JPH0652681A - Semiconductor integrated device - Google Patents

Semiconductor integrated device

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Publication number
JPH0652681A
JPH0652681A JP4201658A JP20165892A JPH0652681A JP H0652681 A JPH0652681 A JP H0652681A JP 4201658 A JP4201658 A JP 4201658A JP 20165892 A JP20165892 A JP 20165892A JP H0652681 A JPH0652681 A JP H0652681A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bit line
vcc
signal
becomes
circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4201658A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takahiro Hara
高弘 原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Kyushu Ltd
Original Assignee
NEC Kyushu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Kyushu Ltd filed Critical NEC Kyushu Ltd
Priority to JP4201658A priority Critical patent/JPH0652681A/en
Publication of JPH0652681A publication Critical patent/JPH0652681A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To prevent a standby current from defect when the defect in short- circuit is replaced by a redundant circuit by providing a transfer gate composed of a MOS between a 1/2.VCC power source line and a bit line pair. CONSTITUTION:When the device shifts over from an active to an inactive state, a word line WL1 becomes a low level after writing information in a storage capacitor C1, transfer gates Tr1, Tr2 are turned off, a differential amplifier circuit 10 and bit lines D, -D (inverted value) are released. Also, the balance signal TG2 becomes a high level at the same time a signal TG1 becomes low, the transfer gates Tr4, Tr5 are turned on and the bit lines D, -D are balanced so as to be an 1/2.VCC. In an active state, a signal TG3 becomes high, a transfer gate Tr6 is turned on and the bit lines D, -D are charged to the 1/2.VCC through the transfer gates Tr4, Tr5.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体集積装置に関し、
特にフォールディッドビットライン方式のダイナミック
メモリに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated device,
In particular, it relates to a folded bit line type dynamic memory.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のフォールディッドビットライン方
式のダイナミックメモリは、図3に示す様な回路構成で
あり、図4に示すような各信号タイミング図を示してい
る。
2. Description of the Related Art A conventional folded bit line type dynamic memory has a circuit configuration as shown in FIG. 3 and shows signal timing diagrams as shown in FIG.

【0003】図3において、MOSトランジスタTr
7,Tr8,Tr10,Tr11と、MOSトランジス
タTr9と、記憶容量C2と、ビットラインD,D(反
転値)と、ワードラインWL2と、信号TG4,TG5
のライン,1/2・VCC電源ラインと、差動増幅回路
20とが、示されている。
In FIG. 3, a MOS transistor Tr
7, Tr8, Tr10, Tr11, MOS transistor Tr9, storage capacitor C2, bit lines D, D (inverted value), word line WL2, signals TG4, TG5
, The 1/2 · VCC power supply line, and the differential amplifier circuit 20 are shown.

【0004】図4において、図3におけるロウアドレス
ストローブ(RAS)の波形,信号TG4,TG5ライ
ンの波形,ワードラインWL2の波形,ビットライン
D,D(反転値)の波形が示されている。
FIG. 4 shows the waveform of the row address strobe (RAS), the waveform of the signal TG4 and TG5 lines, the waveform of the word line WL2, and the waveforms of the bit lines D and D (inversion value) in FIG.

【0005】図4のロウアドレスストローブRASがハ
イになると、信号TG4が電源電圧VCC以上になり、
ある一定時間でVCCにもどる様なパルスが発生し、そ
のパルスが図3のNch MOSトランジスタTr7,
Tr8に入力されると、ビットラインD,D(反転値)
は、それぞれ差動増幅回路によってVCC,GNDレベ
ルになる。
When the row address strobe RAS of FIG. 4 becomes high, the signal TG4 becomes higher than the power supply voltage VCC,
A pulse returning to VCC is generated at a certain time, and the pulse is generated by the Nch MOS transistor Tr7 of FIG.
When input to Tr8, bit lines D, D (inverted value)
Becomes the VCC and GND levels by the differential amplifier circuit, respectively.

