lower limit of the transmission frequency of the silica mask substrate of about 190 nanometers.
セルロース・アセテート・ブチレートの好ましい組成例
の一例は、ブチリル含量が約15％で、粘度が15sec(SSU)
のものである。このような材料は、イーストマン・コダ
ック社から市販されており、ホットメルトまたは高光沢
コーティング及び保護コーティングに用いられる剥離可
能コーティング用として製造されている。このイースト
マン・コダック社のセルロース・アセテート・ブチレー
トのコーティングは、同社の商品紹介雑誌（1973年７月
発行）のNo.3.4A,E-101B,E-184Aに掲載されているが、
このコーティングは、木肌面に塗布され、その仕上げ化
粧を行なったり、金属面に塗布されて、保護被膜として
使用されるという使用態様のみのものとして紹介されて
いるにすぎない。An example of a preferred composition of cellulose acetate butyrate has a butyryl content of about 15% and a viscosity of 15 seconds (SSU).
belongs to. Such materials are commercially available from Eastman Kodak Company and are manufactured for peelable coatings used in hot melt or high gloss coatings and protective coatings. This Eastman Kodak Company's cellulose acetate butyrate coating is published in No.3.4A, E-101B, E-184A of the company's product introduction magazine (issued in July 1973),
This coating is only introduced as a use mode in which it is applied to the surface of bare wood to give its finish makeup, or applied to a metal surface to be used as a protective film.
前記したセルロース・アセテート・ブチレートは、例え
ば、シクロヘキサノンのような溶剤に可溶のものであっ
て、溶剤に溶かすと、濾過できる程度の粘度となり、ガ
ラス基板にスピン・コートできるものである。例えば、
固体コンテントとしての３〜10重量％のセルロース・ア
セテート・ブチレートをシクロヘキサノンで溶解し、塗
布すべき基体を約300〜2000rpmの回転速度で回転し、該
基体の上に前記の溶解したものをスピン・コートして、
所望の膜厚の皮膜が得られる時間でスピンすると、所望
の膜厚の皮膜が得られる。スピンさせる時間は、スピン
装置の環境条件と溶剤凝縮力により定まる。このような
スピン・コート・プロセスにより、最適な薄さのコーテ
ィングが得られるものであり、回転スピードなどのパラ
メータを調節することにより、厚さが2.85ミクロンのも
のが得られるもので、この条件としては、回転速度が40
0〜600rpm、通常500rpmのスピン速度が選ばれる。該フ
ィルムの厚さは、１〜５ミクロンの範囲のものである。The above-mentioned cellulose acetate butyrate is soluble in a solvent such as cyclohexanone, and when dissolved in the solvent, it has a viscosity that allows filtration and can be spin-coated on a glass substrate. For example,
3-10% by weight of cellulose acetate butyrate as solid content is dissolved in cyclohexanone, the substrate to be coated is spun at a rotation speed of about 300-2000 rpm and the above-dissolved product is spun onto the substrate. Coat
A film having a desired film thickness can be obtained by spinning for a time period in which a film having a desired film thickness can be obtained. The spinning time is determined by the environmental conditions of the spinning device and the solvent condensing power. Such a spin coating process gives a coating with an optimum thinness, and by adjusting parameters such as rotation speed, a thickness of 2.85 microns can be obtained. Has a rotation speed of 40
A spin speed of 0-600 rpm, usually 500 rpm, is selected. The thickness of the film is in the range of 1-5 microns.
ガラス基体と、その上面にスピンコートされたフィルム
とは、浴（水）に浸漬され、フィルムは、該基体から剥
がれ、メタルフレーム（金属枠）にぴんと張られれて、
エポキシ系などの接着剤で固着される。The glass substrate and the film spin-coated on the upper surface thereof are immersed in a bath (water), the film is peeled from the substrate, and stretched tightly on a metal frame (metal frame).
It is fixed with an adhesive such as epoxy.