【0006】そして、ワードラインWL2がハイである
状態では記憶容量C2にビットラインDのレベルを入れ
る。そして、記憶容量C2に書き込みが完了すると、ワ
ードラインWL2がローとなり、その後ビットライン対
のバランスと1/2・VCC電源に接続させる信号TG
5がハイとなる。そうすると、ビットライン対D,D
(反転値)は、1/2・VCCレベルに固定され、次の
活性化状態(RAS“L”)になるまで、常に1/2・
VCC電源により1/2VCCレベルがD,D(反転
値)に与えられる。
Then, when the word line WL2 is high, the level of the bit line D is applied to the storage capacitor C2. Then, when the writing to the storage capacitor C2 is completed, the word line WL2 becomes low, and then the balance of the bit line pair and the signal TG for connecting to the 1 / 2.VCC power supply
5 goes high. Then, the bit line pair D, D
(Inverted value) is fixed at 1 / 2.VCC level, and is always 1 / 2.until the next activation state (RAS "L").
A 1/2 VCC level is applied to D and D (inverted value) by the VCC power supply.

【0007】フォールディッドビットライン方式では、
メモリセルの接続のない側のビットラインが差動増幅回
路の基準電位となる。また、メモリセルの情報がハイ,
ローの判定をするのに感度差が生じない様になる為に、
基準電位は1/2VCCとしている。
In the folded bit line system,
The bit line on the side not connected to the memory cell serves as the reference potential of the differential amplifier circuit. In addition, the information of the memory cell is high,
Since there is no difference in sensitivity when judging low,
The reference potential is 1/2 VCC.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】近年、半導体集積回路
の集積度が進み、メモリセルの容量が増大している。そ
うすると、メモリセルの面積も大きくなり、製造上の歩
留を上げる為に、冗長回路を含む様になっている。
In recent years, the degree of integration of semiconductor integrated circuits has advanced, and the capacity of memory cells has increased. Then, the area of the memory cell also increases, and a redundant circuit is included in order to increase the manufacturing yield.

【0009】そこで、従来のフォールディッドビットラ
イン方式のダイナミックメモリでは、ワードラインとビ
ットラインのショートの不良が発生すると、ワードライ
ンとビットラインを、冗長回路を使用して置き換える事
ができる。そして、活性化状態では正常に動作できる様
になるが、非活性化状態において、ビットラインは1/
2・VCCに、ワードラインはGNDに固定されている
為、前記ワードラインとビットラインのショートによっ
て消費電流が増大する。その為、スタンバイ電流不良と
なってしまうという問題点があった。
Therefore, in the conventional folded bit line type dynamic memory, when a short circuit between the word line and the bit line occurs, the word line and the bit line can be replaced by using a redundant circuit. Then, in the activated state, it can operate normally, but in the deactivated state, the bit line is 1 /
Since the word line is fixed to GND at 2 · VCC, the current consumption increases due to the short circuit between the word line and the bit line. Therefore, there is a problem that the standby current becomes defective.

【0010】本発明の目的は、前記問題点を解決し、ラ
イン間ショートによる消費電流が増大せず、スタンバイ
電流不良とならないようにした半導体集積装置を提供す
ることにある。
An object of the present invention is to solve the above problems and to provide a semiconductor integrated device in which the current consumption due to a short circuit between lines does not increase and a standby current defect does not occur.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体集積装置
は、活性状態から非活性状態に移行した直後に、メモリ
セル情報の差動増幅回路とビット線対とをトランスファ
ーゲートを介して開放する手段と、その後前記ビット線
対をトランスファーゲートを介しバランスさせかつ前記
非活性状態では前記ビット線対をフローティングにして
いる手段と、前記活性状態になった後、前記セル選択の
ワードラインが高レベルになるまでに前記ビット線対を
所望の初期電圧に充電する手段を備えたことを特徴とす
る。
In the semiconductor integrated device of the present invention, the differential amplifier circuit for memory cell information and the bit line pair are opened via the transfer gate immediately after transition from the active state to the inactive state. And a means for balancing the bit line pair through a transfer gate and for floating the bit line pair in the inactive state, and a word line for selecting the cell at a high level after the activation state. It is characterized in that a means for charging the bit line pair to a desired initial voltage is provided.