前記のペリクル・フィルムの片面または両面には、フッ
化カルシュウムなどの組成からなる反射防止コーティン
グを施すことができる。セルロース・アセテート・ブチ
レートのの反射率は、ニトロセルロースのそれとほぼ同
じであり、低反射コーティングが有効となる。One or both sides of the pellicle film may be provided with an antireflection coating of a composition such as calcium fluoride. The reflectance of cellulose acetate butyrate is almost the same as that of nitrocellulose, and the low reflection coating is effective.
この発明のペリクル・フィルムは、例えば、厚さが2.85
ミクロンであって、280〜360ナノメータの中間紫外線の
約90％以上を反射防止コーティングなしに透過する特性
を有する。また、約280ナノメータ以下の遠紫外線を透
過する。反射防止コーティングが前記ペリクルの片面ま
たは両面に形成されると、遠紫外線の透過特性は、さら
に向上し、約240ナノメータ以上の周波数のもいのを90
％以上透過する。このように、反射防止コーティングに
より、240〜600ナノメータの帯域にある入射光線の約90
％以上が透過される。The pellicle film of this invention has, for example, a thickness of 2.85.
It is micron-sized and has the property of transmitting about 90% or more of 280 to 360 nanometers of intermediate ultraviolet light without an antireflection coating. In addition, it transmits far ultraviolet rays of about 280 nanometers or less. When an anti-reflection coating is formed on one or both sides of the pellicle, the far-ultraviolet light transmission characteristics are further improved, and those having a frequency of about 240 nanometers or more are excellent.
Permeate more than%. Thus, the anti-reflective coating provides approximately 90% of the incident light in the 240-600 nanometer band.
% Or more is transmitted.
また、この発明のペリクルは、機械的強度、耐薬品性に
秀れ、ペリクルをクリーニングするクリーニング剤にお
かされず。照射される紫外線にも強い特性を有する。Further, the pellicle of the present invention has excellent mechanical strength and chemical resistance, and is not affected by a cleaning agent for cleaning the pellicle. It also has a strong property against ultraviolet rays that are irradiated.
（実施例） この発明を実施例により詳細に説明する。(Examples) The present invention will be described in detail with reference to Examples.
第１図と第２図は、ペリクルが施された従来の構造のマ
スクを示すもので、上面にメタリックのパターン１１が
形成されたシリカ・マスク１０を備えている（第２
図）。第１、２図に図示されているペリクルは、薄い有
機フィルム１２からなるもので、矩形のメタルフレーム
１３に固定されている。前記のフレームは、マイクロリ
トグラフィ・プロセス（ウエファーの精密露光処理）に
使用されるプロジェクション・アライナーまたはステッ
プ・リピート・アライナーに装着される態様に応じた形
状になっている。そして、フィルム領域は、所望の領域
または前記プロセスにおいて必要な領域のもので、下側
に配置のマスクの形状に合致するものである。1 and 2 show a mask having a conventional structure in which a pellicle is applied, and a silica mask 10 having a metallic pattern 11 formed on an upper surface thereof (second embodiment) is shown.
Figure). The pellicle shown in FIGS. 1 and 2 comprises a thin organic film 12 and is fixed to a rectangular metal frame 13. The frame has a shape corresponding to the mode of being mounted on a projection aligner or a step repeat aligner used in a microlithography process (precision exposure processing of a wafer). The film region is a desired region or a region required in the above process and conforms to the shape of the mask arranged on the lower side.
フィルム１２は、これまで、種々の素材により作られて
おり、特に厚さが2.85ミクロンのニトロセルロースによ
り作られている。このフィルムの厚さは、0.865ミクロ
ンのような極めて薄い場合もある。市販されているペリ
クルとしては、本出願人の製造に係る“Ｔｙｐｅ １”
と称されているニトロセルロースフィルムのペリクルが
あり、このペリクルの厚さは、2.85ミクロンであって、
そのスペクトル透過特性は、第３図に示すとおりのもの
である。The film 12 has so far been made of various materials, and particularly nitrocellulose having a thickness of 2.85 microns. The thickness of this film can be extremely thin, such as 0.865 microns. As a commercially available pellicle, “Type 1” manufactured by the present applicant is used.
There is a pellicle of nitrocellulose film that is called, the thickness of this pellicle is 2.85 microns,
The spectral transmission characteristics are as shown in FIG.
第３図において、グラフの横軸は、標準の高圧水銀ラン
プの波長（ナノメータ）を示し、縦軸はペリクルを透過
するスペクトルの透過率を示す。第３図に示すように、
従来のペリクルは、350〜450ナノメータの間の帯域にお
いて、点線で示した波長ｉ、ｈ、ｇでオペレートされ
る。この場合、特に注目すべき点は、第３図の特性をも
つペリクルは、光透過率が約360ナノメータ以下で急激
に減少していることから、比較的ディープな紫外線（遠
紫外線）処理に使用できないことである。In FIG. 3, the horizontal axis of the graph represents the wavelength (nanometer) of a standard high-pressure mercury lamp, and the vertical axis represents the transmittance of the spectrum transmitted through the pellicle. As shown in FIG.
A conventional pellicle operates at wavelengths i, h, g shown in dotted lines in the band between 350 and 450 nanometers. In this case, the point to be especially noted is that the pellicle having the characteristics shown in FIG. 3 is used for relatively deep ultraviolet (far-ultraviolet) processing because the light transmittance sharply decreases below about 360 nanometers. This is something that cannot be done.
第３図の特性をもつニトロセルロースフィルムは、各種
の方法により作ることができ、基体へのフォトレジスト
のスピニング塗装に使用されている周知技術のスピニン
グ・プロセスによる製造方法が好ましい。そして、成形
されたフィルムは、常法により浴（水）から引き上げら
れ、第１、２図のフレーム１３のようなフレームに接着
され、ぴんと伸長される。The nitrocellulose film having the properties of FIG. 3 can be made by a variety of methods, with the well known spinning process manufacturing method used to spin coat photoresist on a substrate being preferred. Then, the formed film is pulled out from the bath (water) by a conventional method, adhered to a frame such as the frame 13 shown in FIGS. 1 and 2, and stretched.
前記のペリクルのスペクトル透過特性を改良する手段と
しては、該ペリクルの一方の面に反射防止コーティング
を施す処理が知られている。これによって、厚さ2.85ミ
クロンのニトロセルロースフィルムのスペクトル透過特
性は、第４図に示すように改良することができる。As a means for improving the spectral transmission characteristics of the pellicle, a treatment of applying an antireflection coating on one surface of the pellicle is known. This allows the spectral transmission characteristics of the 2.85 micron thick nitrocellulose film to be improved as shown in FIG.
また、他の改良手段としては、ペリクルの両面に反射防
止コーティングを施す方法であって、これによって、第
５図に示すとおりの結果が得られる。反射防止コーティ
ングは、例えば、通常知られているカルシューム弗化物
によるコーティングなどの任意のタイプのものである。Another improvement is a method of applying antireflection coating on both sides of the pellicle, which gives the results shown in FIG. The antireflective coating is of any type, for example, the commonly known calcium fluoride coating.