【0012】[0012]

【実施例】図1は本発明の一実施例の半導体集積装置を
示す回路図であり、図2は図1の各信号のタイミング図
である。
1 is a circuit diagram showing a semiconductor integrated device according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a timing chart of each signal of FIG.

【0013】図1において、本発明の実施例は、従来の
回路(図2参照)に、1/2・VCC電源ラインとビッ
トライン対との間に、MOSトランジスタからなるトラ
ンスファーゲートTr6を配置している。
Referring to FIG. 1, in the embodiment of the present invention, a transfer gate Tr6 composed of a MOS transistor is arranged between a 1 / 2.VCC power supply line and a bit line pair in a conventional circuit (see FIG. 2). ing.

【0014】本実施例の回路の動作を、図2のタイミン
グ図で説明する。図2において、ロウアドレスストロー
ブ(RAS)がハイ(HIGH)レベルとなって活性状
態から非活性状態へ移行する。そのとき、記憶容量C1
に情報を書き込んだ後、ワードラインWL1がロー(L
OW)となると、ビットラインD,D(反転値)と差動
増幅回路10とを開放する様に、信号TG1がローとな
る。トランスファーゲートTr1,Tr2がオフして、
差動増幅回路10とビットラインが開放される。
The operation of the circuit of this embodiment will be described with reference to the timing chart of FIG. In FIG. 2, the row address strobe (RAS) changes to the high (HIGH) level to shift from the active state to the inactive state. At that time, the storage capacity C1
After writing information to the word line WL1 goes low (L
OW), the signal TG1 goes low so as to open the bit lines D, D (inverted value) and the differential amplifier circuit 10. The transfer gates Tr1 and Tr2 are turned off,
The differential amplifier circuit 10 and the bit line are opened.

【0015】また、ビットライン対のバランス信号TG
2は、信号TG1がローになるのと同時にハイになり、
トランスファーゲート(Nch・MOSトランジスタ)
Tr4,Tr5がオンして、ビットラインD,D(反転
値)が接続され、バランスされる。ここで、バランス前
に、ビットラインD,D(反転値)はVCCとGNDに
なっている為、バランスするとビットラインD,D(反
転値)は1/2・VCCとなる。ビットラインD,D
(反転値)はフローティングである為、非活性が長くな
ると、レベルが1/2・VCCから少し低くなってしま
う。そこで、活性状態になると(RASがローからハイ
になる)、1/2・VCC電源とビットラインD,D
(反転値)とを接続する信号TG3がハイとなり、トラ
ンスファーゲート(Nch・MOSトランジスタ)Tr
6がオンして、ビットラインを1/2・VCCに充電す
る。ただし、トランスファーゲートTr6はワードライ
ンが選択されて、ローからハイになる前にオフする様に
している。
The balance signal TG of the bit line pair
2 goes high at the same time as signal TG1 goes low,
Transfer gate (Nch / MOS transistor)
Tr4 and Tr5 are turned on, and the bit lines D and D (inversion value) are connected and balanced. Here, since the bit lines D and D (inverted value) are set to VCC and GND before the balance, the bit lines D and D (inverted value) become 1/2 · VCC when balanced. Bit line D, D
Since the (inverted value) is floating, the level becomes a little lower than 1/2 · VCC when the inactivity becomes long. Therefore, when activated (RAS goes from low to high), the 1 / 2.VCC power supply and bit lines D, D
The signal TG3 connecting to (inversion value) becomes high, and the transfer gate (Nch / MOS transistor) Tr
6 turns on and charges the bit line to 1/2 · VCC. However, the transfer gate Tr6 is turned off before a word line is selected and it goes from low to high.