この発明によれば、ペリクルを構成するフィルム１２
は、セルロース・アセテート・ブチレートにより作られ
ている。この発明の一実施例においては、セルロース・
アセテート・ブチレートは、約15％のブチリルを含み、
粘度が15sec(SSU)である。この素材は、イーストマン・
コダック社から市販（カタログNo.4623,CAS登録第900-3
6-8）されている。該素材の粘度範囲は、５〜20sec(SS
U)の範囲に変更でき、ブチリル含量は、５〜40％の範囲
で変更できる。そして、該素材は、シクロヘキサノンの
溶剤中で、重量比３〜10％の個体が溶解され、適度の粘
度となって、濾過され、ついでガラス基体にスピンニン
グ・コートされる。According to the present invention, the film 12 constituting the pellicle
Is made of cellulose acetate butyrate. In one embodiment of the invention, cellulose
Acetate butyrate contains about 15% butyryl,
Viscosity is 15sec (SSU). This material is Eastman
Commercially available from Kodak Company (Catalog No.4623, CAS Registration No. 900-3
6-8) has been done. The viscosity range of the material is 5 to 20 seconds (SS
U) and butyryl content can be changed in the range of 5-40%. Then, the material is dissolved in a solvent of cyclohexanone in an amount of 3 to 10% by weight, has an appropriate viscosity, is filtered, and is then spin-coated on a glass substrate.
溶剤としては、そのほか、有機アセテート、ケトン、エ
チレン、プロピレン・クロライドなどのものが使用でき
る。これらの溶剤により良好なフィルムが得られるもの
であるが、シクロヘキサノンは、良好な濾過作用に役立
つ。In addition, as the solvent, organic acetate, ketone, ethylene, propylene chloride, etc. can be used. Although good solvents are obtained with these solvents, cyclohexanone serves a good filtering action.
前記したスピニング・プロセスは、前記した基体へのフ
ォトレジストのスピニング塗装に用いられているコンベ
ンショナルなスピン・プロセスと基本的に同じ方法であ
る。このように、固体重量比が３〜10％溶液において
は、300〜2,000rpmのスピン操作が行なわれて、厚さが
１ミクロンから５ミクロンのペリクルが得られる。厚さ
が2.85ミクロンのペリクルを作る場合、溶液を固体重量
比６％のものであると、スピン速度は、400〜600rpm、
通常500rpmである。The spinning process described above is essentially the same as the conventional spin process used for spinning photoresist coating on substrates described above. Thus, in a solution having a solid weight ratio of 3 to 10%, a spinning operation at 300 to 2,000 rpm is performed to obtain a pellicle having a thickness of 1 to 5 microns. When making a pellicle with a thickness of 2.85 microns, if the solution is 6% solids by weight, the spin rate is 400-600 rpm,
It is usually 500 rpm.
フィルム形成後、ガラス基板とフィルムは、水の浴中に
浸漬され、フィルムがガラス基板から分離される。つい
で、該フィルムは、支持フレーム（第１、２図の支持フ
ィルム１３）に適当なエポキシ系接着剤により接着さ
れ、ぴんと引き伸ばされる。After forming the film, the glass substrate and the film are immersed in a bath of water to separate the film from the glass substrate. The film is then adhered to a support frame (support film 13 in FIGS. 1 and 2) with a suitable epoxy adhesive and stretched.
ペリクル・フィルムの厚さが2.85ミクロンの場合、第６
図に示すようにスペクトル透過特性が得られた。6th if pellicle film thickness is 2.85 microns
Spectral transmission characteristics were obtained as shown in the figure.
第６図のスペクトル透過特性を調べると、前記した厚さ
2.85ミクロンのセルロース・アセテート・ブチレート・
フィルムの240ナノメータにおけるスペクトル透過特性
は、約0.72％より大きく、250ナノメータにおいては、
ピークの90％に達していることが観察できる。これらの
スペクトル透過特性は、フォトマイクロリトグラフィ処
理においては、遠紫外線領域においての実施に適してい
る。透過特性は、ペリクルの一方または両方の面に反射
防止加工を施すことにより、改良されている。かくて、
第７図に示すように、240ナノメータにおける透過率
は、80％を越え、第８図に示すように、240ナノメータ
における透過率は、ほぼ90％に達している。Examining the spectral transmission characteristics of FIG. 6, the thickness
2.85 micron cellulose acetate butyrate
The spectral transmission characteristics of the film at 240 nanometers are greater than about 0.72%, and at 250 nanometers
It can be observed that it reaches 90% of the peak. These spectral transmission characteristics are suitable for implementation in the deep UV region in photomicrolithography processing. The transmission characteristics are improved by applying an antireflection treatment to one or both surfaces of the pellicle. Thus,
As shown in FIG. 7, the transmittance at 240 nanometers exceeds 80%, and as shown in FIG. 8, the transmittance at 240 nanometers reaches almost 90%.
（発明の効果） この発明によれば、ペリクルのフィルム素材は、セルロ
ース・アセテート・ブチレートであって、厚さが薄く均
一なものが得られ、セミコンダクタの製造における紫外
線放射に有効であるなどのすぐれた効果を奏する。(Effect of the Invention) According to the present invention, the film material of the pellicle is cellulose acetate butyrate, which is thin and uniform, and is excellent in ultraviolet radiation in the production of semiconductors. Produce the effect.
第１図は、導電コーティングが表面に施されて、ペリク
ルで覆われているシリカマスクの一部を示す平面図、 第２図は、第１図２−２線矢視方向断面図、 第３図は、厚さが2.85ミクロンであるニトロセルローウ
ス・フィルムからなる従来構造のペリクルのスペクトル
透過特性を示すグラフ、 第４図は、フィルムの片面に反射防止コーティングが施
された第３図のニトロセルロース・ペリクルのスペクト
ル透過特性を示すグラフ、 第５図は、フィルムの両面に反射防止コーティングが施
された第３図のニトロセルロース・ペリクルのスペクト
ル透過特性を示すグラフ、 第６図は、この発明に係るセルロース・アセテート・ブ
チレートのペリクル・フィルムのスペクトル透過特性を
示すグラフ、 第７図は、フィルムの片面に反射防止コーティングが施
された第６図のセルロース・アセテート・ブチレートの
ペリクル・フィルムのスペクトル透過特性を示すグラ
フ、 第８図は、フィルムの両面に反射防止コーティングが施
された第６図のセルロース・アセテート・ブチレートの
ペリクル・フィルムのスペクトル透過特性を示すグラフ
である。 １０……シリカ・マスク １１……パターン １２……フィルム １３……メタルフレームFIG. 1 is a plan view showing a part of a silica mask in which a conductive coating is applied on the surface and is covered with a pellicle. FIG. 2 is a sectional view taken along line 2-2 in FIG. Fig. 4 is a graph showing the spectral transmission characteristics of a pellicle with a conventional structure made of nitro-cellulosic film having a thickness of 2.85 microns. Fig. 4 is the nitro of Fig. 3 with an antireflection coating on one side of the film. FIG. 5 is a graph showing the spectral transmission characteristics of the cellulose pellicle, FIG. 5 is a graph showing the spectral transmission characteristics of the nitrocellulose pellicle of FIG. FIG. 7 is a graph showing the spectral transmission characteristics of a pellicle film of cellulose acetate butyrate according to FIG. 7, and FIG. FIG. 8 is a graph showing the spectral transmission characteristics of the pellicle film of cellulose acetate butyrate of FIG. 6, which has been subjected to coating, and FIG. 8 is the cellulose acetate of FIG. 3 is a graph showing the spectral transmission characteristics of a butyrate pellicle film. 10 …… Silica mask 11 …… Pattern 12 …… Film 13 …… Metal frame
Claims (18)
なる均一な厚さの薄いフィルムを支持のフレームに緊張
に張りわたしてなるペリクル。1. A pellicle made by tensioning a thin film of cellulose acetate butyrate with a uniform thickness on a supporting frame.
クロンである特許請求の範囲第１項記載のペリクル。2. The pellicle of claim 1 wherein the film has a thickness of about 1 micron to about 5 microns.
れるに適した構成を有する特許請求の範囲第１項記載の
ペリクル。3. The pellicle according to claim 1, wherein the frame has a structure suitable for being mounted on a silica mask.