【0016】このように、本実施例の半導体集積装置
は、フォールディッドビットライン方式のダイナミック
メモリセルの非活性化時のビットラインをフローティン
グにする信号、バランスする信号,及び1/2・VCC
電源に接続する信号と、その信号を入力とするトランス
ファーゲートとを有している。
As described above, in the semiconductor integrated device of this embodiment, a signal for floating the bit line when the dynamic memory cell of the folded bit line system is inactivated, a signal for balancing, and 1 / 2.VCC.
It has a signal connected to a power supply and a transfer gate having the signal as an input.

【0017】[0017]

【発明の効果】以上説明したように本発明は、特に非活
性時ビットラインを1/2・VCCにしてフローティン
グにしているので、かりにワードラインとビットライン
とのショート不良が発生し、冗長回路によって置き換え
たとき、ビットラインからワードラインに一瞬だけ電流
が流れるだけで、スタンバイ電流を大きく増大させず、
このため不良品とならず、製造上歩留低下を防ぐという
効果を有する。
As described above, according to the present invention, since the bit line is set to ½ · VCC to be in the floating state especially when it is inactive, a short circuit between the word line and the bit line occurs, and a redundant circuit is generated. When replaced by, the current only flows from the bit line to the word line for a moment and the standby current does not increase significantly,
Therefore, it is not a defective product, and has an effect of preventing a decrease in yield in manufacturing.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の半導体集積装置を示す回路
図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a semiconductor integrated device of one embodiment of the present invention.

【図2】図1の一実施例の各部信号を示すタイミング図
である。
FIG. 2 is a timing diagram showing signals at various points in the embodiment of FIG.

【図3】従来のダイナミックメモリセルを示す回路図で
ある。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a conventional dynamic memory cell.

【図4】図3の各部の信号を示すタイミング図である。FIG. 4 is a timing diagram showing signals of various parts in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

Tr1〜Tr12 Nch・MOSトランジスタ WL1,WL2 ワードライン D,D(反転値) ビットライン TG1,TG4 ビットラインと差動増幅回路とを接
続するコントロール信号 TG2,TG5 ビットライン対のバランス信号 TG3 ビットラインと1/2・VCC電源との接続
コントロール信号 C1,C2 記憶容量 10,20 差動増幅回路
Tr1 to Tr12 Nch MOS transistor WL1, WL2 Word line D, D (inverted value) Bit line TG1, TG4 Control signal for connecting bit line and differential amplifier circuit TG2, TG5 Balanced signal of bit line pair TG3 bit line Connection signal with 1/2 / VCC power supply C1, C2 Storage capacity 10, 20 Differential amplifier circuit

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 活性状態から非活性状態に移行した直後
に、メモリセル情報の差動増幅回路とビット線対とをト
ランスファーゲートを介して開放する手段と、その後前
記ビット線対をトランスファーゲートを介しバランスさ
せかつ前記非活性状態では前記ビット線対をフローティ
ングにしている手段と、前記活性状態になった後、前記
セル選択のワードラインが高レベルになるまでに前記ビ
ット線対を所望の初期電圧に充電する手段を備えたこと
を特徴とする半導体集積装置。
1. A means for opening a differential amplifier circuit for memory cell information and a bit line pair via a transfer gate immediately after transition from an active state to an inactive state, and thereafter, the bit line pair is provided with a transfer gate. A means for balancing the bit line pair in the inactive state and a floating means for setting the bit line pair to a desired initial level after the active state until the word line for cell selection becomes high level. A semiconductor integrated device comprising means for charging to a voltage.
JP4201658A 1992-07-29 1992-07-29 Semiconductor integrated device Pending JPH0652681A (en)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 19980908