記薄いフィルムがつぎのようなスペクトル透過特性、す
なわち、280〜360ナノメータの周波数帯域の光線の平均
約90％以上が前記フィルムを透過する特性を有する特許
請求の範囲第１項記載のペリクル。4. The thin film having no antireflection coating has the following spectral transmission characteristics, that is, an average of about 90% or more of light rays in the frequency band of 280 to 360 nanometers is transmitted through the film. A pellicle according to claim 1, which has.
防止コーティングが施されている特許請求の範囲第１項
記載のペリクル。5. The pellicle according to claim 1, wherein the film has an antireflection coating on either surface thereof.
平均約90％以上の光線が前記フィルムを透過する特許請
求の範囲第５項記載のペリクル。6. The pellicle according to claim 5, wherein an average of about 90% or more of the light rays in the frequency band of 240 to 600 nanometers is transmitted through the film.
許請求の範囲第３項記載のペリクル。7. The pellicle of claim 3 wherein the film thickness is about 2.85 microns.
許請求の範囲第４項記載のペリクル。8. A pellicle according to claim 4, wherein the film has a thickness of about 2.85 microns.
許請求の範囲第５項記載のペリクル。9. The pellicle of claim 5 wherein the film has a thickness of about 2.85 microns.
特許請求の範囲第６項記載のペリクル。10. The pellicle of claim 6 wherein the film has a thickness of about 2.85 microns.
溶剤に溶解し、前記溶解したセルロース・アセテート・
ブチレートと溶剤を濾過し、これら回転する基体の上に
塗布してスピンコートし、溶剤をとばしてセルロース・
アセテート・ブチレートの厚さが均一なフィルムを成形
し、このように成形されたフィルムを前記基体から引き
剥がして支持のフレームにぴんと張りわたす工程からな
るペリクルの製法。11. Cellulose acetate butyrate is dissolved in a solvent, and the dissolved cellulose acetate
Butyrate and solvent are filtered, coated on these rotating substrates and spin coated, the solvent is removed to remove the cellulose.
A method for producing a pellicle, which comprises the steps of forming a film having a uniform thickness of acetate butyrate, peeling the film formed in this manner from the substrate, and stretching the film on a supporting frame.
は、50％から40％のブチリルを含み、粘度が５〜20sec
(SSU)である特許請求の範囲第11項記載のペリクルの製
法。12. Cellulose acetate butyrate contains 50% to 40% butyryl and has a viscosity of 5 to 20 seconds.
The method for producing a pellicle according to claim 11, which is (SSU).
許請求の範囲第12項記載のペリクルの製法。13. The method for producing a pellicle according to claim 12, wherein the solvent is cyclohexanone.
は、15％のブチリルを含み、粘度が約15sec(SSU)である
特許請求の範囲第11項記載のペリクルの製法。14. The method for producing a pellicle according to claim 11, wherein the cellulose acetate butyrate contains 15% butyryl and has a viscosity of about 15 sec (SSU).
は、15％のブチリルを含み、粘度が約15sec(SSU)である
特許請求の範囲第13項記載のペリクルの製法。15. The method for producing a pellicle according to claim 13, wherein the cellulose acetate butyrate contains 15% butyryl and has a viscosity of about 15 sec (SSU).
前記溶剤に約３〜10重量％溶解されている特許請求の範
囲第11項記載のペリクルの製法。16. The method for producing a pellicle according to claim 11, wherein the cellulose acetate butyrate is dissolved in the solvent in an amount of about 3 to 10% by weight.
前記溶剤に約３〜10重量％溶解されている特許請求の範
囲第13項記載のペリクルの製法。17. The method for producing a pellicle according to claim 13, wherein the cellulose acetate butyrate is dissolved in the solvent in an amount of about 3 to 10% by weight.
ある特許請求の範囲第11項記載のペリクルの製法。18. The method for producing a pellicle according to claim 11, wherein the spin speed is in the range of 300 to 2000 rpm.
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